JP2002305895A - 移動体システム - Google Patents

移動体システム

Info

Publication number
JP2002305895A
JP2002305895A JP2001101180A JP2001101180A JP2002305895A JP 2002305895 A JP2002305895 A JP 2002305895A JP 2001101180 A JP2001101180 A JP 2001101180A JP 2001101180 A JP2001101180 A JP 2001101180A JP 2002305895 A JP2002305895 A JP 2002305895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
moving body
moving
heat
track rail
rail structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001101180A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4770046B2 (ja
Inventor
Hiroshi Nakagawa
洋 中川
Susumu Nakagawa
進 中川
Yutaka Maeda
豊 前田
Katsuyoshi Nakano
克好 中野
Akira Shiozaki
明 塩崎
Yosuke Muraguchi
洋介 村口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Co Ltd filed Critical Shinko Electric Co Ltd
Priority to JP2001101180A priority Critical patent/JP4770046B2/ja
Publication of JP2002305895A publication Critical patent/JP2002305895A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4770046B2 publication Critical patent/JP4770046B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Linear Motors (AREA)
  • Linear Motors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】簡易な構成でありながら、優れた位置決め精度
で移動体を移動させる。 【解決手段】移動体システムが発熱すると、移動体31
を直線方向(図の紙面垂直方向)に沿って案内する軌道
レール構造体30は、この発熱に伴うバイメタル効果に
よって中立軸よりも移動体31側が膨張し、反対側が縮
んでしまい、この結果湾曲してしまう。このような熱変
形を抑制するために、発熱量にほぼ比例する移動体31
の移動速度に応じてヒータ51による加熱量を制御し、
その周辺部位を熱膨張させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、移動体を所定の経
路に沿って移動させる移動体システムに関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体工場などにおいては、
半導体部品を搬送したり、作業ロボットを移動させる移
動体システムが用いられている。このような移動体シス
テムしては、リニアモータ方式やボールスクリュー方式
などがある。リニアモータを利用した方式は、ほこり等
の発生が少なくクリーンであり、また静粛性にも優れて
いおり、さらに移動体の位置決め精度も高いといった利
点がある。この他にも、1つの軌道上に複数の移動体を
配置するが可能であるといった利点や、摩耗部分が少な
く耐久性に優れるといった利点など様々な利点がある。
したがって、半導体製造装置(特にステッパーや露光機
等)においては、リニアモータ方式の移動体システムが
広く用いられるようになっている。
【0003】ここで、図12に従来のリニアモータ方式
を用いた移動体システムの構成を示す。同図に示すよう
に、このシステムでは、移動体3は、図の紙面垂直方向
に敷設された断面コ字状の軌道レール構造体1に沿って
直線ガイド部2により移動可能に案内支持されている。
移動体3は、コア4と、コア4に券回されるコイル5
と、コア4を支持する支持部材9とを備える磁界発生機
構8を備えている。この磁界発生機構8では、コイル5
に電流を供給することにより、軌道レール構造体1にお
けるコア4と対向する位置に配置された二次側コア6と
の間に磁界を発生し、これにより推力を発生して移動体
3を移動させる。
【0004】このような移動体3には、上述した推力を
発生する磁界発生機構8に加え、半導体部品を吸着する
する部品吸着ヘッドなどが搭載される搭載部7が設けら
れている。ここで、搭載部7と上記磁界発生機構8の支
持部材9とがボルト10により固定されている。従っ
て、搭載部7に実装ヘッド等を搭載すれば、この部品吸
着ヘッドを軌道レール構造体1中の任意の位置に移動さ
せることができるようになっている。
【0005】ところで、移動体システムにおいては、上
述した移動体3に搭載したロボットなどをある直線上だ
けでなく、所定範囲内で平面的(X方向、Y方向)に任
意に移動させるために、図13に示すようなシステムが
用いられることがある。同図に示すように、このシステ
ムでは、X軸方向に敷設される軌道レール構造体1およ
び移動体3などを含む上記のリニアモータシステム16
(図12参照)自体をボールスクリュー方式でY軸方向
に移動できるようにしている。具体的には、リニアモー
タシステム16をボールスクリュー15によって駆動さ
れる架台に固定し、ボールスクリュー15をモータ17
で駆動することにより、リニアモータシステム16全体
をY軸方向に移動させることができるようになってい
る。このシステムによれば、ボールスクリュー15およ
びリニアモータの両者の駆動を制御することにより、移
動体3をXY平面の任意の位置に移動させることができ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、リニアモー
タ方式の移動体システムは、上述したような様々な利点
を有しているものの、動作時の発熱量がボールスクリュ
ー方式等と比較して大きい。また、リニアモータ方式の
移動体システムは、主な発熱源が移動体3である、すな
わち発熱源が移動する構成である。したがって、リニア
モータ方式の移動体システムは、発熱によってその性能
が劣化する等の影響を受けやすく、現状のリニアモータ
方式の移動体システムでは、水冷等の冷却方式によって
発熱による影響を低減している。
【0007】しかしながら、半導体製造装置におけるチ
ップ実装装置では、上記のような水冷方式の冷却を行う
ことができず、発熱による温度上昇に伴って移動体シス
テムを構成する部材が変形し、システムとしての精度が
低下してしまうといった問題が生じる。
【0008】特に、上記のような移動体システムでは、
軌道レール構造体1や直線ガイド部2といった複複雑な
形状の部材が複数組み合わされて構成されており、また
主な発熱源である磁界発生機構8や直線ガイド部2と移
動体3の摺動部分がこの構造体の中立軸からずれた位置
にある。このため、バイメタル効果によって図14に示
すようにX軸方向に移動体3を案内する軌道レール構造
体1が湾曲してしまい、移動体3のY軸方向の位置がず
れてしまうといった位置精度不良を招くことになる。例
えば、チップ実装装置に当該移動体システムを適用した
場合には、X軸方向の軌道レール構造体1が1.5m程
度の長さであり、このような長さの軌道レール構造体1
がバイメタル効果によって湾曲して移動体3がY軸方向
に0.1mm程度ずれてしまうこともある。移動体3が
半導体製造工程に用いられるチップ実装装置等を搭載
し、このチップ実装装置を移動させるための移動体シス
テムでは、上記のような位置ずれはきわめて大きな問題
となる。
【0009】ここで、バイメタル効果は、以下のような
要因で発生することになる。 (1)構造体の形状が複雑であり、温度分布が不均一と
なる。 (2)構造体を構成する部材の熱膨張係数が異なってい
る。 (3)冷却条件等によって構造体の温度分布が不均一で
ある。 (4)中立軸上に発熱源がない。
【0010】したがって、上記のような要因がない構造
の移動体システムを設計すれば、発熱によるバイメタル
効果を抑制することができ、上記の位置精度不良といっ
た問題を低減することができるが、そのシステムの構造
上、上記の各要因を含まない構造の移動体システムを設
計するのは実質的に困難である。
【0011】また、上記のようなリニアモータ方式以外
の方式の移動体システムであっても、発熱に伴うバイメ
タル効果によって上記のリニアモータ方式と同様に位置
精度不良が生じる虞もある。また、発熱に起因するもの
に限らず、移動体3が搭載する重量負荷変動や移動体3
の位置変動によって構造体の変形が生じ、位置精度不良
を招くこともあり得る。
【0012】本発明は、上記の事情を考慮してなされた
ものであり、簡易な構成でありながら、優れた位置決め
精度で移動体を移動させることが可能な移動体システム
を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る移動体システムは、所定の経路に沿っ
て敷設される経路構造体と、前記経路構造体によって案
内され、前記経路構造体に沿って移動可能に設けられる
移動体とを備えた移動体システムであって、前記経路構
造体に対して加熱もしくは吸熱する加熱/吸熱手段と、
前記移動体の運転状態に基づいて、前記加熱/吸熱手段
を制御する熱量制御手段とを具備することを特徴として
いる。
【0014】この構成によれば、移動体を案内する経路
構造体が移動体の運動(例えば経路構造体との間の摩擦
熱)に起因して変形した場合にも、移動体の運動状態に
応じて経路構造体への加熱/吸熱を制御することができ
る。例えば、経路構造体が移動体の移動速度が大きいと
いった運動状態に起因して膨張/収縮している場合に
は、運動状態に応じてその部分から吸熱/加熱する量を
制御することができる。これにより、移動体の位置決め
精度に大きな影響を及ぼす経路構造体の変形を抑制する
ことができる。
【0015】また、本発明の別の態様に係る移動体シス
テムは、第1の直線経路に沿って敷設される経路構造体
と、前記経路構造体によって案内され、前記経路構造体
に沿って移動可能に設けられる移動体を有する第1移動
体機構と、前記第1の移動体機構を前記第1の直線経路
と直交する方向に移動させる第2の移動体機構とを備え
る移動体システムであって、前記経路構造体に対して加
熱もしくは吸熱する加熱/吸熱手段と、前記移動体の運
転状態に基づいて、前記加熱/吸熱手段を制御する熱量
制御手段とを具備することを特徴としている。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。 A.実施形態 まず、図1は本発明の一実施形態に係る移動体システム
の主要部の外観を示す斜視図である。同図に示すよう
に、この移動体システムは、X軸方向に伸びる直線状に
敷設された軌道レール(経路構造体)30と、軌道レー
ル構造体30に沿って移動可能に設けられる移動体31
とを有する第1移動体機構32と、第1移動体機構32
をX軸と直交するY軸方向に移動させる第2移動体機構
33とを備えている。
【0017】第2移動体機構33は、X軸方向に伸びる
軌道レール構造体30の両端側に固定される移動架台3
30,340を有しており、当該移動架台330,34
0は各々Y軸方向に直線状に敷設された軌道レール33
1,341に沿って移動可能になされている。これによ
り、軌道レール構造体30はX軸方向に延在した状態を
維持したまま移動架台330,340の移動に伴ってY
軸方向に移動させられるようになっている。
【0018】この移動体システムでは、ある座標位置
(X1,Y1)に移動体31を移動させる場合には、Y
軸方向の位置情報(Y1)に示される位置に、第2移動
体機構33の移動架台330,340を軌道レール33
1,341に沿って移動させる。このように第2移動体
機構33によってY軸方向の位置決めが行われるととも
に、第1移動体機構32は、X軸方向の位置情報(X
1)に示される位置に移動体31を移動させる。このよ
うにして第1移動体機構32および移動体31を、目標
位置のX座標およびY座標にしたがって制御することに
より、移動体31をXY平面内の任意の位置に移動させ
ることができるようになっている。
【0019】次に、第1移動体機構32の詳細について
図2および図3を参照しながら説明する。図2に示すよ
うに、この移動体システムは、所定の軌道に沿って敷設
された軌道レール構造体30に沿って移動体21が移動
可能になされている。図3に示すように、軌道レール構
造体30は、側方が開放した断面コ字状の部材であり、
その上下の内側面に沿って二次側コア22が設けられて
いる。また、軌道レール構造体30の上下両端部20a
には、それぞれリニアガイド23が設けられており、こ
のリニアガイド23に移動体31が摺動可能に支持され
ている。これにより、移動体31は軌道レール構造体3
0に沿って移動することができるようになっている。
【0020】移動体31は、箱状の軌道レール構造体3
0の内部に配置され、上記二次側コア22とともに磁界
を発生してこの移動体31に推力を付与する磁界発生機
構24と、磁界発生機構24の側方に配置され、半導体
部品実装ヘッドなど所定の作業を実行する機器などを搭
載する作業用保持部材25と、磁界発生機構24とを備
えている。
【0021】磁界発生機構24は、上述した軌道レール
構造体30に沿って設けられる各二次側コア22に対向
する位置に設けられる一次側コア27と、各一次側コア
27に券回されるコイル28と、一次側コア27および
これに券回されるコイル28を支持する支持部材29と
を備えている。ここで、図4を参照しながら、磁界発生
機構24と軌道レール構造体30に設けられた二次側コ
ア22とによる移動体31の具体的な駆動構成例につい
て説明する。本実施形態では、二次側コア22と、一次
側コア27およびコイル28とは、支持部材29を挟ん
で2組設けられているが、両者は同一の原理で動作する
ため、一方のみを図示してその動作原理について説明す
る。
【0022】図4に示すように、軌道レール構造体30
に設けられた二次側コア22の一次側コア27と対向す
る面には、歯部22aが長手方向に沿って等間隔に形成
されている。移動体31の一次側コア57は、コ字状の
A相鉄心70およびB相鉄心71と、A相鉄心70のA
相磁極70aおよび相磁極70bに券回されるコイル2
8a,28bと、B相鉄心71のB相磁極71aおよび
相磁極71bに券回されるコイル28c,28dと、A
相鉄心70およびB相鉄心71の二次側コア52と反対
側の面に設けられた永久磁石72,73と、永久磁石7
2,73に取り付けられた板状の磁性体によって構成さ
れるバックプレート74とから構成されている。A相磁
極70aの二次側コア22と対向する面には、歯部22
aのピッチPと同一ピッチで3個の極歯75aが形成さ
れており、その他の磁極70b,71a,71bにも同
様に3個の極歯76b,77a,77bが形成されてい
る。また、各磁極70b,71a,71bはA相磁極7
0aに対して順次P/4ずつずらして配置され、これに
より各磁極70b,71a,71bは互いに位相が90
°ずつ異なった位置関係となっている。このような構成
の下、コイル28a,28b,28c,28dに一相励
磁方式等によりパルス信号を供給することにより、コイ
ル28a,28b,28c,28dに順次発生する磁束
と、永久磁石72,73が発生する磁束とが各磁極70
a,70b,71a,71bにおいて順次加減され、二
次側コア22に対する移動体31の磁気的安定位置が順
次移動し、これにより移動体31が二次側コア22に沿
った方向、つまり軌道レール構造体30に沿って移動さ
せられる。これは、一般的なリニアパルスモータの構成
であるが、この他にも、例えば特開平3−124259
号公報に記載されたリニアパルスモータ方式などを用い
るようにしてもよい。
【0023】図3に戻り、作業用保持部材25は、略板
状の部材であり、その図の左右両端側において上述した
リニアガイド23に支持されている。また、作業用保持
部材25の磁界発生機構24と反対側の面(図3の右側
面)には、所定の作業を実行するための装置等が取り付
けられている。例えば、半導体部品実装作業を実行する
場合には、半導体部品実装ヘッドや半導体部品搬送用ロ
ボットなどが搭載され、単に半導体部品を搬送する作業
を実行する場合には、半導体部品等を収容するラックな
どが搭載されることになる。なお、作業用保持部材25
が搭載する作業用機器としては、上述した半導体製造に
関わるものに限定されるものではなく、他の用途に用い
られるロボット等であってもよい。
【0024】作業用保持部材25は、磁界発生機構24
の支持部材29とがボルト29aによって結合されてい
る。これにより、作業用保持部材25およびこれに搭載
されるロボットや実装装置などは、軌道レール構造体3
0上の任意の位置に移動することができるようになって
いる。
【0025】以上がリニアモータ方式によって駆動され
る第1移動体機構32の駆動に関わる構成である。第2
移動体機構33も上述した第1移動体機構32と同様の
駆動構成によって軌道レール構造体30の両端を支持す
る移動架台330,340をY軸方向に駆動できるよう
になっているため、第2移動体機構33についての詳細
な説明は割愛する。
【0026】第1移動体機構32は、磁界発生機構24
の発生する磁界によって移動体31を軌道レール構造体
30に沿って移動させることができるが、移動体31を
移動させると、磁界発生機構24による発熱(銅損、鉄
損等による発熱)や、リニアガイド23と移動体31と
の間の摩擦による発熱が生じてしまう。このような発熱
に伴うバイメタル効果によって軌道レール構造体30が
湾曲等すると、移動体31の位置精度の悪化を招くこと
になるが、本実施形態に係る移動体システムは、このよ
うな位置精度の悪化を低減するための構成を有してお
り、以下当該構成について詳細に説明する。
【0027】図5に示すように、第1移動体機構32に
おける熱の発生源は主に磁界発生機構24や、リニアガ
イド23と移動体31との摺動部分であり、発生した熱
は図中矢印で示すように、支持部材29→作業用保持部
材25→リニアガイド23→軌道レール構造体30の両
端部20aといった順序で伝達され、この伝達経路に伝
達されている間に作業用保持部材25や軌道レール構造
体30といった部分で発散されることになる。すなわ
ち、図5に示す右側の部分である移動体31側の部分に
伝達される熱量が多く、伝達される途中の発散により図
の左側部分である軌道レール構造体30の側面部30c
に伝達される熱量が少ない。したがって、図5に示す右
側部分の熱によって膨張する一方で、図の左側の部分が
縮み、この結果、軌道レール構造体30は湾曲してしま
うことになる(図14参照)。ここで、図中一点鎖線
は、このような熱変形が生じた場合に、変形が生じない
部分である中立軸を示す。このようなバイメタル効果に
よる軌道レール構造体30の変形は、磁界発生機構24
による発熱に起因するものは比較的長い時間をかけて変
形するのに対し、リニアガイド23と移動体31との摺
動摩擦によって生じる熱による変形は熱時定数が小さい
ため、移動体31の運転状態に応じて短時間で変形して
しまうことになり(例えば運転速度が速い状態ではすぐ
に変形量が大きくなる)、位置精度の悪化に大きな影響
を及ぼすことになる。本実施形態では以下のようにして
バイメタル効果による熱変形(特に、リニアガイド23
と移動体31との摺動摩擦によって短時間で生じる熱変
形)に起因する位置精度の悪化を抑制している。
【0028】本実施形態に係る移動体システムでは、図
3および図5に示すように、軌道レール構造体30の側
面部30cの磁界発生機構24と反対側の面にテープ状
のヒータ51が取り付けられている。この移動体システ
ムでは、軌道レール構造体30の側面部30cに取り付
けられたヒータ51への供給電流を制御することによ
り、上述したようなバイメタル効果による軌道レール構
造体30の湾曲を抑制しているが、以下、ヒータ51へ
の供給電流の制御を行う制御システムについて図6を参
照しながら説明する。
【0029】同図に示すように、この制御システムは、
ヒータ51への供給電流を制御する熱量制御装置60を
有している。熱量制御装置60は、駆動制御装置61か
ら供給される運転パターン情報に基づいて、ヒータ51
に供給する電流を制御する。
【0030】ここで、駆動制御装置61には、当該移動
体システムの第1移動体機構32において、移動体31
をどのように駆動するかを示す運転パターン情報(どち
らの方向に、どのような速度で移動させるか等を時系列
で示した情報)が設定されている。移動体31がチップ
実装装置等を搭載する場合には、半導体製造工程におい
て、そのチップ実装装置をどのように移動させるかによ
って運転パターン情報が決められることになる。
【0031】駆動制御装置61は、設定されている運転
パターン情報にしたがって移動体31が移動するように
移動体31に搭載された図示せぬコントローラに対して
制御信号を出力する。移動体31のコントローラは、こ
の制御信号に基づいてコイル28への電流供給を制御す
ることにより、設定された運転パターンにしたがって移
動体31が移動するようになっている。なお、運転パタ
ーン情報は予め移動体31のコントローラに設定してお
くようにし、この設定にしたがって移動体31のコント
ローラがコイル28に電流を供給するようにしてもよ
い。
【0032】熱量制御装置60は、このような運転パタ
ーン情報を駆動制御装置61から取得し(移動体31の
コントローラに設定されている場合にも、その設定され
た運転パターン情報を何らかの手法で取得すればよ
い)、当該運転パターン情報に基づいて、ヒータ51へ
の電流供給を制御するのである。より具体的に説明する
と、熱量制御装置60は、運転パターン情報に示される
移動体31の移動速度に応じた値の電流をヒータ51に
供給する。例えば、図7(a)に示すように、運転パタ
ーン情報にしたがって移動する移動体31の速度が変動
する場合には、熱量制御装置60は、図7(b)に示す
ように移動体31の速度が大きいときには大きい値の電
流をヒータ51に供給し、移動体31の速度が小さいと
きには小さい値の電流をヒータ51に供給するといった
ように移動速度に比例した値の電流を供給する。
【0033】ヒータ51に供給される電流値は、軌道レ
ール構造体30におけるヒータ51が取り付けられた部
位の近傍に加えられる熱量に比例するので、上記のよう
な熱量制御装置60による電流供給制御の結果、ヒータ
51が取り付けられた部位の近傍には、移動体31の移
動速度に比例した熱量が加えられることになる。すなわ
ち、熱量制御装置60が上記のようなヒータ51への電
流供給制御を行うことにより、移動体31の移動速度の
大小に比例した熱量が軌道レール構造体30における側
面部30cに加えられるのである。
【0034】リニアガイド23と移動体31との間の摺
動摩擦による発熱は、移動体31の移動速度が大きくな
ればなるほど大きくなるため、この摺動摩擦に伴う発熱
によって短時間で生じるバイメタル効果による熱変形も
移動体31の速度が大きくなると、それに比例して大き
くなる。すなわち、移動体31の移動速度が大きくなれ
ばなるほど、図5に示す中立軸よりも移動体31側の部
位の膨張具合が大きくなり、中立軸よりも側面部30c
側の縮み具合が大きくなるのである。これに対し、本実
施形態では、上述したように移動体31の移動速度の大
きさに比例した電流がヒータ51に供給され、移動体3
1の移動速度の大きさに比例した熱量が側面部30c
(バイメタル効果によって縮む部分)に加えられること
になる。この結果、移動体31の移動速度に比例するバ
イメタル効果による側面部30cの縮み具合の大小に関
わらず、その縮みを抑制するための適切な熱量が側面部
30cに加えられることになる。したがって、移動体3
1とリニアガイド23との間の摺動摩擦による発熱に起
因する軌道レール構造体30の湾曲を抑制することがで
きる。
【0035】このように本実施形態に係る移動体システ
ムの第1移動体機構32では、移動体31の移動速度に
応じてヒータ51に供給する電流を制御するようにして
いるので、第1移動体機構32における移動体31の運
転状態によって発熱量が変動した場合にも軌道レール構
造体30が湾曲しないようにすることができる。したが
って、移動体31を駆動することによって発熱した場合
にも、移動体システムのY軸方向の位置決め精度が悪化
してしまうことを低減することができる。
【0036】また、本実施形態では、移動体31の移動
速度といった運転状態に応じてヒータ51に供給する電
流値を決定しているので、軌道レール構造体30の変形
具合等を検出するセンサ等を用いる必要がなく、簡易な
構成でありながら、上記のように位置決め精度の悪化を
抑制することができる。
【0037】また、本実施形態では、発熱に伴うバイメ
タル効果によって変形してしまう形状や材質の軌道レー
ル構造体30を用いた場合にも、軌道レール構造体30
の変形を抑制することができる。したがって、軌道レー
ル構造体30の形状や材質を選択する際に、バイメタル
効果による変形を抑制することを考慮する必要がなく、
すなわちバイメタル効果が生じないような材質や形状を
採用するといった設計上の制限がなくなり、設計の自由
度が増す。したがって、他の設計条件(例えば、軽量
化、省エネルギー化、低振動、コスト等)を優先した設
計が可能となる。
【0038】B.変形例 なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるもので
はなく、以下に例示するような種々の変形が可能であ
る。
【0039】(変形例1)上述した実施形態では、軌道
レール構造体30の側面部30cのほぼ中央部分にヒー
タ51を取り付けるようにしていたが、その取り付け位
置はこの位置に限らず、例えば図8に示すように、側面
部30cの上端部30dおよび下端部30e近傍の各々
にヒータ51の組を取り付けるようにしてもよい。
【0040】このように上端部30dおよび下端部30
eにヒータ51を取り付ける場合には、上述した発熱に
よるバイメタル効果に起因する軌道レール構造体30の
変形だけではなく、移動体31や移動体31が搭載する
実装ロボット等の重量に起因する軌道レール構造体30
の変形を低減できるように上端部30dおよび下端部3
0eに取り付けられた各ヒータ51に供給する電流値を
制御するようにしてもよい。
【0041】すなわち、第1移動体機構32においは、
移動体31および移動体31が搭載するロボット等の重
量によって符号Sで示すせん断中心を中心とした図中時
計回りの回転モーメントが作用する。このように作用す
る回転モーメントによって軌道レール構造体30の上端
側が伸びるような応力が加わる一方で、下端側は縮むよ
うな応力が加わることになる。移動体31が搭載するロ
ボット等の重量が大きい場合には、この変形量による高
さ方向(Z軸方向)の位置精度の悪化が無視できないほ
ど大きくなることもある。そこで、上記のように上端部
30dおよび下端部30eにヒータ51を取り付ける場
合には、予め上記のように作用する回転モーメントによ
る変形を是正するために上端部30dおよび下端部30
eに取り付けられたヒータ51に供給すべき電流値を求
めておく。そして、上述した実施形態と同様に、移動体
31の移動速度に応じて求めた電流値に、上記電流値を
加えた値の電流をヒータ51に供給する。
【0042】移動体31や移動体31の搭載する負荷重
量による変形では、下端部30e側が縮む部分となる
が、この負荷重量による縮みを抑制するためにヒータ5
1に供給すべき電流値がαであり(上端部30dに取り
付けられたヒータ51に供給すべき電流値は0とす
る)、上記実施形態と同様に移動体31の移動速度に応
じて求めた電流値がβである場合に、各ヒータ51に供
給される電流値は次のようになる。すなわち、上端部3
0dに取り付けられたヒータ51にはβの電流が供給さ
れ、下端部30eに取り付けられたヒータ51には(α
+β)の電流値が供給される。このようにすることで、
発熱に伴うバイメタル効果による軌道レール構造体30
の変形に起因するY軸方向の位置精度の悪化と、移動体
31や移動体31が搭載する負荷の重量による変形に起
因するZ軸方向の位置精度の悪化とを低減することがで
きる。
【0043】(変形例2)また、上述した実施形態で
は、第1移動体機構32の軌道レール構造体30の両端
を移動架台330,340で支持し、移動架台330,
340を軌道レール331,341に沿って移動させる
第2移動体機構33を備えた移動体システムを例に挙げ
て説明したが、これに限らず、例えば図9に示すような
構成の移動体システムに本発明を適用することもでき
る。同図に示す移動体システムでは、上記実施形態の移
動システムと比較して軌道レール構造体30の長さが小
さく、このような場合には図示のように軌道レール構造
体30の一端側のみを移動架台340で支持し、当該移
動架台340を第2移動体機構33’の軌道レール34
1に沿ってY軸方向に移動させるような構成であっても
よい。
【0044】また、上述した実施形態のようにX軸に沿
って移動体31に移動させるさせるための第1移動体機
構32と、Y軸に沿って移動体31を移動させるための
第2移動体機構33といった2軸方向に移動体31を移
動させるための移動体システムに限らず、一方向にのみ
移動体31を移動させる移動体システムに本発明を適用
することも可能である。
【0045】また、移動体システムの駆動方式として上
記実施形態で説明した方式に限らず、二次側に永久磁石
を設けたリニアモータ方式等の他のリニアモータ方式で
あってもよく、発熱に伴うレール軌道の変形によって位
置精度が悪化してしまう移動体システムであれば、リニ
アモータ方式以外の駆動方式(例えばボールスクリュー
方式等)の移動体システムであっても本発明を適用する
ことができる。
【0046】(変形例3)上述した実施形態において
は、軌道レール構造体30における発熱に伴うバイメタ
ル効果によって縮む部分にヒータ51を取り付け、当該
部分をヒータ51によって加熱することにより熱膨張さ
せて軌道レール構造体30の湾曲を抑制するようにして
いたが、これに限らず、軌道レール構造体30を部分的
に加熱することができるものであれば、ヒータ51の代
わりに用いることができる。
【0047】また、吸熱することが可能な手段、例えば
ペルチェ素子を軌道レール構造体30におけるバイメタ
ル効果によって膨張する部位(図5に示す中立軸よりも
移動体31側の部位)に取り付けるようにしてもよい。
ペルチェ素子は、p形とn形の熱電半導体を銅電極で接
合し、n形の方から直流電流を流すと上側の接合面から
下の接合面へ熱を移動させ、直流電流の流す方向を逆に
することにより、逆方向に熱を移動させる素子である。
【0048】このように軌道レール構造体30における
バイメタル効果によって膨張する部位の1または複数箇
所にペルチェ素子を取り付け、移動体31の移動速度が
大きくなればなるほど、ペルチェ素子がより大きい熱量
を吸収するようにペルチェ素子に対して電流を供給す
る。これにより移動体31の移動速度に比例して膨張す
る部位に対して、当該移動速度に比例した冷却を行うこ
とが可能となり、軌道レール構造体30の変形を抑制す
ることができる。
【0049】(変形例4)また、軌道レール構造体30
の変形を抑制するためのヒータ51やペルチェ素子を設
ける個数は任意であり、形状や材質といった軌道レール
構造体30の構成に応じて適宜選択するようにすればよ
い。
【0050】(変形例5)また、図10に示すように、
軌道レール構造体30におけるバイメタル効果によって
縮む部位(図示の例では側面部30c)に、ヒートパイ
プ140を取り付け、当該ヒートパイプ140にヒータ
51といった加熱手段を取り付けるようにし、加熱の能
力を向上させるようにしてもよい。また、軌道レール構
造体30におけるバイメタル効果によって膨張する部位
に、ヒートパイプ140を取り付け、当該ヒートパイプ
140にペルチェ素子といった吸熱手段を取り付けるよ
うにし、吸熱の能力を向上させるようにしてもよい。
【0051】また、図11に示すように、軌道レール構
造体30におけるバイメタル効果によって膨張する部位
にペルチェ素子150を取り付ける場合、ペルチェ素子
150の取り付け面150aと反対側の面150bにヒ
ートシンク151を取り付け、吸熱能力を向上させるよ
うにしてもよい。
【0052】また、軌道レール構造体30側に送風する
ファン等を設けることにより、軌道レール構造体30に
取り付けられたペルチェ素子等による吸熱能力を向上さ
せるようにしてもよい。また、軌道レール構造体30の
熱膨張している部位から吸熱するための手段としては、
上記のようにペルチェ素子とファンを併用するといった
態様だけではなく、ファンのみで軌道レール構造体30
の熱膨張している部位を冷却するようにしてもよい。
【0053】(変形例6)また、上述した実施形態で
は、熱量制御装置60が移動体31の運転パターン情報
に示される移動体31の移動速度に応じた電流をヒータ
51に供給するようにしていたが、実際に移動している
移動体31の移動速度を検出し、当該検出した移動速度
に応じた電流をヒータ51に供給するようにしてもよ
い。この場合、ヒータ51への供給電流値を決定するた
めだけに移動体31の移動速度を検出するセンサを設け
るようにしてもよいが、通常の一般的な移動体システム
では、移動体31の位置や速度を正確に制御するために
移動体31の位置や速度を検出するセンサを有してい
る。このような移動体31の位置や速度をフィードバッ
ク制御するために設けられているセンサの検出結果から
移動体31の移動速度を取得し、取得した移動速度に応
じた電流をヒータ51に供給するようにすれば、新たに
専用の速度センサ等を設ける必要がなくなる。
【0054】(変形例7)また、上述した実施形態で
は、熱量制御装置60が移動体31の移動速度に応じた
電流をヒータ51に供給するようにしていたが、移動体
31とリニアガイド23との摺動摩擦による発熱量は、
移動体31が搭載する負荷重量によっても異なることに
なる。例えば、移動体31を物品の搬送に用いる場合に
は、物品搭載時と非搭載時とでは、移動体31とリニア
ガイド23との間に摩擦による発熱量が異なることにな
る(当然負荷重量が大きい時が発熱量が大きく、バイメ
タル効果による変形量も大きくなる)。したがって、移
動体31の負荷重量の変動を時系列に示す情報に基づい
て、熱量制御装置60が負荷重量が大きければ大きいほ
ど、ヒータ51に供給する電流値を大きくするといった
制御を行うようにしてもよい。このように移動体31の
移動速度に限らず、どのような重量を搭載して移動して
いるか等の移動体31の運転状態に応じてヒータ51に
供給する電流値を制御するようにしてもよく、また移動
速度および負荷重量の両者を考慮してヒータ51に供給
する電流値を決定するようにしてもよい。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
簡易な構成でありながら、優れた位置決め精度で移動体
を移動させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る移動体システムの
主要部の外観を示す斜視図である。
【図2】 前記移動体システムの構成要素は、第1移動
体機構の主要部の外観を示す斜視図である。
【図3】 前記第1移動体機構の主要部を示す断面図で
ある。
【図4】 前記第1移動体機構の動作原理を説明するた
めの図である。
【図5】 前記第1移動体機構における熱の伝達経路を
説明するための図である。
【図6】 前記第1移動体機構における軌道レール構造
体の熱変形を抑制するための制御システムの構成を示す
ブロック図である。
【図7】 前記制御システムの構成要素である熱量制御
装置によって行われる前記軌道レール構造体の変形を抑
制するための制御内容を説明するための図である。
【図8】 前記移動体システムの変形例における第1移
動体機構の主要部を示す断面図である。
【図9】 前記移動体システムの他の変形例の主要部の
外観を示す斜視図である。
【図10】 前記移動体システムのその他の変形例の第
1移動体機構の軌道レール構造体の外観を示す斜視図で
ある。
【図11】 前記移動体システムのさらにその他の変形
例の第1移動体機構の主要部を示す断面図である。
【図12】 従来のリニアモータ方式の移動体システム
の主要部を示す断面図である。
【図13】 従来の移動体システムの主要部の外観を示
す斜視図である。
【図14】 従来の移動体システムにおいて、発熱に伴
うバイメタル効果によって軌道レール構造体が変形する
様子を示す図である。
【符号の説明】
20a……両端部、22……二次側コア、23……リニ
アガイド、24……磁界発生機構、25……作業用保持
部材、27……一次側コア、28……コイル、29……
支持部材、30……軌道レール構造体、30c……側面
部、31……移動体、51……ヒータ、60……熱量制
御装置、61……駆動制御装置、140……ヒートパイ
プ、150……ペルチェ素子、151……ヒートシンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H02K 41/03 H02K 11/00 U D (72)発明者 前田 豊 三重県伊勢市竹ケ鼻町100 神鋼電機株式 会社伊勢事業所内 (72)発明者 中野 克好 三重県伊勢市竹ケ鼻町100 神鋼電機株式 会社伊勢事業所内 (72)発明者 塩崎 明 三重県伊勢市竹ケ鼻町100 神鋼電機株式 会社伊勢事業所内 (72)発明者 村口 洋介 三重県伊勢市竹ケ鼻町100 神鋼電機株式 会社伊勢事業所内 Fターム(参考) 5F031 HA37 HA38 HA55 KA06 KA08 LA08 MA33 5F046 CC01 CC02 CC17 5H540 AA01 AA06 BA07 BB06 BB07 EE08 FC07 FC10 5H611 AA01 AA09 BB01 BB09 BB10 QQ04 5H641 BB10 BB15 BB18 GG03 GG04 GG12 HH03 HH08 HH10 JA09 JB04

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の経路に沿って敷設される経路構造
    体と、前記経路構造体によって案内され、前記経路構造
    体に沿って移動可能に設けられる移動体とを備えた移動
    体システムであって、 前記経路構造体に対して加熱もしくは吸熱する加熱/吸
    熱手段と、 前記移動体の運転状態に基づいて、前記加熱/吸熱手段
    を制御する熱量制御手段とを具備することを特徴とする
    移動体システム。
  2. 【請求項2】 前記移動体は、リニアモータによって駆
    動されていることを特徴とする請求項1に記載の移動体
    システム。
  3. 【請求項3】 前記熱量制御手段は、前記移動体の移動
    速度に基づいて、前記加熱/吸熱手段を制御することを
    特徴とする請求項1または2に記載の移動体システム。
  4. 【請求項4】 第1の直線経路に沿って敷設される経路
    構造体と、前記経路構造体によって案内され、前記経路
    構造体に沿って移動可能に設けられる移動体を有する第
    1移動体機構と、 前記第1の移動体機構を前記第1の直線経路と直交する
    方向に移動させる第2の移動体機構とを備える移動体シ
    ステムであって、 前記経路構造体に対して加熱もしくは吸熱する加熱/吸
    熱手段と、 前記移動体の運転状態に基づいて、前記加熱/吸熱手段
    を制御する熱量制御手段とを具備することを特徴とする
    移動体システム。
  5. 【請求項5】 前記移動体は、リニアモータによって駆
    動されていることを特徴とする請求項4に記載の移動体
    システム。
  6. 【請求項6】 前記熱量制御手段は、前記移動体の移動
    速度に基づいて、前記加熱/吸熱手段を制御することを
    特徴とする請求項4または5に記載の移動体システム。
JP2001101180A 2001-03-30 2001-03-30 移動体システム Expired - Fee Related JP4770046B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001101180A JP4770046B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 移動体システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001101180A JP4770046B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 移動体システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002305895A true JP2002305895A (ja) 2002-10-18
JP4770046B2 JP4770046B2 (ja) 2011-09-07

Family

ID=18954538

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001101180A Expired - Fee Related JP4770046B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 移動体システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4770046B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335492A (ja) * 2003-03-07 2004-11-25 Junji Kido 有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機電子素子の製造方法
JP2006074961A (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Nikon Corp リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置
JP2007109847A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ
JP2008010633A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ
JPWO2013145086A1 (ja) * 2012-03-26 2015-08-03 富士機械製造株式会社 リニアモータ装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59110364A (ja) * 1982-12-16 1984-06-26 Amada Co Ltd リニア誘導モ−タの熱歪除去方法及びその装置
JPH0265086A (ja) * 1988-08-30 1990-03-05 Toshiba Lighting & Technol Corp 加熱体
JP2001007015A (ja) * 1999-06-25 2001-01-12 Canon Inc ステージ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59110364A (ja) * 1982-12-16 1984-06-26 Amada Co Ltd リニア誘導モ−タの熱歪除去方法及びその装置
JPH0265086A (ja) * 1988-08-30 1990-03-05 Toshiba Lighting & Technol Corp 加熱体
JP2001007015A (ja) * 1999-06-25 2001-01-12 Canon Inc ステージ装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335492A (ja) * 2003-03-07 2004-11-25 Junji Kido 有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機電子素子の製造方法
JP2006074961A (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Nikon Corp リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置
JP2007109847A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ
JP2008010633A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ
JPWO2013145086A1 (ja) * 2012-03-26 2015-08-03 富士機械製造株式会社 リニアモータ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4770046B2 (ja) 2011-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20120200178A1 (en) Linear motor actuator
JP4068848B2 (ja) リニアモータ
JP2001025229A (ja) 可動コイル型リニアモータを内蔵したスライド装置
US6849970B2 (en) Linear motor
JPH09322518A (ja) 永久磁石使用同期形リニアモータ
JP2001169529A (ja) 移動体および移動体システム
WO2017142481A1 (en) High precision localizing platforms
JP4753004B2 (ja) 電磁石ユニット、電磁アクチュエータ、電磁アクチュエータの浮上制御装置、およびステージ装置
JP2002305895A (ja) 移動体システム
JP6740088B2 (ja) リニアモータ
JP4770045B2 (ja) 移動体システム
CN112262522B (zh) 线性电动机、运输设备和生产设备
JP4488929B2 (ja) リニアモータアクチュエータ
JP4811780B2 (ja) リニアモータ、工作機械及び計測器
JP2008090718A (ja) 位置決め装置
JP2009264586A (ja) リニアモータテーブル
JPH0557558A (ja) 移動案内装置
JP3793871B2 (ja) ステージ装置
JP2007325412A (ja) ステージ装置
JP2019083597A (ja) 搬送装置、加工システム、および物品の製造方法
US20240055970A1 (en) Linear motor, transport apparatus, and production apparatus
JP3603615B2 (ja) Xy軸ヘッド位置決め装置
JP2001225285A (ja) 移動体システム
JPH0592343A (ja) 移動案内装置
JP4976178B2 (ja) 駆動案内システムおよび誤動作検出方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080327

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100802

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100930

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101018

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110308

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110506

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110606

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140701

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees