JP2002336649A - 除害装置 - Google Patents

除害装置

Info

Publication number
JP2002336649A
JP2002336649A JP2001150895A JP2001150895A JP2002336649A JP 2002336649 A JP2002336649 A JP 2002336649A JP 2001150895 A JP2001150895 A JP 2001150895A JP 2001150895 A JP2001150895 A JP 2001150895A JP 2002336649 A JP2002336649 A JP 2002336649A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
reaction chamber
scrubber
water
abatement apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001150895A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4828722B2 (ja
Inventor
Toshio Kato
敏男 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP2001150895A priority Critical patent/JP4828722B2/ja
Publication of JP2002336649A publication Critical patent/JP2002336649A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4828722B2 publication Critical patent/JP4828722B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】NF3等のフッ素系ガスを含有するガスの熱分
解による除害効率の向上と、装置の腐食を防止した除害
装置を提供する。 【解決手段】スクラバ6を有し、被除害ガスが導入され
る導入管6と、導入管6のスクラバ6によって処理され
た被除害ガスを更に熱分解処理するための反応室1と、
熱分解処理後のガスをスクラバ4によって処理して排出
する導出管7と、反応室1の下方に設けられ、スクラバ
3,4で処理され生成した排水を貯瑠するためのタンク
9とを備え、すり鉢状の構造の反応室下部壁5に水洗水
ノズル10から水洗水を噴出して旋回させるようにし
た。生成した腐食性のガスを水洗水によって効率よく除
去でき、また、水洗水ノズル10から絶えず噴出する水
洗水のよって反応室下部壁5が洗浄され、反応室下部壁
5の腐食性ガスによる腐食も防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は除害装置に関し、特
に半導体装置の製造等で生成する排ガスを熱分解し生成
した腐食性ガスを効率よく除去できる除害装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造のエッチング工程で
は、NF3等のプラズマガスが使用されるが、エッチン
グ後残ったガスは排ガスとして製造装置から排出される
ために、予め除害処理する必要がある。例えば、NF3
を除害する方法としては、(a)NF3を含有する気体
と水蒸気とを混合し、NF3を水と反応させて分解する
方法(特開平3―65218号公報等)、(b)NF3
を含む排ガスに水とNH3と加え、加熱反応させて分解
する方法(特開平9―85045号公報等)などがあ
る。
【0003】上記(a)の方法では、NF3は水と反応
してNO,HNO3,HFに分解されるものと考えられ
る(3NF3+5H2O→2NO+HNO3+9HF)。
【0004】また、上記(b)の方法では、NF3は水
と反応して、フッ化水素、NOx等に分解されるものと
考えられる(2NF3+3H2O→NO+NO2+6H
F)。ここで生成したフッ化水素はアンモニアと反応し
てフッ化アンモニウムとなり、NOxもアンモニアと反
応して最終的に窒素と水に分解される。また、NF3
アンモニアとも直接反応して窒素とフッ化水素に分解さ
れると考えられる(NF 3+NH3→N2+3HF)。
【0005】図5は、上記の従来技術に使用される除害
装置の概要断面図である。NF3等を含む被除害ガスを
導入管105から導入する。導入管105の内部にはス
クラバ102が設けられており、導入管105に導入さ
れた被除害ガスは、このスクラバによって処理され、被
除害ガス中に水が混合される。被除害ガス中の水に溶解
しやすい成分はスクラバ処理により取り除かれタンク1
08に排水として貯瑠する。スクラバ処理された被除害
ガスは、内筒107を通って反応室100に導かれる。
反応室100は、内部に設けられたセラミック等の材料
からなるヒーター101により通常300〜1000℃
の範囲に加熱されている。反応室100に導かれた被除
害ガス中のNF3は上記のように加熱されて水と反応
し、NO,HNO3,HFを生成する。これらの含むガ
スは導出管106に導かれ、導出管106内に設けられ
たスクラバ103により処理される。水に溶解しやすい
ガス成分はスクラバ処理水に溶解し、排水としてタンク
108に貯瑠する。タンク108内に溜まった排液は、
タンク108外に導かれ、通常のアルカリ処理により中
和される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術の除害
装置では、反応室100で生成したHFが反応室下部壁
104に付着する。このHFは腐食性が大きく、反応室
下部壁104を腐食し、該壁にピンホールや亀裂を発生
させ、装置の寿命を低下させる問題があった。
【0007】その対策として装置内部に樹脂コーティン
グを施す試みもなされているが、決定的な効果が得られ
ていなかった。
【0008】本発明の目的は、上記の従来の除害装置の
問題点を解決し、装置の寿命が改善できる除害装置を提
供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の除害装置は、内
部に第1のスクラバを有し、除去されるべき成分を含有
する被除害ガスが導入される導入管と、該導入管の前記
第1のスクラバによって処理された被除去成分含有ガス
を更に熱分解処理するための反応室と、内部に第2のス
クラバを有し、前記熱分解処理後のガスを前記第2のス
クラバによって処理して排出する導出管と、前記反応室
の下方に設けられ、前記第1および第2のスクラバで処
理された排水を貯瑠するためのタンクとを備え、前記反
応室の下部壁の構造がすり鉢状であり、前記下部壁に該
壁に同一方向に旋回するように水洗水を噴出するノズル
を少なくとも一つ設けられていることを特徴とする。
【0010】前記ノズルは同一高さに所定の間隔で複数
個設けることができ、また前記ノズルは、異なる高さに
複数個設けることもできる。
【0011】本発明の除害装置には、前記ノズルから前
記水洗水は連続して噴出され、その流量が所定の量以下
になった場合に警報を出すアラーム装置を備えることが
できる。また、前記アラーム装置の警報に基づき前記被
除害ガスの導入を中止する電磁弁等の手段を備えること
ができる。
【0012】本発明の除害装置では、反応室の下部壁を
すり鉢状にしてその壁に水洗水が壁を旋回するように噴
射するノズルを備えることによって水を旋回させて腐食
性ガスと水との接触効率を高めて腐食性ガスを高効率で
水に溶解させ除去できる。また反応室下部壁には新鮮の
水を連続して噴射するために該壁への腐食性ガスの吸着
を抑制して、該壁の腐食を防止でき、装置の延命化が図
れる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明の除害装置の実施の
形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は、
本発明の第1の実施の形態の除害装置の概略を示す断面
図である。図1を参照すると、本発明の第1の実施の形
態の除害装置は、内部にスクラバ3を有し、NF3等の
除去されるべき成分を含有する被除害ガスが導入される
導入管6と、スクラバ3によって処理された被除去成分
(NF3等)を含有するガスを更に熱分解処理するため
の反応室1と、内部にスクラバ4を有し、反応室1で熱
分解された後のガスをスクラバ4によって処理して排出
する導出管7とを備えている。そして、さらに、反応室
1の下方には、スクラバ3,4で処理され生成した排水
を貯瑠するためのタンク9とを備えている。
【0014】導入管の途中にはタンク内にスクラバ3で
処理され生成した排水をタンク9に放出するための排出
管6aが接続されている。導入管6の反応室1への導入
部にはセラミックス等の高耐熱材からなる内筒8が設け
られており、内筒8の先端開放部から被除去成分(NF
3等)を含有するガスが反応室1内に放出される。
【0015】反応室下部壁5の構造は、すり鉢状であ
り、該壁に同一方向に旋回するように水洗水を噴出する
水洗水ノズル10を少なくと一つ設けている。
【0016】通常、水洗水ノズル10は反応室下部壁5
の上端部に設けられる。このノズルは反応室下部壁5の
上端部周囲の同一高さに所定の間隔で複数設けることが
できる。
【0017】反応室1の熱分解処理手段には、セラミッ
ク製のヒーター2が使用される。反応室1の内部温度は
ヒーター2によって300〜1000℃の範囲に制御さ
れる。なお、反応室1の内壁、反応室下部壁5および内
筒8の材料にはアルミナ等の耐熱材が使用される。
【0018】図2は図1の水洗水ノズル10から噴出す
る水洗水の流動方向を示す反応室下部壁5部の平断面図
であり、図3は図1の水洗水ノズル10から噴出する水
洗水の流動方向を示す反応室下部壁5部の縦断面斜視図
である。図中、符号20は水洗水の流動方向を示す。水
洗水ノズル10からは連続して水洗水がすり鉢状の反応
室下部壁5を旋回しながら下方に落下して行き、やがて
タンク9に落下する。反応室1で熱分解して生成したガ
スは反応室下部壁の水洗水で冷却され、水に溶解性のガ
スは、この水洗水に溶解して排水としてタンク9内に落
下して貯瑠される。
【0019】次に、図1の除害装置の動作について、N
3含有ガス(被除害ガスという)を処理する場合を例
に説明する。まず、被除害ガスを導入管6に所定の流量
速度で導入する。導入管6に導入された被除害ガスの水
溶性成分や塵埃はスクラバ3から噴霧される水に溶解ま
たは混入して排液となり導入管6に接続された排出管6
aを通ってタンク9への移動して貯瑠される。タンク9
の貯瑠液は水の使用量を低減させるためにスクラバ3か
ら噴霧する水として循環される。
【0020】スクラバ3によって処理された被除害ガス
にはスクラバから噴霧された水が含有されて、導入管6
に接続された内筒8の先端開放部から反応室1内に放出
される。ヒーター2によって高温に加熱された反応室1
に放出された被除害ガス中のNF3ガスは、水と反応
し、NO,HNO3,HFを生成する。NOは被除害ガ
ス中に含まれる酸素と水によって酸化されHNO3を生
成すると考えられる。
【0021】熱分解反応で生成したHNO3,HF等を
含むガス(熱分解ガスという)は下方に移動し、反応室
下部壁の領域に到達する。反応室下部壁5の壁には水洗
水ノズル10から連続して噴出され旋回しており、この
水で熱分解ガスが冷却され凝結し、水溶性のガス(HN
3,HF)は水洗水中に溶解してタンク内に排水とし
て貯瑠される。水洗水ノズル10の水の噴出口径が20
mmの場合、反応室k部壁を水洗水が旋回するようにす
るためには、水の噴出量は例えば、20L/分以上が必
要である。水洗水の旋回流を作り出す事により、反応室
下部壁5の上部より流入してきた腐食性ガスは旋回流に
巻き込まれ、水との接触効率及び接触時間が高める。従
って、腐食性ガスを高効率で除去することが可能とな
り、反応室下部壁5やその他の除害装置内部の腐食を防
止することができる。なお、水洗水ノズル10から噴出
される水洗水の流量は、接点付き流量計で制御される。
そして、流量が所定よりも下がった場合にはアラームを
出すアラーム装置を設けておくことが望ましい。また、
アラーム装置のアラームによって被除害ガスの導入管6
への導入を中止する電磁弁等を設けることができる。
【0022】反応室下部壁の領域を通過して水洗水に溶
解しなかったガスは導出管7に移動して、スクラバ4に
よって処理され、水溶性のガス成分はスクラバ水に溶解
して排水となりタンク9内に貯瑠される。導出管7を通
過したガスは外部に放出されるか、または二次処理装置
によって処理された後に、外部に放出される。なお、ス
クラバ4から噴霧する水は新水が使用される。
【0023】次に、本発明の本発明の除害装置の実施の
形態について図面を参照して説明する。図4は、本発明
の第1の実施の形態の除害装置の概略を示す断面図であ
る。
【0024】本実施の形態の除害装置は、反応室下部壁
5の水洗水ノズルを異なる高さにそれぞれ少なくとも一
つ設けた場合である。このように水洗水ノズルを配置す
ることによって反応室下部壁5の洗浄性と熱分解生成ガ
スと水洗水との接触性を高め、熱分解生成ガスの除去率
を向上させることができる。
【0025】上記の本発明の実施の形態では、NF3
水と熱分解反応させて除害する場合について説明した
が、導入管6に同時にNH3ガスを導入してNF3を水お
よびNH3とで本発明の除害装置は熱分解反応させて除
害する場合についても本発明は適用できる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では反応室
下部壁をすり鉢状にするとともに、壁を旋回するように
水洗水を噴出させるノズルを反応室下部壁に設置した構
造としたことにより次の効果が得られる。 (1)水を直接腐食性ガスに接触させる事が出来、また
接触時間が長いために高効率で熱分解で生成した腐食性
ガスを除去出来る。 (2)常に水が流れる構造(滞留しない)となっている
ため、腐食の原因となる腐食性のある水滴が反応室下部
壁に付着(滞留)しないために反応室下部壁の腐食が防
止でき、装置の寿命を延ばすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の除害装置の概略を
示す断面図である。
【図2】図1の水洗水ノズルから噴出する水洗水の流動
方向を示す反応室下部壁部の平断面図である。
【図3】図1の水洗水ノズルから噴出する水洗水の流動
方向を示す反応室下部壁部の縦断面斜視図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態の除害装置の概略を
示す断面図である。
【図5】従来の除害装置の概略を示す断面図である。
【符号の説明】
1,100 反応室 2,101 ヒーター 3,4,102,103 スクラバ 5,104 反応室下部壁 6,105 導入管 6a 排出管 7,106 導出管 8,107 内筒 9,108 タンク 10,10a 水洗水ノズル 20 水洗水の流動方向

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部に第1のスクラバを有し、除去され
    るべき成分を含有する被除害ガスが導入される導入管
    と、該導入管の前記第1のスクラバによって処理された
    被除去成分含有ガスを更に熱分解処理するための反応室
    と、内部に第2のスクラバを有し、前記熱分解処理後の
    ガスを前記第2のスクラバによって処理して排出する導
    出管と、前記反応室の下方に設けられ、前記第1および
    第2のスクラバで処理され生成した排水を貯瑠するため
    のタンクとを備え、前記反応室の下部壁の構造がすり鉢
    状であり、前記下部壁に該壁に同一方向に旋回するよう
    に水洗水を噴出するノズルを少なくとも一つ設けられて
    いることを特徴とする除害装置。
  2. 【請求項2】 前記ノズルが同一高さに所定の間隔で複
    数個設けられていることを特徴とする請求項1記載の除
    害装置。
  3. 【請求項3】 前記ノズルが異なる高さに複数個設けら
    れていることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
  4. 【請求項4】 前記ノズルから前記水洗水が連続して噴
    出されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
    載の除害装置。
  5. 【請求項5】 前記ノズルから噴出する流量が所定の量
    以下になった場合にアラームを出すアラーム装置を備え
    ていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
    の除害装置。
  6. 【請求項6】 前記アラーム装置の警報に基づき前記被
    除害ガスの導入を中止する手段を備えていることを特徴
    とする請求項5記載の除害装置。
  7. 【請求項7】 前記反応室の前記熱分解手段としてセラ
    ミックヒーターが使用されることを特徴とする請求項1
    〜6のいずれかに記載の除害装置。
  8. 【請求項8】 前記被除害ガスが被除去成分含有ガスと
    してNF3を含むことを特徴とする請求項1〜7のいず
    れかに記載の除害装置。
  9. 【請求項9】 前記導入管にさらにNH3ガス導入管が
    接続されていることを特徴とする請求項1記載の除害装
    置。
JP2001150895A 2001-05-21 2001-05-21 除害装置 Expired - Fee Related JP4828722B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001150895A JP4828722B2 (ja) 2001-05-21 2001-05-21 除害装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001150895A JP4828722B2 (ja) 2001-05-21 2001-05-21 除害装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002336649A true JP2002336649A (ja) 2002-11-26
JP4828722B2 JP4828722B2 (ja) 2011-11-30

Family

ID=18995842

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001150895A Expired - Fee Related JP4828722B2 (ja) 2001-05-21 2001-05-21 除害装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4828722B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006175317A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Rohm Co Ltd 半導体製造プロセスからの排気ガスの処理装置
WO2023199410A1 (ja) * 2022-04-12 2023-10-19 カンケンテクノ株式会社 窒素化合物含有排ガスの処理方法及びその装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5157553A (en) * 1974-11-02 1976-05-20 Masamoto Shimizu Kosaidojono ryokukaho
JPH0240203A (ja) * 1988-07-29 1990-02-09 Nippon Steel Chem Co Ltd 昇華性有機化合物の捕集方法およびその装置
JPH02103311A (ja) * 1988-10-11 1990-04-16 Chiyoda Corp 有毒性排ガスの燃焼処理方法
JPH04290519A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Ebara Infilco Co Ltd 排ガス処理装置
JPH04290524A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Ebara Infilco Co Ltd Nf3 排ガス処理方法および装置
JPH0985045A (ja) * 1995-09-27 1997-03-31 Kanken Techno Kk Nf3排ガスの除害方法及び除害装置
JPH11319470A (ja) * 1998-05-21 1999-11-24 Taiyo Roki Kk 排ガス処理装置
JPH11319485A (ja) * 1997-11-14 1999-11-24 Hitachi Ltd 過弗化物の処理方法及びその処理装置
WO2000032299A1 (en) * 1998-12-01 2000-06-08 Ebara Corporation Exhaust gas treating device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5157553A (en) * 1974-11-02 1976-05-20 Masamoto Shimizu Kosaidojono ryokukaho
JPH0240203A (ja) * 1988-07-29 1990-02-09 Nippon Steel Chem Co Ltd 昇華性有機化合物の捕集方法およびその装置
JPH02103311A (ja) * 1988-10-11 1990-04-16 Chiyoda Corp 有毒性排ガスの燃焼処理方法
JPH04290519A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Ebara Infilco Co Ltd 排ガス処理装置
JPH04290524A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Ebara Infilco Co Ltd Nf3 排ガス処理方法および装置
JPH0985045A (ja) * 1995-09-27 1997-03-31 Kanken Techno Kk Nf3排ガスの除害方法及び除害装置
JPH11319485A (ja) * 1997-11-14 1999-11-24 Hitachi Ltd 過弗化物の処理方法及びその処理装置
JPH11319470A (ja) * 1998-05-21 1999-11-24 Taiyo Roki Kk 排ガス処理装置
WO2000032299A1 (en) * 1998-12-01 2000-06-08 Ebara Corporation Exhaust gas treating device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006175317A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Rohm Co Ltd 半導体製造プロセスからの排気ガスの処理装置
JP4594065B2 (ja) * 2004-12-21 2010-12-08 ローム株式会社 半導体製造プロセスからの排気ガスに含まれるフッ素化合物の処理装置及び処理方法
WO2023199410A1 (ja) * 2022-04-12 2023-10-19 カンケンテクノ株式会社 窒素化合物含有排ガスの処理方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4828722B2 (ja) 2011-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5307556B2 (ja) ガス処理装置
CN107073392B (zh) 废气处理装置
KR101544280B1 (ko) 미세 오존수 액적을 이용하는 배기가스 처리장치
KR100919619B1 (ko) 플라즈마 스크러버 및 유해가스 처리 방법
JP6718566B1 (ja) 排ガス除害ユニット
CN109821373A (zh) 一种等离子体废气处理装置及方法
KR20060053164A (ko) 배기가스 분해처리장치
KR20160030176A (ko) 배기가스 처리방법 및 배기가스 처리장치
EP1610883B1 (en) Method for treating an exhaust gas
JP5165861B2 (ja) 過弗化物の処理方法及び処理装置
JP2003010638A (ja) プラズマ排ガス処理方法と該方法を利用した排ガス放電処理塔ならびに前記プラズマ排ガス処理塔を搭載した排ガス処理装置
JP4828722B2 (ja) 除害装置
WO2009010792A2 (en) Plasma reactor
JP2017124345A (ja) 排ガス除害装置
KR20170117032A (ko) 배기가스 처리방법 및 배기가스 처리장치
KR0164529B1 (ko) 배출가스 처리장치 및 방법
JP6393473B2 (ja) 気体処理装置および排ガス処理方法
JP2005087958A (ja) 排ガス導入構造および該構造を用いた排ガス処理装置
TW201634107A (zh) 有機氣態污染物之冷凝處理設備
US20110206582A1 (en) Gas scrubbing apparatus and gas scrubbing method
JP4629967B2 (ja) N2o含有排ガスの処理方法およびその装置
KR20190131524A (ko) 배기가스 처리장치 및 배기가스 처리방법
KR102264128B1 (ko) 질소산화물 저감을 위한 반도체 공정용 스크러버 장치 및 스크러버 시스템
KR100664805B1 (ko) 가스 스크러버의 폐가스 처리장치 및 방법
KR20170053406A (ko) 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050516

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20070705

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080415

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090624

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20100426

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110829

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110915

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140922

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees