JP2002340824A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料表面に凹凸等があっても、安定した蛍光
Ｘ線強度が得られる蛍光Ｘ線装置を提供する。 【解決手段】 Ｘ線源１および検出手段８に対する試料
表面５ａの高さが最大１ｍｍ変化した場合に、検出手段
８が測定する蛍光Ｘ線７の強度の変化が１％以下である
ように、１次Ｘ線絞り３の開口部３ａの形状が設定され
ている。
Ｘ線強度が得られる蛍光Ｘ線装置を提供する。 【解決手段】 Ｘ線源１および検出手段８に対する試料
表面５ａの高さが最大１ｍｍ変化した場合に、検出手段
８が測定する蛍光Ｘ線７の強度の変化が１％以下である
ように、１次Ｘ線絞り３の開口部３ａの形状が設定され
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆる平行法の
光学系をもつ蛍光Ｘ線分析装置に関するものである。
光学系をもつ蛍光Ｘ線分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析では、試料は、例えば、所
定寸法の円板状で所定の試料ホルダに保持されて試料台
に載置され、試料表面にＸ線管等のＸ線源から１次Ｘ線
が照射される。ここで、一般に、装置の感度向上のため
に、Ｘ線源が試料にできるだけ接近するように配置され
ている。このとき、同時に、検出手段が試料表面を見込
む視野をＸ線源が妨害しないようにする必要があるた
め、一般にＸ線管等のＸ線源は試料表面に対して傾斜し
て配置されている。
定寸法の円板状で所定の試料ホルダに保持されて試料台
に載置され、試料表面にＸ線管等のＸ線源から１次Ｘ線
が照射される。ここで、一般に、装置の感度向上のため
に、Ｘ線源が試料にできるだけ接近するように配置され
ている。このとき、同時に、検出手段が試料表面を見込
む視野をＸ線源が妨害しないようにする必要があるた
め、一般にＸ線管等のＸ線源は試料表面に対して傾斜し
て配置されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにＸ
線源と試料表面との距離が短く設定されていると、試料
表面の凹凸、そり、たわみ等が原因で、前記距離がわず
かに変化しても、発生する蛍光Ｘ線の強度において無視
できない変化をもたらし、分析精度を今一つ向上できな
い。
線源と試料表面との距離が短く設定されていると、試料
表面の凹凸、そり、たわみ等が原因で、前記距離がわず
かに変化しても、発生する蛍光Ｘ線の強度において無視
できない変化をもたらし、分析精度を今一つ向上できな
い。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、試料表面に凹凸等があっても、安定した蛍光Ｘ
線強度が得られる蛍光Ｘ線装置を提供することを目的と
する。
もので、試料表面に凹凸等があっても、安定した蛍光Ｘ
線強度が得られる蛍光Ｘ線装置を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本願発明の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、試料が載置
される試料台と、試料の平坦な表面に斜めから１次Ｘ線
を照射するＸ線源と、前記試料表面を斜めから見込ん
で、試料の測定部位から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定
する検出手段とを備えている。ここで、前記検出手段
が、前記試料表面を見込む範囲を制限する視野制限絞り
と、試料から発生する蛍光Ｘ線を平行化するソーラース
リットとを有する。そして、前記Ｘ線源が、前記試料表
面に１次Ｘ線を照射する範囲を制限する１次Ｘ線絞りを
有し、前記Ｘ線源および検出手段に対する前記試料表面
の高さが最大１ｍｍ変化した場合に、前記検出手段が測
定する蛍光Ｘ線の強度の変化が１％以下であるように、
前記１次Ｘ線絞りの開口部の形状が設定されていること
を特徴とする。
に、本願発明の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、試料が載置
される試料台と、試料の平坦な表面に斜めから１次Ｘ線
を照射するＸ線源と、前記試料表面を斜めから見込ん
で、試料の測定部位から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定
する検出手段とを備えている。ここで、前記検出手段
が、前記試料表面を見込む範囲を制限する視野制限絞り
と、試料から発生する蛍光Ｘ線を平行化するソーラース
リットとを有する。そして、前記Ｘ線源が、前記試料表
面に１次Ｘ線を照射する範囲を制限する１次Ｘ線絞りを
有し、前記Ｘ線源および検出手段に対する前記試料表面
の高さが最大１ｍｍ変化した場合に、前記検出手段が測
定する蛍光Ｘ線の強度の変化が１％以下であるように、
前記１次Ｘ線絞りの開口部の形状が設定されていること
を特徴とする。
【０００６】本願発明の蛍光Ｘ線分析装置によれば、Ｘ
線源および検出手段に対する試料表面の高さが最大１ｍ
ｍ変化した場合に、検出手段が測定する蛍光Ｘ線の強度
の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞りの開口部
の形状が設定されているので、試料表面に凹凸等があっ
ても、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。なお、１次Ｘ
線絞りの開口部と視野制限絞りの開口部との両方の形状
を調整して、同様の効果を得ることもできる。
線源および検出手段に対する試料表面の高さが最大１ｍ
ｍ変化した場合に、検出手段が測定する蛍光Ｘ線の強度
の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞りの開口部
の形状が設定されているので、試料表面に凹凸等があっ
ても、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。なお、１次Ｘ
線絞りの開口部と視野制限絞りの開口部との両方の形状
を調整して、同様の効果を得ることもできる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態の蛍光
Ｘ線分析装置について説明する。図１に示すように、こ
の装置は、まず、試料５が載置される試料台６と、試料
５の平坦な表面５ａに斜めから１次Ｘ線４を照射するＸ
線源１と、前記試料表面５ａを斜めから見込んで、試料
５の測定部位５ｂから発生する蛍光Ｘ線７の強度を測定
する検出手段８とを備えている。試料５は、例えば、所
定寸法の円板状で、ここでは直接試料台６に載置してい
るが、所定の試料ホルダを介してすなわち所定の試料ホ
ルダで保持して試料台６に載置してもよい。また、試料
５の平坦な表面５ａとは、高低差が１ｍｍ程度までの凹
凸、そり、たわみ等がある場合も含む。
Ｘ線分析装置について説明する。図１に示すように、こ
の装置は、まず、試料５が載置される試料台６と、試料
５の平坦な表面５ａに斜めから１次Ｘ線４を照射するＸ
線源１と、前記試料表面５ａを斜めから見込んで、試料
５の測定部位５ｂから発生する蛍光Ｘ線７の強度を測定
する検出手段８とを備えている。試料５は、例えば、所
定寸法の円板状で、ここでは直接試料台６に載置してい
るが、所定の試料ホルダを介してすなわち所定の試料ホ
ルダで保持して試料台６に載置してもよい。また、試料
５の平坦な表面５ａとは、高低差が１ｍｍ程度までの凹
凸、そり、たわみ等がある場合も含む。
【０００８】検出手段８は、試料表面５ａを見込む範囲
を制限する視野制限絞り１４と、試料５から発生する蛍
光Ｘ線を通過させる発散ソーラースリット９Ａと、発散
ソーラースリット９Ａを通過した蛍光Ｘ線１２が入射さ
れ、分析対象の波長の蛍光Ｘ線１３を回折する分光素子
１０と、分光素子１０で回折された蛍光Ｘ線１３を通過
させる受光ソーラースリット９Ｂと、受光ソーラースリ
ット９Ｂを通過した蛍光Ｘ線の強度を測定する検出器１
１とを有する。視野制限絞り１４は、試料５の測定部位
５ｂから発生する蛍光Ｘ線７のみが検出器１１に到達す
るように試料５からの蛍光Ｘ線を制限する。発散ソーラ
ースリット９Ａは、試料表面５ａに対して傾いており、
その開口部が視野制限絞り１４を介して見込む範囲の試
料表面５ａおよびその深さ方向への近傍が、試料５の測
定部位５ｂである。発散ソーラースリット９Ａおよび受
光ソーラースリット９Ｂが、試料５から発生する蛍光Ｘ
線を平行化するソーラースリット９となる。
を制限する視野制限絞り１４と、試料５から発生する蛍
光Ｘ線を通過させる発散ソーラースリット９Ａと、発散
ソーラースリット９Ａを通過した蛍光Ｘ線１２が入射さ
れ、分析対象の波長の蛍光Ｘ線１３を回折する分光素子
１０と、分光素子１０で回折された蛍光Ｘ線１３を通過
させる受光ソーラースリット９Ｂと、受光ソーラースリ
ット９Ｂを通過した蛍光Ｘ線の強度を測定する検出器１
１とを有する。視野制限絞り１４は、試料５の測定部位
５ｂから発生する蛍光Ｘ線７のみが検出器１１に到達す
るように試料５からの蛍光Ｘ線を制限する。発散ソーラ
ースリット９Ａは、試料表面５ａに対して傾いており、
その開口部が視野制限絞り１４を介して見込む範囲の試
料表面５ａおよびその深さ方向への近傍が、試料５の測
定部位５ｂである。発散ソーラースリット９Ａおよび受
光ソーラースリット９Ｂが、試料５から発生する蛍光Ｘ
線を平行化するソーラースリット９となる。
【０００９】Ｘ線源１は、Ｘ線管２と、試料表面５ａに
１次Ｘ線４を照射する範囲を制限する１次Ｘ線絞り３と
を有し、試料表面５ａの中心を基準に、検出手段８に対
向する側に配置されている。Ｘ線源１を試料５にできる
だけ近づけ、かつ検出手段８が試料表面５ａを見込むこ
とができるように配置されているため、Ｘ線源１からの
１次Ｘ線４の照射方向が、試料表面５ａに対して傾いて
いるので、図１の手前方向からみたＸ線源１から試料表
面５ａへの１次Ｘ線４の照射強度は、図２中のＡに示す
ように、左右対称の山形ではなく、検出手段８から遠い
側（図２での左側）に偏って分布している。
１次Ｘ線４を照射する範囲を制限する１次Ｘ線絞り３と
を有し、試料表面５ａの中心を基準に、検出手段８に対
向する側に配置されている。Ｘ線源１を試料５にできる
だけ近づけ、かつ検出手段８が試料表面５ａを見込むこ
とができるように配置されているため、Ｘ線源１からの
１次Ｘ線４の照射方向が、試料表面５ａに対して傾いて
いるので、図１の手前方向からみたＸ線源１から試料表
面５ａへの１次Ｘ線４の照射強度は、図２中のＡに示す
ように、左右対称の山形ではなく、検出手段８から遠い
側（図２での左側）に偏って分布している。
【００１０】今、図１において、Ｘ線源１および検出手
段８に対する試料表面５ａの高さが１ｍｍ変化し、例え
ば下がったとすると、まず、試料表面５ａがＸ線源１か
ら遠ざかるので、試料表面５ａへの１次Ｘ線４の照射強
度は、図２中のＢに示すように、全体に少し低くなる。
同時に、図１のように、検出手段８が、Ｘ線源１と対向
する右側で試料表面５ａを斜めから見込んでいることか
ら、試料表面５ａにおける測定部位５ｂの位置が、左
へ、すなわち、図２の５ｂ1から５ｂ2へ移動する。結
局、測定部位５ｂへの１次Ｘ線４の照射強度は、図２に
示した領域でいうと、ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝Ｉ1であったも
のが、ａ＋ｃ＝Ｉ2になる。
段８に対する試料表面５ａの高さが１ｍｍ変化し、例え
ば下がったとすると、まず、試料表面５ａがＸ線源１か
ら遠ざかるので、試料表面５ａへの１次Ｘ線４の照射強
度は、図２中のＢに示すように、全体に少し低くなる。
同時に、図１のように、検出手段８が、Ｘ線源１と対向
する右側で試料表面５ａを斜めから見込んでいることか
ら、試料表面５ａにおける測定部位５ｂの位置が、左
へ、すなわち、図２の５ｂ1から５ｂ2へ移動する。結
局、測定部位５ｂへの１次Ｘ線４の照射強度は、図２に
示した領域でいうと、ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝Ｉ1であったも
のが、ａ＋ｃ＝Ｉ2になる。
【００１１】ここで、Ｉ1からＩ2への変化（｜Ｉ2−Ｉ1
｜×１００／Ｉ1）が１％以下であれば、発生する蛍光
Ｘ線強度も同様に安定するが、従来は、そうなるように
は構成されておらず、数％程度変化（多くの場合で減
少）していた。これは、装置の感度向上のために、単に
Ｘ線源を試料にできるだけ接近させたような構成では、
試料表面がＸ線源から遠ざかったことによる照射強度の
減少ｄの方が、測定部位が移動したことによる照射強度
の増加ａ−（ｅ＋ｆ）よりも大きくなりがちだからであ
ることを発明者は見いだした。
｜×１００／Ｉ1）が１％以下であれば、発生する蛍光
Ｘ線強度も同様に安定するが、従来は、そうなるように
は構成されておらず、数％程度変化（多くの場合で減
少）していた。これは、装置の感度向上のために、単に
Ｘ線源を試料にできるだけ接近させたような構成では、
試料表面がＸ線源から遠ざかったことによる照射強度の
減少ｄの方が、測定部位が移動したことによる照射強度
の増加ａ−（ｅ＋ｆ）よりも大きくなりがちだからであ
ることを発明者は見いだした。
【００１２】そこで、本実施形態の装置では、図１にお
いて、試料台６、Ｘ線管２および検出手段８の位置関係
は、従来のままで、Ｘ線源１の一部として、Ｘ線管２の
照射口の前に、試料表面５ａに１次Ｘ線４を照射する範
囲を制限する１次Ｘ線絞り３を備える。そして、Ｘ線源
１および検出手段８に対する試料表面５ａの高さが最大
１ｍｍ変化した場合に、検出手段８が測定する蛍光Ｘ線
７の強度の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞り
３の開口部３ａの形状が、この１次Ｘ線絞り３を１次Ｘ
線４の照射方向から見た図３（図１のＣ方向矢視図）に
示すように、設定されている。すなわち、開口部３ａ
は、単なる円形ではなく、検出手段に８に近い側（図３
での上側）の一部を塞いだ形状としている。この例で
は、塞いだ部分の下端は直線状であるが、別な形状でも
同様の効果をもたせることが可能である。また、１次Ｘ
線絞り３の開口部３ａの一部を塞ぐ前の基本形状は、円
形に限らず、楕円形、多角形等でもよい。なお、図３で
は、開口部３ａ以外の部分にハッチングを施しており、
後述する図４でも同様である。
いて、試料台６、Ｘ線管２および検出手段８の位置関係
は、従来のままで、Ｘ線源１の一部として、Ｘ線管２の
照射口の前に、試料表面５ａに１次Ｘ線４を照射する範
囲を制限する１次Ｘ線絞り３を備える。そして、Ｘ線源
１および検出手段８に対する試料表面５ａの高さが最大
１ｍｍ変化した場合に、検出手段８が測定する蛍光Ｘ線
７の強度の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞り
３の開口部３ａの形状が、この１次Ｘ線絞り３を１次Ｘ
線４の照射方向から見た図３（図１のＣ方向矢視図）に
示すように、設定されている。すなわち、開口部３ａ
は、単なる円形ではなく、検出手段に８に近い側（図３
での上側）の一部を塞いだ形状としている。この例で
は、塞いだ部分の下端は直線状であるが、別な形状でも
同様の効果をもたせることが可能である。また、１次Ｘ
線絞り３の開口部３ａの一部を塞ぐ前の基本形状は、円
形に限らず、楕円形、多角形等でもよい。なお、図３で
は、開口部３ａ以外の部分にハッチングを施しており、
後述する図４でも同様である。
【００１３】このような構成により、図２の照射強度分
布Ａ，Ｂにおいて、検出手段８に近い側（右側）が従来
よりも低くなり、ｅ＋ｆが小さくなる。したがって、測
定部位５ｂが移動したことによる照射強度の増加ａ−
（ｅ＋ｆ）が従来よりも大きくなり、試料表面５ａがＸ
線源１から遠ざかったことによる照射強度の減少ｄと、
ほとんど相殺するようにできる。例えば、Ｘ線源１およ
び検出手段８に対する試料表面５ａの高さが１ｍｍ変化
した場合の、検出手段８が測定する蛍光Ｘ線７の強度の
変化は、単なる円形の１次Ｘ線絞りを用いたときには６
％であったものが、図３の１次Ｘ線絞り３を用いたとき
には０．６％であった。すなわち、本実施形態の蛍光Ｘ
線分析装置によれば、試料表面５ａに凹凸等があって
も、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。
布Ａ，Ｂにおいて、検出手段８に近い側（右側）が従来
よりも低くなり、ｅ＋ｆが小さくなる。したがって、測
定部位５ｂが移動したことによる照射強度の増加ａ−
（ｅ＋ｆ）が従来よりも大きくなり、試料表面５ａがＸ
線源１から遠ざかったことによる照射強度の減少ｄと、
ほとんど相殺するようにできる。例えば、Ｘ線源１およ
び検出手段８に対する試料表面５ａの高さが１ｍｍ変化
した場合の、検出手段８が測定する蛍光Ｘ線７の強度の
変化は、単なる円形の１次Ｘ線絞りを用いたときには６
％であったものが、図３の１次Ｘ線絞り３を用いたとき
には０．６％であった。すなわち、本実施形態の蛍光Ｘ
線分析装置によれば、試料表面５ａに凹凸等があって
も、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。
【００１４】また、図１の１次Ｘ線絞り３の開口部３ａ
と視野制限絞り１４の開口部１４ａとの両方の形状を調
整して、同様の効果を得ることもできる。すなわち、視
野制限絞り１４の開口部１４ａは、例えば、試料表面５
ａにおいて円形である測定部位５ｂの上面を過不足なく
見込めるように、一般には概略楕円形（詳しくは後述す
る）とするが、図４（図１のＤ方向矢視図）に示すよう
に、単なる概略楕円形ではなく、Ｘ線源１に近い側（図
４での上側）の一部を塞いだ形状としてもよい。この例
では、塞いだ部分の下端は直線状であるが、別な形状で
もよい。この場合には、前述の１次Ｘ線絞り３の開口部
３ａの形状調整の効果に加え、図２において、測定部位
５ｂ1，５ｂ2の左端が従来よりも右にくるように制限し
て、従来よりもｄを小さく、ａを大きくして、測定部位
５ｂが移動したことによる照射強度の増加ａ−（ｅ＋
ｆ）と、試料表面５ａがＸ線源１から遠ざかったことに
よる照射強度の減少ｄとが、ほとんど相殺するようにで
きる。
と視野制限絞り１４の開口部１４ａとの両方の形状を調
整して、同様の効果を得ることもできる。すなわち、視
野制限絞り１４の開口部１４ａは、例えば、試料表面５
ａにおいて円形である測定部位５ｂの上面を過不足なく
見込めるように、一般には概略楕円形（詳しくは後述す
る）とするが、図４（図１のＤ方向矢視図）に示すよう
に、単なる概略楕円形ではなく、Ｘ線源１に近い側（図
４での上側）の一部を塞いだ形状としてもよい。この例
では、塞いだ部分の下端は直線状であるが、別な形状で
もよい。この場合には、前述の１次Ｘ線絞り３の開口部
３ａの形状調整の効果に加え、図２において、測定部位
５ｂ1，５ｂ2の左端が従来よりも右にくるように制限し
て、従来よりもｄを小さく、ａを大きくして、測定部位
５ｂが移動したことによる照射強度の増加ａ−（ｅ＋
ｆ）と、試料表面５ａがＸ線源１から遠ざかったことに
