JP2000348659A - 放射ビーム装置 - Google Patents
放射ビーム装置Info
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Landscapes
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 残存電荷及び残存分極をなくす。
【解決手段】 電極９０ａ，９０ｂ，９０ｃ，９０ｄの
トータル表面積が、材料３を直接吸着する絶縁体部材８
の吸着表面積の８％〜５０％に成るように該各電極が形
成されている。＋電極９０ａ，９０ｃに＋Ｖボルト、−
電極９０ｂ，９０ｄは−Ｖボルト、材料をアース電位に
し、静電力に基づいて材料３を絶縁体部材８を介してス
テージ１０上に吸着保持させる。各電極に印加されてい
る電圧を遮断する直前若しくは直後の単時間に、＋電極
９０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ、及びピン１２
を通じて材料３に、＋Ｖｓボルトが印加し、絶縁体部材
８に発生していた分極を解消する。
トータル表面積が、材料３を直接吸着する絶縁体部材８
の吸着表面積の８％〜５０％に成るように該各電極が形
成されている。＋電極９０ａ，９０ｃに＋Ｖボルト、−
電極９０ｂ，９０ｄは−Ｖボルト、材料をアース電位に
し、静電力に基づいて材料３を絶縁体部材８を介してス
テージ１０上に吸着保持させる。各電極に印加されてい
る電圧を遮断する直前若しくは直後の単時間に、＋電極
９０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ、及びピン１２
を通じて材料３に、＋Ｖｓボルトが印加し、絶縁体部材
８に発生していた分極を解消する。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、静電チャック装置を備
えた放射ビーム装置に関する。
えた放射ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣパターン製作過程に於いて、ＩＣパ
ターンが形成されているウエハの如き材料（この場合、
試料と称しても良い）上の観察が行われる。図１はこの
様な材料を観察するための走査型電子顕微鏡の概略を示
したものである。図中１は電子銃で、該電子銃から発生
された電子ビームは集束レンズ２により材料３上に集束
されると共に、走査信号発生装置４から走査信号が供給
されている偏向レンズ５により材料３上を走査する。こ
の走査により、材料から発生した二次電子が検出器６に
より検出され、該二次電子信号は前記走査信号発生装置
４から走査信号が供給されている陰極線管の如き表示装
置７に送られる。この結果、該表示装置上には材料の二
次電子像が表示される。
ターンが形成されているウエハの如き材料（この場合、
試料と称しても良い）上の観察が行われる。図１はこの
様な材料を観察するための走査型電子顕微鏡の概略を示
したものである。図中１は電子銃で、該電子銃から発生
された電子ビームは集束レンズ２により材料３上に集束
されると共に、走査信号発生装置４から走査信号が供給
されている偏向レンズ５により材料３上を走査する。こ
の走査により、材料から発生した二次電子が検出器６に
より検出され、該二次電子信号は前記走査信号発生装置
４から走査信号が供給されている陰極線管の如き表示装
置７に送られる。この結果、該表示装置上には材料の二
次電子像が表示される。
【０００３】図２はこの様な走査電子顕微鏡において材
料３を保持するための静電チャック装置の概略を表して
いる。該静電チャック装置は、絶縁体部材８、内部に電
極９ａ，９ｂが設けられた絶縁性材料から成るステージ
１０、前記電極に電圧を印加するための電源１１、前記
ステージ１０に設けられており、前記材料３に接触する
ことにより該材料をアースに落とすためのピン１２を備
えている。ウエハの如き材料３は、絶縁体部材８を介し
てステージ１０上に載置された状態において、アース電
位にある材料３に対し、前記電源１１から前記電極９
ａ，９ｂに各々＋Ｖボルト，−Ｖボルトの電圧を印加す
ることにより静電力により前記材料３を前記絶縁体部材
８を介してステージ１０上に吸着保持させる。
料３を保持するための静電チャック装置の概略を表して
いる。該静電チャック装置は、絶縁体部材８、内部に電
極９ａ，９ｂが設けられた絶縁性材料から成るステージ
１０、前記電極に電圧を印加するための電源１１、前記
ステージ１０に設けられており、前記材料３に接触する
ことにより該材料をアースに落とすためのピン１２を備
えている。ウエハの如き材料３は、絶縁体部材８を介し
てステージ１０上に載置された状態において、アース電
位にある材料３に対し、前記電源１１から前記電極９
ａ，９ｂに各々＋Ｖボルト，−Ｖボルトの電圧を印加す
ることにより静電力により前記材料３を前記絶縁体部材
８を介してステージ１０上に吸着保持させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】さて、この様な静電チ
ャック装置において、各電極９ａ，９ｂへの電圧を遮断
しても、材料３と電極９ａ，９ｂ間は絶縁体のために、
暫くの間、この間に電荷が残存する。その為、材料３を
絶縁体部材８から速やかに離脱させることが出来ない。
ャック装置において、各電極９ａ，９ｂへの電圧を遮断
しても、材料３と電極９ａ，９ｂ間は絶縁体のために、
暫くの間、この間に電荷が残存する。その為、材料３を
絶縁体部材８から速やかに離脱させることが出来ない。
【０００５】又、前記各電極９ａ，９ｂに電圧が印加さ
れたことにより、前記絶縁体部材８中に分極が起こって
おり、印加している電圧を遮断しても、分極がなかなか
解消されない。この分極が充分に発達すると、印加電圧
を遮断しても、電圧を印加して材料を最初に吸着させた
時の吸着力の半分近い吸着力が残っている場合もある。
れたことにより、前記絶縁体部材８中に分極が起こって
おり、印加している電圧を遮断しても、分極がなかなか
解消されない。この分極が充分に発達すると、印加電圧
を遮断しても、電圧を印加して材料を最初に吸着させた
時の吸着力の半分近い吸着力が残っている場合もある。
【０００６】以上説明した電荷の残存と分極の残存とに
より、印加電圧を遮断しても吸着力がなかなか解消され
ないことから、次の様なトラブルを発生していた。
より、印加電圧を遮断しても吸着力がなかなか解消され
ないことから、次の様なトラブルを発生していた。
【０００７】（１）材料をステージ上から離して他の場
所へ搬送する場合、材料がステージ上から全く離れな
い。
所へ搬送する場合、材料がステージ上から全く離れな
い。
【０００８】（２）材料を下から持ち上げて材料をステ
ージから離す場合、材料が大きく跳ね上がり材料が破損
する。
ージから離す場合、材料が大きく跳ね上がり材料が破損
する。
【０００９】（３）材料をステージ上から離して他の場
所へ搬送する場合、材料が搬送手段（アーム）の所定の
位置からずれて載ってしまい、搬送がうまくいかない。
所へ搬送する場合、材料が搬送手段（アーム）の所定の
位置からずれて載ってしまい、搬送がうまくいかない。
【００１０】（４）前記絶縁体部材８を介してステージ
１０上に載せられる材料が既に電荷を持っている場合、
或いは、絶縁体部材８の表面に残っている電荷による吸
着力が過大な場合、材料を絶縁体部材８を介してステー
ジ１０上に載せ、更に、材料の位置決めを行う時に、前
記電荷に基づく吸着力により、材料が横滑りせず、その
為に位置決めが出来ない。
１０上に載せられる材料が既に電荷を持っている場合、
或いは、絶縁体部材８の表面に残っている電荷による吸
着力が過大な場合、材料を絶縁体部材８を介してステー
ジ１０上に載せ、更に、材料の位置決めを行う時に、前
記電荷に基づく吸着力により、材料が横滑りせず、その
為に位置決めが出来ない。
【００１１】従来、分極の残存の対策として、電極と材
料間に高周波交番電圧を印加して分極が誘電分散する様
な振動を与える様にしているが、この様な高周波電源は
極めて高価であり、又、誘電分散が適切に行なわれるた
めの交番電圧の周波数選択が可成り難しい。
料間に高周波交番電圧を印加して分極が誘電分散する様
な振動を与える様にしているが、この様な高周波電源は
極めて高価であり、又、誘電分散が適切に行なわれるた
めの交番電圧の周波数選択が可成り難しい。
【００１２】本発明は、この様な問題を解決するもの
で、新規な放射ビーム装置を提供するものである。
で、新規な放射ビーム装置を提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】 本発明の放射ビーム装
置は、電極に電圧を印加する事により絶縁体を介して材
料を静電吸着力により吸着するように成した静電チャッ
ク装置を備えた放射ビーム装置であって、材料を吸着す
る吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０％に成るよ
うに電極を形成したことを特徴としている。本発明の放
射ビーム装置は、電極に電圧を印加する事により絶縁体
を介して材料を静電吸着力により吸着するように成した
静電チャック装置を備えた放射ビーム装置であって、材
料を吸着する吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０
％に成るように電極を形成し、吸着面に材料を載せた状
態で電極及び材料に同極性の電圧を印加出来るように成
したことを特徴としている。
置は、電極に電圧を印加する事により絶縁体を介して材
料を静電吸着力により吸着するように成した静電チャッ
ク装置を備えた放射ビーム装置であって、材料を吸着す
る吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０％に成るよ
うに電極を形成したことを特徴としている。本発明の放
射ビーム装置は、電極に電圧を印加する事により絶縁体
を介して材料を静電吸着力により吸着するように成した
静電チャック装置を備えた放射ビーム装置であって、材
料を吸着する吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０
％に成るように電極を形成し、吸着面に材料を載せた状
態で電極及び材料に同極性の電圧を印加出来るように成
したことを特徴としている。
【００１４】本発明の放射ビーム装置は、吸着面に材料
を吸着させるために電極に印加した電圧を切る前若しく
は後に、 電極及び材料に同極性の電圧を印加出来るよ
うに成したことを特徴としている。本発明の放射ビーム
装置は、吸着面に吸着される材料は吸着前に除電される
様に成したことを特徴としている。
を吸着させるために電極に印加した電圧を切る前若しく
は後に、 電極及び材料に同極性の電圧を印加出来るよ
うに成したことを特徴としている。本発明の放射ビーム
装置は、吸着面に吸着される材料は吸着前に除電される
様に成したことを特徴としている。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１６】図３，図４は本発明に基づく放射ビーム装
置の要部である静電チャック装置の一例を示している。
尚、図４は図３のＡ−Ａ断面図である。
置の要部である静電チャック装置の一例を示している。
尚、図４は図３のＡ−Ａ断面図である。
【００１７】図中９０ａ，９０ｂ，９０ｃ，９０ｄはス
テージ１０中に設けられた４分割電極で、これらの電極
は、これらの電極のトータル表面積が、材料３を直接吸
着する絶縁体部材８の吸着表面積の８％〜５０％に成る
ように形成されている。
テージ１０中に設けられた４分割電極で、これらの電極
は、これらの電極のトータル表面積が、材料３を直接吸
着する絶縁体部材８の吸着表面積の８％〜５０％に成る
ように形成されている。
【００１８】図中１１０はこれらの電極に電圧を印加す
るための制御電圧源である。２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは
スイッチング回路である。スイッチング回路２０Ａは、
＋電極９０ａ，９０ｃに繋がったスイッチＳＡを、制御
電圧源１１０の＋電圧発生出力端子Ｔ１か、ピン１２に
繋がった端子Ｔ２の何れかに繋ぐための回路、スイッチ
ング回路２０Ｂは、−電極９０ｂ，９０ｄに繋がったス
イッチＳＢを、制御電圧源１１０の−電圧発生出力端子
Ｔ３か、ピン１２に繋がった端子Ｔ４の何れかに繋ぐた
めの回路、スイッチング回路２０Ｃは、ピン１２に繋が
ったスイッチＳＣを、制御電圧源１１０の任意電圧発生
出力端子Ｔ５か、アースに繋がったアース端子Ｔ６の何
れかに繋ぐための回路である。
るための制御電圧源である。２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは
スイッチング回路である。スイッチング回路２０Ａは、
＋電極９０ａ，９０ｃに繋がったスイッチＳＡを、制御
電圧源１１０の＋電圧発生出力端子Ｔ１か、ピン１２に
繋がった端子Ｔ２の何れかに繋ぐための回路、スイッチ
ング回路２０Ｂは、−電極９０ｂ，９０ｄに繋がったス
イッチＳＢを、制御電圧源１１０の−電圧発生出力端子
Ｔ３か、ピン１２に繋がった端子Ｔ４の何れかに繋ぐた
めの回路、スイッチング回路２０Ｃは、ピン１２に繋が
ったスイッチＳＣを、制御電圧源１１０の任意電圧発生
出力端子Ｔ５か、アースに繋がったアース端子Ｔ６の何
れかに繋ぐための回路である。
【００１９】本例では、電極９０ａ，９０ｂ，９０ｃ，
９０ｄのトータル表面積が、材料３を直接吸着する絶縁
体部材８の吸着表面積の８％〜５０％に成るように該各
電極が形成されている。この理由を次に説明する。
９０ｄのトータル表面積が、材料３を直接吸着する絶縁
体部材８の吸着表面積の８％〜５０％に成るように該各
電極が形成されている。この理由を次に説明する。
【００２０】真空の誘電率をεｏ、絶縁体部材の比誘電
率をεｓ、電極への印加電圧をＶ、電極と材料間の絶縁
体の厚みをｄ、電極面積をＳとすると、吸着力Ｆはクー
ロン力であり、（１）式で表される。
率をεｓ、電極への印加電圧をＶ、電極と材料間の絶縁
体の厚みをｄ、電極面積をＳとすると、吸着力Ｆはクー
ロン力であり、（１）式で表される。
【００２１】
【数１】
【００２２】又、前記残存する電荷Ｑは（２）式で表さ
れる。
れる。
【００２３】
【数２】Ｑ＝εＯ・εｓ・Ｖ・Ｓ／ｄ （２） （２）式から、残留電荷Ｑは印加電圧Ｖ若しくは電極の
トータル面積Ｓに比例している。従って、残留電荷を少
なくするには、印加電圧Ｖ若しくは電極のトータル面積
Ｓ若しくは、印加電圧Ｖと電極のトータル面積Ｓの両方
を小さくすればよい。但し、この場合、吸着力Ｆを必要
レベルに維持しなければならない。この場合、（１）式
から、印加電圧Ｖと電極のトータル面積Ｓの両方を小さ
くすると必要レベルの吸着力が維持しにくくなり、又、
印加電圧Ｖを小さくすると吸着力Ｆは印加電圧の自乗で
小さくなるので必要レベルの吸着力が維持しにくくなる
ことから、電極のトータル面積Ｓを小さくすることが良
策と考えられる。そうした場合、所望（必要）レベルの
吸着力Ｆを維持しての、吸着面に対する電極のトータル
面積比と残留電荷Ｑの関係、及び、吸着面に対する電極
のトータル面積比と印加電圧Ｖの関係は、それぞれ図５
の（イ），（ロ）に示す様になる。
トータル面積Ｓに比例している。従って、残留電荷を少
なくするには、印加電圧Ｖ若しくは電極のトータル面積
Ｓ若しくは、印加電圧Ｖと電極のトータル面積Ｓの両方
を小さくすればよい。但し、この場合、吸着力Ｆを必要
レベルに維持しなければならない。この場合、（１）式
から、印加電圧Ｖと電極のトータル面積Ｓの両方を小さ
くすると必要レベルの吸着力が維持しにくくなり、又、
印加電圧Ｖを小さくすると吸着力Ｆは印加電圧の自乗で
小さくなるので必要レベルの吸着力が維持しにくくなる
ことから、電極のトータル面積Ｓを小さくすることが良
策と考えられる。そうした場合、所望（必要）レベルの
吸着力Ｆを維持しての、吸着面に対する電極のトータル
面積比と残留電荷Ｑの関係、及び、吸着面に対する電極
のトータル面積比と印加電圧Ｖの関係は、それぞれ図５
の（イ），（ロ）に示す様になる。
【００２４】点線Ｌ１は前記残留電荷に基づくトラブル
の許容境界ラインを表し、このライン以上のレベルの残
留電荷があるとトラブルの許容範囲を越えてしまい、こ
のライン以下のレベルの残留電荷であれば許容範囲のト
ラブルで済むことになる。従って、関係曲線（イ）と許
容ラインＬ１の交点の電極面積比０．５から、電極面積
比が０．５，即ち、５０％前後が電極面積比の上限と見
ることが出来る。
の許容境界ラインを表し、このライン以上のレベルの残
留電荷があるとトラブルの許容範囲を越えてしまい、こ
のライン以下のレベルの残留電荷であれば許容範囲のト
ラブルで済むことになる。従って、関係曲線（イ）と許
容ラインＬ１の交点の電極面積比０．５から、電極面積
比が０．５，即ち、５０％前後が電極面積比の上限と見
ることが出来る。
【００２５】一方、点線Ｌ２は印加電圧に基づく電圧供
給配線の安全境界ラインを表し、このライン以上のレベ
ルの印加電圧になるとこの様な電圧を印加するための電
圧供給配線ケーブルとして耐電圧の条件が極めて厳しく
なり、放電も発生しやすくなり危険である。このライン
以下のレベルの印加電圧であれば放電の発生などの安全
性が許容範囲になる。従って、関係曲線（ロ）と許容ラ
インＬ２の交点の電極面積比０．０８から、電極面積比
が０．０８，即ち、８％前後が電極面積比の下限と見る
ことが出来る。
給配線の安全境界ラインを表し、このライン以上のレベ
ルの印加電圧になるとこの様な電圧を印加するための電
圧供給配線ケーブルとして耐電圧の条件が極めて厳しく
なり、放電も発生しやすくなり危険である。このライン
以下のレベルの印加電圧であれば放電の発生などの安全
性が許容範囲になる。従って、関係曲線（ロ）と許容ラ
インＬ２の交点の電極面積比０．０８から、電極面積比
が０．０８，即ち、８％前後が電極面積比の下限と見る
ことが出来る。
【００２６】この様な構成の静電チャック装置が、例え
ば、図１に示す如き走査型電子顕微鏡に備えられている
場合、シリコンウエハの如き材料３を、真空排気された
材料室の静電チャック装置に搬送機構（図示せず）によ
り搬送することになる。尚、材料室の材料搬送口（図示
せず）の外側には、材料室に搬送される材料の電荷を除
去するための除電装置（図示せず）が設けられている。
この様な除電装置は、市販されており、通過する材料が
帯びている電荷の極性と量を検出し、正に帯電されてい
る場合には、その電荷と逆の極性の電子をその電荷量と
同じ量だけ材料に照射して材料の電荷を中和している。
又、負に帯電されている場合には、その電荷と逆の極性
のイオンをその電荷量と同じ量だけ材料に照射して材料
の電荷を中和している。
ば、図１に示す如き走査型電子顕微鏡に備えられている
場合、シリコンウエハの如き材料３を、真空排気された
材料室の静電チャック装置に搬送機構（図示せず）によ
り搬送することになる。尚、材料室の材料搬送口（図示
せず）の外側には、材料室に搬送される材料の電荷を除
去するための除電装置（図示せず）が設けられている。
この様な除電装置は、市販されており、通過する材料が
帯びている電荷の極性と量を検出し、正に帯電されてい
る場合には、その電荷と逆の極性の電子をその電荷量と
同じ量だけ材料に照射して材料の電荷を中和している。
又、負に帯電されている場合には、その電荷と逆の極性
のイオンをその電荷量と同じ量だけ材料に照射して材料
の電荷を中和している。
【００２７】この様にして除電された材料が材料搬送装
置（図示せず）により静電チャック装置の絶縁体部材８
上に搬送され、更に、該材料は位置決め機構（図示せ
ず）により所定の位置に位置決めされる。
置（図示せず）により静電チャック装置の絶縁体部材８
上に搬送され、更に、該材料は位置決め機構（図示せ
ず）により所定の位置に位置決めされる。
【００２８】この状態において、制御装置（図示せず）
の指令に従って、スイッチング回路２０ＡはスイッチＳ
Ａを＋電圧発生出力端子Ｔ１に、スイッチング回路２０
ＢはスイッチＳＢを−電圧発生出力端子Ｔ３に、スイッ
チング回路２０ＣはスイッチＳＣをアース端子Ｔ６に繋
ぐようスイッチングを行う。このスイッチングにより、
＋電極９０ａ，９０ｃに＋Ｖボルトが、−電極９０ｂ，
９０ｄに−Ｖボルトがそれぞれ印加され、更に、ピン１
２を通じて材料３はアース電位となる。すると、図６の
（ａ）に示す様に、＋電極９０ａ，９０ｃは＋に、−電
極９０ｂ，９０ｄは−に帯電し、静電力に基づいて材料
３は絶縁体部材８を介してステージ１０上に吸着保持さ
れる。
の指令に従って、スイッチング回路２０ＡはスイッチＳ
Ａを＋電圧発生出力端子Ｔ１に、スイッチング回路２０
ＢはスイッチＳＢを−電圧発生出力端子Ｔ３に、スイッ
チング回路２０ＣはスイッチＳＣをアース端子Ｔ６に繋
ぐようスイッチングを行う。このスイッチングにより、
＋電極９０ａ，９０ｃに＋Ｖボルトが、−電極９０ｂ，
９０ｄに−Ｖボルトがそれぞれ印加され、更に、ピン１
２を通じて材料３はアース電位となる。すると、図６の
（ａ）に示す様に、＋電極９０ａ，９０ｃは＋に、−電
極９０ｂ，９０ｄは−に帯電し、静電力に基づいて材料
３は絶縁体部材８を介してステージ１０上に吸着保持さ
れる。
【００２９】この状態において、前記した様に、材料上
の走査電子顕微鏡像の観察などが行われる。
の走査電子顕微鏡像の観察などが行われる。
【００３０】次に、材料をステージから外して材料室か
ら搬出させる場合には、前記各電極に印加されている電
圧を遮断することになるが、その直前若しくは直後の単
時間（例えば、０．３秒〜１０秒程度）に、制御装置
（図示せず）の指令に従って、スイッチング回路２０Ａ
はスイッチＳＡを、スイッチング回路２０Ｂはスイッチ
ＳＢを、スイッチング回路２０ＣはスイッチＳＣをそれ
ぞれ任意電圧発生出力端子に繋がったＴ２、Ｔ４、Ｔ５
に繋ぐようスイッチングを行う。このスイッチングによ
り、＋電極９０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ、及
びピン１２を通じて材料３に、例えば＋Ｖｓボルトが印
加される。すると、図６の（ｂ）に示す様に、＋電極９
０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ及び材料３は＋に
帯電し、前の工程で絶縁体部材８に発生していた分極が
緩和される。尚、前記各電極に吸着のために印加されて
いる電圧Ｖの遮断直前若しくは直後に分極解消のために
印加される電圧Ｖｓは、分極解消を強力に行うために、
その絶対値が吸着のための電圧Ｖの絶対値より大きくさ
れている。
ら搬出させる場合には、前記各電極に印加されている電
圧を遮断することになるが、その直前若しくは直後の単
時間（例えば、０．３秒〜１０秒程度）に、制御装置
（図示せず）の指令に従って、スイッチング回路２０Ａ
はスイッチＳＡを、スイッチング回路２０Ｂはスイッチ
ＳＢを、スイッチング回路２０ＣはスイッチＳＣをそれ
ぞれ任意電圧発生出力端子に繋がったＴ２、Ｔ４、Ｔ５
に繋ぐようスイッチングを行う。このスイッチングによ
り、＋電極９０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ、及
びピン１２を通じて材料３に、例えば＋Ｖｓボルトが印
加される。すると、図６の（ｂ）に示す様に、＋電極９
０ａ，９０ｃ、−電極９０ｂ，９０ｄ及び材料３は＋に
帯電し、前の工程で絶縁体部材８に発生していた分極が
緩和される。尚、前記各電極に吸着のために印加されて
いる電圧Ｖの遮断直前若しくは直後に分極解消のために
印加される電圧Ｖｓは、分極解消を強力に行うために、
その絶対値が吸着のための電圧Ｖの絶対値より大きくさ
れている。
【００３１】以上説明した本発明の例によれば、吸着前
の材料には電荷が殆どなく、吸着のために電極に印加さ
れる電圧を遮断した後の残留電荷が許容レベル以下であ
り、又、残留分極も殆ど解消されるので、従来の静電チ
ャック装置が発生していたトラブルを発生することがな
い。
の材料には電荷が殆どなく、吸着のために電極に印加さ
れる電圧を遮断した後の残留電荷が許容レベル以下であ
り、又、残留分極も殆ど解消されるので、従来の静電チ
ャック装置が発生していたトラブルを発生することがな
い。
【００３２】尚、前記例では、双極の電極を例を示した
が、単極のものにも応用可能である。又、双極の電極で
も、前記例の様に４分割のものに限定されない。例え
ば、２つの電極が同心円状になったものでも良いし、渦
巻き状の２つの電極が互いの間に入り込んだ形状のもの
等でも良い。
が、単極のものにも応用可能である。又、双極の電極で
も、前記例の様に４分割のものに限定されない。例え
ば、２つの電極が同心円状になったものでも良いし、渦
巻き状の２つの電極が互いの間に入り込んだ形状のもの
等でも良い。
【００３３】又、前記例では、絶縁体部材８に残存する
分極を緩和するために、各電極及び材料に＋の同一電圧
Ｖｓを印加するようにしたが、各電極及び材料に印加さ
れる電圧は０ボルトを除く同極性の電圧であればよく、
それらの電圧値は互いに異なっていても良い。但し、＋
を印加するか−を印加するかは、絶縁体部材の種類によ
る。例えば、ポリーミド等では帯電の傾向が−になりや
すい傾向があるので、＋の電圧を印加する事で負の帯電
を緩和できる。
分極を緩和するために、各電極及び材料に＋の同一電圧
Ｖｓを印加するようにしたが、各電極及び材料に印加さ
れる電圧は０ボルトを除く同極性の電圧であればよく、
それらの電圧値は互いに異なっていても良い。但し、＋
を印加するか−を印加するかは、絶縁体部材の種類によ
る。例えば、ポリーミド等では帯電の傾向が−になりや
すい傾向があるので、＋の電圧を印加する事で負の帯電
を緩和できる。
【００３４】又、前記例では、吸着のための電圧を遮断
する直前若しくは直後に分極緩和のための電圧を印加す
るようにしたが、材料を絶縁体部材に載せた後、吸着の
電圧を印加する前にも材料及び電極に同極の電圧を印加
して、予め絶縁体部材に存在している残留電荷による分
極を緩和するようにしても良い。
する直前若しくは直後に分極緩和のための電圧を印加す
るようにしたが、材料を絶縁体部材に載せた後、吸着の
電圧を印加する前にも材料及び電極に同極の電圧を印加
して、予め絶縁体部材に存在している残留電荷による分
極を緩和するようにしても良い。
【００３５】又、前記例では走査電子顕微鏡を例に上げ
て説明したが、この様なものに限定されず、ウエハの如
き材料を静電チャックする機構を備えた荷電粒子装置、
例えば、電子ビーム露光装置やイオン注入装置等や、光
を使った露光装置等にも応用可能である。
て説明したが、この様なものに限定されず、ウエハの如
き材料を静電チャックする機構を備えた荷電粒子装置、
例えば、電子ビーム露光装置やイオン注入装置等や、光
を使った露光装置等にも応用可能である。
【図１】 放射子ビーム装置の一例を示している。
【図２】 従来の放射ビーム装置の要部である真空チャ
ック装置の一例を示している。
ック装置の一例を示している。
【図３】 本発明の放射子ビーム装置の要部である真空
チャック装置の一例を示している。
チャック装置の一例を示している。
【図４】 図３のＡ−Ａ断面図である。
【図５】 所望（必要）レベルの吸着力を維持しての、
吸着面に対する電極のトータル面積比と残留電荷の関
係、及び、吸着面に対する電極のトータル面積比と印加
電圧Ｖの関係を示す図である。
吸着面に対する電極のトータル面積比と残留電荷の関
係、及び、吸着面に対する電極のトータル面積比と印加
電圧Ｖの関係を示す図である。
【図６】 図４に示す真空チャック装置の動作の説明に
使用した図である。
使用した図である。
１…電子銃 ２…集束レンズ ３…材料 ４…走査信号発生装置、 ５…偏向レンズ ６…二次電子検出器 ７…表示装置 ８…絶縁体部材 ９ａ，９ｂ，９０ａ，９０ｂ，９０ｃ，９０ｄ…電極 １０…ステージ １１…電源 １２…ピン ２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ…スイッチング回路 ＳＡ，ＳＢ，ＳＣ…スイッチ Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４，Ｔ５，Ｔ６…端子 １１０…制御電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｒ
Claims (5)
- 【請求項１】 電極に電圧を印加する事により絶縁体を
介して材料を静電吸着力により吸着するように成した静
電チャック装置を備えた放射ビーム装置であって、材料
を吸着する吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０％
に成るように電極を形成した放射ビーム装置。 - 【請求項２】 電極に電圧を印加する事により絶縁体を
介して材料を静電吸着力により吸着するように成した静
電チャック装置を備えた放射ビーム装置であって、材料
を吸着する吸着面に対する電極の面積比が８％〜５０％
に成るように電極を形成し、吸着面に材料を載せた状態
で電極及び材料に同極性の電圧を印加出来るように成し
た放射ビーム装置。 - 【請求項３】 吸着面に材料を吸着させるために電極に
印加した電圧を切る前若しくは後に、 電極及び材料に
同極性の電圧を印加出来るように成した請求項２記載の
放射ビーム装置。 - 【請求項４】 吸着面に吸着される材料は吸着前に除電
される様に成した請求項１〜３記載の放射ビーム装置。 - 【請求項５】 電極は２つ以上に分割されており、吸着
面に材料を吸着するために互いに異極の電圧が印加され
るように成した請求項１〜４記載の放射ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157069A JP2000348659A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 放射ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157069A JP2000348659A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 放射ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000348659A true JP2000348659A (ja) | 2000-12-15 |
Family
ID=15641562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11157069A Withdrawn JP2000348659A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 放射ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000348659A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002345273A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Toto Ltd | 静電チャック |
| JP2010177686A (ja) * | 2010-03-24 | 2010-08-12 | Ebara Corp | ウェハのチャッキング装置およびチャッキング方法 |
| JP2018182289A (ja) * | 2017-04-18 | 2018-11-15 | 日新イオン機器株式会社 | 静電チャック |
| JPWO2019044290A1 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-11-07 | 株式会社クリエイティブテクノロジー | 静電式ワーク保持方法，静電式ワーク保持システム及びワーク保持装置 |
-
1999
- 1999-06-03 JP JP11157069A patent/JP2000348659A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002345273A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Toto Ltd | 静電チャック |
| JP2010177686A (ja) * | 2010-03-24 | 2010-08-12 | Ebara Corp | ウェハのチャッキング装置およびチャッキング方法 |
| JP2018182289A (ja) * | 2017-04-18 | 2018-11-15 | 日新イオン機器株式会社 | 静電チャック |
| JP7011788B2 (ja) | 2017-04-18 | 2022-01-27 | 日新イオン機器株式会社 | 静電チャック |
| JPWO2019044290A1 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-11-07 | 株式会社クリエイティブテクノロジー | 静電式ワーク保持方法，静電式ワーク保持システム及びワーク保持装置 |
| US11121649B2 (en) | 2017-08-28 | 2021-09-14 | Creative Technology Corporation | Electrostatic workpiece-holding method and electrostatic workpiece-holding system |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |