JP2002345273A - 静電チャック - Google Patents

静電チャック

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JP2002345273A
JP2002345273A JP2001148780A JP2001148780A JP2002345273A JP 2002345273 A JP2002345273 A JP 2002345273A JP 2001148780 A JP2001148780 A JP 2001148780A JP 2001148780 A JP2001148780 A JP 2001148780A JP 2002345273 A JP2002345273 A JP 2002345273A
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electrodes
electrostatic chuck
electrode
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dielectric substrate
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Hiroaki Hori
裕明 堀
Noriaki Tateno
範昭 建野
Tetsuo Kitabayashi
徹夫 北林
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Toto Ltd
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Toto Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ガラス基板等の絶縁性基板を静電吸着するこ
とができる静電チャックを提供する。 【解決手段】 一方の面が絶縁体基板を吸着する吸着面
11とし、もう一方の面に複数の電極12a、12bが
設けられた誘電体基板13と、該誘電体基板13を固定
する絶縁性支持基板14と、該絶縁性支持基板14に設
けられた複数の導電性端子15a、15bと、前記誘電
体基板13に設けられた電極12a、12bと、前記導
電性端子15a、15bを電気的に接続する手段16
a、16bからなる静電チャック100において、前記
電極面積が前記吸着面面積の1/2未満であることとし
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はFPD(フラットパ
ネルディスプレー)製造装置、DVD(デジタルビデオ
ディスク)製造装置、HDD(ハードディスクドライ
ブ)製造装置に使用される基板処理装置及びEB(エレ
クトロンビーム)露光装置におけるレチクル固定装置、
更にSOS(シリコンオンサファイヤ)やSOI(シリ
コンオンインシュレータ)ウエハ上に形成される素子を
製造するCVD、エッチング装置やスパッタリンング装
置に使用される絶縁性基板処理装置及び絶縁性基板保持
用静電チャックに関するものである。
【0002】
【従来の技術】FPDやDVD製造装置等においては、
被処理体がガラス基板であり電気絶縁性を示す。そのた
め従来はこれらの基板を真空中で静電吸着することがで
きずその製造装置においてステージ上に平置きされた
り、機械的な機構により固定され処理されていた。EB
露光機のレチクルは石英製であり同様に電気絶縁性を示
す。そのため真空下でレチクルを固定するためには従来
は機械的な機構により固定されていた。
【0003】シリコンウエハの次世代代替品として注目
されているSOS基板やSOI基板はステージ戴置面が
電気絶縁性を示す。その為従来はこれらのウエハ上に素
子を形成する製造装置においてシリコンウエハの場合の
ような静電チャックを用いた固定方法を採用する事がで
きなかった。シリコンウエハを吸着する手段および原理
は特開平5−63062に開示されているがその原理に
よると絶縁性基板は静電吸着する事ができない。また、
静電プロッタのように紙を静電気的に吸引する装置があ
った。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】FPD、DVD、HD
D用の基板上やSOS、SOI上に形成される素子等の
製造プロセスの高度化、高集積化に伴いこれらの製造プ
ロセスの温度管理が非常に重要になってきた。従来のシ
リコンウエハ上に形成する素子製造プロセスでは、静電
チャックを用いたプロセスの温度管理が実施されてい
る。これは、機械的な固定方法では、基板の外周部をリ
ング状の重りで押さえる構造の為、基板外周側と基板内
周側とで熱伝達状態が異なるようになる。よって、機械
的固定方法では基板の面内温度分布の向上が望めない
為、基板全面を吸着し、それによって基板面内の熱伝達
状態が均一となる静電チャックによる固定方法を採用す
る事でプロセスの温度管理が可能となる。
【0005】しかし従来の静電チャックは導体、半導体
しか吸着できなかったため、被処理体が電気絶縁性の場
合静電固定吸着することができずプロセスの高精度な温
度管理は不可能であった。そこで、絶縁性基板をも静電
吸着できる静電チャック及び静電チャックを用いた絶縁
性基板処理装置が要望されている。
【0006】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、本発明の目的は、ガラス基板等の絶縁性基
板を静電吸着することができる静電チャックを提供する
ことである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、一方の面が絶縁体基板を吸着する吸着面と
し、もう一方の面に複数の電極が設けられた誘電体基板
と、該誘電体基板を固定する絶縁性支持基板と、該絶縁
性支持基板に設けられた複数の導電性端子と、前記誘電
体基板に設けられた電極と、前記導電性端子を電気的に
接続する手段からなる静電チャックにおいて、前記電極
面積が前記吸着面面積の1/2未満であることを特徴と
する。
【0008】静電チャックの吸着面に絶縁体基板を静置
して、電極に直流電圧を印加する。すると、相対する双
極電極間には不平等電界が生じ、絶縁体基板は誘電体と
して分極する。分極した誘電体は、不平等電界からグラ
ディエント力を受ける。グラディエント力を強くする為
には不平等電界を強くする必要があり、これは双極電極
間を狭める事で達成できる。また、相対する電極間隔
は、双極の吸着電圧を印加する際に絶縁破壊しない程度
に開ける必要がある。この事から、電極間隔はある範囲
に収束する。一方、不平等電界は電極間の中心位置が一
番強くなる為、グラディエント力も電極間の中心位置に
発生するものとみなせる。一定の電圧を印加する場合、
単位幅当たりの電極間数を増やす事で、発生するグラデ
ィエント力の数も増え、吸着力の総和を大きくする事が
できる。すなわち、実際にグラディエント力発生に貢献
する電極間が電極よりも多く分布するよう、電極面積が
前記吸着面面積の1/2未満であるように設計する事で
単位幅当たりの発生電界数が増加し、吸着力を増加させ
る事ができる。
【0009】本発明の好ましい様態として、前記誘電体
基板に設けられた電極は、前記1対の電極が交互に入り
組んだ構造であることを特徴とする。
【0010】1対の電極が交互に入り組んだ構造例え
ば、櫛歯状に入り組むことにより、単位幅当たりの電極
間数を増やし、発生するグラディエント力の数も増え、
吸着力の総和を大きくする事ができる。
【0011】電極に印加される電圧と電極の絶縁性は、
電極間隔に依存する。前項でグラディエント力発生に寄
与しない面である電極幅を電極間より狭くして、発生す
るグラディエント力の総和を大きくする手法を上げてい
るが、電極間は通常使用される印加電圧を±5kVとする
と、絶対値で10kVの絶縁耐圧が必要となり、これには
2mm以上の電極間が必要となる。一方、電極幅はスク
リーン印刷等で製作する場合においては余り細い線にす
ると途中で切れたりする可能性がある。その為、好まし
くは、電極幅は0.5から1.0mmにする事で絶縁耐
圧を確保した電極幅と、製品歩留まりの低下が見られな
い電極幅の両者を満たす事ができる。
【0012】本発明の好ましい様態として、前記誘電体
基板に設けられた電極は、複数の対をなし、前記複数の
電極が交互に入り組んだ構造であることを特徴とする。
【0013】複数の対になる電極を、例えば小サイズと
大サイズの絶縁性基板を1枚の静電チャックに吸着した
い際に、小サイズ基板に合わせた1対の電極と、その周
囲の、台サイズ基板に合わせた口型の1対の電極とを備
えた静電チャックにする事で、小サイズ基板を吸着する
際に小サイズ電極のみ電圧印加すれば良い為、吸着面以
外で発生する電極間漏れ電流を無くす事ができ、電源容
量を最適に設定する事が可能となる。さらに、大型静電
チャックに複数枚の基板を同時に吸着するような使用方
法においても、必要な吸着面に対応した電極のみに電圧
印加を行う事で、電源容量を最適に設定する事ができ
る。
【0014】本発明の好ましい様態として、前記誘電体
基板に設けられた電極と前記導電性端子とを電気的に接
続する手段にビアホールを用いることを特徴とする。
【0015】ビアホールを用いる事で、絶縁性支持基板
の外周部に露出する配線をする事無く電極と導電性端子
とを電気的に接続することができる。
【0016】本発明の好ましい様態として、前記電極よ
り前記絶縁性基板内部側に前記電極と平行な1層の配線
用電極を持ち、前記配線用電極と前記電極と前記導電性
端子との各々の間を電気的に接続してあることを特徴と
する。
【0017】配線用電極を入れる事により、電極の設計
自由度が上がる。具体的には、静電チャックに設けた貫
通穴、ノッチ等の電極が不連続になる部分に対しても給
電する事が可能となり、吸着面全面に渡って均一な吸着
力を発生させる事が可能となる。
【0018】本発明の好ましい様態として、前記配線用
電極と前記電極の間隔を1mm以上離してあることを特
徴とする。
【0019】静電チャック内部に平行に配置された配線
用電極と電極との極性が逆になっている場所を考える。
この2つの電極に双極電圧が印加されている場合、電極
間に印加される電圧は、各々の電圧の絶対値の和とな
り、そのため絶縁耐圧は印加電圧より大きくする必要が
ある。1mm以上、好ましくは2mm以上電極間隔を開
ける事により、絶縁破壊を防ぐ事ができる。尚、電極と
端子間をビアホールで接続するという構造の関係から、
前記配線用電極と前記電極の間隔は、静電チャックの厚
さ寸法−2mm以下が好ましい。
【0020】本発明の好ましい様態として、前記導電性
端子間の間隔を1mm以上、離してあることを特徴とす
る。前項と同様の理由から、1mm以上、好ましくは2
mm以上電極間隔を開ける事により、絶縁破壊を防ぐ事
ができる。尚、電極と端子間をビアホールで接続すると
いう構造の関係から、前記配線用電極と前記電極の間隔
は、静電チャックの厚さ寸法−2mm以下が好ましい。
【0021】本発明の好ましい様態として、前記静電チ
ャックの絶縁性基板側に金属板を接合してある静電チャ
ックユニットにおいて、前記導電性端子と同軸で前記金
属板を貫通してある給電用穴と前記導電性端子との間隔
を2mm以上離してある事を特徴とする。金属接合面か
らの導電性接合材のもれ量を考慮して、1mm以上、好
ましくは2mm以上、貫通穴と導電性端子間距離を開け
る事により、導電性端子間の短絡を防ぐ事ができる。
尚、静電チャックと金属板との熱伝導の均一性を保つ関
係から、前記導電性端子と同軸で前記金属板を貫通して
ある給電用穴と前記導電性端子との間隔は、10mm以
下が好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の一実施例につい
て具体的に説明する。図1は、静電チャック100の断
面図である。静電チャック100は、一方の面が絶縁体
基板を吸着する吸着面11とし、もう一方の面に1組の
電極12a、12bが設けられた誘電体基板13と、該
誘電体基板13を固定する絶縁性支持基板14と、該絶
縁性支持基板14に設けられた1組の導電性端子15
a、15bと、前記誘電体基板13に設けられた電極1
2a、12bと、前記電極12a、12bと前記導電性
端子15a、15bとを電気的に接続するビアホール1
6a、16bから構成される。電極12a、12bへ
は、導電性端子15a,15bからビアホール16a、
16bを通じて各々独立した電圧を印加する事ができ
る。
【0023】ここで、静電チャック100の各構成要素
の素材について説明する。誘電体基板13及び絶縁性支
持基板14は、アルミナ等の酸化物セラミック、窒化ア
ルミニウム、窒化珪素等の非酸化物セラミック、カプト
ン、ベスペル等のエンジニアリングプラスチック等で製
作される。例えば誘電体基板13及び絶縁体支持基板1
4がアルミナから製作される場合、電極12a、12b
にはタングステン、モリブデン等が、導電性端子15
a、15bにはSUS、コバール等が使用される。
【0024】ここで、静電チャック100でガラス等の
絶縁体基板200を吸着する場合を説明する。静電チャ
ックは吸着用電圧を印加する電源21と電線22とで結
ばれており、これより直流電圧が印加される。印加され
た直流電圧は導電性端子15a、15bからビアホール
16a、16bを通り電極12a、12bに至る。この
状態で電極12a、12bには双極電圧が印加されてお
りこの間に電界が発生するが、電極が平行の為、不平等
電界となる。このような電界中に誘電体、この図では絶
縁体基板200を置くと、絶縁体基板200を吸着面1
1に近づける方向にグラディエント力が発生する。
【0025】図2は、静電チャック100の電極部分
を、吸着面側から見た断面図である。電極12a、12
bは1対で、櫛歯状に入り組んでいる。また、各々の電
極の幅は1mm以下、好ましくは0.5mm以下である。
【0026】図3は、複数の対をなす電極を持つ静電チ
ャック300の電極部分を、吸着面側から見た断面図で
ある。先程説明したように、異なる大きさの絶縁性基板
を吸着する必要のある静電チャックの場合、電極は小サ
イズの絶縁性基板に合わせた中央寄りの部分31a、3
1bと、大サイズの絶縁性基板に合わせた外周寄りの部
分31c,31dとの複数の対となっている。また、電
極31aから31dまでは、各々独立した電圧を印加で
きるようになっている。このような静電チャックを用い
て異なる大きさの絶縁性基板を吸着する方法について説
明する。小サイズの絶縁性基板を吸着する場合、中央寄
りの電極31a、31bのみに電圧を印加する。このよ
うにすれば、吸着しようとする絶縁性基板の投影面以外
に電圧を供給する必要が無くなる。大サイズの絶縁性基
板を吸着する場合、全面吸着が必要な場合は、31aか
ら31dまで電圧を印加する。また、部分吸着で良い場
合は、例えば31aと31bのみ電圧を印加する。この
ように用途に応じて吸着面積を変化させる事が可能とな
る。また、吸着面全面に静電チャック機能部を設ける必
要が無い場合、部分的に配置する事で静電チャック全体
に対する静電チャック機能部の使用量を減らす事がで
き、構造部材に比べて高価な静電チャック機能部の占め
る価格割合も減少し、トータルコストを押さえた静電チ
ャックの設計が可能となる。
【0027】図4は、電極に平行な配線用電極を持つ静
