JP2002311091A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP2002311091A
JP2002311091A JP2001111264A JP2001111264A JP2002311091A JP 2002311091 A JP2002311091 A JP 2002311091A JP 2001111264 A JP2001111264 A JP 2001111264A JP 2001111264 A JP2001111264 A JP 2001111264A JP 2002311091 A JP2002311091 A JP 2002311091A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
node
circuit
internal node
channel mos
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001111264A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotoshi Sato
広利 佐藤
Masaki Tsukide
正樹 築出
Yoshiyuki Shimizu
禎之 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2001111264A priority Critical patent/JP2002311091A/ja
Priority to US09/972,243 priority patent/US6493279B2/en
Publication of JP2002311091A publication Critical patent/JP2002311091A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing

Abstract

(57)【要約】 【課題】 発振周波数の測定を容易に行なうことができ
る半導体装置を提供する。 【解決手段】 テストモード時には、スイッチ回路50
は非活性化状態とされ、スイッチ回路48,52が活性
化状態とされる。ノードN4より信号が入力されスイッ
チ回路52,反転遅延回路46およびスイッチ回路48
を介して遅延値を測定することによりリングオシレータ
の発振周波数を測定することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置に関
し、より特定的には所定の周期の信号を発生させるため
の発振回路を含む半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の内部において所定の周期で
変化するクロック信号等が必要な場合に、リングオシレ
ータなどの発振回路を搭載することがよく行なわれてい
る。従来、リングオシレータに関しては、印加するバイ
アス電位をヒューズ切換により変化させ、リングオシレ
ータの周波数を変化させ、そのリングオシレータの出力
を外部に引出してモニタしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、リングオシレ
ータの周波数を正確に測定するには、発振が開始されて
から発振が安定するまで待ち、発振周波数を測定する必
要があった。
【0004】また、自励発振する信号の周波数を自動で
測定するためには、検査機械がそのような機能を備えて
いる必要もあった。
【0005】この発明の目的は、簡易に発振周波数をモ
ニタでき、その調整が可能な半導体装置を提供すること
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の半導体
装置は、動作モードとして、通常モードとテストモード
とを有する半導体装置であって、通常モードにおいて自
励発振し、クロック信号を出力する発振回路を備え、発
振回路は、第1の内部ノードに与えられた信号を遅延さ
せ反転させて第2の内部ノードに出力する反転遅延回路
と、通常モードにおいて第2の内部ノードの信号を第1
の内部ノードに伝達しクロック信号を発生するループを
形成し、テストモードにおいて外部から与えられるテス
ト入力信号を第1の内部ノードに伝達し、かつ、テスト
入力信号に応じて第2の内部ノードに出力される信号を
モニタ信号として外部に出力する経路切換部とを含み、
クロック信号に応じて動作を行なう内部回路をさらに備
える。
【0007】請求項2に記載の半導体装置は、請求項1
に記載の半導体装置の構成に加えて、経路切換部は、通
常モードにおいて導通し、第2の内部ノードと第1の内
部ノードとを接続する第1のスイッチ回路と、テストモ
ードにおいて導通し、テスト入力信号が与えられるノー
ドと第1の内部ノードとを接続する第2のスイッチ回路
と、テストモードにおいて導通し、モニタ信号を出力す
るノードと第2の内部ノードとを接続する第2のスイッ
チ回路とを有する。
【0008】請求項3に記載の半導体装置は、請求項2
に記載の半導体装置の構成に加えて、第1〜第3のスイ
ッチ回路は、それぞれ第1〜第3のトランスファゲート
を有し、第2、第3のトランスファゲートは、テストモ
ードにおいて活性化されるテスト信号に応じて導通し、
第1のトランスファゲートは、テスト信号と相補な信号
に応じて導通する。
【0009】請求項4に記載の半導体装置は、請求項1
に記載の半導体装置の構成に加えて、反転遅延回路は、
各々がバイアス電圧に応じて遅延時間が変化する直列に
接続された複数のインバータを有し、発振回路は、外部
から与えられるチューニング信号に応じてバイアス電圧
を変化させるバイアス回路をさらに含む。
【0010】請求項5に記載の半導体装置は、請求項4
に記載の半導体装置の構成に加えて、バイアス回路は、
第3の内部ノードと電源ノードとを結ぶ経路上に接続さ
れ、ゲートが第4の内部ノードに接続される第1のPチ
ャネルMOSトランジスタと、第3の内部ノードと接地
ノードとの間に接続され、ゲートが第3の内部ノードに
接続される第1のNチャネルMOSトランジスタと、第
4の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、ゲート
に所定の基準電位を受ける第2のNチャネルMOSトラ
ンジスタと、電源ノードと第4の内部ノードとの間に接
続され、チューニング信号に応じて電源ノードから第4
の内部ノードに向けて流れる電流を調整する調整部とを
有し、調整部は、選択されると、電源ノードと第4の内
部ノードとの間に並列接続されゲートがともに第4の内
部ノードに接続され、第1のPチャネルMOSトランジ
スタとカレントミラーを形成する複数の第3のPチャネ
ルMOSトランジスタと、チューニング信号に応じて、
選択する複数の第3のPチャネルMOSトランジスタの
数を決定する選択部とを有する。
【0011】請求項6に記載の半導体装置は、請求項4
に記載の半導体装置の構成に加えて、バイアス回路は、
第3の内部ノードと電源ノードとを結ぶ経路上に接続さ
れ、ゲートが第4の内部ノードに接続される第1のPチ
ャネルMOSトランジスタと、第3の内部ノードと接地
ノードとの間に接続され、ゲートが第3の内部ノードに
接続される第1のNチャネルMOSトランジスタと、第
4の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、ゲート
に所定の基準電位を受ける第2のNチャネルMOSトラ
ンジスタと、電源ノードと第4の内部ノードとの間に接
続され、チューニング信号に応じて電源ノードから第4
の内部ノードに向けて流れる電流を調整する調整部とを
有し、調整部は、電源ノードと第4の内部ノードとの間
に直列に接続される第3、第4のPチャネルMOSトラ
ンジスタを有し、第3のPチャネルMOSトランジスタ
は、チューニング信号をゲートに受け、第4のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲートは第4の内部ノードに接
続される。
【0012】請求項7に記載の半導体装置は、請求項1
に記載の半導体装置の構成に加えて、内部回路は、複数
のダイナミック型のメモリセルを有するメモリセルアレ
イを含み、クロック信号に応じてメモリセルアレイのリ
フレッシュ周期を示す信号を出力する信号出力回路をさ
らに備える。
【0013】請求項8に記載の半導体装置は、請求項7
に記載の半導体装置の構成に加えて、メモリセルアレイ
は、アドレス信号に応じてアクセスされるメモリセルが
特定され、アドレス信号は、複数の列アドレスビット
と、複数の列アドレスビットと一括して与えられる複数
の行アドレスビットとを含み、内部回路は、複数の列ア
ドレスビットに応じてメモリセルアレイの列選択を行な
う列デコーダと、複数の行アドレスビットに応じてメモ
リセルアレイの行選択を行なう行デコーダとをさらに含
む。
【0014】請求項9に記載の半導体装置は、請求項8
に記載の半導体装置の構成に加えて、アドレス信号に応
じてテストモードの検出を行なうテストモード検出回路
をさらに備える。
【0015】
【発明の実施の形態】以下において、本発明の実施の形
態について図面を参照して詳しく説明する。なお、図中
同一符号は同一または相当部分を示す。
【0016】[実施の形態1]図1は、本発明の適用例
の1つである半導体装置1の構成を示す概略ブロック図
である。
【0017】図1を参照して、半導体装置1は、制御信
号/M−CE,/OE,/WE,/SM−LB,/SM
−UBを受ける入力端子群2と、データ信号DQ0〜D
Q7が入出力される端子群4と、データ信号DQ8〜D
Q15が入出力される端子群6と、アドレス信号A0〜
A19が入力される端子群8と、電源電位VCCが与え
られる電源端子10と、接地電圧GNDが与えられる接
地端子12とを含む。
【0018】制御信号/M−CEは、半導体装置1を外
部からアクセスするときに選択するためのチップイネー
ブル信号である。制御信号/OEは、半導体装置1を読
出モードに設定するとともに出力バッファを活性化させ
るアウトプットイネーブル信号である。制御信号/WE
は、半導体装置1を書込モードに設定するライトイネー
ブル信号である。制御信号/SM−LBは、下位(lowe
r bit)側のデータ端子群4からデータの入出力を行な
うことを選択するための信号である。制御信号/SM−
UBは、上位(upper bit)側のデータ端子群6からデ
ータの入出力を行なうことを選択するための信号であ
る。
【0019】半導体装置1は、さらに、アドレス信号A
0〜A19を受けてテストモードを検出し、種々のテス
ト信号を出力するテストモード検出回路14と、入力端
子群2からの信号とテストモード検出回路14の出力と
応じて、半導体装置1がアクセスされていない状態にあ
ることを検出するとセルフリフレッシュサイクルを示す
信号REFCYCLEを出力するセルフリフレッシュ回
路16と、入力端子群2から与えられる信号と信号RE
FCYCLEとに応じて半導体装置1の所定の動作モー
ドに相当する制御クロックを各ブロックに対して出力す
る制御クロック発生回路22とを備える。
【0020】半導体装置1は、さらに、制御クロック発
生回路22の出力に応じてアドレス信号A0〜A6を受
けて内部に伝達する列アドレスバッファ24と、制御ク
ロック発生回路22の出力に応じてアドレス信号A7〜
A19を受けて内部に伝達する行アドレスバッファ25
とを含む。
【0021】半導体装置1は、さらに、行アドレスバッ
ファ25が出力する内部アドレス信号IA7〜IA19
を制御クロック発生回路22の出力に応じて受けワード
線WLを選択する行デコーダ26と、列アドレスバッフ
ァ24が出力する内部アドレス信号IA0〜IA6を制
御クロック発生回路22の出力に応じて受けビット線B
Lの選択を行なう列デコーダ28と、マトリックス状に
配置されるメモリセルMCを含むメモリセルアレイ32
と、メモリセルアレイ32からの出力を増幅し読出すセ
ンスアンプおよび入出力制御回路30とを含む。
【0022】なお、図1においては、メモリセルアレイ
32が含む複数のメモリセルMCのうちワード線WL,
ビット線BL、メモリセルMCを代表的に1つずつ示し
ている。
【0023】各メモリセルMCは、図示しないが、対応
するビット線BLに一方端が接続されゲートが対応する
ワード線に接続されるアクセストランジスタATと、ア
クセストランジスタATの他方端とセルプレートとの間
に接続されるキャパシタCとを含む。
【0024】半導体装置1は、さらに、制御クロック発
生回路22が出力する下位制御信号LCに応じて端子群
4からデータ信号DQ0〜DQ7を受けてセンスアンプ
および入出力制御回路30に伝達する下位側の入力バッ
ファIBLと、制御信号LCに応じてセンスアンプおよ
び入出力制御回路30から信号を受けて端子群4にデー
タ信号を出力する下位側出力バッファOBLと、制御ク
ロック発生回路22が出力する上位制御信号UCに応じ
て端子群6からデータ信号DQ8〜DQ15を受けてセ
ンスアンプおよび入出力制御回路30に伝達する上位側
入力バッファIBUと、制御信号UCに応じてセンスア
ンプおよび入出力制御回路30から読出されたデータを
端子群6に出力する上位側出力バッファOBUとを含
む。
【0025】一般に、スタティックランダムアクセスメ
モリ(SRAM)は、外部から与える信号の制御が簡単
である。しかし、メモリセルMCを高密度に集積化する
にはダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)
のメモリセルの方がコスト的に優れている。ただし、D
RAMは、メモリセルに蓄積された電荷により情報を保
持するため、一定期間ごとにリフレッシュ動作を行なわ
せる必要があり、制御は複雑となる。
【0026】図1に示した半導体装置1は、外部から与
える信号は、SRAMと同様なアドレス信号および制御
信号である。つまり、外部から与える制御はSRAMと
同様にシンプルで、かつ、内部に用いるメモリセルはD
RAMと同様なメモリセルを用いることで大容量で、か
つ制御の簡単な半導体メモリを実現している。
【0027】しかしながら、DRAMのメモリセルは、
一定期間以上アクセスがないとリフレッシュが必要にな
ってくる。そこで、アクセスが生じていない時間にセル
フリフレッシュ回路16が信号REFCYCLEによっ
て制御クロック発生回路22にリフレッシュ動作を指示
している。
【0028】図2は、図1のセルフリフレッシュ回路1
6の第1の実施例であるセルフリフレッシュ回路16a
の構成を示した回路図である。
【0029】図2を参照して、セルフリフレッシュ回路
16aは、通常時にクロック信号PHY0を出力するリ
ングオシレータ42と、クロック信号PHY0を分周し
てリフレッシュ周期を示す信号REFCYCLEを出力
するカウンタ回路44とを含む。
【0030】リングオシレータ42は、テスト信号TM
OSCTUNEの活性化に応じて導通し、テスト信号R
EFCYCMOINが与えられるノードN4とノードN
2とを接続するスイッチ回路52と、ノードN2に入力
が接続されノードN1に出力が接続される反転遅延回路
46と、テスト信号TMOSCTUNEの活性化に応じ
てノードN1とノードN3とを接続するスイッチ回路4
8と、テスト信号/TMOSCTUNEの活性化に応じ
てノードN1とノードN2とを接続するスイッチ回路5
0とを含む。なお、ノードN3からはモニタ用のテスト
信号である信号REFCYCMONFが出力される。
【0031】すなわち、スイッチ回路48〜52は、通
常モードにおいてノードN1の信号をノードN2に伝達
し前記クロック信号を発生するループを形成し、テスト
モードにおいて外部から与えられるテスト入力信号RE
FCYCMOINをノードN2に伝達し、かつ、信号R
EFCYCMOINに応じてノードN1に出力される信
号をモニタ信号REFCYCMONFとして外部に出力
する経路切換部として働く。
【0032】反転遅延回路46は、ノードN2とノード
N1との間に直列に接続される奇数段のインバータ54
〜62を含む。
【0033】次に、半導体装置1のテストモードについ
て説明する。通常の読出動作および書込動作とは別の動
作をテストモードと称する。テストモードを用いてさま
ざまな回路機能を測定することができる。
【0034】図3は、テストモードへの設定方法を説明
するための波形図である。図1、図3を参照して、テス
トモードに設定するには、アドレス信号A<19:0>
の一部に特定の設定動作を行なうことによりテストモー
ド検出回路14がテストモードを受付ける状態にし、そ
の後特定の信号を続けて入力することにより所定のテス
トモードに半導体装置1を設定する。
【0035】まず、時刻t1〜t2においてアドレス信
号A<3:0>の4ビットの信号をテストモード検出回
路14が0h,Fh,0h,Fhの順に変化したことを
検出する。これにより、テストモードを指定できる受付
状態となる。
【0036】引き続き、時刻t2〜t3においてアドレ
ス信号A<3:0>にFh,Fh,を入力すると、複数
あるテストモードのうちの1つが特定され、そのテスト
モードに設定される。
【0037】テストモードに設定されると、たとえば、
アドレス信号A0〜A19のうちのいずれかからテスト
モード検出回路14を経由してセルフリフレッシュ回路
16に対してテスト信号REFCYCMOIN,TMO
SCTUNEを与えることができる。
【0038】図4は、半導体装置1のテスト動作を説明
するための動作波形図である。図4を参照して、時刻t
1以前には図3で説明したようにテストモードへの設定
が行なわれており、図2のスイッチ回路48,52は接
続状態となっており、一方スイッチ回路50は開放状態
となっている。
【0039】テスト時には、外部からテスト信号REF
CYCMOINをロウレベルからハイレベルに変化させ
ると、所定の遅延時間Td後にリングオシレータ42か
ら信号REFCYCMONFが出力される。
【0040】すなわち時刻t1において、テスト信号R
EFCYCMOINがLレベルからHレベルに立上がる
と、スイッチ回路52および反転遅延回路46、スイッ
チ回路48を介して時刻t2において信号REFCYC
MONFがHレベルからLレベルに立下がる。スイッチ
回路52,48の遅延時間は反転遅延回路46の遅延時
間よりもかなり小さいため、遅延時間Tdは、ほぼ反転
遅延回路46の遅延時間と等しいと考えて良い。
【0041】図2において、通常動作時においては、ス
イッチ回路50が接続状態となり、スイッチ回路48お
よび52は開放状態となる。したがって、クロック信号
PHY0は反転遅延回路46の遅延時間に相関する周期
で変化するクロック信号となる。
【0042】この遅延時間Tdを観測することにより、
通常動作時におけるクロック信号PHY0の周期を特定
することができる。反転遅延回路46の立上がり時間と
立下がり時間とが等しい場合には、クロック信号PHY
0の周期Tは遅延時間Tdのほぼ2倍となる。
【0043】したがって、リングオシレータ42を自励
発振させて、安定な発振になるまで待ってからクロック
信号PHY0の測定をしなくても、テスト時に短時間で
遅延時間を観測することによって、通常発振時における
クロック周期Tを知ることが可能となる。また、内部か
ら与える信号REFCYCMOINを基準として信号R
EFCYCMONFに変化が現われるまでの遅延時間T
dを測定すればよいので、測定にも、高度な検査器は必
要がない。
【0044】[実施の形態2]図5は、図1のセルフリ
フレッシュ回路16の第2の実施の形態であるセルフリ
フレッシュ回路16bの構成を示したブロック図であ
る。
【0045】図5を参照して、セルフリフレッシュ回路
16bは、制御信号/M−CE,/OE,/WE,/S
M−LB,/SM−UBを監視し、アクセスが行なわれ
ていないことを検知するとリフレッシュ動作を実施させ
る制御信号ONを活性化させるリフレッシュ検出回路1
02と、接地電位と電源電位との間の所定の定電位であ
るバイアス信号BIASLおよびチューニング信号ZT
UNE<3:0>に応じてバイアス信号BIASSを出
力するバイアス発生回路104と、テスト信号TMOS
CTUNE,REFCYCMOINおよび制御信号O
N、バイアス信号BIASSに応じてクロック信号PH
Y0および信号REFCYCMONFを出力するリング
オシレータ106と、クロック信号PHY0を分周して
リフレッシュサイクルを示す信号REFCYCLEを出
力するカウンタ回路108とを含む。
【0046】図6は、図5におけるバイアス発生回路1
04の構成を示した回路図である。図6を参照して、バ
イアス発生回路104は、ノードN10と接地ノードと
の間に接続されゲートにバイアス信号BIASLを受け
るNチャネルMOSトランジスタ126と、ノードN1
1と接地ノードとの間に接続されゲートがノードN11
に接続されるNチャネルMOSトランジスタ128と、
電源ノードとノードN10との間に接続される電流調整
回路120と、電源ノードとノードN11との間に直列
に接続されるPチャネルMOSトランジスタ122,1
24とを含む。PチャネルMOSトランジスタ122の
ゲートは接地ノードに接続される。PチャネルMOSト
ランジスタ124のゲートはノードN10に接続され
る。また、PチャネルMOSトランジスタ122,12
4のバックゲートはともに電源ノードに接続される。
【0047】電流調整回路120は、電源ノードとノー
ドN10との間に直列に接続されるPチャネルMOSト
ランジスタ130,132を含む。PチャネルMOSト
ランジスタ130のゲートは接地ノードに接続される。
PチャネルMOSトランジスタ132のゲートはノード
N10に接続される。PチャネルMOSトランジスタ1
30,132のバックゲートはともに電源ノードに接続
される。
【0048】電流調整回路120は、さらに、電源ノー
ドとノードN10との間に直列に接続されるPチャネル
MOSトランジスタ134,136を含む。Pチャネル
MOSトランジスタ134は、ゲートに信号ZTUNE
<3>を受ける。PチャネルMOSトランジスタ136
のゲートはノードN10に接続される。PチャネルMO
Sトランジスタ134,136のバックゲートは、とも
に電源ノードに接続される。
【0049】電流調整回路120は、さらに、電源ノー
ドとノードN10との間に直列に接続されるPチャネル
MOSトランジスタ138,140を含む。Pチャネル
MOSトランジスタ138のゲートは信号ZTUNE<
2>を受ける。PチャネルMOSトランジスタ140の
ゲートはノードN10に接続される。PチャネルMOS
トランジスタ138,140のバックゲートは、ともに
電源ノードへ接続される。
【0050】電流調整回路120は、さらに、電源ノー
ドとノードN10との間に直列に接続されるPチャネル
MOSトランジスタ142,144を含む。Pチャネル
MOSトランジスタ142は、ゲートに信号ZTUNE
<1>を受ける。PチャネルMOSトランジスタ144
のゲートはノードN10に接続される。PチャネルMO
Sトランジスタ142,144のバックゲートはともに
電源ノードに接続される。
【0051】電流調整回路120は、さらに、電源ノー
ドとノードN10との間に直列に接続されるPチャネル
MOSトランジスタ146,148を含む。Pチャネル
MOSトランジスタ146は、ゲートに信号ZTUNE
<0>を受ける。PチャネルMOSトランジスタ148
のゲートはノードN10に接続される。PチャネルMO
Sトランジスタ146,148のバックゲートは、とも
に電源ノードに接続される。
【0052】信号ZTUNE<0>〜ZTUNE<3>
を変化させることにより、電流調整回路120に流れる
電流が変化するため、カレントミラー動作によりノード
N11の電位を調整することができる。したがって、ノ
ードN11から出力されるバイアス信号BIASSの電
位レベルを調整することが可能となる。
【0053】図7は、図5におけるリングオシレータ1
06の構成を示した回路図である。図7を参照して、リ
ングオシレータ106は、信号INを受けて所定の遅延
時間後に反転して信号OUT1をノードN21に出力す
る反転遅延回路162と、ノードN21とノードN22
との間に接続されるトランスファーゲート172と、ノ
ードN22とテスト信号REFCYCMOINが与えら
れるノードN24との間に接続されるトランスファーゲ
ート174と、ノードN21とノードN23との間に接
続されるトランスファーゲート170と、テスト信号T
MOSCTUNEを受けて反転し信号ZTMOSCTU
NEを出力するインバータ168とを含む。
【0054】トランスファーゲート172は、テスト信
号TMOSCTUNEがLレベルで、かつ、信号ZTM
OSCTUNEがHレベルのときに導通する。一方、ト
ランスファーゲート170,174は、テストモード時
においてテスト信号TMOSCTUNEがHレベルで、
かつ、信号ZTMOSCTUNEがLレベルのときに導
通する。
【0055】リングオシレータ106は、さらに、反転
遅延回路162が出力する信号OUT2と信号INとに
応じてクロック信号PHY0を出力するクロック出力回
路164と、テスト信号TMOSCTUNE,ZTMO
SCTUNEに応じてノードN23に出力される信号O
UT3を信号REFCYCMONFとして出力するモニ
タ信号出力回路166とを含む。
【0056】図8は、図7における反転遅延回路162
の構成を示した回路図である。図8を参照して、反転遅
延回路162は、制御信号ONを受けて反転し信号ZO
Nを出力するインバータ180と、信号INが与えられ
るノードN31と信号OUT1を出力するノードN42
との間に直列に接続される11段のインバータ181〜
191とを含む。
【0057】反転遅延回路162は、さらに、インバー
タ181の入力ノードN31と電源ノードとの間に接続
されゲートに制御信号ONを受けるPチャネルMOSト
ランジスタ192と、インバータ182の入力ノードN
32と接地ノードとの間に接続されゲートに信号ZON
を受けるNチャネルMOSトランジスタ202と、イン
バータ184の入力ノードN34と電源ノードとの間に
接続されゲートに制御信号ONを受けるPチャネルMO
Sトランジスタ193と、インバータ185の入力ノー
ドN35と接地ノードとの間に接続されゲートに信号Z
ONを受けるNチャネルMOSトランジスタ203とを
含む。
【0058】反転遅延回路162は、さらに、インバー
タ186の入力ノードN36と電源ノードとの間に接続
されゲートに制御信号ONを受けるPチャネルMOSト
ランジスタ194と、インバータ187の入力ノードN
37と接地ノードとの間に接続されゲートに信号ZON
を受けるNチャネルMOSトランジスタ204と、イン
バータ188の入力ノードN38と電源ノードとの間に
接続されゲートに制御信号ONを受けるPチャネルMO
Sトランジスタ195と、インバータ189の入力ノー
ドN39と接地ノードとの間に接続されゲートに信号Z
ONを受けるNチャネルMOSトランジスタ205と、
インバータ190の入力ノードN40と電源ノードとの
間に接続され制御信号ONをゲートに受けるPチャネル
MOSトランジスタ196と、インバータ191の入力
ノードN41と接地ノードとの間に接続されゲートに信
号ZONを受けるNチャネルMOSトランジスタ206
とを含む。
【0059】インバータ187は、ノードN38に信号
OUT2を出力し、この信号OUT2は図7のクロック
出力回路164に伝達される。
【0060】インバータ181は、電源ノードと接地ノ
ードとの間に直列に接続されるPチャネルMOSトラン
ジスタ212およびNチャネルMOSトランジスタ21
3,214を含む。NチャネルMOSトランジスタ21
4のゲートはバイアス信号BIASSを受ける。Pチャ
ネルMOSトランジスタ212のゲートおよびNチャネ
ルMOSトランジスタ213のゲートはともに、このイ
ンバータ181の入力信号を受ける。また、Pチャネル
MOSトランジスタ212とNチャネルMOSトランジ
スタ213の接続ノードからはこのインバータ181の
出力信号が出力される。
【0061】インバータ182〜191については、イ
ンバータ181と同様な構成であるので、説明は繰返さ
ない。
【0062】図9は、図7におけるモニタ信号出力回路
166の構成を示した回路図である。
【0063】図9を参照して、モニタ信号出力回路16
6は、テスト信号TMOSCTUNEとノードN45に
与えられる信号OUT3とを受けるNAND回路220
と、NAND回路220の出力を受けて反転するインバ
ータ222と、信号ZTMOSCTUNEがHレベル
で、かつ、信号TMOSCTUNEがLレベルのときに
導通しインバータ222の出力をノードN45に与える
トランスファーゲート224とを含む。
【0064】図10は、図7におけるクロック出力回路
164の構成を示した回路図である。
【0065】図10を参照して、クロック出力回路16
4は、電源ノードと接地ノードとの間に直列に接続され
る、PチャネルMOSトランジスタ230,232およ
びNチャネルMOSトランジスタ234,236を含
む。PチャネルMOSトランジスタ230のゲートおよ
びNチャネルMOSトランジスタ236のゲートは信号
INを受ける。PチャネルMOSトランジスタ232の
ゲートおよびNチャネルMOSトランジスタ234のゲ
ートは信号OUT2を受ける。このように、発振経路に
おける2つの信号を受けることにより、トランジスタ2
30〜236に流れる貫通電流の低減を図っている。
【0066】クロック出力回路164は、さらに、Pチ
ャネルMOSトランジスタ232とNチャネルMOSト
ランジスタ234の接続ノードに入力が接続されるイン
バータ238と、インバータ238の出力を受けて反転
するインバータ240と、制御信号ONおよびインバー
タ240の出力を受けるNAND回路242と、NAN
D回路242の出力を受けて反転しクロック信号PHY
0を出力するインバータ244とを含む。
【0067】次に、実施の形態2のリングオシレータの
調整について説明する。図8に示した反転遅延回路16
2は、合計11段の奇数段のインバータで構成され、各
ノードについて見ると、ハイレベルとローレベルを一定
の周波数で繰返す。この周波数の周期は印加されるバイ
アス信号BIASSの電圧レベルにより調整される。
【0068】図11は、実施の形態2のクロック周波数
を調整する説明をするための動作波形図である。
【0069】図7、図11を参照して、通常時におい
て、自励発振が起こる場合の信号伝達経路は、反転遅延
回路162,トランスファーゲート172である。
【0070】自励発振により、信号INおよび信号OU
T2が周期的に変化し、これをクロック出力回路164
が検出して他のブロックに対してクロック信号PHY0
として出力する。この際、トランスファーゲート17
0,174は非活性化状態を維持する。
【0071】まず調整前においては、クロック信号PH
Y0の周期はT1であったとする。この周期T1を測定
するために、図3で説明したようなテストシーケンスを
用いてテストモードに設定する。テストモード時は、ト
ランスファーゲート172は非活性化状態とされ、トラ
ンスファーゲート170,174が活性化状態とされ
る。そして、外部からテスト信号REFCYCMOIN
を入力し、信号REFCYCMONFをモニタすること
により遅延時間Td1を測定する。
【0072】これにより、通常発振時におけるクロック
信号PHY0の周期T1が所望の時間よりも短いことが
判明したとする。
【0073】続いて、クロック周期T1をさらに長い周
期T2にするために調整を行なう。この調整は図6に示
したバイアス発生回路104に与えるチューニング信号
ZTUNE<3:0>を変化させることにより行なう。
このチューニング信号は、たとえば、図1のテストモー
ド検出回路14を介して所定のアドレス信号のビットか
ら与えることができる。
【0074】テストモードにおいて、テスト信号REF
CYCMOINから信号REFCYCMONFまでの遅
延時間Td2が希望する発振周波数の周期に対応するも
のとなるようにチューニング信号ZTUNE<3:0>
を決定する。これにより、通常発振時において希望する
発振周期T2にクロック信号PHY0の発振周波数を設
定することができる。
【0075】以上説明したように、本発明の実施の形態
によれば、外部から発振回路の遅延値を測定することが
できる。また、外部からバイアス電流を調整し、発振回
路の発振周波数を調整することができる。したがって、
発振回路の発振周波数の調整を容易に行なうことができ
る。
【0076】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【0077】
【発明の効果】請求項1〜3に記載の半導体装置は、通
常時に自励発振する発振回路の発振周波数を、テストモ
ードにおいて容易に測定できる。
【0078】請求項4〜6に記載の半導体装置は、請求
項1に記載の半導体装置の奏する効果に加えて発振周波
数の調整を容易に行なうことができる。
【0079】請求項7〜9に記載の半導体装置は、請求
項1に記載の半導体装置の奏する効果に加えて、リフレ
ッシュ周期の確認を容易に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の適用例の1つである半導体装置1の
構成を示す概略ブロック図である。
【図2】 図1のセルフリフレッシュ回路16の第1の
実施例であるセルフリフレッシュ回路16aの構成を示
した回路図である。
【図3】 テストモードへの設定方法を説明するための
波形図である。
【図4】 半導体装置1のテスト動作を説明するための
動作波形図である。
【図5】 図1のセルフリフレッシュ回路16の第2の
実施の形態であるセルフリフレッシュ回路16bの構成
を示したブロック図である。
【図6】 図5におけるバイアス発生回路104の構成
を示した回路図である。
【図7】 図5におけるリングオシレータ106の構成
を示した回路図である。
【図8】 図7における反転遅延回路162の構成を示
した回路図である。
【図9】 図7におけるモニタ信号出力回路166の構
成を示した回路図である。
【図10】 図7におけるクロック出力回路164の構
成を示した回路図である。
【図11】 実施の形態2のクロック周波数を調整する
説明をするための動作波形図である。
【符号の説明】
1 半導体装置、2 入力端子群、4,6 データ端子
群、8 端子群、10電源端子、12 接地端子、14
テストモード検出回路、16,16a,16b セル
フリフレッシュ回路、22 制御クロック発生回路、2
4 列アドレスバッファ、25 行アドレスバッファ、
26 行デコーダ、28 列デコーダ、30 入出力制
御回路、32 メモリセルアレイ、42,106 リン
グオシレータ、44,108 カウンタ回路、46,1
62 反転遅延回路、48,50,52 スイッチ回
路、54,168 インバータ、102 リフレッシュ
検出回路、104 バイアス発生回路、120 電流調
整回路、122〜148,192〜196,202〜2
06,212〜214,230〜236 トランジス
タ、164 クロック出力回路、166 モニタ信号出
力回路、170〜174,224 トランスファーゲー
ト、180〜191,222,238,240,244
インバータ、220,242 NAND回路、AT
アクセストランジスタ、BL ビット線、C キャパシ
タ、IBL,IBU 入力バッファ、MC メモリセ
ル、OBL,OBU 出力バッファ、WL ワード線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/04 G01R 31/28 W H03K 3/354 B (72)発明者 清水 禎之 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2G132 AA09 AD08 AK15 AK21 5F038 AV06 CA06 CD09 DF05 DT02 DT03 DT15 EZ20 5L106 AA01 DD11 EE06 5M024 AA91 BB22 BB40 EE22 GG05 HH01 MM06 PP01 PP02 PP03 PP07

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 動作モードとして、通常モードとテスト
    モードとを有する半導体装置であって、 前記通常モードにおいて自励発振し、クロック信号を出
    力する発振回路を備え、 前記発振回路は、 第1の内部ノードに与えられた信号を遅延させ反転させ
    て第2の内部ノードに出力する反転遅延回路と、 前記通常モードにおいて前記第2の内部ノードの信号を
    前記第1の内部ノードに伝達し前記クロック信号を発生
    するループを形成し、前記テストモードにおいて外部か
    ら与えられるテスト入力信号を前記第1の内部ノードに
    伝達し、かつ、前記テスト入力信号に応じて前記第2の
    内部ノードに出力される信号をモニタ信号として外部に
    出力する経路切換部とを含み、 前記クロック信号に応じて動作を行なう内部回路をさら
    に備える、半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記経路切換部は、 前記通常モードにおいて導通し、前記第2の内部ノード
    と前記第1の内部ノードとを接続する第1のスイッチ回
    路と、 前記テストモードにおいて導通し、前記テスト入力信号
    が与えられるノードと前記第1の内部ノードとを接続す
    る第2のスイッチ回路と、 前記テストモードにおいて導通し、前記モニタ信号を出
    力するノードと前記第2の内部ノードとを接続する第2
    のスイッチ回路とを有する、請求項1に記載の半導体装
    置。
  3. 【請求項3】 前記第1〜第3のスイッチ回路は、 それぞれ第1〜第3のトランスファゲートを有し、 前記第2、第3のトランスファゲートは、前記テストモ
    ードにおいて活性化されるテスト信号に応じて導通し、 前記第1のトランスファゲートは、前記テスト信号と相
    補な信号に応じて導通する、請求項2に記載の半導体装
    置。
  4. 【請求項4】 前記反転遅延回路は、 各々がバイアス電圧に応じて遅延時間が変化する直列に
    接続された複数のインバータを有し、 前記発振回路は、 外部から与えられるチューニング信号に応じて前記バイ
    アス電圧を変化させるバイアス回路をさらに含む、請求
    項1に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記バイアス回路は、 前記第3の内部ノードと電源ノードとを結ぶ経路上に接
    続され、ゲートが第4の内部ノードに接続される第1の
    PチャネルMOSトランジスタと、 第3の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、ゲー
    トが前記第3の内部ノードに接続される第1のNチャネ
    ルMOSトランジスタと、 前記第4の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、
    ゲートに所定の基準電位を受ける第2のNチャネルMO
    Sトランジスタと、 前記電源ノードと前記第4の内部ノードとの間に接続さ
    れ、前記チューニング信号に応じて前記電源ノードから
    前記第4の内部ノードに向けて流れる電流を調整する調
    整部とを有し、 前記調整部は、 選択されると、前記電源ノードと前記第4の内部ノード
    との間に並列接続されゲートがともに前記第4の内部ノ
    ードに接続され、前記第1のPチャネルMOSトランジ
    スタとカレントミラーを形成する複数の第3のPチャネ
    ルMOSトランジスタと、 前記チューニング信号に応じて、選択する前記複数の第
    3のPチャネルMOSトランジスタの数を決定する選択
    部とを有する、請求項4に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記バイアス回路は、前記第3の内部ノ
    ードと電源ノードとを結ぶ経路上に接続され、ゲートが
    第4の内部ノードに接続される第1のPチャネルMOS
    トランジスタと、 第3の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、ゲー
    トが前記第3の内部ノードに接続される第1のNチャネ
    ルMOSトランジスタと、 前記第4の内部ノードと接地ノードとの間に接続され、
    ゲートに所定の基準電位を受ける第2のNチャネルMO
    Sトランジスタと、 前記電源ノードと前記第4の内部ノードとの間に接続さ
    れ、前記チューニング信号に応じて前記電源ノードから
    前記第4の内部ノードに向けて流れる電流を調整する調
    整部とを有し、 前記調整部は、 前記電源ノードと前記第4の内部ノードとの間に直列に
    接続される第3、第4のPチャネルMOSトランジスタ
    を有し、 前記第3のPチャネルMOSトランジスタは、前記チュ
    ーニング信号をゲートに受け、 前記第4のPチャネルMOSトランジスタのゲートは前
    記第4の内部ノードに接続される、請求項4に記載の半
    導体装置。
  7. 【請求項7】 前記内部回路は、 複数のダイナミック型のメモリセルを有するメモリセル
    アレイを含み、 前記クロック信号に応じて前記メモリセルアレイのリフ
    レッシュ周期を示す信号を出力する信号出力回路をさら
    に備える、請求項1に記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記メモリセルアレイは、アドレス信号
    に応じてアクセスされるメモリセルが特定され、 前記アドレス信号は、 複数の列アドレスビットと、 前記複数の列アドレスビットと一括して与えられる複数
    の行アドレスビットとを含み、 前記内部回路は、 前記複数の列アドレスビットに応じて前記メモリセルア
    レイの列選択を行なう列デコーダと、 前記複数の行アドレスビットに応じて前記メモリセルア
    レイの行選択を行なう行デコーダとをさらに含む、請求
    項7に記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記アドレス信号に応じて前記テストモ
    ードの検出を行なうテストモード検出回路をさらに備え
    る、請求項8に記載の半導体装置。
JP2001111264A 2001-04-10 2001-04-10 半導体装置 Withdrawn JP2002311091A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001111264A JP2002311091A (ja) 2001-04-10 2001-04-10 半導体装置
US09/972,243 US6493279B2 (en) 2001-04-10 2001-10-09 Semiconductor device capable of simple measurement of oscillation frequency

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001111264A JP2002311091A (ja) 2001-04-10 2001-04-10 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002311091A true JP2002311091A (ja) 2002-10-23

Family

ID=18962897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001111264A Withdrawn JP2002311091A (ja) 2001-04-10 2001-04-10 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6493279B2 (ja)
JP (1) JP2002311091A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015534673A (ja) * 2012-09-06 2015-12-03 シリコン イメージ,インコーポレイテッド リングオシレータのテストソリューション

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100450682B1 (ko) * 2002-08-29 2004-10-01 삼성전자주식회사 테스트 효율을 향상시키기 위한 내부회로를 가지는 반도체메모리 장치 및 그 테스트 방법
KR100735017B1 (ko) * 2005-08-22 2007-07-03 삼성전자주식회사 반도체 장치 및 이 장치의 테스트 방법
US8095104B2 (en) * 2006-06-30 2012-01-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device having the same
US7765445B2 (en) 2008-02-16 2010-07-27 International Business Machines Corporation Analog testing of ring oscillators using built-in self test apparatus
CN107945834A (zh) * 2017-12-14 2018-04-20 睿力集成电路有限公司 存储器测试装置及测试方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3710845B2 (ja) * 1995-06-21 2005-10-26 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
JPH10163451A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JP3311260B2 (ja) * 1996-12-17 2002-08-05 富士通株式会社 半導体装置及び半導体記憶装置
JPH11298306A (ja) * 1998-04-16 1999-10-29 Nec Corp 半導体装置および遅延設定方法
JP2000021198A (ja) * 1998-06-30 2000-01-21 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体集積回路装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015534673A (ja) * 2012-09-06 2015-12-03 シリコン イメージ,インコーポレイテッド リングオシレータのテストソリューション

Also Published As

Publication number Publication date
US6493279B2 (en) 2002-12-10
US20020145925A1 (en) 2002-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6470467B2 (en) Synchronous semiconductor memory device capable of performing operation test at high speed while reducing burden on tester
US6489819B1 (en) Clock synchronous semiconductor memory device allowing testing by low speed tester
US6324118B1 (en) Synchronous semiconductor memory device having improved operational frequency margin at data input/output
US7414914B2 (en) Semiconductor memory device
TW200937436A (en) Semiconductor memory device
JP2002042498A (ja) 半導体記憶装置、補助装置および試験装置
US6850459B2 (en) Synchronous semiconductor memory device allowing adjustment of data output timing
US6449208B1 (en) Semiconductor memory device capable of switching reference voltage for generating intermediate voltage
US6885606B2 (en) Synchronous semiconductor memory device with a plurality of memory banks and method of controlling the same
KR20160056756A (ko) 반도체 장치의 빌트 인 테스트 회로
US6034904A (en) Semiconductor memory device having selection circuit for arbitrarily setting a word line to selected state at high speed in test mode
US6789137B2 (en) Semiconductor memory device allowing reduction of I/O terminals
US7266033B2 (en) Semiconductor memory device
KR20030010466A (ko) 리프레시 동작 시의 소비 전력이 감소된 반도체 기억 장치
US7068083B2 (en) Synchronous output buffer, synchronous memory device and method of testing access time
JP2002311091A (ja) 半導体装置
KR100564131B1 (ko) 반도체 메모리 디바이스의 테스트 방법 및 반도체 메모리 디바이스
US6501693B2 (en) Semiconductor memory device allowing easy characteristics evaluation
US5949724A (en) Burn-in stress circuit for semiconductor memory device
JPH10132908A (ja) 半導体装置および半導体装置の内部機能識別方法
US6628559B2 (en) Semiconductor memory device having refreshing function
US20030128613A1 (en) Semiconductor memory device capable of measuring a period of an internally produced periodic signal
JP2003168300A (ja) 半導体装置
KR20030002503A (ko) 지연 동기 루프 테스트 모드를 갖는 반도체 메모리 장치
KR0172351B1 (ko) 셀프 번-인 테스트 회로를 가지는 반도체 메모리장치

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080701