JP2002308850A - 形態ｉｉの抗ヒスタミン性ピペリジン誘導体およびその製造方法 - Google Patents

形態ｉｉの抗ヒスタミン性ピペリジン誘導体およびその製造方法

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JP2002308850A JP2002055433A JP2002055433A JP2002308850A JP 2002308850 A JP2002308850 A JP 2002308850A JP 2002055433 A JP2002055433 A JP 2002055433A JP 2002055433 A JP2002055433 A JP 2002055433A JP 2002308850 A JP2002308850 A JP 2002308850A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 形態IIの抗ヒスタミン性ピペリジン誘導体を
提供する。 【解決手段】 １００〜１０５℃の明視化された融点
（毛細管）、１００℃以下での広い範囲の吸熱、示差走
査熱量測定法による測定での１２４〜１２６℃の補外法
による小さな吸熱ピーク（２ジュール／グラム）および
本質的に下に示されるようなＸ線粉末回折パターンをも
つ形態IIの水和された４−［４−［４−（ヒドロキシジ
フェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキ
シブチル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩。Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ ７.８ ４５ ６.４ ４４ ５.２ ８５ ４.９ ６０ ４.７ ８０ ４.４ ５５ ４.２ ５０ ４.１ ６０ ３.７ ７５ ３.６ ６０ ３.５ ５０

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は抗ヒスタミン剤、抗アレルギー剤
および気管支拡張剤として有用なピペリジン誘導体の無
水形態および水和形態、すなわちそれらの多形態および
擬似形態の新規製法に関する〔米国特許第4,254,129号
（1981年３月３日付）、米国特許第4,254,130号（1981
年３月３日付）および米国特許第4,285,958号（1981年
４月25日付）参照〕。
【０００２】
【発明の概要】本発明はその対応する水和された薬学的
に許容し得る酸付加塩を共沸蒸留に付すことからなる、
式
【化１】 〔式中、Ｒ1は水素またはヒドロキシを示し、Ｒ2は水素
を示し、またはＲ1とＲ2は一緒になってＲ1およびＲ2を
担持している炭素原子間に第２の結合を形成し、ｎは１
〜５の整数であり、Ｒ3は−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨまた
は−ＣＯＯアルキル（ここでアルキル部分は炭素原子１
〜６個を有し、直鎖または分枝鎖状である）であり、Ａ
のそれぞれは水素またはヒドロキシである〕で表される
ピペリジン誘導体の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩
および薬学的に許容し得る塩並びにその個々の光学異性
体を製造する方法を提供する。
【０００３】さらに、本発明はまたその対応する水和さ
れた薬学的に許容し得る酸付加塩を水最小化再結晶に付
すことからなる、式
【化２】 〔式中、Ｒ1は水素またはヒドロキシを示し、Ｒ2は水素
を示し、またはＲ1とＲ2は一緒になってＲ1およびＲ2を
担持している炭素原子間に第２の結合を形成し、ｎは１
〜５の整数であり、Ｒ3は−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨまた
は−ＣＯＯアルキル（ここでアルキル部分は炭素原子１
〜６個を有し、直鎖または分枝鎖状である）であり、Ａ
のそれぞれは水素またはヒドロキシである〕で表される
ピペリジン誘導体の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩
および薬学的に許容し得る塩並びにその個々の光学異性
体を製造する方法をも提供する。
【０００４】さらに、本発明はその対応する無水の薬学
的に許容し得る酸付加塩を水性再結晶に付すことからな
る、式
【化３】 〔式中、Ｒ1は水素またはヒドロキシを示し、Ｒ2は水素
を示し、またはＲ1とＲ2は一緒になってＲ1およびＲ2を
担持している炭素原子間に第２の結合を形成し、ｎは１
〜５の整数であり、Ｒ3は−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨまた
は−ＣＯＯアルキル（ここでアルキル部分は炭素原子１
〜６個を有し、直鎖または分枝鎖状である）であり、Ａ
のそれぞれは水素またはヒドロキシである〕で表される
ピペリジン誘導体の水和された薬学的に許容し得る酸付
加塩および薬学的に許容し得る塩並びにその個々の光学
異性体を製造する方法を提供する。
【０００５】さらに、本発明は以下、形態Ｉおよび形態
IIIと称する無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフ
ェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシ
ブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩の多形
態の製造方法および以下、形態IIおよび形態IVと称する
水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメ
チル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕
−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩の擬似形態の製
造方法を提供する。
【０００６】形態Ｉの多形態は約１９６〜２０１℃の明
視化された融点（毛細管）、示差走査熱量測定法による
測定で約１９５〜１９９℃の補外開始を伴う融解吸熱お
よび本質的に表１に示されるようなＸ線粉末回折パター
ン（ここでXRPDパターンはCoX線管線源を具備した粉末
回折計を使用して測定した）の各特性により同定され得
る。試料をCoKα1放射線で照射し、XRPDデータを５〜５
５゜２θにおいて集めた（強度はより好ましい配向によ
り徹底的に変化することがある）。
【０００７】
【表１】 表 １ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １１.８ ３０ ７.３ ３０ ６.３ ６５ ５.９ ３５ ５.０ ４５ ４.８ １００ ４.４ ４５ ３.９ ６０ ３.８ ７５ ３.７ ３０
【０００８】形態IIIの多形態は約１６６〜１７１℃の
明視化された融点（毛細管）、約９０℃以下での広範囲
の吸熱、示差走査熱量測定法による測定での補外法によ
る融解吸熱約１６６℃および本質的に表２に示されるよ
うなＸ線粉末回折パターン（ここでXRPDパターンはCoX
線管線源を具備した粉末回折計を使用して測定した）の
各特性により同定され得る。試料をCoKα1放射線で照射
し、XRPDデータを５〜５５°２θにおいて集めた（強度
はより好ましい配向により徹底的に変化することがあ
る）。
【０００９】
【表２】 表 ２ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ ９.０ ９５ ４.９ １００ ４.８ ３５ ４.６ ２５ ４.５ ２５ ３.７ ２５
【００１０】形態IIの擬似形態は約１００〜１０５℃の
明視化された融点（毛細管）、約１００℃以下での広範
囲の吸熱、示差走査熱量測定法による測定での約１２４
〜１２６℃の補外法による小さな吸熱ピーク（約２ジュ
ール／グラム）および本質的に表３に示されるようなＸ
線粉末回折パターン（ここでXRPDパターンはCoX線管線
源を具備した粉末回折計を使用して測定した）の各特性
により同定され得る。試料をCoKα1放射線で照射し、XR
PDデータを５〜５５゜２θにおいて集めた（強度はより
好ましい配向により徹底的に変化することがある）。
【００１１】
【表３】 表 ３ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ ７.８ ４５ ６.４ ４４ ５.２ ８５ ４.９ ６０ ４.７ ８０ ４.４ ５５ ４.２ ５０ ４.１ ６０ ３.７ ７５ ３.６ ６０ ３.５ ５０
【００１２】形態IVの擬似形態は約１１３〜１１８℃の
明視化された融点（毛細管）、約１００℃以下での２つ
の広範囲な重複する吸熱、示差走査熱量測定法による測
定での約１４６℃の補外法によるさらに別の吸熱および
本質的に表４に示されるようなＸ線粉末回折パターン
（ここでXRPDパターンはCoX線管線源を具備した粉末回
折計を使用して測定した）の各特性により同定され得
る。試料をCoKα1放射線で照射し、XRPDデータを５〜５
５゜２θにおいて集めた（強度はより好ましい配向によ
り徹底的に変化することがある）。
【００１３】
【表４】 表 ４ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １０.４ ６０ ７.０ ４５ ６.４ ５０ ５.３ １００ ５.２ ５５ ４.３ ７５ ４.１ ５０ ４.０ ４５ ３.８ ６０ ３.５ ５５
【００１４】
【発明の詳述】無水および水和状双方の式（Ｉ）および
式（II）の化合物の薬学的に許容し得る酸付加塩はいず
れか適当な無機酸または有機酸の塩である。適当な無機
酸としては例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸
を挙げることができる。適当な有機酸の例としてはカル
ボン酸例えば酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳
酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、シクラミン酸、アスコルビン
酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸およびジヒドロ
キシマレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、４−アミノ
安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、アントラニル酸、
ケイヒ酸、サリチル酸、４−アミノサリチル酸、２−フ
ェノキシ安息香酸、２−アセトキシ安息香酸、マンデル
酸、スルホン酸例えばメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸およびβ−ヒドロキシエタンスルホン酸を挙げるこ
とができる。
【００１５】本明細書中で使用される用語“水和物”は
式（Ｉ）または（II）の化合物と水との組み合わせを意
味し、ここでその水は水としてその分子状態を保持しか
つ式（Ｉ）または（II）の基質分子の結晶格子内に吸収
され、吸着されまたは含有されている。
【００１６】本明細書中で使用される用語“吸着され”
は、式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の水和さ
れた薬学的に許容し得る酸付加塩内の水分子がその固形
の式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の水和され
た薬学的に許容し得る酸付加塩の表面に分配されている
ような物理学的状態を意味する。
【００１７】本明細書中で使用される用語“吸収され”
は、式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の水和さ
れた薬学的に許容し得る酸付加塩内の水分子がその固形
の式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の水和され
た薬学的に許容し得る酸付加塩本体に分配されているよ
うな物理学的状態を意味する。
【００１８】式（Ｉ）および（II）の化合物の水和され
た薬学的に許容し得る酸付加塩は、式（Ｉ）または（I
I）の基質塩のモル当たり本質的には0.10〜５モルの水
からなる水和物である。
【００１９】本明細書中で使用される用語“共沸混合
物”は、液体の部分蒸発により生ずる蒸気がその液体と
同一の組成を有するという点で単一物質のようにふるま
う２種以上の物質の液体混合物を意味する。その一定の
沸騰混合物は同一物質の他の混合物の沸点と比較して最
高または最低のいずれか一方の沸点を示す。本明細書中
で使用される用語“共沸蒸留”は、初期混合物成分の１
種以上を有する共沸混合物を得るために分離すべき混合
物に１つの物質を加える蒸留の１つのタイプを意味す
る。こうして得られた共沸混合物は初期混合物の沸点と
は異なる沸点を有する。ここで使用する用語“共沸蒸
留”はまた共蒸留とも称する。
【００２０】本明細書中で使用される用語“水最小化再
結晶”は、無水溶剤対基質水和物の比率において存在す
る水の百分率が最小化される比率であり、それにより基
質の無水形態の沈殿が得られる再結晶を意味する。
【００２１】本明細書中で使用される用語“水性再結
晶”は、１）溶解させるに十分な量の水または水／有機
溶剤の混合物中に固形物質を溶解し次いで溶剤の蒸発に
よりその固形物質を回収するか、２）溶解させるには十
分でない最小量の水または水／有機溶剤の混合物で固形
物質を処理し、加熱して溶解させ次いで冷却して結晶化
させるか、または３）溶解させるに十分な量の水または
水／有機溶剤の混合物中に固形物質を溶解し次いで溶剤
を部分的に蒸発させて飽和溶液を得、結晶化させるかの
いずれかの方法を意味する。
【００２２】本明細書中で使用される用語“結晶温浸”
は、溶解させるに十分でない最小量の水または水／有機
溶剤の混合物で固形物質を処理し次いで加熱または周囲
温度での撹拌のいずれかにより所望の変換を遂行する方
法を意味する。
【００２３】本明細書中で使用される用語“反溶剤”
は、その物質の溶液に加えた場合にその物質を沈殿させ
るような該物質に対して良好でない溶剤を意味する。本
明細書中で使用される用語“適当な温度”は、溶解させ
次に反溶剤の添加後または共沸蒸留による共溶剤の除去
後のいずれかに所望の物質を沈殿させるに十分な温度を
意味する。
【００２４】式（Ｉ）および（II）のピぺリジン誘導体
の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩は対応する水和さ
れた酸付加塩から、それを共沸蒸留に付すことにより製
造するすることができる。
【００２５】例えば、最初に式（Ｉ）および（II）のピ
ぺリジン誘導体の適当に水和された薬学的に許容し得る
酸付加塩を、溶解させるに十分な量の適当な溶剤または
溶剤混合物中に溶解する。この溶剤の例としては水、Ｃ
1〜Ｃ5アルカノール例えばメタノール、エタノール等、
ケトン溶剤例えばアセトン、メチルエチルケトン等、脂
肪族エステル溶媒例えば酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸
メチル、ギ酸エチル、イソプロピルアセテート等および
これら溶剤の水性混合物例えばアセトン／水、メチルエ
チルケトン／水、水／アセトンおよび水／アセトン／酢
酸エチルを挙げることができる。次いで溶解させるのに
使用する同一溶剤または第２の適当な無水反溶剤をこの
溶液に加え、それを水および他の低沸点成分を共沸蒸留
除去するのに適当な沸点に加熱する。共沸蒸留用の適当
な無水反溶剤の例としてはケトン溶媒例えばアセトン、
メチルエチルケトン等、脂肪族エステル溶剤例えば酢酸
エチル、酢酸メチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、イソプ
ロピルアセテート等、Ｃ5〜Ｃ8脂肪族溶剤例えばペンタ
ン、ヘキサン等、脂肪族ニトリル例えばアセトニトリル
およびこれら溶剤の混合物例えばアセトン／酢酸エチル
等を挙げることができる。水と溶剤の共沸混合物をその
共沸混合物が完全に除去されていることを示す温度変化
が得られるまで蒸留により除去する。反応混合物を冷却
し、対応する式（Ｉ）および（II）のピぺリジン誘導体
の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩を例えばろ過によ
り反応帯から回収する。
【００２６】さらに、式（Ｉ）および（II）のピぺリジ
ン誘導体の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩は対応す
る水和された酸付加塩から、それを水最小化再結晶に付
すことにより製造することができる。
【００２７】例えば、式（Ｉ）および（II）のピぺリジ
ン誘導体の適当に水和された薬学的に許容し得る酸付加
塩を、溶解させるのに十分な量の適当な無水溶剤または
溶剤混合物中に溶解し加熱還流する。この溶剤の例とし
ては水、Ｃ1〜Ｃ5アルカノール例えばメタノール、エタ
ノール等、ケトン溶剤例えばアセトン、メチルエチルケ
トン等、脂肪族エステル溶剤例えば酢酸エチル、酢酸メ
チル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、イソプロピルアセテー
ト等およびこれら溶剤の水性混合物例えばアセトン／
水、メチルエチルケトン／水、水／アセトンおよび水／
アセトン／酢酸エチルを挙げることができる。次いで溶
解させるのに使用する同一溶剤または第２の適当な無水
反溶剤を、式（Ｉ）および（II）のピぺリジン誘導体の
無水の薬学的に許容し得る酸付加塩の沈殿を生起させる
に十分な量で加える。適当な無水反溶剤の例としてはケ
トン溶剤例えばアセトン、メチルエチルケトン等、脂肪
族エステル溶剤例えば酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸メ
チル、ギ酸エチル、イソプロピルアセテート等、ケトン
溶剤と脂肪族溶剤との混合物例えばアセトン／酢酸エチ
ル等、Ｃ5〜Ｃ8脂肪族溶剤例えばペンタン、ヘキサン
等、脂肪族ニトリル例えばアセトニトリルおよびこれら
溶剤の混合物例えばアセトン／酢酸エチル等並びに水と
ケトン溶剤との混合物例えばアセトン／水等および水、
ケトン溶剤および脂肪族エステル溶剤の混合物例えばア
セトン／水／酢酸エチルを挙げることができる。この反
応混合物を冷却し、対応する式（Ｉ）および（II）のピ
ぺリジン誘導体の無水の薬学的に許容し得る酸付加塩を
例えばろ過により反応帯から回収する。
【００２８】無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフ
ェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシ
ブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩の多形
態（形態ＩおよびIII）は以下に詳述する多数の方法に
より製造することができる。
【００２９】形態IIIから形態Ｉへ 例えば無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニル
メチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）
は、無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメ
チル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕
−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態III）から
それ（形態III）を前述の結晶温浸に付すことにより製
造することができる。
【００３０】形態IIから形態IIIへ さらに無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニル
メチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態III）
は、水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニ
ルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態II）
からそれ（形態II）を前述の水最小化再結晶に付すこと
により製造することができる。
【００３１】形態IIから形態Ｉへ さらに無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニル
メチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）
は、水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニ
ルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態II）
からそれ（形態II）を前述の水最小化再結晶に付すかま
たはそれ（形態II）を共沸蒸留に付すことにより製造す
ることができる。
【００３２】形態IVから形態Ｉへ さらに無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニル
メチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）
は、水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニ
ルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態IV）
からそれ（形態IV）を前述の水最小化再結晶または共沸
蒸留に付すことにより製造することができる。
【００３３】式（Ｉ）のピペリジン誘導体の水和された
薬学的に許容し得る酸付加塩はＲ3が−ＣＯＯアルキル
である式（II）の対応する化合物からそれを適当な溶媒
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ルもしくはｎ−ブタノール、それらの水性混合物または
それらの塩基性溶液中で適当な還元剤例えば水素化ホウ
素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化シアノホ
ウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素テトラメチルアンモ
ニウムを使用して約０℃から溶媒の還流温度において還
元に付すことにより製造することができる。その反応時
間は約1/2時間〜８時間である。急冷し次いで例えば塩
酸のような適当な酸で酸性化した後に、式（Ｉ）のピペ
リジン誘導体の水和された薬学的に許容し得る酸付加塩
を結晶化およびろ過により反応帯から回収する。
【００３４】さらに式（Ｉ）および（II）のピペリジン
誘導体の水和された薬学的に許容し得る酸付加塩は、式
（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の対応する無水
の薬学的に許容し得る酸付加塩からそれらを水性再結晶
に付すことにより製造することができる。
【００３５】例えば式（Ｉ）および（II）のピペリジン
誘導体の適当な無水の薬学的に許容し得る酸付加塩を、
溶解させるには十分でない最小量の水または水／有機溶
媒の適当な混合物で処理し次いで加熱還流する。反応混
合物を冷却し、式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導
体の対応する水和された薬学的に許容し得る酸付加塩を
例えばろ過により反応帯から回収する。別法として、式
（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の適当な無水の
薬学的に許容し得る酸付加塩を、溶解させるに十分な量
の水または水／有機溶媒の適当な混合物で処理し、次い
で式（Ｉ）および（II）のピペリジン誘導体の水和され
た薬学的に許容し得る酸付加塩の結晶化を生起させる量
までその水または水／有機溶媒の混合物を部分的または
完全に蒸発させる。前記再結晶用に適当な溶剤は水、ア
セトン／水、エタノール／水、メチルエチルケトン／水
性メタノール、メチルエチルケトン／水等である。
【００３６】水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシ
ジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロ
キシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩の
擬似形態（形態IIおよびIV）は以下に詳述する多数の方
法により製造することができる。
【００３７】エチルエステル／ケトンから形態IIへ 水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメ
チル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕
−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態II）は、
４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル塩酸塩または遊離塩基から、約
−２０℃〜５０℃で１〜４５分間かけて水を迅速に加え
る以外はＲ3が−ＣＯＯアルキルである式（II）の対応
する化合物からの式（Ｉ）のピペリジン誘導体の水和さ
れた薬学的に許容し得る酸付加塩の一般的製法に関して
前述したようにして、水和された４−〔４−〔４−（ヒ
ドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１
−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸
塩酸塩（形態II）を沈殿させることにより製造すること
ができる。
【００３８】エチルエステル／ケトンから形態IVへ 水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメ
チル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕
−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態IV）は、
４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル塩酸塩または遊離塩基から、場
合により種晶を入れながら約０℃〜５０℃で約３０分〜
２４時間かけて水をゆっくり加える以外はＲ3が−ＣＯ
Ｏアルキルである式（II）の対応する化合物からの式
（Ｉ）のピペリジン誘導体の水和された薬学的に許容し
得る酸付加塩の一般的製法に関して前述したようにし
て、水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニ
ルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチ
ル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態IV）
を沈殿させることにより製造することができる。
【００３９】形態Ｉから形態IIへ 水和された４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメ
チル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕
−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態II）は、
無水の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチ
ル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−
α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）を前述
の水性再結晶に付すことにより製造することができる。
【００４０】本発明で使用する出発物質は当業者ならば
容易に入手することができる。例えば、４−〔４−〔４
−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニ
ル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン
酢酸エチル塩酸塩は1981年３月３日付け米国特許第4,25
4,129号に記載されている。
【００４１】以下に実施例により式（Ｉ）および（II）
のピペリジン誘導体の無水および水和された薬学的に許
容し得る酸付加塩、それらの多形態および擬似形態の代
表的な製造方法を提供する。これらの実施例は単に説明
のためであって、決して本発明の範囲を限定するもので
はないことを理解されたい。実施例中で使用する用語
“g”はグラムを意味し、“mol”はモルを意味し、“mm
ol”はミリモルを意味し、“mL”はミリリットルを意味
し、“bp”は沸点を意味し、“mp”は融点を意味し、
“℃”は摂氏の度を意味し、“mmHg”は水銀のミリメー
トルを意味し、“μL”はミクロリットルを意味し、
“μg”はミクログラムを意味しそして“μM”はミクロ
モルを意味する。
【００４２】示差走査熱量測定による分析は開いたアル
ミニウムパンを具備したTA2910DSCを使用して実施し
た。試料は５０mL／分の窒素パージで５℃／分の速度で
２４０℃に加熱した。
【００４３】Ｘ線粉末回折分析は次のようにして実施し
た。試料をXRPDパターン測定のために石英（０散乱）の
試料ホールダーに入れた。CoX線管源、第１ビームモノ
クロメーターおよび位置検出器（PSD）を具備した粉末
回折計を使用してXRPDパターンを測定した。入射ビーム
を１゜発散スリットを使用して平行にした。PSD上の活
性面積は約５゜２θの範囲にあった。そのＸ線管源を３
５kVおよび３０mAに設定し、CoKα1放射線を試料に照射
した。XRPDデータを５〜５５゜２θにおいて０.２５゜
２θ／分の速度および０.０２゜２θのステップ幅で集
めた。内目盛り器を添加せずにXRPDパターンを測定し
た。
【００４４】最も顕著な特徴に関するピークの位置およ
び強度をダブル−デリバティブピーク（double-derivat
ive peak）採取法を使用して測定した。２０％より大き
いＩ／Ｉ0を有するＸ線ピークが記録された。カットオ
フは任意に選択した。強度は最も近い５％に集められ
る。ある種のピークはクリスタライト形態学上の変化に
より生起される好ましい配置に不安定であるらしい。こ
のためにＩ／Ｉ0値に大きな変化が生じる。
【００４５】実施例１−形態IIの製造 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩 方法Ａ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル塩酸塩（１０１.９２ｇ，０.１
８０７mol）およびメタノール（５１０mL）を混合し次
いで撹拌する。５０％水酸化ナトリウム（７２.２７
ｇ，０.９０３mol）を迅速に加え、水（６１mL）で洗浄
する。２時間加熱還流し、そのまま３５℃に冷却させ、
水素化ホウ素ナトリウム（３.４２ｇ，０.０９０３mo
l）で処理する。水（１００mL）を加え、３５℃で１０
時間保持する。３７％塩酸（５３.０ｇ）を加えてｐＨ
を１１.５に調整する。アセトン（２６.５mL）および水
（１０２mL）を加える。３５℃で２時間保持し、３７％
塩酸（４４.６９ｇ）でｐＨ２.５に調整する。水（４０
８mL）で希釈し、−１５℃に冷却し、１.５時間加熱し
次いで真空ろ過により沈殿を集める。フィルターケーク
を脱イオン水（３×１００mL）で洗浄し、真空乾燥して
４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（９７.１０ｇ）を
得る。
【００４６】方法Ｂ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル塩酸塩（６０.０１ｇ，０.１０
６mol）を１Ｌ三つ口丸底フラスコ中に入れ、そのフラ
スコに機械的撹拌機、クライゼンヘッド、温度計および
トップに窒素バブラーのある還流冷却器を付ける。メタ
ノール（３００mL）を加え次いで撹拌機を回す。スラリ
ーを水（６０mL）で希釈し、１５〜２０分かけて５２〜
５４℃に加熱する。２時間５２℃に保持し次いで５０％
水酸化ナトリウム（４２.５４ｇ，０.５３２mol）を加
える。約１時間４５分の間７３℃に加熱し、水浴を用い
て３５℃以下に冷却し次いで水素化ホウ素ナトリウム
（２.０２ｇ，０.０５３４mol）を加える。一夜３５℃
で撹拌し、アセトン（１５.５mL）で処理し次いで３５
℃で２時間撹拌する。混合物を２８％塩酸（７５.７２
ｇ）で酸性化してｐＨ１.８５にし、水（２８２mL）で
希釈し、約３０分撹拌し次いで約２時間かけて−１５℃
に冷却する。固形物をろ過し、水（２×７５mL）および
酢酸エチル（２×７５mL）で洗浄する。固形物を真空乾
燥し次いで２日間放置して４−〔４−〔４−（ヒドロキ
シジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒド
ロキシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩
水和物（形態II）（５７.９７ｇ，９１.５％）を微細粉
末として得る。
【００４７】方法Ｃ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル（５６.１２ｇ，０.１０６４mo
l）を１Ｌ三つ口丸底フラスコ中に入れ、そのフラスコ
に機械的撹拌機、クライゼンヘッド、温度計およびトッ
プに窒素バブラーのある還流冷却器を付ける。メタノー
ル（３００mL）を加え次いで撹拌機を回す。スラリーを
水（６０mL）で希釈し、Therm-0-Watchにより制御され
る加熱マントルを使用して加熱還流する。混合物が約３
５℃に達した時、５０％水酸化ナトリウム（３４.０５
ｇ，０.４２５６mol）で処理し次いで水（４２mL）です
すぐ。２時間１５分還流下で撹拌し、１時間かけて３５
℃に冷却し次いで水素化ホウ素ナトリウム（２.０２
ｇ，０.０５３４mol）で処理する。７.５時間撹拌し次
いで撹拌しないで１.７５日間室温に放置する。混合物
を３５℃に加温し、アセトン（１５.５mL，０.２１mo
l）で急冷し次いで２時間撹拌する。水（６０mL）を加
え、３２％塩酸（６５.２２ｇ）でｐＨ２.５に調整す
る。４０℃に冷却し、そのｐＨプローブを水（２５mL）
ですすぐ。約３０分かけて水（１９２mL）を加え、温度
を１０分間３３℃に保持し次いで数個の種結晶を加え
る。スラリーを約４５分かけて−１２℃に冷却し、ろ過
により固形物を単離する。水（２×１００mL）次に酢酸
エチル（１００mL，あらかじめ約−１０℃に冷却）で洗
浄する。一夜（１mmHg，５０℃）真空乾燥して４−〔４
−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリ
ジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチル
ベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）（５８.８６ｇ，
９８％）を白色固形物として得る。
【００４８】実施例２−形態IVの製造 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態IV） ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−オキソブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸エチル（５６.１２ｇ，０.１０６４mo
l）を１Ｌ三つ口丸底フラスコ中に入れ、そのフラスコ
に機械的撹拌機、クライゼンヘッド、温度計およびトッ
プに窒素バブラーのある還流冷却器を付ける。メタノー
ル（３００mL）を加え次いで撹拌機を回す。スラリーを
水（６０mL）で希釈し、Therm-0-Watchにより制御され
る加熱マントルを使用して加熱還流する。混合物が約３
５℃に達した時、５０％水酸化ナトリウム（３４.０５
ｇ，０.４２５６mol）で処理し次いで水（４２mL）です
すぐ。２時間１５分還流下で撹拌し、１時間かけて３５
℃に冷却し次いで水素化ホウ素ナトリウム（２.０２
ｇ，０.０５３４mol）で処理する。７.５時間撹拌し次
いで撹拌しないで１.７５日間室温に放置する。混合物
を３５℃に加温し、アセトン（１５.５mL，０.２１mo
l）で急冷し次いで２時間撹拌する。水（６０mL）を加
え、３２％塩酸（６５.２２ｇ）でｐＨを２.５に調整す
る。４０℃に冷却し、そのｐＨプローブを水（２５mL）
ですすぐ。温度を１０分間３３℃に保持し次いで数個の
種結晶を加え次いで水（１９２mL）を３５℃で約４時間
かけて加える。スラリーを約４５分かけて−１２℃に冷
却し、ろ過により固形物を単離する（５８６.２ｇ）。
水（２×１００mL）次に酢酸エチル（１００mL，あらか
じめ約−１０℃に冷却）で洗浄する。一夜（１mmHg，５
０℃)真空乾燥して４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフ
ェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシ
ブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物
（形態IV）を得る。mp１１５〜１１６℃（分解）。
【００４９】XRPD：表５
【表５】 表 ５ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １０.３８ ６０ ６.９７ ４５ ６.４１ ５０ ５.５５ ３０ ５.３２ １００ ５.２３ ５５ ５.１１ ３５ ４.９８ ２５ ４.６４ ３０ ４.３２ ３５ ４.２８ ７５ ４.１２ ５０ ４.０２ ４５ ３.８３ ６０ ３.６５ ２０ ３.５１ ５５ ３.４６ ２５ ２.８３ ２０
【００５０】実施例３−形態IIの形態Ｉへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ） ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）(２０.０
ｇ，０.０３５５mol）を脱イオン水（２ｇ）で処理し、
撹拌下で数分かけてアセトン（６０mL）を少しずつ加え
る。フィルター助剤でろ過し、フィルターケークをアセ
トン（３０mL）で洗浄する。フィルターケークをアセト
ン（２２mL）で洗浄し、ろ液を還流し次いで混合物を還
流下に保持しながら酢酸エチル（３２mL，１５分かけ
て）を徐々に加える。１０分間還流し、さらに別の酢酸
エチル（２３mL，１０分かけて）を徐々に加えさらに１
５分還流する。さらに別の酢酸エチル（６０mL，５〜１
０分かけて）を加え、還流を１５分続ける。氷浴中で約
８℃に冷却し、固形物をろ過し次いで酢酸エチル（８５
mL）で洗浄する。５５℃で１.５時間真空乾燥して標記
化合物（１８.１６ｇ，９５％）を得る。
【００５１】実施例４−形態IIの形態Ｉへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩 方法Ａ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）（５.０
０ｇ，０.００８３mol）をメチルエチルケトン（１３０
mL）で処理する。水（０.４mL）を徐々に加え、フィル
ター助剤でろ過し、フィルターケークをメチルエチルケ
トン（２０mL）で洗浄する。加熱還流し、溶媒75mLを留
去し、−１５℃に冷却し次いで真空ろ過により集める。
メチルエチルケトン（２×１０mL）で洗浄し、６０℃で
真空乾燥して標記化合物（４.３３ｇ，９７％）を得
る。mp１９６〜１９８℃。
【００５２】方法Ｂ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）(１.４
ｇ）をアセトン（６０mL）で処理し、加熱還流する。容
量を約３５mLに減少して、沸騰する全ての水を共沸混合
物（８８／１２：アセトン／水）として除去する。溶液
を冷却し、標記化合物を結晶性固形物として集める。
【００５３】方法Ｃ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）（５３.
８８ｇ，０.１００mol）を混合し、水（４.７９ｇ）お
よびメチルエチルケトン（２４０mL）を加える。固形物
がスラリー状になるまで撹拌し、さらに別のメチルエチ
ルケトン（１Ｌ）を加える。０.５時間撹拌し、フィル
ター助剤のパッドでろ過し、フィルターケークをメチル
エチルケトン（１００mL）で洗浄し、ろ液および洗液を
温度計、機械的撹拌機および蒸留ヘッドで具備した２Ｌ
の三つ口フラスコに移す。総量７２mLのメチルエチルケ
トンを留去し、冷却し次いで１時間かけて４０℃に撹拌
する。−１５℃に冷却し、１０分間保持する。固形物を
真空ろ過により集め、フィルターケークをメチルエチル
ケトン（２×６５mL）で洗浄し次いで一夜５５℃で真空
乾燥して標記化合物（５２.７６ｇ，９７.９％）を得
る。mp１９７.５〜２００℃。
【００５４】方法Ｄ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）（４０.
０ｇ，０.０６９６mol，９３.６％純度で存在する水は
０.８９ｇと分析され、そして３５.１ｇ，０.０５７５m
ol，８８.０％純度で存在する水は２.４７ｇと分析され
る）を水（８.３０ｇ，この量は水和された塩中の水を
考慮して、存在する水の重量を４−〔４−〔４−（ヒド
ロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−
ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩
酸塩水和物の無水重量の１７％にするのに計算される量
である）で処理する。メチルエチルケトン（約５００m
L）を加え、固形物の大部分が溶解するまで撹拌する。
さらに別のメチルエチルケトン（７００mL）を約１０分
かけて少しずつ加え、１／２時間撹拌し続ける。フィル
ター助剤の薄いパッドでろ過し、フィルターケークおよ
びフラスコをさらに別のメチルエチルケトン（１００m
L）で洗浄し次いで温度計、機械的撹拌機、加熱マント
ル、１２−プレートOldershaw（真空で覆われた）蒸留
カラムおよび大ざっぱなやり方で還流比を調節すること
ができる蒸留ヘッドを具備した沸騰フラスコに移し、さ
らに別のメチルエチルケトン（１００mL）で洗浄する。
溶媒４５０mLを留去し、−１５℃に冷却し次いで固形物
をろ過する。メチルエチルケトン(２×１００mL）で洗
浄し次いで乾燥して標記化合物（６８.３ｇ，９９.９
％）を得る。mp１９７〜１９９℃。
【００５５】方法Ｅ メチルエチルケトン（４mL）を煮沸し、４−〔４−〔４
−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニ
ル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチルベン
ゼン酢酸塩酸塩（５００mg）を加える。トップ層を傾写
し、水性層にメチルエチルケトン（３mL）を加える。そ
の溶液を温度が７９℃に達するまで煮沸し、容量を２５
％減少させ、加熱を外し次いでアルミニウムホイルで覆
う。溶液を冷却させ、得られた結晶をろ過し次いで乾燥
して標記化合物を得る。
【００５６】実施例５−形態Ｉの形態IIへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物 方法Ａ ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）（２.０ｇ）を
エタノール（４mL）および脱イオン水（２０mL）で処理
する。８０℃で加熱して溶液を得、次いで室温で２３時
間撹拌する。得られたスラリーをろ過し、水（２×１０
mL）で洗浄し次いで一夜３５℃で真空乾燥して標記化合
物（１.８８ｇ）を得る。mp１００〜１０５℃。
【００５７】XRPD：表６
【表６】 表 ６ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １１.４１ ２０ ７.９８ ２０ ７.８３ ４５ ６.５８ ４５ ６.４２ ６０ ５.６６ ２０ ５.５２ ４５ ５.３９ ３０ ５.２３ ６５ ５.１４ ４５ ４.８６ ６５ ４.７２ １００ ４.４５ ６５ ４.４０ ４５ ４.３２ ４５ ４.１８ ４５ ４.０６ ６５ ４.０２ ５５ ３.８５ ２５ ３.７９ ７５ ３.７４ ９５ ３.６１ ８０ ３.５６ ２５ ３.４７ ６５ ３.４１ ２０ ２.７４ ２０
【００５８】方法Ｂ 水（３５.５mL）、メタノール（２６.３mL）および塩化
ナトリウム（２.５９ｇ）を混合する。４−〔４−〔４
−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニ
ル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチルベン
ゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ）（４.７７ｇ）を加える。溶
解するまで蒸気浴上で加熱還流し、−１０℃に冷却す
る。得られた固形物をろ過し、水（２×２５mL）で洗浄
し次いで一夜真空乾燥して標記化合物（４.８０ｇ）を
得る。
【００５９】実施例６−形態IIの形態IIIへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態III） ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態II）（５５.
５６ｇ，０.０９２９mol，水１０％を有する）を圧力瓶
中に水（２.９６ｇ）およびアセトン（３８.１ｇ）とと
もに加える。その瓶をしっかり密閉し、約８０℃に加熱
する。約５０℃に冷却し、粗半融ガラス漏斗中でろ過助
剤に通してろ過し次いでアセトン（９０ｇ）で希釈す
る。機械的撹拌機、温度計および還流冷却器を具備した
１Ｌフラスコに移す。混合物を加熱還流し、そのままで
冷却させ次いで週末にかけて撹拌する。−１５℃に冷却
し、粗半融ガラス漏斗上でろ過し、酢酸エチル（２×５
０mL）で洗浄し次いで５０℃で真空乾燥する。得られた
大部分の固形物（４５.２４ｇ）を機械的撹拌機、温度
計および還流冷却器を具備した５００mL三つ口フラスコ
中に入れる。アセトン（２４０mL）および水（４.８２
ｇ）を加え、混合物を一夜還流する。スラリーを３５℃
に冷却させ、氷水浴中に入れ次いで５℃以下に冷却す
る。固形物を粗半融ガラス漏斗上でろ過し、酢酸エチル
（５０mL）で洗浄し、５０℃で数時間真空乾燥して標記
化合物（４３.８３ｇ，９７％）を白色結晶性粉末とし
て得る。mp１６６.５〜１７０.５℃。
【００６０】XRPD：表７
【表７】 表 ７ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ ８.９５ ９５ ４.９９ ２０ ４.８８ １００ ４.７５ ３５ ４.５７ ２５ ４.４７ ２５ ４.４６ ２０ ３.６７ ２０ ３.６５ ２５
【００６１】実施例７−形態IIIの形態Ｉへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ） ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態III）（酢酸エチル
湿潤ケークとして４０.０ｇ，乾燥基準で２７.９ｇ）を
機械的撹拌機、温度計および還流冷却器を具備した１Ｌ
三つ口フラスコ中に入れる。アセトン（２４０mL）を加
え、混合物を約２０時間加熱還流する。スラリーを−１
５℃に冷却し、粗半融ガラスフリット漏斗上でのろ過に
より固形物を単離する。酢酸エチル（５０mL）で洗浄し
次いで一夜真空乾燥して標記化合物（２６.１ｇ，９３.
７％）を得る。mp１９７.５〜１９９.５℃。
【００６２】XRPD：表８
【表８】 表 ８ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １１.７５ ３５ ７.２３ ３５ ６.２４ ６０ ５.８９ ４０ ５.０２ ２０ ４.９４ ３０ ４.８３ １００ ４.４４ ３０ ３.９３ ７５ ３.８３ ２０ ３.７７ ８５ ３.７１ ２５ ３.６２ ３０ ３.３２ ２５ ３.３１ ２０
【００６３】実施例８−形態IVの形態Ｉへの変換 ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩（形態Ｉ） ４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１
−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−
ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態IV）（５４.
３５ｇ，０.０９７０mol，水４％を有する）を圧力瓶中
に水（４.１６ｇ）およびアセトン（３８.１ｇ）ととも
に入れる。その瓶をしっかり密閉し、約８０℃に加熱す
る。６０℃以下に冷却し、粗半融ガラス漏斗中でろ過助
剤に通してろ過し次いでろ過ケークをアセトン（３２.
４ｇ）ですすぐ。機械的撹拌機、温度計および還流冷却
器を具備した１Ｌ三つ口フラスコ中に、少量の形態Ｉの
結晶を含有させてアセトン（２１５ｇ）を入れ次いで加
熱還流する。その還流アセトンに約１０分かけて４−
〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピ
ペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメ
チルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態IV）（４７.６５
ｇ）のアセトン／水の溶液の一部分を加える。酢酸エチ
ル（１５７.５ｇ）を４５分かけて徐々に加え次いで４
−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−
ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジ
メチルベンゼン酢酸塩酸塩水和物（形態IV）のアセトン
／水の溶液の残りの部分を加え、約２０mLのアセトンで
すすぐ。さらに別の酢酸エチル（１５７.５ｇ）を４５
分〜１時間かけて加え、スラリーを還流下に保持する。
１５分撹拌し、−１５℃に冷却し、白色固形物を３５０
mL粗半融ガラス漏斗上で真空ろ過する。固形物を酢酸エ
チル（２×５０mL）で洗浄し次いで一夜真空乾燥して標
記化合物（５０.３６ｇ，９７％）を得る。mp１９８〜
１９９.５℃。
【００６４】XRPD：表９
【表９】 表 ９ Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １４.８９ ２０ １１.８５ ２０ ７.３０ ２０ ６.２８ ７０ ５.９１ ２５ ５.５５ ２０ ５.０５ ２５ ４.９６ ５５ ４.８５ １００ ４.５７ ４５ ４.４５ ５５ ３.９４ ４５ ３.８９ ２０ ３.８４ ２０ ３.７８ ６０ ３.７２ ３５ ３.６３ ２０ ３.０７ ２０ ３.０４ ２０ ２.４５ ２０
【００６５】本発明の多形態および擬似形態の４−〔４
−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリ
ジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチル
ベンゼン酢酸塩酸塩化合物は抗ヒスタミン剤、抗アレル
ギー剤および気管支拡張剤として有用であり、単独でま
たは適当な製薬担体とともに投与され、固形物または液
体の形態例えば錠剤、カプセル剤、粉剤、溶液、懸濁液
または乳液であることができる。
【００６６】本発明の多形態および擬似形態の４−〔４
−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリ
ジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチル
ベンゼン酢酸塩酸塩化合物は経口的に、非経口的に例え
ば皮下、静脈内、筋肉内、腹腔内投与により、噴霧形態
または乾燥粉末形態で本発明化合物の小粒子を含有する
エーロゾルスプレーでの鼻内滴下または例えば鼻、喉お
よび気管の粘膜のような粘膜への適用により投与するこ
とができる。
【００６７】多形態および擬似形態の４−〔４−〔４−
（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕
−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン
酢酸塩酸塩化合物の投与量は患者および投与方法により
変わるが、いずれかの有効な量であることができる。多
形態および擬似形態の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジ
フェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキ
シブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩化合
物の投与量は所望の効果を得るために１日当たり患者の
体重１kgにつき約０.０１〜２０mgの有効量を単位投与
量に提供するような広範囲において変更させてもよい。
例えば抗ヒスタミン剤、抗アレルギー剤および気管支拡
張剤の所望の効果は、単位剤形例えば本発明の多形態お
よびプソイド形態の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフ
ェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシ
ブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩化合物
１〜５００mgを含有する錠剤を１日当たり１〜４回服用
することにより得ることができる。
【００６８】固形の単位剤形は慣用の型であることがで
きる。すなわち、固形形態は本発明の多形態および擬似
形態の４−〔４−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチ
ル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−
α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩化合物並びに担体
例えば潤滑剤および不活性充填剤例えばラクトース、ス
クロースまたはコーンスターチを含有する通常のゼラチ
ン型であるカプセル剤であることができる。別の態様で
は多形態および擬似形態の４−〔４−〔４−（ヒドロキ
シジフェニルメチル）−１−ピペリジニル〕−１−ヒド
ロキシブチル〕−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩
化合物を慣用の錠剤基剤例えばラクトース、スクロー
ス、コーンスターチもしくはゼラチン、崩壊剤例えばコ
ーンスターチ、馬鈴薯デンプンもしくはアルギン酸また
は潤滑剤例えばステアリン酸もしくはステアリン酸マグ
ネシウムを用いて錠剤化する。
【００６９】本発明の多形態および擬似形態の４−〔４
−〔４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリ
ジニル〕−１−ヒドロキシブチル〕−α,α−ジメチル
ベンゼン酢酸塩酸塩化合物はまた、界面活性剤および他
の製薬的に許容し得る補助剤を添加するかまた添加しな
いで、例えば水および油のような滅菌性液体である製薬
担体とともに生理学的に許容し得る希釈剤中に溶解また
は懸濁した該化合物の溶液または懸濁液による注射投与
で投与してもよい。油の例としては石油、動物、植物ま
たは合成による油例えば落花生油、大豆油もしくは鉱油
を挙げることができる。一般に、水、塩水、水性デキス
トロースないし類似の糖溶液およびグリコール類例えば
プロピレングリコールもしくはポリエチレングリコール
が特に注射液用に好ましい液体担体である。
【００７０】エーロゾルとして使用するには、溶液また
は懸濁液状態の本発明化合物を例えばネブライザーまた
はアトマイザーのような非加圧形態で投与され得るよう
な通常の補助剤とともに適当な噴射剤例えばプロパン、
ブタンまたはイソブタンのような炭化水素噴射剤と一緒
にして加圧エーロゾル容器中に包装することができる。
【００７１】本明細書で使用する用語“患者”は温血動
物、鳥類、哺乳類例えばヒト、ネコ、イヌ、ウマ、ヒツ
ジ、ウシ、ブタ、ラム、ラット、マウスおよびモルモッ
トを意味するものと解釈する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マツカーテイ，フレデリツク・ジエイ アメリカ合衆国オハイオ州45243．シンシ ナテイ．ジユーニパービユーレイン7141 (72)発明者 トリツプ，スーザン・アイ アメリカ合衆国ミズーリ州64086．リーズ サミツト．ノースイーストヨークシヤード ライブ1525 (72)発明者 デウイツト，ジル・イー アメリカ合衆国ミズーリ州64113．カンザ スシテイー．ウエストシツクステイーステ ラス608 Ｆターム(参考） 4C054 AA02 CC07 DD01 EE01 FF05 FF12 4C086 AA01 AA03 AA04 BC21 GA13 GA15 MA01 MA04 NA14 ZA61 ZB13 ZC13

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 １００〜１０５℃の明視化された融点
    （毛細管）、１００℃以下での広い範囲の吸熱、示差走
    査熱量測定法による測定での１２４〜１２６℃の補外法
    による小さな吸熱ピーク（２ジュール／グラム）および
    本質的に下に示されるようなＸ線粉末回折パターンをも
    つ形態IIの水和された４−［４−［４−（ヒドロキシジ
    フェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキ
    シブチル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩。 Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ ７.８ ４５ ６.４ ４４ ５.２ ８５ ４.９ ６０ ４.７ ８０ ４.４ ５５ ４.２ ５０ ４.１ ６０ ３.７ ７５ ３.６ ６０ ３.５ ５０
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の有効量の形態IIの水和
    された４−［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメチ
    ル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］−
    α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩を含有する抗アレ
    ルギー剤。
  3. 【請求項３】 ａ）４−［４−［４−（ヒドロキシジフ
    ェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−オキソブチ
    ル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸エチル塩酸塩をメ
    タノール、アセトンまたは水酸化ナトリウム水溶液のよ
    うな適当な溶媒中で適当な還元剤と反応させ、 ｂ）塩酸で酸性化し、そして ｃ）水を−２０〜５０℃で１〜４５分間かけて加える ことからなる、請求項１に記載の形態IIの水和された４
    −［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−
    ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］−α,α−ジ
    メチルベンゼン酢酸塩酸塩の製造方法。
  4. 【請求項４】 ０℃〜４０℃の温度で１０〜３０分間か
    けて水を加える請求項３記載の製造方法。
  5. 【請求項５】 ２０℃〜４０℃の温度で１０〜３０分間
    かけて水を加える請求項４記載の製造方法。
  6. 【請求項６】 ａ）４−［４−［４−（ヒドロキシジフ
    ェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−オキソブチ
    ル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸エチルをメタノー
    ル、アセトンまたは水酸化ナトリウム水溶液のような適
    当な溶媒中で適当な還元剤と反応させ、 ｂ）塩酸で酸性化し、そして ｃ）水を−２０〜５０℃で１〜４５分間かけて加える ことからなる、請求項１に記載の形態IIの水和された４
    −［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−
    ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］−α,α−ジ
    メチルベンゼン酢酸塩酸塩の製造方法。
  7. 【請求項７】 ０℃〜４０℃の温度で１０〜３０分間か
    けて水を加える請求項６記載の製造方法。
  8. 【請求項８】 ２０℃〜４０℃の温度で１０〜３０分間
    かけて水を加える請求項７記載の製造方法。
  9. 【請求項９】 １９６〜２０１℃の明視化された融点
    （毛細管）、示差走査熱量測定法による測定での１９５
    〜１９９℃の補外開始を伴う融解吸熱および本質的に下
    に示されるようなＸ線粉末回折パターン： Ｄ−面間隔、オングストローム 強度、Ｉ／Ｉ0、％ １１.８ ３０ ７.３ ３０ ６.３ ６５ ５.９ ３５ ５.０ ４５ ４.８ １００ ４.４ ４５ ３.９ ６０ ３.８ ７５ ３.７ ３０ をもつ形態Ｉの無水の４−［４−［４−（ヒドロキシジ
    フェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキ
    シブチル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩を水
    性再結晶に付すことによる、請求項１に記載の形態IIの
    水和された４−［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメ
    チル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］
    −α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩の製造方法。
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