JP2002324670A

JP2002324670A - 有機ｅｌ素子の製造方法

Info

Publication number: JP2002324670A
Application number: JP2001126368A
Authority: JP
Inventors: Emiko Kanbe; 江美子神戸
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2001-04-24
Filing date: 2001-04-24
Publication date: 2002-11-08

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布による有機層の積層が可能であり、特性
に優れた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】積層される下層側と上層側の有機層の形
成に際し、下層側の有機層を、高分子ＥＬ材料を含有す
る層とし、上層側の有機層を、塗布溶媒として、i)総炭
素数３〜６の鎖状化合物であって、分子内に炭素数１〜
３のアルコキシ基、カルボニル基、および炭素数２〜３
のエステル基から選ばれる１種以上を有し、かつこれら
の基のα位および／またはβ位に水酸基を有する化合
物、ii)総炭素数３〜６の鎖状化合物であって、分子内
に炭素数２〜４のジアルキルアミド基を有する化合物、
iii)総炭素数５〜８の鎖状化合物であるエステル、なら
びにiv)総炭素数４〜７の鎖状化合物であるカーボネー
トから選択される１種以上の化合物を用いて塗布形成す
る有機ＥＬ素子の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布法により有機
層を積層形成することを特長とする有機ＥＬ素子の製造
方法に関し、更に詳細には、下層を侵すことなく安定で
アモルファスな膜を形成できる塗布溶媒を用いることに
より塗布による高信頼性でかつ高効率な有機ＥＬ素子形
成を可能にした製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】コダック社による真空蒸着法を用いた積
層型有機ＥＬ素子の発表以来、有機ＥＬディスプレイの
開発が盛んに行われ現在実用化されつつある。

【０００３】このような積層型有機ＥＬ素子の形成は、
低分子系色素を真空蒸著することによって行っている。
しかし、真空蒸着法では均質で欠陥がない薄膜を得るこ
とは困難であり、数層もの有機層を形成するには長時間
を要するため、効率的な素子の製造法とはいえないもの
であった。

【０００４】また、特開平４−３３２８７４号、特開平
１１−５４２７０号、特開平１１−４０３５８号等に
は、生産効率の良いとされる塗布により、有機層を形成
した有機ＥＬ素子が開示されているが、いずれも有機層
は単層型であり、より効率の高まる発光が可能な有機層
の積層構造は考慮に入れていない。

【０００５】さらに、特開平４−２０９６号、特開２０
００−７７１８５号においては塗布によって積層構造の
有機層を形成した有機ＥＬ素子が開示されている。特開
平４−２０９６号の実施例では、ポリマー型の正孔注入
輸送材料、あるいは正孔注入輸送材料と高分子バインダ
ーとの塗布により正孔注入輸送層を形成し、この上に発
光材料と高分子バインダーとの塗布により発光層を形成
したものなどが挙げられている。これらの塗布溶媒は、
正孔注入輸送層の塗設においては、１，２−ジクロルエ
タン、１，２，３−トリクロルプロパン、トルエン、酢
酸エチルなどであり、発光層の塗設においてはトルエ
ン、水−エタノール、メタノール、酢酸エチルなどであ
る。また、特開２０００−７７１８５号は、積層される
有機層中にシロキサン骨格を有する有機高分子を含有さ
せるものであり、その実施例には、積層される各有機層
に各機能化合物とシリコーン樹脂とを塗布し、架橋させ
ることが記載されている。これらの塗布溶媒は、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）などである。

【０００６】しかし、これらの積層構造では、積層可能
な有機層の構成が非常に限定されたり、架橋構造導入が
必要となったりということから効率の低い発光の有機Ｅ
Ｌ素子となっている。

【０００７】また、現在一般に使われているポリマー型
有機ＥＬ素子においては、水溶液と有機溶媒を用いた溶
液との組合せで有機物層を形成した、有機物積層構造が
とられており、このようなものでは下層の構造が限定さ
れ、キャリアのチャージバランスがとりづらく、連続駆
動において寿命の短い素子が多い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
により積層構造の有機層の形成が可能であり、このた
め、簡便にかつ短時間で有機ＥＬ素子を製造でき、なお
かつ発光効率が高く、長寿命であり、信頼性の高い有機
ＥＬ素子の製造方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）の本発明により達成される。（１）基板と、基板上に設けられた第１電極と、発光
層を含む２層以上の積層された有機層と、有機層上に形
成された第２電極とを有し、前記有機層のうちの少なく
とも１層を有機溶媒に溶解した塗料を塗布することによ
り形成する有機ＥＬ素子の製造方法において、積層され
る下層側と上層側の有機層の形成に際し、下層側の有機
層を、高分子ＥＬ材料を含有する層とし、上層側の有機
層を、塗布溶媒として、i)総炭素数３〜６の鎖状化合物
であって、分子内に炭素数１〜３のアルコキシ基、カル
ボニル基、および炭素数２〜３のエステル基から選ばれ
る１種以上を有し、かつこれらの基のα位および／また
はβ位に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数３〜６の
鎖状化合物であって、分子内に炭素数２〜４のジアルキ
ルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数５〜８の鎖状
化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数４〜７の
鎖状化合物であるカーボネートから選択される１種以上
の化合物を用いて塗布形成する有機ＥＬ素子の製造方
法。（２）下層側有機層の高分子ＥＬ材料の分子量が、重
量平均分子量で５０００以上である上記（１）の有機Ｅ
Ｌ素子の製造方法。（３）下層側有機層の高分子ＥＬ材料が、ポリフルオ
レンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニレンお
よびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその
誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導
体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチ
ェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリＮ−ビニルカ
ルバゾールおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびそ
の誘導体、ポリアクリレート誘導体、ならびにポリメタ
クリレート誘導体から選ばれる１種以上の化合物である
有機ＥＬ素子の製造方法．（４）積層される下層側の有機層が、塗布形成される
上記（１）〜（３）のいずれかの有機ＥＬ素子の製造方
法。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の有機ＥＬ素子は、基板上に設けられた第
１電極と、これと対をなす第２電極との間に有機層を有
するものであり、この有機層は発光層を含む２層以上か
らなる。

【００１１】このような２層以上の有機層は、少なくと
も１層が塗布により形成される。この場合の上下層とな
る２層について着目すると、下層側の有機層には、高分
子ＥＬ材料を含有させ、上層側の有機層は所定の塗布溶
媒を用いて形成される。

【００１２】このような構成とすることで、塗布による
設層が可能になることから、生産性が向上し、かつ十分
な膜厚が得られるため、発光効率が高く、長寿命の有機
ＥＬ素子が得られる。

【００１３】上記の着目する上下層の２層のほかに、有
機層が存在する構成では、上記の上下層が最上層側に位
置する方が好ましく、上記の下層側に、さらに、有機層
を設ける場合は、高分子材料を含有させることが好まし
い。

【００１４】まず、上記の上下層について説明する。下
層側の有機層は、高分子ＥＬ材料を含有する層とする
が、高分子ＥＬ材料の分子量は、重量平均分子量Ｍｗで
５０００以上が好ましく、さらには５０００〜５０万で
あることが好ましい。このような分子量のものを用いる
ことにより、下層としての物理的強度が十分に得られ、
素子のリークなどが生ぜず、素子としての特性が向上す
る。

【００１５】高分子ＥＬ材料は、有機ＥＬ素子を構成す
る有機層の機能を発現する材料となるものである。この
高分子ＥＬ材料は、目的とする層に応じて、適宜選択さ
れ、低分子化合物の機能材料を高分子化が可能な誘導体
とし、この誘導体から高分子を得るようにしてもよい。

【００１６】高分子ＥＬ材料としては、具体的にはポリ
フルオレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニ
レンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよ
びその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその
誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リチェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリＮ−ビニ
ルカルバゾールおよびその誘導体、ポリチオフェンおよ
びその誘導体、ポリアクリレート誘導体、ポリメタクリ
レート誘導体が挙げられる。

【００１７】これらの高分子ＥＬ材料は、隣接層に含有
される化合物との組み合わせなどにもよるが、主に、正
孔注入輸送性の化合物や発光材料として用いられるもの
もある。また、ポリアクリレート誘導体、ポリメタクリ
レート誘導体は、目的に応じた機能性化合物（例えばN,
N,N'N'-テトラフェニルベンジジンのような正孔注入輸
送性化合物）を導入して高分子化したものである。

【００１８】これらの高分子ＥＬ材料は、単独使用して
もよいが、目的とする有機層の機能を損なわない範囲で
２種以上を併用してもよい。

【００１９】また、低分子化合物と併用してもよいが、
高分子ＥＬ材料の層全体に占める割合は２０〜１００％
（質量百分率）が好ましく、さらに好ましくは５０〜１
００％（質量百分率）である。高分子成分の割合が低い
と上層に塗布により積層構造をとる工程において、この
下層部分が物理的に弱いため侵され、リークなどが発生
しやすくなる。

【００２０】高分子ＥＬ材料を含有する下層の形成方法
は、特に限定するものではなく、真空蒸着法、イオン化
蒸着法、溶液塗布法（例えばスピンコート法、キャスト
法、ディップコート法、スプレーコート法など）が用い
られる。中でも、生産性向上の上では溶液塗布法が望ま
しい。

【００２１】この高分子ＥＬ材料を含有する下層を塗布
により形成する場合の塗布溶媒は、高分子ＥＬ材料を溶
解するものであれば特に制限されるものではなく、トル
エン、キシレンなどの芳香族系、1,2-ジクロロエタン、
1,2,3-トリクロロプロパンなどのハロゲン系、テトラヒ
ドロフラン(THF)などのヘテロ環系、等の有機溶媒の使
用が一般的である。塗布に際しては０．１〜５％（質量
百分率）の溶液とすればよい。

【００２２】なお、上層の塗布は、下層を乾燥（すなわ
ち下層中の溶媒の８０％（質量百分率）以上を除去）し
た後に行うことが望ましい。

【００２３】一方、このような下層と組み合わせて用い
られる上層は塗設されるが、この場合の塗布溶媒には、ｉ）総炭素数３〜６の鎖状化合物であって、分子内に炭
素数１〜３のアルコキシ基、カルボニル基、および炭素
数２〜３のエステル基から選ばれる１種以上を有し、か
つこれらの基のα位および／またはβ位（好ましくはα
位またはβ位）に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数
３〜６の鎖状化合物であって、分子内に炭素数２〜４の
ジアルキルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数５〜
８の鎖状化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数
４〜７の鎖状化合物であるカーボネートから選択される
１種以上の化合物が用いられる。

【００２４】ここで述べる極性溶媒は、有機ＥＬ材料を
侵しにくいので積層用の塗布溶媒に適している。また、
顕微鏡観察によれば結晶粒が見られないことが確認さ
れ、また、Ｘ線回折分析によってもアモルファス膜が得
られていることがわかる。このアモルファス膜は、素子
を構成したとき、リークや機能低下が生じにくく、長寿
命となる利点がある。i)、ii)の化合物において、総炭
素数が３未満であるときは、塗料の乾燥速度が速すぎて
有機色素層の層厚を均一に制御することが困難となる。
一方、i)、ii)の化合物において、総炭素数が７以上で
ある湯合には、塗料の乾操速度が著しく遅くなり粘度の
増大等でやはり層厚の均一な制御が難しくなる。iii)、
iv)の化合物における総炭素数の範囲の規定も同様の理
由による。また、飽和アルコールは、炭素数が少ない場
合乾燥速度が速すぎ、有機ＥＬ材料の析出を招き、塗膜
形成ができないという難点があり、また、総炭素数が多
い場合は乾燥速度が遅くなるが同時に溶解性も低くなり
有機ＥＬ材料を溶解することができないという難点があ
る。また、芳香族系、ハロゲン系では、ほとんどの有機
ＥＬ材料を溶解するため、下層が侵され、リークすると
いう問題がある。さらに、酢酸エチル等の高速揮発エス
テル系では、上述のように、乾燥速度が速すぎて、アモ
ルファス塗膜の形成ができない。また、テトラヒドロフ
ラン（ＴＨＦ）等のヘテロ環系では下層が侵されやすく
なり、リークが生じてしまう。

【００２５】このような有機溶媒の具体例としては、２
−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、イソ
プロピルセロソルブ、乳酸メチル、乳酸エチル、アセト
イン、ジアセトンアルコール、４−ヒドロキシブタノ
ン、プロピオイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−３−
ブタノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸
tert-ブチル、酢酸ペンチル、酢酸２−メチルブチル、
酢酸３−メチルブチル、酢酸ヘキシル、蟻酸ブチル、蟻
酸イソブチル、蟻酸ペンチル、蟻酸イソペンチル、蟻酸
ヘキシル、蟻酸ヘプチル、酪酸エチル、イソ酪酸エチ
ル、酪酸プロピル、酪酸イソプロピル、プロピルプロピ
オン酸、ブチルプロピオン酸、tert-ブチルプロピオン
酸、sec-ブチルプロピオン酸、吉草酸メチル、イソ吉草
酸メチル、吉草酸エチル、イソ吉草酸エチル、炭酸エチ
ルメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、等が挙げら
れる。

【００２６】上層に添加され、この溶媒に溶解する有機
ＥＬ材料としては、溶解性を示すものであればよく、素
子構成に応じて適宜選択される。具体的には、テトラセ
ン、ジフェニルアントラセン、ペリレン、ルブレンなど
の縮合多環炭化水素化合物およびそれらの誘導体、フェ
ナントロリン、バソフェナントロリン、フェナントリジ
ン、バソクプロインなどの縮合複素環化合物およびその
誘導体、オキサジアゾール、トリアゾール、ビスベンゾ
キサゾリン、メロシアニン等の複素環化合物やそれらの
誘導体などを挙げることができる。また、有機金属錯
体、例えば、８−キノリノラト系錯体配位子として８−
キノリノールおよびその誘導体を配位できるアルカリ金
属もしくはアルカリ土類金属、ホウ素、アルミニウム、
ガリウム、インジウム等の錯体が挙げられる。

【００２７】これらは主に発光材料や電子注入輸送性化
合物として用いられるものである。

【００２８】これらは、有機層の機能を阻害しない範囲
内で、単独で使用してもよいし、それぞれ混合してもよ
い。また、必要に応じ、バインダー樹脂等を混合しても
よい。

【００２９】このような有機材料は、上述の塗布溶媒に
それぞれの濃度が０．１〜５％（質量百分率）になるよ
う溶解されることが好ましい。塗布に関しては、スピン
コート法、スプレーコート法、ディップコート法などあ
らゆる溶液を用いる塗布法を用いることができる。塗布
後、上記溶媒の乾操のため、素子をホットプレート等で
加熱してもよい。加熱は、有機ＥＬ材料のＴｇ（ガラス
転移温度）以下の温度が好ましく、通常５０〜８０℃程
度の温度であり、減圧下あるいは不活性雰囲気下の乾燥
が好ましい。

【００３０】このような上下層の積層構造の有機層とさ
れる組み合わせは、通常、下層がポリマー型の正孔（ホ
ール）注入および／または輸送層、あるいは発光層で、
上層が所定の塗布溶媒を用いた発光層（電子注入および
／または輸送層を兼ねる場合もある。）、あるいは電子
注入および／または輸送層であることが好ましい。

【００３１】したがって、本発明の有機ＥＬ素子は、基
板上に第１電極として陽極を有し、有機層上に第２電極
として陰極を有するものであることが好ましい。このよ
うな構成では、前述のとおり、陽極とポリマー型の下層
との間には、さらに、正孔注入および／または輸送層を
設けることもでき、このような層も、上層を塗布で形成
するならば、高分子材料を含有するポリマー型であるこ
とが好ましい。

【００３２】ただし、本発明の有機ＥＬ素子は、用いる
高分子ＥＬ材料の種類や、塗布溶媒、等に応じて、第１
電極を陰極とし、第２電極を陽極とすることもでき、有
機層の構成も種々のものとすることができ、特に限定さ
れるものではない。また、高分子ＥＬ材料を、目的に応
じて合成することも可能である。

【００３３】本発明において、上下層とされる有機層
は、通常は異なる機能をもつ層であるが、場合によって
は同一機能の層（例えば発光層同士）であってもよい。

【００３４】有機層１層当たりの厚さは、塗布法による
ときは、０．５〜１０００nmが好ましく、より好ましく
は１０〜５００nmである。また、真空蒸着法等の蒸着法
によるときは、１〜５００nm程度である。

【００３５】本発明において、陰極（電子注入電極）
は、電子注入層等との組み合わせでは、低仕事関数で電
子注入性を有している必要がないため、特に限定される
必要はなく、通常の金属を用いることができる。なかで
も、導電率や扱い易さの点で、Ａｌ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｔ
ｉ，Ｃｕ，Ａｕ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｔ，ＰｄおよびＮｉ、特
にＡｌ，Ａｇから選択される１種または２種等の金属元
素が好ましい。これら陰極薄膜の厚さは、電子を電子注
入輸送層等に与えることのできる一定以上の厚さとすれ
ば良く、５０nm以上、好ましくは１００nm以上とすれば
よい。また、その上限値には特に制限はないが、通常膜
厚は５０〜５００nm程度とすればよい。

【００３６】また、電子注入電極（陰極）として必要に
応じて下記のものを用いてもよい。例えば、Ｋ、Ｌｉ、
Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む２成分、３成分の合金系、例えばＡ
ｇ・Ｍｇ（Ａｇ：０．１〜５０％（原子比））、Ａｌ・
Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１〜１４％（原子比））、Ｉｎ・Ｍ
ｇ（Ｍｇ：５０〜８０％（原子比））、Ａｌ・Ｃａ（Ｃ
ａ：０．０１〜２０％（原子比））、ＬｉＦ（Ｆ：０．
０１〜４０％（原子比））等が挙げられる。電子注入電
極（陰極）薄膜の厚さは、電子注入を十分行える一定以
上の厚さとすれば良く、０．１nm以上、好ましくは０．
５nm以上、特に１nm以上とすればよい。また、その上限
値には特に制限はないが、通常膜厚は１〜５００nm程度
とすればよい。電子注入電極（陰極）の上には、さらに
補助電極（保護電極）を設けてもよい。電子注入電極と
補助電極とを併せた全体の厚さとしては、特に制限はな
いが、通常５０〜５００nm程度とすればよい。

【００３７】陽極（ホール注入電極）材料は、ホール注
入輸送層等へホールを効率よく注入することのできるも
のが好ましく、仕事関数４．５eV〜５．５eVの物質が好
ましい。具体的には、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴ
Ｏ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、酸化イン
ジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）および酸
化亜鉛（ＺｎＯ）のいずれかを主組成としたものが好ま
しい。これらの酸化物はその化学量論組成から多少偏倚
していてもよい。Ｉｎ₂Ｏ₃に対するＳｎＯ₂の混合比
は、１〜２０％（質量百分率）、さらには５〜１２％
（質量百分率）が好ましい。また、ＩＺＯでのＩｎ₂Ｏ
₃に対するＺｎＯの混合比は、通常、１２〜３２％（質
量百分率）程度である。ホール注入電極は、仕事関数を
調整するため、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を含有してい
てもよい。酸化シリコン（ＳｉＯ₂）の含有量は、ＩＴ
Ｏに対するＳｉＯ₂の mol比で０．５〜１０％程度が好
ましい。ＳｉＯ₂を含有することにより、ＩＴＯの仕事
関数が増大する。

【００３８】光を取り出す側の電極は、ホール注入電極
に限らず、発光波長帯域、通常４００〜７００nm、特に
各発光光に対する光透過率が５０％以上、さらには８０
％以上、特に９０％以上であることが好ましい。透過率
が低くなりすぎると、発光層からの発光自体が減衰さ
れ、発光素子として必要な輝度を得難くなってくる。

【００３９】ホール注入電極の厚さは、５０〜５００n
m、特に５０〜３００nmの範囲が好ましい。また、その
上限は特に制限はないが、あまり厚いと透過率の低下や
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、十分な効
果が得られず、製造時の膜強度等の点でも問題がある。

【００４０】さらに、素子の有機層や電極の劣化を防ぐ
ために、素子上を封止板等により封止することが好まし
い。

【００４１】本発明において、有機ＥＬ構造体を形成す
る基板としては、非晶質基板（例えばガラス、石英な
ど）、結晶基板（例えば、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＺｎＳｅ、
ＺｎＳ、ＧａＰ、ＩｎＰなど）が挙げられ、またこれら
の結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金属のバッファ層
を形成した基板も用いることができる。また金属基板と
しては、Ｍｏ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｐｄなどを用
いることができ、好ましくはガラス基板が用いられる。
基板は、光取り出し側となる場合、上記電極と同様な光
透過性を有することが好ましい。

【００４２】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。比較例を併せて示す。実施例１ガラス基板上にシート抵抗１５Ω／□のＩＴＯ（インジ
ウム錫オキサイド）陽極（２００nm厚）が形成されてい
る基板のＩＴＯ上にホール注入層であるバイトロン(Bay
tron)Ｐ（バイエル株式会社製：ポリエチレンジオキサ
イドチオフェンとポリスチレンスルホン酸とのポリマー
の混合水分散液）を用いてスピンコートで４０nm厚に形
成した。

【００４３】次いで、ホール輸送層を形成した。ホール
輸送層は、トルエン溶媒に、ルブレンを１mol%、N,N,
N',N'−テトラフェニルベンジジンを導入したポリアク
リレート誘導体であるＴＰＤポリマー（下記構造）を９
９mol%の比で混合したものを溶解させ、スピンコートで
４０nm厚に形成した。この塗布液の濃度は１．０％（質
量百分率）である。

【００４４】次いで、電子輸送性の発光層をスピンコー
トで形成した。メチルセロソルブ溶媒に、ルブレンを１
mol%、８−キノリノラト系アルミニウム錯体であるＢＡ
ｌｑ（下記構造）を９９mol%の比で混合したものを溶解
させスピンコートで５０nm厚に形成した。この塗布液の
濃度は１．０％（質量百分率）である。

【００４５】ここで、５０℃で真空乾燥を１時間行っ
た。上記の膜厚は、いずれも真空乾燥後のものである。

【００４６】次いで、その上に陰極を蒸着で形成した。
陰極はＭｇＡｇ（Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１（体積比））で
２００nm厚に形成した。

【００４７】

【化１】

【００４８】このようにして得られた有機ＥＬ素子の１
０mA/cm²での輝度は５００cd/m²であり、黄色の発光が
得られ、１０mA/cm²定電流駆動（Ａｒガス下）での輝度
半減期は、６００時間であった。

【００４９】実施例２ＴＰＤポリマー層の代わりにバイトロン(Baytron)Ｐ層
上に下記構造のポリフルオレン誘導体の層（発光層）を
形成する以外、実施例１同様にして素子を形成した。ポ
リフルオレン誘導体層はポリフルオレン誘導体のトルエ
ン塗布液（１．０％（質量百分率））から形成した。な
お、ＢＡｌｑ層（但し、ルブレンは含有しない。）は、
この場合、電子注入輸送層として機能する。

【００５０】

【化２】

【００５１】この素子の１０mA/cm²での輝度は１５００
cd/m²であり、緑色の発光が得られ、１０mA/cm²定電流
駆動（Ａｒガス下）での輝度半減期は、５００時間であ
った。

【００５２】実施例３ＢＡｌｑ層の代わりに、ポリフルオレン層の上にトリス
（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）の層を
ジメチルアセトアミド塗布液（０．５％（質量百分
率））を用いて１５nm厚に形成する以外、実施例２と同
様にして素子を形成した。

【００５３】この素子の１０mA/cm²での輝度は、１７０
０cd/m²であり、緑色の発光が得られ、１０mA/cm²での
輝度半減期は３５０時間であった。

【００５４】実施例４〜５メチルセロソルブの代わりに、１．３％（質量百分率）
の酢酸ｎ−ブチル溶液または１．４％（質量百分率）の
炭酸ジエチル溶液を用いてＢＡｌｑ層を形成する以外、
実施例２と同様にして素子を形成し、各素子の特性を調
べたところ、実施例２と同様の結果が得られた。

【００５５】比較例１実施例１と同様にバイトロン(Baytron)Ｐ層、次いでＴ
ＰＤポリマー層を形成したのち、メタノール溶媒にてＢ
Ａｌｑ層（実施例１と同じくルブレン含有）を４０nm厚
に形成し、後は実施例１と同様にして素子を形成した。
なお、ＢＡｌｑ層は、濃度０．７％（質量百分率）のメ
タノール塗布液から形成した。

【００５６】この素子では、ＢＡｌｑ層は膜中に結晶が
析出していた。また、１０mA/cm²での輝度は１５０cd/m
²であり、１０mA/cm²定電流駆動（Ａｒガス下）での輝
度半減期は、１時間であった。

【００５７】比較例２実施例１と同様にバイトロン(Baytron)Ｐ層、次いでＴ
ＰＤポリマー層を形成したのち、ＴＨＦ溶媒にてＡｌｑ
３層（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌ
ｑ３）９９mol%とルブレン１mol%含有）層を４０nm相当
厚に形成し、後は実施例１と同様にして素子を形成し
た。なお、Ａｌｑ３層は、濃度１．０％（質量百分率）
のＴＨＦ塗布液から形成した。

【００５８】この素子では、下層が侵され、素子がリー
クし、輝度等を測定できなかった。

【００５９】比較例３実施例１と同様にバイトロン(Baytron)Ｐ層、次いでＮ
ＰＢ（N,N'-ジナフチル−N,N'-ジフェニルベンジジン
(下記構造：NPB)９９mol%とルブレン１mol%含有）層を
蒸着で形成したのち、メチルセロソルブ溶媒にてＢＡｌ
ｑ層を４０nm相当厚に形成し、後は実施例１と同様にし
て素子を形成した。なお、ＢＡｌｑ層は、濃度１．０％
（質量百分率）のメチルセロソルブ塗布液から形成し
た。

【００６０】

【化３】

【００６１】この素子では、下層が侵され、素子がリー
クし輝度等を測定できなかった。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、塗布による有機層の積
層が可能であり、発光効率が高く、長寿命の有機ＥＬ素
子が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、基板上に設けられた第１電極
と、発光層を含む２層以上の積層された有機層と、有機
層上に形成された第２電極とを有し、前記有機層のうち
の少なくとも１層を有機溶媒に溶解した塗料を塗布する
ことにより形成する有機ＥＬ素子の製造方法において、積層される下層側と上層側の有機層の形成に際し、下層
側の有機層を、高分子ＥＬ材料を含有する層とし、上層
側の有機層を、塗布溶媒として、i)総炭素数３〜６の鎖
状化合物であって、分子内に炭素数１〜３のアルコキシ
基、カルボニル基、および炭素数２〜３のエステル基か
ら選ばれる１種以上を有し、かつこれらの基のα位およ
び／またはβ位に水酸基を有する化合物、ii)総炭素数
３〜６の鎖状化合物であって、分子内に炭素数２〜４の
ジアルキルアミド基を有する化合物、iii)総炭素数５〜
８の鎖状化合物であるエステル、ならびにiv)総炭素数
４〜７の鎖状化合物であるカーボネートから選択される
１種以上の化合物を用いて塗布形成する有機ＥＬ素子の
製造方法。
【請求項２】下層側有機層の高分子ＥＬ材料の分子量
が、重量平均分子量で５０００以上である請求項１の有
機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】下層側有機層の高分子ＥＬ材料が、ポリ
フルオレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンビニ
レンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよ
びその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその
誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リチェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリＮ−ビニ
ルカルバゾールおよびその誘導体、ポリチオフェンおよ
びその誘導体、ポリアクリレート誘導体、ならびにポリ
メタクリレート誘導体から選ばれる１種以上の化合物で
ある有機ＥＬ素子の製造方法．
【請求項４】積層される下層側の有機層が、塗布形成
される請求項１〜３のいずれかの有機ＥＬ素子の製造方
法。