JP4828722B2 - 除害装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は除害装置に関し、特に半導体装置の製造等で生成する排ガスを熱分解し生成した腐食性ガスを効率よく除去できる除害装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の製造のエッチング工程では、NF3等のプラズマガスが使用されるが、エッチング後残ったガスは排ガスとして製造装置から排出されるために、予め除害処理する必要がある。例えば、NF3を除害する方法としては、(a)NF3を含有する気体と水蒸気とを混合し、NF3を水と反応させて分解する方法(特開平3―65218号公報等)、(b)NF3を含む排ガスに水とNH3と加え、加熱反応させて分解する方法(特開平9―85045号公報等)などがある。
【0003】
上記(a)の方法では、NF3は水と反応してNO,HNO3,HFに分解されるものと考えられる(3NF3+5H2O→2NO+HNO3+9HF)。
【0004】
また、上記(b)の方法では、NF3は水と反応して、フッ化水素、NOx等に分解されるものと考えられる(2NF3+3H2O→NO+NO2+6HF)。ここで生成したフッ化水素はアンモニアと反応してフッ化アンモニウムとなり、NOxもアンモニアと反応して最終的に窒素と水に分解される。また、NF3はアンモニアとも直接反応して窒素とフッ化水素に分解されると考えられる(NF3+NH3→N2+3HF)。
【0005】
図5は、上記の従来技術に使用される除害装置の概要断面図である。NF3等を含む被除害ガスを導入管105から導入する。導入管105の内部にはスクラバ102が設けられており、導入管105に導入された被除害ガスは、このスクラバによって処理され、被除害ガス中に水が混合される。被除害ガス中の水に溶解しやすい成分はスクラバ処理により取り除かれタンク108に排水として貯瑠する。スクラバ処理された被除害ガスは、内筒107を通って反応室100に導かれる。反応室100は、内部に設けられたセラミック等の材料からなるヒーター101により通常300〜1000℃の範囲に加熱されている。反応室100に導かれた被除害ガス中のNF3は上記のように加熱されて水と反応し、NO,HNO3,HFを生成する。これらの含むガスは導出管106に導かれ、導出管106内に設けられたスクラバ103により処理される。水に溶解しやすいガス成分はスクラバ処理水に溶解し、排水としてタンク108に貯瑠する。タンク108内に溜まった排液は、タンク108外に導かれ、通常のアルカリ処理により中和される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来技術の除害装置では、反応室100で生成したHFが反応室下部壁104に付着する。このHFは腐食性が大きく、反応室下部壁104を腐食し、該壁にピンホールや亀裂を発生させ、装置の寿命を低下させる問題があった。
【0007】
その対策として装置内部に樹脂コーティングを施す試みもなされているが、決定的な効果が得られていなかった。
【0008】
本発明の目的は、上記の従来の除害装置の問題点を解決し、装置の寿命が改善できる除害装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の除害装置は、内部に第1のスクラバを有し、被除去成分含有ガスとしてNF 3 を含む被除害ガスが導入される導入管と、該導入管の前記第1のスクラバによって処理された前記被除去成分含有ガスを更に熱分解処理するための反応室と、内部に第2のスクラバを有し、前記熱分解処理後のガスを前記第2のスクラバによって処理して排出する導出管と、前記反応室の下方に設けられ、前記第1および第2のスクラバで処理され生成した排水を貯瑠するためのタンクとを備え、前記反応室の下部壁の構造がすり鉢状であり、前記下部壁の上端部に、該壁に同一方向に旋回するように水洗水を噴出するノズルが少なくとも一つ設けられていることを特徴とする。
【0010】
前記ノズルは同一高さに所定の間隔で複数個設けることができ、また前記ノズルは、異なる高さに複数個設けることもできる。
【0011】
本発明の除害装置には、前記ノズルから前記水洗水は連続して噴出され、その流量が所定の量以下になった場合に警報を出すアラーム装置を備えることができる。また、前記アラーム装置の警報に基づき前記被除害ガスの導入を中止する電磁弁等の手段を備えることができる。
【0012】
本発明の除害装置では、反応室の下部壁をすり鉢状にしてその壁に水洗水が壁を旋回するように噴射するノズルを備えることによって水を旋回させて腐食性ガスと水との接触効率を高めて腐食性ガスを高効率で水に溶解させ除去できる。また反応室下部壁には新鮮の水を連続して噴射するために該壁への腐食性ガスの吸着を抑制して、該壁の腐食を防止でき、装置の延命化が図れる。
【0013】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の除害装置の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態の除害装置の概略を示す断面図である。図1を参照すると、本発明の第1の実施の形態の除害装置は、内部にスクラバ3を有し、NF3等の除去されるべき成分を含有する被除害ガスが導入される導入管6と、スクラバ3によって処理された被除去成分(NF3等)を含有するガスを更に熱分解処理するための反応室1と、内部にスクラバ4を有し、反応室1で熱分解された後のガスをスクラバ4によって処理して排出する導出管7とを備えている。そして、さらに、反応室1の下方には、スクラバ3,4で処理され生成した排水を貯瑠するためのタンク9とを備えている。
【0014】
導入管の途中にはタンク内にスクラバ3で処理され生成した排水をタンク9に放出するための排出管6aが接続されている。導入管6の反応室1への導入部にはセラミックス等の高耐熱材からなる内筒8が設けられており、内筒8の先端開放部から被除去成分(NF3等)を含有するガスが反応室1内に放出される。
【0015】
反応室下部壁5の構造は、すり鉢状であり、該壁に同一方向に旋回するように水洗水を噴出する水洗水ノズル10を少なくと一つ設けている。
【0016】