電チャック400の断面図である。この静電チャック4
00は、電極41a、41bと平行な1層の配線用電極
42a、42bを持ち、電極と導電性端子43a、43
bとの各々の間をビアホールで電気的に接続してある。
また、配線用電極42a、42bと電極41a、41b
との間隔は1mm以上、好ましくは2mm以上離してあ
る。
【0028】図5は、静電チャック400の電極付近を
吸着面側から見た断面図である。吸着用電極41a、4
1bは一対をなし、櫛歯状に入り組んでいる。この下
に、図中破線で示された配線用電極42a、42bがあ
る。図中44a、44bで示された部分は、貫通穴であ
る。これにより、電極の一部41c、41dが電極41
a、41bから切断され孤立した形になっている。ここ
に給電する為に配線用電極がその下部まで配置される。
【0029】図6は、静電チャック下部に金属プレート
52を配置した場合の、導電性端子付近の拡大断面図で
ある。絶縁性支持基板50上に設けられた導電性端子5
1a、51b間には絶縁性基板にグラディエント力を発
生させる為に数kVという高電圧が印加される為、端子
間絶縁性を確保する為に導電性端子間の間隔を1mm以
上、好ましくは2mm以上離してある。また、導電性端
子と同軸で前記金属板を貫通してある給電用穴53a、
53bと導電性端子51a、51bとの間隔も2mm以
上、好ましくは3mm以上離してある。
【0030】
【発明の効果】本発明は上記構成により次の効果を発揮
する。一方の面が絶縁体基板を吸着する吸着面とし、も
う一方の面に複数の電極が設けられた誘電体基板と、該
誘電体基板を固定する絶縁性支持基板と、該絶縁性支持
基板に設けられた複数の導電性端子と、前記誘電体基板
に設けられた電極と、前記電極と前記導電性端子とを電
気的に接続する手段からなる絶縁性基板吸着用静電チャ
ックにおいて、前記電極面積が前記吸着面面積の1/2
未満とする事により、グラディエント力の発生部が多い
静電チャックが提供できる。
【0031】また、前記誘電体基板に設けられた電極
は、1対または複数の対をなし、各々の電極の幅が1mm
以下、好ましくは0.5mm以下であり、各々の電極が櫛歯
状に入り組んでおり、各々の電極に独立に電圧印加が可
能な構造とする事により、絶縁破壊を起こさずかつ効率
的にグラディエント力を発生させる事が可能な電極を形
成する事ができる。
【0032】また、前記電極より前記絶縁性基板内部側
に前記電極と平行な1層の配線用電極を持ち、前記配線
用電極と前記電極と前記導電性端子との各々の間を電気
的に接続する事により、電極配置設計の自由度の高い静
電チャックを提供する事ができる。
【0033】また、前記配線用電極と前記電極の間隔及
び前記導電性端子間の間隔を1mm以上、好ましくは2mm
以上離す事、及び前記静電チャックの絶縁性基板側に金
属板を配置してある場合、前記導電性端子と同軸で前記
金属板を貫通してある給電用穴と前記導電性端子との間
隔を2mm以上、好ましくは3mm以上離す事により、高電
圧の印加に耐えうる静電チャックを提供する事が出来
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の静電チャックの一形態を示す概略図で
ある。
【図2】図1の静電チャック電極部分を吸着面側から見
た断面図である。
【図3】本発明の静電チャックの一形態を示す概略図で
ある。
【図4】本発明の静電チャックの一形態を示す概略図で
ある。
【図5】図4の静電チャックの電極付近を吸着面側から
見た断面図である。
【図6】本発明の静電チャックの一形態を示す概略図で
ある。
【符号の説明】
100 静電チャック 11 吸着面 12a、12b 電極 13 誘電体基板 14 絶縁性支持基板 15a、15b 導電性端子 16a、16b ビアホール 200 絶縁体基板 21 電源 22 電線 300 静電チャック 31a、31b 電極 31c,31d 電極 400 静電チャック 41a、41b 電極 42a、42b 配線用電極 43a、43b 導電性端子 44a、44b 貫通穴 50 絶縁性支持基板 51a、51b 導電性端子 52 金属プレート 53a、53b 給電用穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 建野 範昭 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 北林 徹夫 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 CA04 CA05 CA07 HA17 HA18 PA16

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一方の面が絶縁体基板を吸着する吸着面
    とし、もう一方の面に複数の電極が設けられた誘電体基
    板と、該誘電体基板を固定する絶縁性支持基板と、該絶
    縁性支持基板に設けられた複数の導電性端子と、前記誘
    電体基板に設けられた電極と、前記電極と前記導電性端
    子とを電気的に接続する手段からなる静電チャックにお
    いて、前記電極面積が前記吸着面面積の1/2未満であ
    ることを特徴とする静電チャック。
  2. 【請求項2】 前記誘電体基板に設けられた電極は、1
    対をなし、前記1対の電極が交互に入り組んだ構造であ
    ることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
  3. 【請求項3】 前記誘電体基板に設けられた電極は、複
    数の対をなし、前記複数の電極が交互に入り組んだ構造
    であることを特徴とする請求項1に記載の静電チャッ
    ク。
  4. 【請求項4】 前記誘電体基板に設けられた電極と前記
    導電性端子とを電気的に接続する手段にビアホールを用
    いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に
    記載の静電チャック。
  5. 【請求項5】 前記電極より前記絶縁性基板内部側に前
    記電極と平行な1層の配線用電極を持ち、前記配線用電
    極と前記電極と前記導電性端子との各々の間を電気的に
    接続してあることを特徴とする請求項1から4のいずれ
    か1項に記載の静電チャック。
  6. 【請求項6】 前記配線用電極と前記電極の間隔を1m
    m以上離してあることを特徴とする請求項5に記載の静
    電チャック。
  7. 【請求項7】 前記導電性端子間の間隔を1mm以上以
    上離してあることを特徴とする請求項1から6のいずれ
    か1項に記載の静電チャック。
  8. 【請求項8】 前記静電チャックの絶縁性基板側に金属
    板を配置してある場合、前記導電性端子と同軸で前記金
    属板を貫通してある給電用穴と前記導電性端子との間隔
    を2mm以上離してあることを特徴とする請求項1から
    7のいずれか1項に記載の静電チャック。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005245106A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Kyocera Corp 静電チャック
JP2008153543A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック
JP2009200393A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Nhk Spring Co Ltd 静電チャック及びその製造方法
WO2012165250A1 (ja) * 2011-05-30 2012-12-06 株式会社クリエイティブ テクノロジー 静電吸着体及びこれを用いた静電吸着装置
CN106024690A (zh) * 2015-03-26 2016-10-12 三星显示有限公司 静电吸盘系统
JP2017195351A (ja) * 2016-04-23 2017-10-26 株式会社クリエイティブテクノロジー 静電チャック
CN107644831A (zh) * 2016-07-20 2018-01-30 三星显示有限公司 静电夹具
JP2019514221A (ja) * 2016-04-13 2019-05-30 トルンプフ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTrumpf GmbH+Co.KG フラクタル電極を備えた電気吸着グリッパ
DE102019102678A1 (de) 2018-02-08 2019-08-08 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Elektrostatische Anziehung verwendende Überführungsvorrichtung und elektrostatische Anziehung verwendendes Überführungsverfahren
JPWO2020004564A1 (ja) * 2018-06-28 2021-07-15 京セラ株式会社 半導体製造装置用部材の製造方法および半導体製造装置用部材

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774234A (ja) * 1993-06-28 1995-03-17 Tokyo Electron Ltd 静電チャックの電極構造、この組み立て方法、この組み立て治具及び処理装置
JPH1064987A (ja) * 1996-05-02 1998-03-06 Applied Materials Inc ヒューズ付き多重電極静電チャック
JPH10189696A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Kyocera Corp ウエハ保持装置の給電構造
JPH10223742A (ja) * 1997-01-31 1998-08-21 Kyocera Corp 静電チャック
JPH10233436A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Toto Ltd 静電チャック
JPH10233435A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Toto Ltd 静電チャック
JP2000332091A (ja) * 1999-05-25 2000-11-30 Toto Ltd 静電チャックおよび処理装置
JP2000348659A (ja) * 1999-06-03 2000-12-15 Jeol Ltd 放射ビーム装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774234A (ja) * 1993-06-28 1995-03-17 Tokyo Electron Ltd 静電チャックの電極構造、この組み立て方法、この組み立て治具及び処理装置
JPH1064987A (ja) * 1996-05-02 1998-03-06 Applied Materials Inc ヒューズ付き多重電極静電チャック
JPH10189696A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Kyocera Corp ウエハ保持装置の給電構造
JPH10223742A (ja) * 1997-01-31 1998-08-21 Kyocera Corp 静電チャック
JPH10233436A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Toto Ltd 静電チャック
JPH10233435A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Toto Ltd 静電チャック
JP2000332091A (ja) * 1999-05-25 2000-11-30 Toto Ltd 静電チャックおよび処理装置
JP2000348659A (ja) * 1999-06-03 2000-12-15 Jeol Ltd 放射ビーム装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005245106A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Kyocera Corp 静電チャック
JP2008153543A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック
JP2009200393A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Nhk Spring Co Ltd 静電チャック及びその製造方法
WO2012165250A1 (ja) * 2011-05-30 2012-12-06 株式会社クリエイティブ テクノロジー 静電吸着体及びこれを用いた静電吸着装置
CN106024690A (zh) * 2015-03-26 2016-10-12 三星显示有限公司 静电吸盘系统
JP2019514221A (ja) * 2016-04-13 2019-05-30 トルンプフ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTrumpf GmbH+Co.KG フラクタル電極を備えた電気吸着グリッパ
JP2017195351A (ja) * 2016-04-23 2017-10-26 株式会社クリエイティブテクノロジー 静電チャック
CN107644831A (zh) * 2016-07-20 2018-01-30 三星显示有限公司 静电夹具
CN107644831B (zh) * 2016-07-20 2023-03-17 三星显示有限公司 静电夹具
DE102019102678A1 (de) 2018-02-08 2019-08-08 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Elektrostatische Anziehung verwendende Überführungsvorrichtung und elektrostatische Anziehung verwendendes Überführungsverfahren
US10957934B2 (en) 2018-02-08 2021-03-23 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Transfer apparatus using electrostatic attraction and transfer method using electrostatic attraction
JPWO2020004564A1 (ja) * 2018-06-28 2021-07-15 京セラ株式会社 半導体製造装置用部材の製造方法および半導体製造装置用部材

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