よる照射強度の減少ｄとが、ほとんど相殺するようにで
きる。
【００１５】なお、図１において、１次Ｘ線４が直接検
出手段８に入らないようにするために、視野制限絞り１
４の開口部１４ａを、図４に示したような概略楕円形の
一部を塞いだ形状とすることがある。しかし、この場合
であっても、本発明による効果を求めて１次Ｘ線絞り３
の開口部３ａの形状および視野制限絞り１４の開口部１
４ａの形状を設定するのであれば、改めて視野制限絞り
１４の開口部１４ａの形状を設定する必要がある。例え
ば、概略楕円形を塞いだ部分の下端の位置（高さ）を再
度調整する必要がある。また、以上のように視野制限絞
り１４の開口部１４ａを概略楕円形の一部を塞いだ形状
とすると、図１の試料表面５ａにおいて円形である測定
部位５ｂの上面を一部見込めなくなるようにも思われる
が、実際には、試料５の不均一性の問題を回避するため
に、図示しないスピン機構により円板状の試料５をその
中心軸回りに回転させながら測定するので、測定部位５
ｂからの蛍光Ｘ線７が過不足なく検出手段８に取り込ま
れる。
出手段８に入らないようにするために、視野制限絞り１
４の開口部１４ａを、図４に示したような概略楕円形の
一部を塞いだ形状とすることがある。しかし、この場合
であっても、本発明による効果を求めて１次Ｘ線絞り３
の開口部３ａの形状および視野制限絞り１４の開口部１
４ａの形状を設定するのであれば、改めて視野制限絞り
１４の開口部１４ａの形状を設定する必要がある。例え
ば、概略楕円形を塞いだ部分の下端の位置（高さ）を再
度調整する必要がある。また、以上のように視野制限絞
り１４の開口部１４ａを概略楕円形の一部を塞いだ形状
とすると、図１の試料表面５ａにおいて円形である測定
部位５ｂの上面を一部見込めなくなるようにも思われる
が、実際には、試料５の不均一性の問題を回避するため
に、図示しないスピン機構により円板状の試料５をその
中心軸回りに回転させながら測定するので、測定部位５
ｂからの蛍光Ｘ線７が過不足なく検出手段８に取り込ま
れる。
【００１６】以上において、視野制限絞り１４の開口部
１４ａの一部を塞ぐ前の基本形状に関し、概略楕円形と
いう文言を用いたのは、視野制限絞り１４上の各点から
試料表面５ａまでの距離が一定でないことから、試料表
面５ａにおいて円形である測定部位５ｂの上面を過不足
なく見込むためには、開口部１４ａの基本形状は、厳密
には楕円形にならず、図５に示すように、円形の下部を
すぼめ、上部を下部よりもすぼめた形状であって、楕円
形に近似した形状になるからである。測定部位５ｂが小
さい場合には、図６のように縦長になることもある。さ
らに、測定部位５ｂの上面が試料表面５ａにおいて円形
以外の形状である場合もあり、視野制限絞り１４の開口
部１４ａの一部を塞ぐ前の基本形状には、概略円形、概
略楕円形、概略多角形等が含まれる。
１４ａの一部を塞ぐ前の基本形状に関し、概略楕円形と
いう文言を用いたのは、視野制限絞り１４上の各点から
試料表面５ａまでの距離が一定でないことから、試料表
面５ａにおいて円形である測定部位５ｂの上面を過不足
なく見込むためには、開口部１４ａの基本形状は、厳密
には楕円形にならず、図５に示すように、円形の下部を
すぼめ、上部を下部よりもすぼめた形状であって、楕円
形に近似した形状になるからである。測定部位５ｂが小
さい場合には、図６のように縦長になることもある。さ
らに、測定部位５ｂの上面が試料表面５ａにおいて円形
以外の形状である場合もあり、視野制限絞り１４の開口
部１４ａの一部を塞ぐ前の基本形状には、概略円形、概
略楕円形、概略多角形等が含まれる。
【００１７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、Ｘ線源および検出手段に対する試料表面の高さが
最大１ｍｍ変化した場合に、検出手段が測定する蛍光Ｘ
線の強度の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞り
の開口部の形状が設定されているので、試料表面に凹凸
等があっても、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。した
がって、分析精度を十分に向上できる。
れば、Ｘ線源および検出手段に対する試料表面の高さが
最大１ｍｍ変化した場合に、検出手段が測定する蛍光Ｘ
線の強度の変化が１％以下であるように、１次Ｘ線絞り
の開口部の形状が設定されているので、試料表面に凹凸
等があっても、安定した蛍光Ｘ線強度が得られる。した
がって、分析精度を十分に向上できる。
【図１】本発明の一実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示す
概略図である。
概略図である。
【図２】図１の手前方向からみた同装置のＸ線源から試
料表面への１次Ｘ線の照射強度の分布を示す概略図であ
る。
料表面への１次Ｘ線の照射強度の分布を示す概略図であ
る。
【図３】同装置の１次Ｘ線絞りを１次Ｘ線の照射方向か
ら見た図である。
ら見た図である。
【図４】同装置の視野制限絞りを検出手段に入射する蛍
光Ｘ線の進行方向に向かって見た図である。
光Ｘ線の進行方向に向かって見た図である。
【図５】視野制限絞りの開口部の基本形状について一例
を示す図である。
を示す図である。
【図６】視野制限絞りの開口部の基本形状について他の
例を示す図である。
例を示す図である。
１…Ｘ線源、３…１次Ｘ線絞り、３ａ…１次Ｘ線絞りの
開口部、４…１次Ｘ線、５…試料、５ａ…試料表面、５
ｂ…試料の測定部位、６…試料台、７…試料の測定部位
から発生する蛍光Ｘ線、８…検出手段、９…ソーラース
リット、１４…視野制限絞り、１４ａ…視野制限絞りの
開口部。
開口部、４…１次Ｘ線、５…試料、５ａ…試料表面、５
ｂ…試料の測定部位、６…試料台、７…試料の測定部位
から発生する蛍光Ｘ線、８…検出手段、９…ソーラース
リット、１４…視野制限絞り、１４ａ…視野制限絞りの
開口部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 康治郎 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA04 CA01 EA01 MA05 SA02 SA30
Claims (2)
- 【請求項１】 試料が載置される試料台と、 試料の平坦な表面に斜めから１次Ｘ線を照射するＸ線源
と、 前記試料表面を斜めから見込んで、試料の測定部位から
発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する検出手段とを備え、 前記検出手段が、前記試料表面を見込む範囲を制限する
視野制限絞りと、試料から発生する蛍光Ｘ線を平行化す
るソーラースリットとを有する蛍光Ｘ線分析装置におい
て、 前記Ｘ線源が、前記試料表面に１次Ｘ線を照射する範囲
を制限する１次Ｘ線絞りを有し、 前記Ｘ線源および検出手段に対する前記試料表面の高さ
が最大１ｍｍ変化した場合に、前記検出手段が測定する
蛍光Ｘ線の強度の変化が１％以下であるように、前記１
次Ｘ線絞りの開口部の形状が設定されていることを特徴
とする蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記Ｘ線源および検出手段に対する前記試料表面の高さ
が最大１ｍｍ変化した場合に、前記検出手段が測定する
蛍光Ｘ線の強度の変化が１％以下であるように、前記１
次Ｘ線絞りの開口部の形状および前記視野制限絞りの開
口部の形状が設定されている蛍光Ｘ線分析装置。
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