通常、水洗水ノズル10は反応室下部壁5の上端部に設けられる。このノズルは反応室下部壁5の上端部周囲の同一高さに所定の間隔で複数設けることができる。
【0017】
反応室1の熱分解処理手段には、セラミック製のヒーター2が使用される。反応室1の内部温度はヒーター2によって300〜1000℃の範囲に制御される。なお、反応室1の内壁、反応室下部壁5および内筒8の材料にはアルミナ等の耐熱材が使用される。
【0018】
図2は図1の水洗水ノズル10から噴出する水洗水の流動方向を示す反応室下部壁5部の平断面図であり、図3は図1の水洗水ノズル10から噴出する水洗水の流動方向を示す反応室下部壁5部の縦断面斜視図である。図中、符号20は水洗水の流動方向を示す。水洗水ノズル10からは連続して水洗水がすり鉢状の反応室下部壁5を旋回しながら下方に落下して行き、やがてタンク9に落下する。反応室1で熱分解して生成したガスは反応室下部壁の水洗水で冷却され、水に溶解性のガスは、この水洗水に溶解して排水としてタンク9内に落下して貯瑠される。
【0019】
次に、図1の除害装置の動作について、NF3含有ガス(被除害ガスという)を処理する場合を例に説明する。まず、被除害ガスを導入管6に所定の流量速度で導入する。導入管6に導入された被除害ガスの水溶性成分や塵埃はスクラバ3から噴霧される水に溶解または混入して排液となり導入管6に接続された排出管6aを通ってタンク9への移動して貯瑠される。タンク9の貯瑠液は水の使用量を低減させるためにスクラバ3から噴霧する水として循環される。
【0020】
スクラバ3によって処理された被除害ガスにはスクラバから噴霧された水が含有されて、導入管6に接続された内筒8の先端開放部から反応室1内に放出される。ヒーター2によって高温に加熱された反応室1に放出された被除害ガス中のNF3ガスは、水と反応し、NO,HNO3,HFを生成する。NOは被除害ガス中に含まれる酸素と水によって酸化されHNO3を生成すると考えられる。
【0021】
熱分解反応で生成したHNO3,HF等を含むガス(熱分解ガスという)は下方に移動し、反応室下部壁の領域に到達する。反応室下部壁5の壁には水洗水ノズル10から連続して噴出され旋回しており、この水で熱分解ガスが冷却され凝結し、水溶性のガス(HNO3,HF)は水洗水中に溶解してタンク内に排水として貯瑠される。水洗水ノズル10の水の噴出口径が20mmの場合、反応室k部壁を水洗水が旋回するようにするためには、水の噴出量は例えば、20L/分以上が必要である。水洗水の旋回流を作り出す事により、反応室下部壁5の上部より流入してきた腐食性ガスは旋回流に巻き込まれ、水との接触効率及び接触時間が高める。従って、腐食性ガスを高効率で除去することが可能となり、反応室下部壁5やその他の除害装置内部の腐食を防止することができる。なお、水洗水ノズル10から噴出される水洗水の流量は、接点付き流量計で制御される。そして、流量が所定よりも下がった場合にはアラームを出すアラーム装置を設けておくことが望ましい。また、アラーム装置のアラームによって被除害ガスの導入管6への導入を中止する電磁弁等を設けることができる。
【0022】
反応室下部壁の領域を通過して水洗水に溶解しなかったガスは導出管7に移動して、スクラバ4によって処理され、水溶性のガス成分はスクラバ水に溶解して排水となりタンク9内に貯瑠される。導出管7を通過したガスは外部に放出されるか、または二次処理装置によって処理された後に、外部に放出される。なお、スクラバ4から噴霧する水は新水が使用される。
【0023】
次に、本発明の本発明の除害装置の実施の形態について図面を参照して説明する。図4は、本発明の第1の実施の形態の除害装置の概略を示す断面図である。
【0024】
本実施の形態の除害装置は、反応室下部壁5の水洗水ノズルを異なる高さにそれぞれ少なくとも一つ設けた場合である。このように水洗水ノズルを配置することによって反応室下部壁5の洗浄性と熱分解生成ガスと水洗水との接触性を高め、熱分解生成ガスの除去率を向上させることができる。
【0025】
上記の本発明の実施の形態では、NF3を水と熱分解反応させて除害する場合について説明したが、導入管6に同時にNH3ガスを導入してNF3を水およびNH3とで本発明の除害装置は熱分解反応させて除害する場合についても本発明は適用できる。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では反応室下部壁をすり鉢状にするとともに、壁を旋回するように水洗水を噴出させるノズルを反応室下部壁に設置した構造としたことにより次の効果が得られる。
(1)水を直接腐食性ガスに接触させる事が出来、また接触時間が長いために高効率で熱分解で生成した腐食性ガスを除去出来る。
(2)常に水が流れる構造(滞留しない)となっているため、腐食の原因となる腐食性のある水滴が反応室下部壁に付着(滞留)しないために反応室下部壁の腐食が防止でき、装置の寿命を延ばすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の除害装置の概略を示す断面図である。
【図2】図1の水洗水ノズルから噴出する水洗水の流動方向を示す反応室下部壁部の平断面図である。
【図3】図1の水洗水ノズルから噴出する水洗水の流動方向を示す反応室下部壁部の縦断面斜視図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態の除害装置の概略を示す断面図である。
【図5】従来の除害装置の概略を示す断面図である。
【符号の説明】
1,100 反応室
2,101 ヒーター
3,4,102,103 スクラバ
5,104 反応室下部壁
6,105 導入管
6a 排出管
7,106 導出管
8,107 内筒
9,108 タンク
10,10a 水洗水ノズル
20 水洗水の流動方向
Claims (8)
- 内部に第1のスクラバを有し、被除去成分含有ガスとしてNF 3 を含む被除害ガスが導入される導入管と、
該導入管の前記第1のスクラバによって処理された前記被除去成分含有ガスを更に熱分解処理するための反応室と、
内部に第2のスクラバを有し、前記熱分解処理後のガスを前記第2のスクラバによって処理して排出する導出管と、
前記反応室の下方に設けられ、前記第1および第2のスクラバで処理され生成した排水を貯瑠するためのタンクと
を備え、
前記反応室の下部壁の構造がすり鉢状であり、
前記下部壁の上端部に、該壁に同一方向に旋回するように水洗水を噴出するノズルが少なくとも一つ設けられていることを特徴とする除害装置。 - 前記ノズルが同一高さに所定の間隔で複数個設けられていることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
- 前記ノズルが異なる高さに複数個設けられていることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
- 前記ノズルから前記水洗水が連続して噴出されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の除害装置。
- 前記ノズルから噴出する流量が所定の量以下になった場合にアラームを出すアラーム装置を備えていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の除害装置。
- 前記アラーム装置の警報に基づき前記被除害ガスの導入を中止する手段を備えていることを特徴とする請求項5記載の除害装置。
- 前記反応室の熱分解手段としてセラミックヒーターが使用されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の除害装置。
- 前記導入管にさらにNH3ガス導入管が接続されていることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001150895A JP4828722B2 (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001150895A JP4828722B2 (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 除害装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002336649A JP2002336649A (ja) | 2002-11-26 |
JP4828722B2 true JP4828722B2 (ja) | 2011-11-30 |
Family
ID=18995842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001150895A Expired - Fee Related JP4828722B2 (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 除害装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4828722B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4594065B2 (ja) * | 2004-12-21 | 2010-12-08 | ローム株式会社 | 半導体製造プロセスからの排気ガスに含まれるフッ素化合物の処理装置及び処理方法 |
WO2023199410A1 (ja) * | 2022-04-12 | 2023-10-19 | カンケンテクノ株式会社 | 窒素化合物含有排ガスの処理方法及びその装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5157553A (en) * | 1974-11-02 | 1976-05-20 | Masamoto Shimizu | Kosaidojono ryokukaho |
JP2742562B2 (ja) * | 1988-10-11 | 1998-04-22 | 千代田化工建設株式会社 | 有毒性排ガスの燃焼処理方法 |
JP2660007B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1997-10-08 | 新日鐵化学株式会社 | 昇華性有機化合物の捕集方法およびその装置 |
JPH0710335B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1995-02-08 | 荏原インフィルコ株式会社 | Nf3 排ガス処理方法および装置 |
JPH0779949B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1995-08-30 | 株式会社荏原製作所 | 排ガス処理装置 |
JP3188830B2 (ja) * | 1995-09-27 | 2001-07-16 | カンケンテクノ株式会社 | Nf3排ガスの除害方法及び除害装置 |
JP3217034B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 |
JPH11319470A (ja) * | 1998-05-21 | 1999-11-24 | Taiyo Roki Kk | 排ガス処理装置 |
DE69921853T2 (de) * | 1998-12-01 | 2005-12-08 | Ebara Corp. | Vorrichtung zur behandlung von abgas |
-
2001
- 2001-05-21 JP JP2001150895A patent/JP4828722B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002336649A (ja) | 2002-11-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050516 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090624 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110913 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110915 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |