JP2002333708A - ソルダーレジスト組成物およびその硬化方法 - Google Patents

ソルダーレジスト組成物およびその硬化方法

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JP2002333708A JP2001137742A JP2001137742A JP2002333708A JP 2002333708 A JP2002333708 A JP 2002333708A JP 2001137742 A JP2001137742 A JP 2001137742A JP 2001137742 A JP2001137742 A JP 2001137742A JP 2002333708 A JP2002333708 A JP 2002333708A
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composition
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surfactant
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Satoshi Imahashi
聰 今橋
Naohiro Honda
直弘 本田
Shigenori Nagahara
重徳 永原
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Toyobo Co Ltd
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Toyobo Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】VOC課題を出来る限り低減し、生産性も向上
し、しかもその硬化物が耐水性(耐沸水性)、耐熱性、
電気特性等に優れたソルダーレジスト組成物およびその
硬化方法を得ること。 【解決手段】(A)エポキシ基含有樹脂と、(B)少な
くとも1分子中に1個以上のエチレン性不飽和結合とカ
ルボキシル基とを含有する樹脂(b1)、反応性モノマ
ーおよび/または反応性プレポリマー(b2)、および
光開始剤(b3)を含む光硬化性組成物を、乳化剤によ
りエマルジョン化した組成物において、乳化剤が可変性
界面活性剤であることを特徴とするソルダーレジスト組
成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ現像可能
な水分散型ソルダーレジスト組成物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板のソルダーレジストとし
ては、画像状に活性エネルギー線を照射後、現像するこ
とにより画像を形成し、加熱または活性エネルギー線照
射により硬化させる液状の現像型ソルダーレジストが使
用されている。環境問題への配慮から、現像液として希
アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像型の液状ソルダー
レジスト組成物が使用されている。しかし、現在使用さ
れているソルダーレジスト組成物は、全て溶剤に溶解す
るか分散された組成物である。したがって、有機溶剤を
使用するために、臭気、毒性、大気汚染等のVOC(揮
発性有機溶剤)問題があり好ましくない。しかし、従
来、ソルダーレジストを水性化すると、耐水性、耐熱
性、電気特性などが低下するという問題が生じた。
【0003】そこで、これ等の問題を解決することを目
的として、(1)活性エネルギー線硬化性化合物に共重合
等により親水性部位を導入して自己水分散性または自己
乳化性を持たせる方法、(2)従来の活性エネルギー線硬
化性化合物を低分量型もしくは高分子型の乳化剤を使用
して分散または乳化させる方法、さらには(3)前記の方
法で分散または乳化した活性エネルギー線硬化性化合物
とアクリルエマルジョンや水溶性高分子を併用する方法
等により、種々タイプの水溶性の活性エネルギー線硬化
性化合物や活性エネルギー線硬化性エマルジョンが開発
されている。しかし、これらの方法で得られるエマルジ
ョン等は分散性が不充分であることが多く、硬化膜の耐
水性、耐溶剤性、耐酸性、感光特性、接着性等に問題を
残し、未だに実用化に至っていないのが現状である。
【0004】前記問題を解決するため、特開平2−30
0204号公報には、粒子表面に重合性二重結合を導入
したエマルジョンの製造方法が開示されている。この場
合、粒子表面に重合性二重結合を導入することによっ
て、ある程度に架橋密度を高くできるものの、硬化物の
耐水性、耐溶剤性、耐酸性、感光特性、接着性等の特性
を満足するものでない。又、製造工程が複雑でコストが
高くなる難点がある。また特開平9−157495号公
報には、エマルジョン粒子が三次元架橋した高分子エマ
ルジョン及びその製造方法が開示されている。この製造
法では簡易に製造でき架橋密度も向上し有効であるが、
硬化膜の耐水性、耐溶剤性、耐酸性、感光特性、接着性
等の硬化物の特性を充分に満足するものでない。特開平
8−302240号公報には、組成物が重合反応により
エマルジョンのミセル中の重合性化合物同士が化学結合
する架橋型エマルジョン方式の光硬化性組成物が開示さ
れている。しかしながら硬化物同士の化学結合が強過ぎ
るために基材との接着性に劣り、またその他に耐水性等
の硬化物の特性を満足するものではない。さらに特許第
3032851号には水溶性高分子を用いた光硬化性エ
マルジョン樹脂組成物が開示されている。しかしながら
水溶性高分子ポリマーを使用しているために耐水性に乏
しいという問題がある。
【0005】
【発明の解決しようとする課題】従って本発明は、VO
C課題を出来る限り低減し、生産性も向上し、しかもそ
の硬化物が耐水性(耐沸水性)、耐熱性、電気特性等に
優れたソルダーレジスト組成物およびその硬化方法を得
ることを課題とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らはソルダーレ
ジスト組成物およびその硬化方法について、前記課題を
解決するために鋭意、研究、検討した結果、遂に本発明
を完成するに到った。すなはち本発明は、(A)エポ
キシ基含有樹脂と、(B)少なくとも1分子中に1個以
上のエチレン性不飽和結合とカルボキシル基とを含有す
る樹脂(b1)、反応性モノマーおよび/または反応性
プレポリマー(b2)、および光開始剤(b3)を含む
光硬化性組成物を、乳化剤によりエマルジョン化した組
成物において、乳化剤が可変性界面活性剤であることを
特徴とするソルダーレジスト組成物。可変性界面活性
剤が熱可変性および/または光可変性界面活性剤である
ことを特徴とする前記記載のソルダーレジスト組成
物。前記エポキシ基含有樹脂(A)中のエポキシ基に
対しての、前記光硬化性組成物(B)中のカルボキシル
基の当量比が0.7/1.3〜1.3/0.7であり、前
記エポキシ基含有樹脂(A)中のエポキシ基当量が10
0〜800であり、前記少なくとも1分子中に1個以上
のエチレン性不飽和結合とカルボキシル基とを含有する
樹脂(b1)の酸価が30〜200mgKOH/gであ
ることを特徴とする前記およびのいずれかに記載の
ソルダーレジスト組成物。前記〜のいずれかに記
載のソルダーレジスト組成物を用いて塗工した後、熱処
理および/または活性エネルギー線照射処理することを
特徴とするソルダーレジスト組成物の硬化方法である。
【0007】本発明において使用される可変性界面活性
剤とは、最初は一分子中に親水部と疎水部を有してお
り、熱および/または活性エネルギー線照射等により、
何らかの変化をして疎水性となるものである。また、機
能的には、エマルジョン粒子の形成過程において通常使
用されている乳化剤としての機能(粒子の生成、粒子の
凝集、粒子の安定化等)を具備していると同時に、熱お
よび/または活性エネルギー線照射等によって、(i)界
面活性剤の分子構造(親水部と疎水部)の親水部が化学
変化し疎水部になる、(ii)親水部と疎水部の一部が化学
的に分解し疎水部の占める割合が大きくなる、(iii)分
解した化学物質同士の架橋反応によって疎水化する、等
の性質をもつ界面活性剤のことである。
【0008】具体的には、熱処理により変化する可変性
界面活性剤としては、例えば、イオン性親水部がアンモ
ニウム塩、ピリジニウム塩、スルホニウム塩、アルソニ
ウム塩、ホスホニウム塩、β―ケトカルボン酸塩、α―
シアノカルボン酸塩等のイオン形成基からなる可変性界
面活性剤が例示され、このイオン形成基が熱処理によっ
て熱分解し、前記(i)〜(iii)の何れかに変化することに
よって疎水性となるものである。
【0009】一方、活性エネルギー線照射による光可変
性界面活性剤には、活性エネルギー線照射によって化学
物質のそのものが光分解するもの、或いは活性エネルギ
ー線照射によって化学物質が酸発生剤または塩基性発生
剤を介して分解するもの、電子供与性化合物または電子
受容性化合物と組み合せて光電子移動反応により分解す
るものなどが挙げられる。例えば、化学物質そのものが
光分解するものとしては、α―ケトカルボン酸塩、フェ
ニル酢酸塩、ヘテロ芳香環酢酸塩、ジアゾスルホン酸
塩、アルキルケトンスルホン酸塩等が親水基として界面
活性剤の構造骨格の一部に有する可変性界面活性剤を例
示することができる。電子供与性化合物または電子受容
性化合物と組み合せて光電子移動反応により分解するも
のとしてN−フェニルグリシン塩、フェニルチオ酢酸
塩、フェノキシ酢酸塩などが親水基として界面活性剤の
構造骨格の一部に有する可変性界面活性剤を例示するこ
とができる。また、活性エネルギー線照射によって酸発
生剤を介して分解する化学物質としては、例えば、1,
3−ジオキサン環、ジオキソラン環などの環状アセター
ル、アルキルグリコキシドなどの脂環アセタール、ケタ
ール、オルソエステル、シロキサン等が界面活性剤の構
造骨格に一部に有する可変性界面活性剤が例示され、塩
基性発生剤を介して分解する化学物質としては、アセタ
ール型ビス(アンモニウムブロマイド)などの4級アン
モニウムエステル、ベタインエステル、モノアルキルカ
ーボネートなどを例示することができる。
【0010】本発明において用いられる(A)エポキシ
基含有樹脂としては一般的なエポキシ化合物を用いるこ
とができる。例えば、クレゾールノボラック型エポキシ
化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、脂環式エポ
キシ化合物などが挙げられる。1分子中に2個以上、好
ましくは3個以上のエポキシ基を有する化合物が好まし
い。
【0011】上記可変性界面活性剤を乳化剤として、上
記エポキシ基含有樹脂(A)をエマルジョン化すること
により、エポキシ基含有樹脂エマルジョンを調製するこ
とができる。エポキシ基含有樹脂(A)のエポキシ基当
量は、100〜800であることが好ましく、さらに好
ましくは150〜350である。エポキシ基当量が小さ
くなりすぎると、架橋密度が低いために耐熱性に乏しく
なる場合があり、エポキシ基当量が大きすぎると、逆に
架橋密度が高くなりすぎるためにレジスト膜が脆くなる
場合がある。
【0012】本発明において用いられる樹脂(b1)
は、少なくとも1分子中に1個以上のエチレン性不飽和
結合とカルボキシル基とを含有する樹脂である。その酸
価は30〜200mgKOH/gであることが好まし
い。さらに好ましくは30〜150mgKOH/gであ
る。酸価が低くなりすぎると、アルカリ水に対する溶解
性が悪くなるためにアルカリ現像が困難になる。酸価が
高くなりすぎると、アルカリ現像の際に露光部の膜減り
が生じる。本発明においては、このような樹脂を用いる
ことにより、熱硬化後のレジスト膜の耐熱性を向上させ
ることができる。
【0013】樹脂(b1)の具体例としては、エポキシ
化合物に、アクリル酸などを反応させ、これによって生
じた水酸基に酸無水物を反応させた樹脂が挙げられる。
その他、アクリル酸、メタクリル酸、2−メタクリロイ
ロキシエチルアシッドホスフェートなどの酸性基を含有
するビニルモノマーを非酸性ビニルモノマーと共重合し
た樹脂も使用できる。非酸性ビニルモノマーとしては、
例えば、スチレン、α―メチルスチレン、フルオロスチ
レン、ビニルピリジン等の芳香族モノビニル化合物、メ
チル(メタ)アクリレート、エチレ(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N,N
―ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(メ
タ)アクリル酸エステルモノマー、(メタ)アクリロニ
トリル等のシアン化ビニル化合物等を用いることができ
る。また、重合速度および重合中の安定性等の点で許容
されうる範囲内においてブタジエン、イソプレン等の共
役二重結合化合物や酢酸ビニル等のビニルエステル類や
4−メチルー1−ペンテン等のα―オレフィン類も使用
することができる。これらの非酸性ビニルモノマーは単
独で使用しても良く、二種以上を組み合わせ使用しても
よい。
【0014】樹脂(b1)の使用量としては、前記エポ
キシ基含有樹脂(A)中のエポキシ基に対しての、光硬
化性組成物(B)中のカルボキシル基の当量比が0.7
/1.3〜1.3/0.7となるような範囲が好ましい。
さらに好ましくは0.85/1.15〜1.15/0.8
5である。この範囲をはずれると、架橋度が上がらず耐
熱性が不十分になる場合がある。
【0015】本発明において用いられる反応性モノマー
および/またはプレポリマー(b2)は、具体的には、
反応性プレポリマーとしてエポキシ(メタ)アクリレー
ト、ポリウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレ
ート、シリコン(メタ)アクリレート、ポリブタジエン
(メタ)アクリレート、ポリアミド(メタ)アクリレー
ト等を例示できる。また、反応性モノマーとしては、ス
チレン、酢酸ビニル、N―ビニルピロリオン等のビニル
モノマー、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、n−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、n―ドデシルアクリレート、イソホロ
ニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート等の単官能
モノマー、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジュエチレ
ングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、ビスフ
ェノールAジエトキシジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多
官能モノマーを例示できる。これらの反応性モノマーま
たは反応性プレポリマーの使用量は、ソルダーレジスト
組成物に通常0.1〜200重量%程度、好ましくは1
〜100重量%の範囲である。
【0016】光開始剤(b3)としては、通常紫外線硬
化性化合物に使用されているものを使用できる。例え
ば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエー
テル、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノ
ン、α―アミノアセトフェノン、ベンジルメチルケター
ル、チオキサントン、α―アシルオキシムエステル、ア
シルホスフィンオキシド、グリオキシエステル、3−ケ
トクマリン、2−エチルアンスラキノン、カンファーキ
ノン、ミヒラーケトン等を例示できる。これらの光開始
剤は、ソルダーレジスト組成物中に通常0.1〜20重
量%、好ましくは1〜10重量%範囲で使用される。
【0017】光硬化性組成物(B)は、上記樹脂(b
1)、反応性モノマーおよび/またはプレポリマー(b
2)および光開始剤(b3)を、可変性界面活性剤を乳
化剤としてエマルジョン化することにより調製できる。
【0018】本発明のソルダーレジスト組成物において
は、上記エポキシ基含有樹脂(A)および光硬化性組成
物(B)に加えて、無機フィラーを添加することができ
る。このような無機フィラーを添加することによりレジ
スト膜の耐熱性を向上させることができる。このような
無機フィラーは、上記可変性界面活性剤を乳化剤として
水分散させた状態で添加することが望ましい。
【0019】無機フィラーとしては、硫酸バリウム、微
粉状酸化ケイ素、無定形シリカなど公知のものを使用す
ることができる。使用量は、水および乳化剤を除く組成
物中5〜50重量%であることが好ましく、さらに好ま
しくは15〜35重量%である。無機フィラーの使用量
が少なすぎると耐熱性硬化収縮を防ぐ効果に乏しく、使
用量が多くなりすぎると粒子の沈降や凝集が起こる場合
があるので好ましくない。
【0020】本発明組成物を得る方法としては、前記し
たように、(A)エポキシ基含有樹脂と(B)光硬化性
組成物とのそれぞれのエマルジョンを別々に作成してお
いて、その後に混合してもよいし、上記(A)および
(B)のそれぞれの成分を同時に混合させてエマルジョ
ン化させてもよいが、本発明においては、ポットライフ
等を考慮した場合、前者のように別々にエマルジョンを
作成しておいた方が好ましい。
【0021】上記(A)および(B)のエマルジョン粒
子径は、平均粒子径で0.1〜5μmであることが好ま
しく、さらに好ましくは0.3〜1.5μmである。
0.1μm未満であると乳化剤が多量に必要となる。ま
た粒子径が大きくなりすぎると粒子の沈降や凝集が起こ
る場合があるので好ましくない。
【0022】本発明のソルダーレジスト組成物を基材に
塗布した後、50〜90℃の温度で乾燥させることが望
ましい。乾燥後、活性光線で露光し、未露光部をアルカ
リ水溶液で現像除去した後、光硬化部を加熱硬化させ
る。加熱温度としては、例えば140〜170℃を挙げ
ることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化性組成物およびそ
の硬化方法の一実施態様としては、(A)エポキシ基含
有樹脂(a1)と、(B)少なくとも1分子中に1個以
上のエチレン性不飽和結合とカルボキシル基とを含有す
る樹脂(b1)、反応性モノマーおよび/または反応性
プレポリマー(b2)、および光開始剤(b3)を含む
光硬化性組成物を、可変性界面活性剤を乳化剤としてエ
マルジョン化したソルダーレジスト組成物エマルジョン
を得る。(II)このエマルジョンをポリイミドフィルム銅
張積層板の銅箔表面に乾燥処理後の厚みが約10g/m2
になるように塗工し、80℃20分で乾燥する。(III)
得られた塗工膜面へ3KW超高圧水銀灯を用い500mj
/cm2の照度で光硬化させる。(IV)更に、150℃30
分乾燥する。(V)これ等の硬化法によって得られた硬化
膜を評価項目に沿って評価する。
【0024】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお実施例中に、部とあるのは重量部を意味す
る。また、実施例中における評価項目と方法は、次に述
べる方法による。 1)耐水性(耐沸水性):ポリイミドフィルム銅張積層
板の銅箔上に硬化膜を有する試料を80℃〜90℃の沸
水中に1時間浸漬させたあと、硬化膜の表面の水滴を拭
き取り、JISK5400碁盤目剥離試験法により銅箔
との接着性を評価した。 100/100:○ 80/100:△ 80以下/1
00:×とした。 2)耐熱性:JIS C−6481に従って、260℃
の半田浴に10秒間浸漬させ、トルエンでフラックスを
除去した後、半田の潜り有無と銅箔との接着性を評価し
て優劣を評価した。 半田潜り有り : X 半田潜りなし、接着性0/1
00 : X 半田潜りなし、接着性100/100 : 〇 3)耐酸性:10%塩酸液と10%硫酸液を用いて試料
を常温30分間浸漬させ、1)と同様な方法で評価し
た。 4)耐溶剤性:トルエンとアセトンを用いて試料を常温
30分間浸漬させ1)と同様な方法で評価した。 5)鉛筆硬度:銅箔上の硬化膜を、JISK5400鉛
筆引っ掛け試験法により評価した。この測定値から硬化
膜の感光性の良否を判断した。 ≧H:○ ≧B:△ F<:× 6)エマルジョン粒子径:COULTER MODEL
N4SD(COULTER ELECTRONiCS,
INC製)を用いてエマルジョン粒子径を測定した。 7)電気絶縁抵抗:銅箔をエッチングしてなるIPCパ
ターン上に前記方法により硬化膜を形成し、JIS C
0022高温高湿試験法により、50℃85%RH16
0時間の処理をし、HIGH RESISTANCE
METER(横河・ヒューレット・パッカード(株))
の測定器で500V1分間印加後の絶縁抵抗を測定し
た。
【0025】実施例1 EOCN104S(クレゾールノボラック型エポキシ化
合物、日本化薬(株)製)60部、α―ケトカルボン酸
塩型界面活性剤3部、プロピレングリコールジアセテー
ト7部、酢酸ブチル30部の重量比となるように溶液を
作製し、さらにイオン交換水120部と混合した。次い
で、減圧下に酢酸ブチルと水を除去して固形分50%の
エポキシ基含有樹脂エマルジョンを調製した。
【0026】次に樹脂(KAYARAD TCR−12
65、酸価104.9、日本化薬(株)製)44部、D
PE−6A(多官能アクリレート、共栄社化学(株)
製)9部、イルガキュアー907(チバガイギー社製)
6部、酢酸ブチル40部の重量比となるように溶液を作
製し、イオン交換水120部、α―ケトカルボン酸塩型
界面活性剤2部を混合した。次いで、減圧下に酢酸ブチ
ルと水を除去し、固形分50%の光硬化性組成物エマル
ジョンを調製した。
【0027】次に無機フィラーB−30(硫酸バリウ
ム、堺化学(株)製)20部、TCR−126510
部、酢酸ブチル70部の重量比でロールミルを用いて分
散した。
【0028】以上の方法により得られるエマルジョンお
よび分散液を混合して、ソルダーレジスト組成物エマル
ジョンを調製した。組成比は以下のとおりである。 エポキシ基含有樹脂EOCN104S 25部 樹脂TCR−1265 55部 多官能アクリレートDPE−6A 11部 イルガキュアー907 8部 B−30 50部、
【0029】実施例2 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、可変
性界面活性剤としてジアゾスルホン酸塩型界面活性剤を
使用した以外は全て同じ方法で平均粒子径95nmの可
変性界面活性剤を含有する光硬化性組成物を得た。
【0030】実施例3 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、ニト
ロフェニル酢酸塩型界面活性剤を使用した以外は全て同
じ方法で平均粒子径97nmの可変性界面活性剤を含有
する光硬化性組成物を得た。
【0031】実施例4 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、トリ
トンSP140(ユニオンカーバイド社製)と酸発生剤
トリフェニルスルホニウム塩1部を使用した以外は全て
同じ方法で平均粒子径97nmの可変性界面活性剤を含
有する光硬化性組成物を得た。
【0032】比較例1 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、通
常、乳化剤として使用されるラウリルベンゼンスルホン
酸ナトリウムを使用した以外、実施例1と同様な方法で
平均粒子径80nmの光硬化性組成物を得た。
【0033】比較例2 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、通常
に乳化剤として使用されるラウリル硫酸ナトリウムを使
用した以外、実施例1と同様な方法で平均粒子径85n
mの光硬化性組成物を得た。
【0034】比較例3 実施例1で使用した可変性界面活性剤に代わって、通常
に乳化剤として使用されるポリオキシエチレンヘキサデ
シルエーテルを使用した以外、実施例1と同様な方法で
平均粒子径83nmの光硬化性組成物を得た。
【0035】参考例 実施例1〜4および比較例1〜3によって得られたエマ
ルジョン組成物を、それぞれ乾燥処理後の厚みが10g
/m2になるよう1OZのポリイミドフィルム銅張積層
板に塗工した。そして、80℃20分で乾燥させ、3K
W高圧水銀灯を用いて500mj/cm2の照度で光硬
化させ、得られた光硬化膜を150℃30分熱処理し硬
化膜を得た。これ等の硬化膜を評価項目に沿って評価し
た。なお、電気絶縁抵抗の測定は、予めポリイミドフィ
ルム銅張積層板を用いてIPC評価パターンにエッチン
グ加工された配線パターンを用い、塗工・硬化して得た
ものを使用し評価した。その評価結果、実施例1〜4、
比較例1〜3の結果を表1に示す。
【0036】
【表1】
【0037】
【発明の効果】以上かかる構成よりなる本発明によれ
ば、水性化に伴って派生する電気的特性や熱的特性の低
下を抑制することができ、かつ貯蔵安定性および無機フ
ィラーの分散性に優れた水分散型ソルダーレジスト組成
物を得ることができるので、産業界に寄与すること大で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA10 AB15 AB20 AC01 AD01 BC13 BC42 BC74 BC81 BC85 BC86 BJ03 BJ10 CA00 CC04 CC20 EA10 FA17 2H096 AA26 BA05 DA01 DA02 EA02 GA08 4J036 AA01 DB17 DB25 FA08 FB03 HA01 JA09 KA03

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)エポキシ基含有樹脂と、(B)少な
    くとも1分子中に1個以上のエチレン性不飽和結合とカ
    ルボキシル基とを含有する樹脂(b1)、反応性モノマ
    ーおよび/または反応性プレポリマー(b2)、および
    光開始剤(b3)を含む光硬化性組成物を、乳化剤によ
    りエマルジョン化した組成物において、乳化剤が可変性
    界面活性剤であることを特徴とするソルダーレジスト組
    成物。
  2. 【請求項2】可変性界面活性剤が熱可変性および/また
    は光可変性界面活性剤であることを特徴とする請求項1
    記載のソルダーレジスト組成物。
  3. 【請求項3】前記エポキシ基含有樹脂(A)中のエポキ
    シ基に対しての、前記光硬化性組成物(B)中のカルボ
    キシル基の当量比が0.7/1.3〜1.3/0.7であ
    り、前記エポキシ基含有樹脂(A)中のエポキシ基当量
    が100〜800であり、前記少なくとも1分子中に1
    個以上のエチレン性不飽和結合とカルボキシル基とを含
    有する樹脂(b1)の酸価が30〜200mgKOH/
    gであることを特徴とする請求項1および請求項2のい
    ずれかに記載のソルダーレジスト組成物。
  4. 【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載のレジスト
    組成物を用いて塗工した後、熱処理および/または活性
    エネルギー線照射処理することを特徴とするソルダーレ
    ジスト組成物の硬化方法。
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