JP2002305380A - 多層回路ユニット、その構成要素、およびその製造方法 - Google Patents
多層回路ユニット、その構成要素、およびその製造方法Info
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Abstract
こと。 【解決手段】 誘電性本体と、接点(538)と、電極
部(530)と、透通電導体(527)とを具えた第1
の回路パネル(544)と、誘電性本体と、電極部(5
30)とを具えた第2の回路パネル(562)とを用意
し、第1の回路パネルの上面を選択処理することにより
該パネルを顧客別仕様化して、パネルの透通電導体の一
部をパネルの接点に接続せしめ、該回路パネルを上下面
対面状に積層して、第1の回路パネルの上面が第1の界
面部において第2の回路パネルの下面に対面するように
し、対面する面上の第1のパターンが互いに合心するよ
うにし、合心したパターンの少なくとも一部において第
1のパネルの接点が第2のパネルの端末と合心するよう
にし、上記界面部において合心した接点と端末の全てを
非選択的に接続して、顧客別仕様化されたパネルの一部
が隣接するパネルの端末に接続されるようにする。
Description
関するものであって、より詳しくは多層回路ボードなど
の多層回路構造物、その構成要素、およびその製造方法
に関するものである。
の回路パネル構造物上に設けられている。回路パネルは
一般に誘電性材料からなる平らなシートを有しており、
その一面または両面上には電導体が配置されている。こ
れらの電導体は一般には銅などの金属材料から形成さ
れ、ボードに設けられた電気的な構成要素間を接続して
いる。これらの電導体はパネルの主面上に配置されてい
るが、その他にも誘電層を貫通して追加的な電導体が延
在して他の面上の電導体との接続を行なっている。多層
回路ボードユニットにあっては複数の回路ボードが積層
されており、この積層中で隣接する面上の電導体を隔離
すべく誘電材料からなる層が用いられている。またこの
ような多層ユニットは通常積層中の異なる回路上の電導
体間に延在する接続配線を有している。
な構成要素はいわゆる「ディスクリートな」構成要素と
積層回路とを含んでおり、これらは無数の構成要素を単
一のチップ中に含んでいる。このようなチップは一般に
「チップキャリアー」と呼ばれる構成要素上に載設され
ており、これは特殊な回路パネル構造を具えている。こ
のチップキャリアーははより大きな回路ボードに載設さ
れたパッケージ中に含まれており、回路の他の構成要素
と相互に接続されている。これに代えてシステムの他の
構成要素を載設した同様な回路パネルに直接載設するよ
うにしてもよい。このような構造は一般に「ハイブリッ
ド回路」と呼ばれている。
料から形成されており、特にガラスなどにより補強され
ている。半導体チップキャリアーなどとして用いられる
小型の回路パネルはセラミックやシリコンなどから形成
されている。
路パネル構造への要求が高まっている。特にチップキャ
リアーやハイブリッド回路の分野でこの要求が高いが、
その他の分野でもそのような性能が広く要求されてい
る。このような要求に応えるには多層回路パネル構造が
適している。
くつかの問題点がある。多層パネルは一般に適宜な電導
体を載設した個々の両面回路パネルを用いて構成され
る。爾後そのようなパネルを互いに積層して、隣接する
パネル間には「プリプレグ」と呼ばれる未硬化または硬
化済みの誘電性材料を介在させる。隣接するパネル間に
電導性の地面(アース)が必要な場合には、2個のプリ
プレグ間にフォイルを介在させている。このフォイルと
プリプレグとは隣接するパネル間で積層されている。そ
のような積層物は通常加圧下で加熱硬化されて単一構造
体にされる。硬化後に異なるボード間で接続が必要とな
る部位に孔が空けられる。爾後これらの孔には内部を、
典型的にはメッキなどの方法で、電気的に導性の材料で
被覆または充填する。
することは非常に困難である。穿孔のために使用するド
リル種々の層を貫通する際に直線経路から偏位し易く、
これが原因で孔の位置が不正確となる。加えて積層中の
異なるボードには常にが位置ずれがある。各パネルの各
孔の予定位置の周囲には誤差許容域を設けて、このよう
な原因を補償する必要がある。小型のドリルは損傷し易
く、孔寸法の下限には制約がある。その他にも高縦横比
の孔に導性の材料を沈在させるのは非常に困難である。
より製造されるユニットに用いられる孔は比較的大きく
なければならず、この結果ユニット中に占める空間が必
然的に大きくなる。加えてこれらの孔は必ず積層の最上
部または最下部から延在している。したがって最上また
は最下層においては接続が必要でない場合でも、中間層
における接続のためにこれらの層を貫通する孔のための
空間を確保する必要がある。この結果パネル上で利用で
きる空間のうちかなりの量が孔のために割り当てられる
こととなり、しかも孔の周囲には許容域を確保しなけれ
ばならない。
を沈在させることにより形成される電気的な接続は非常
に弱く使用中に発生する応力、例えば誘電性および導性
材料の異なる熱膨脹により生じる応力などにより損傷さ
れ易いのである。上記のような穿孔方法および積層体の
一般的な性質については、例えばDoherty J
r.のアメリカ特許第3,793,469号やGuar
raciniのアメリカ特許第3,316,618号な
どに記載されているが、その他にも種々の方法が試みら
れてきた。
1,222号、Crepeauのアメリカ特許第4,2
49,032号、Luttmerのアメリカ特許第3,
795,037号、Davies他のアメリカ特許第
3,862,790号およびZifcakのアメリカ特
許第4,793,814号などは全て、誘電性シート上
に金属などの導性構成要素が互いに比較的近接した位置
で配置されしかも誘電性シートを貫通して導性の構成要
素が両方向に突出した構造物に関するものである。この
ようなシートは隣接する回路ボード間に介装され、回路
ボードは挟持または締結されて、回路シートの隣接する
面上の導性構成要素と複合シートの構成要素との機械的
な相互係合を実現している。
構成要素、複合シートまたは双方は可撓性または延展性
を有していて、複合シートの導性構成要素と回路ボード
上の電導体とが近接係合できるようになっている。これ
によれば穿孔なしに相互接続が構成されているが、この
手法にも重大な欠点がある。例えばユニットを保持する
ために外部的な機械的な要素を必要とし、信頼度も限ら
れたものである。
32号およびDube他のアメリカ特許第3,509,
270号に記載された方法においては、可溶性の熔接材
で被覆した小型のコイルバネが絶縁ボードに載設されて
おり、この絶縁ボードをプリント回路層間に積層してあ
る。このユニットを加熱して熔接材を溶かすことにより
バネを自由に伸展させて、隣接するボードの電導体と係
合させ、これによりバネと熔接材とが協働して隣接する
回路ボード間の相互接続を構成するのである。
9,809号に記載されている方法にあっては、異方性
導性を有した接着材料を相対するサブ積層体間に配置し
ている。この接着材組成は隣接する層上の電導体間の比
較的小さな空間を横切っての充分な電導性を有したもの
であって、その間に電気的な接続を構成するものであ
る。しかし同じ面上の隣接する電導体間の比較的大きな
空間を横切っての電導性は低いものであって、同一の面
内では不必要な接続は生じないようになっている。
5,584号に記載された提案においては、複数のサブ
積層体またはシートが用いられており、それぞれがその
上に電導体を具え、さらに透孔を有している。これらの
シートは互いに積層されて、いくつかの透孔は互いに合
心状となり、導性材料がこの透孔に導入されて垂直方向
に延在してユニットの各段階間の電導体を構成してい
る。
4,629号には、セラミック材料から形成される型式
の多層ユニットにおけると同様な提案がなされている。
Phoohofskyのアメリカ特許第3,214,8
27号およびParksのアメリカ特許第3,775,
844号にも複数回路層のユニットが記載されている。
2,161号の多層セラミック本体回路ユニットにあっ
ては各構成要素の両面に銅電導体が施され、かつ相対す
る面間に延在する熔接材または剛性ワイヤーを具えた垂
直接続構造が用いられている。電導体を載設した構成要
素と垂直接続構造とは互いに積層されており、垂直接続
構造中において電導体が垂直接続により係合されてい
る。そのような構造のそれぞれはその主面上に可溶性の
ガラス層を有している。これらの構造は積層後加熱加圧
されて、当接する構造の面上の可溶性ガラスは、他の面
間に介装された可溶性ガラスとともに、溶けて全ユニッ
トを一体化して単一の多層装置にする。
829,601号にも他の多層構造が提案されている。
Berger他のアメリカ特許第40788,766号
には、中空の小孔状の中継構造を具えた電導体載設可流
性層体が開示されており、各構造は周辺から垂直に突出
するリムを有している。各中継構造は導性の接合材の薄
い層を有している。この多層構造を製造するには、誘電
性の接合フィルムを回路載設ラミナ間に介装する。この
誘電性フィルムは隣接する回路載設ラミナ中の小孔状構
造に対応する部位に孔を有している。加熱加圧下でユニ
ットが強制的に一体とされるときに、小孔状構造の垂直
リムは互いに支え合う状態となる。当接する小孔のリム
上の導性接合材の層は当接する小孔状構造間の接合部を
構成すると言われている。誘電性の接合層は極めて薄い
ものでなければならず、相互接続を要求される特定の部
位に孔を具えていなければならない。さらに平坦度また
は平行度からの偏位、ラミナ間のずれ、ラミナと誘電性
接合フィルムとのずれなどの許容度は限定されている。
加えて、当接小孔リム間には面または点接合だけが形成
されるので、垂直接合の強度が制約される。
77号には多層回路ボードを製造する技術が開示されて
いる。この製法にあっては、層間に粘度と流体特性とを
調整した接着剤が介装されており、層中の孔を通って接
着剤が浸透するのを防止している。
第3,795,047号に1開示された回路載設積層体
は、垂直接続の形状に対応する形状のエポキシ被覆を有
している。導性の球状粒子がこのエポキシ上に施されて
保持され、多層構造が相互に押圧されたときに相対する
層との接合部を形成する。
50号およびGrabbeのアメリカ特許第4,64
2,889号には、多数の透通孔を具えたシート状の介
装材が開示されている。ワイヤーなどの追加的な導性材
も一緒にまたはなしに、これらの孔には熔接材が完全に
または部分的に充填される。爾後介装材は接続されるべ
き回路間に挿入され加熱されて、複数涸の熔接接合点が
同時に形成される。
7,511号には、プリンと可流性の多数の層を接続す
るのに同様な手法が紹介されている。この場合熔接材を
載設した介装材は誘電性のフィルムを含んでおり、この
フィルムは熔接材が溶けた後でもその所定の位置に残っ
ているのである。
ような全ての努力にも拘わらず、回路、材料および構成
要素などにおいてまだまだ改善すべき点がある。
は多層回路ユニットの製造方法を提供することにある。
該方法にあっては、複数個の回路パネルを用い、各回路
パネルには1個の以上の電気的名電導体を設けるととも
に、少なくとも1個の主面上の所定の接続位置には電気
的に導性の材料を設けてある。さらに1個以上のシート
状の介装材を用い、各介装材は両主面上に所定の接続位
置を有しており、相対する面上の接続位置には電気的に
導性の構成要素が設けられている。介装材はその主面上
に、接続部位を除いて、可流性の誘電性材料を具えてい
る。回路パネル上、介装材上または両者上の電気的に導
性の材料のうち少なくともあるものは可流性を有してい
る。
装材とを上下に積層するステップを含んでおり、これに
より各介装材は2個の回路パネル間に挿入される。介装
材と回路パネルの主面は互いに相対するとともに、両者
上の接続部位は合心する。
誘電性材料を流化させて回路の主面に適合させるステッ
プを含んでいる。この可流性導性材料は流化して回路パ
ネル上および介装材上の電導体と会合して、各接続部位
において隣接する回路パネル間に延在する電導体となる
のが望ましい。積層回路パネルと介装材を加熱加圧する
際に、可流性の誘電性材料と可流性導性材料とが同時に
単一ステップで流化するのが最も望ましい。
の主面上に不規則的に充填される。特に回路パネルが主
面上に沿って延在する電導体を有しているときには、パ
ネル面上に隆起した条体となって現われる。可流性誘電
性材料はこれらの条体の間の空間を満たし、製造後各条
体は固体状の誘電性材料により完全に囲まれた状態とな
る。これにより回路パネル上の電導体や懸濁などの大気
効果から保護されることになり、好ましくない電気的な
影響や電導体近くの気泡または空気ポケットなどに起因
する構造的な問題も回避される。
隣接する回路パネル間尾接続の一部をなすものである。
誘電性材料の流化前に、各介装材の電導性構成要素は各
接続部位において隣接する回路パネルの電導体と当接ま
たは並設状態にされるのが最も望ましい。隣接する回路
ボード間に電導性の通路を形成するために介装材上の電
導体を用いると、介装材としてかなり厚さのあるものを
用いることができる。
ような内部構成要素の相対する面上に誘電性材料とを有
しているのが最も望ましい。内部構成要素はプロセスを
通して寸法的に安定であって、回路パネルの面に平行な
方向における好ましくない寸法的な変化に対して介装材
を補強するのが望ましい。
よく、これが最終製品においてアースなどの電位面を形
成する。各介装材の内部構成要素は多孔性構造を含んで
いてもよく、誘電性材料が流体状であるときにはこれに
より可流性の誘電性材料が多孔性構造の内部に押し入れ
られる。すなわち多孔性構造は過剰な可流性誘電性材料
を吸収する。以下に詳記するように、これにより介装材
が不均一な回路パネルの厚さと回路パネルの異なる面上
の隆起した電導性条体の数の変動を補償するのである。
と回路バネルとは、介装材が隣接する1対の回路パネル
間に挿入されるようにして、積層される。ここで介装材
と回路パネルの主面とは互いに相対面した状態となる。
積層ステップにおいては、各介装材面の接続部位を対面
する回路パネル上の接続部位と合心させる。各接触部位
のセットは2個の回路パネル上とその間に挿入された介
装材の両面上とに接続部位を有している。すなわち各合
心された接続部位は介装材上の電導性構成要素の電導性
材料と隣接する回路パネルのそれぞれの1個の接続部位
の電導性材料とを有していることになる。各合心された
接続部位中の電導性材料の少なくとも一部は可流性であ
る。
を硫化させて、各合心された接続部位中の電導性材料を
隣接する回路パネル間に延在する連続的な電導体とする
のが望ましい。さらに合心された接続部位における過剰
の電導性材料を捕捉して、少なくとも1個の回路パネル
または介装材中の貯留場所に入れるようにするのが好ま
しい。各接続部位セット毎に別設の貯留場所を用意して
もよい。
ルおよび介装材)には接続部位において主面から内部に
至る中空筒状の通路を設けて、各通路内に電導性材料を
沈在させてもよい。他の相対する構成要素は接続部位に
おいて露出する可流性電導性材料を有しているのが望ま
しい。通路内の空間過剰な可流性電導性材料の貯留場所
として機能する。さらに上記の通路は回路パネル内に形
成するのが特に望ましく通路内に延在する電導性材料は
通路を被覆する中空筒状の金属シェルとするのがよい。
通路とその中に設けられた電導性材料とは回路パネル全
体を透通するように構成するのが望ましく、その結果通
路内の電導性材料は回路パネルの両面上の電導体を接続
する。通路が回路パネル内に形成されている場合には、
介装材に両主面上の接続部位間に延在する孔を形成する
とよい。そのような各孔には回路電導性材料の単一体の
形の電導性構成要素を沈在させる。組立て工程において
は、そのような各単一体の電導性材料は回路パネル両主
面に形成された孔中に流れ込んで、通路中の電導性材料
を単一な電導体に結合する。
に供給することができ、過剰分は貯留場所により収容で
きる。したがって、回路パネルが正確な平坦性から偏位
している場合でも、可流性電導性材料が回路パネル間に
確実な接続を与えるのである。また、異なる回路パネル
矢介装材上の接続部位間における合心が多少偏位して
も、可流性電導性材料は低抵抗の確実な接続を構成する
ことができるのである。なお上記した2通りの方法を組
み合わせると最も望ましい結果が得られる。
ば、電気回路ユニットのための接続および接合介装材を
与えることができる。これらの介装材はシート状または
平坦状の本体を有しており、該本体は1対の相対面する
主面と両主面上に接続部位を有している。本体を透通し
て相対する主面上の接続部位間には電導性構成要素が延
在している。本体には接続部位を除いて主面の全体に可
流性誘電性材料が分散されている。この誘電性材料は接
続部位を除いて各主面を覆う層の形で設けてもよい。本
体の主面間には内部構成要素が設けられている。この内
部構成要素としては、可流性誘電性材料が流体状である
ときに.可流性誘電性材料を収容する考案を有した、シ
ート状の電導性電位面要素や多孔性要素が用いられる。
は、熱硬化性高分子、熱可塑性高分子、非反応または一
部反応高分子、プリカーサー(PRECUSOR)またはこれら
の組合せなどが挙げられる。また接着性材料であること
が望ましい。介装材を透通して延在する電導性構成要素
は介装材の主面に露出した可流性電導体を含んでいるこ
とが望ましい。この可流性電導体は熔接材などの全金属
性材料であっても、非金属製材料を含有するものであっ
てもよい。この介装材はラミネーション手法によった前
記の方法においても利用することができる。
多層回路ユニットを製造することができる。この製造方
法においては、複数の回路パネルを用い、第1の回路パ
ネルは互いに逆方向を指向する上下の主面を有した誘電
性の本体を含んでいる。この第1の回路パネルはその上
側の主面上の第1のパターン位置に接点を、下側の主面
上には端末を、また端末に接続された透通電導体を有し
ている。これらの透通電導体はパネルの上側主面に延在
している。この方法で用いられる複数の回路パネルは第
2の回路パネルを含んでおり、この第2の回路パネルは
下側面を具えた誘電性の本体を有している。またパネル
の下側面上の第1のパターンの位置に端末を有してい
る。これらの回路パネルを製造するに際しては、パネル
の上側面を選択的に処理することにより第2の回路パネ
ルを顧客別特殊仕様化(カスタマイズ)して、第1の回
路の透通電導体のうちいくつかがそのようなパネルの接
点に接続されるようにする。
の回路パネルを上下に積層するステップを含んでおり、
第1のインターフェース(界面部)内において、第1の
回路パネルの上面が第2の回路パネルの下面に対面する
ようになっている。また対面する面上の第1のパターン
互いに合致するようにしてある。したがって、第1のパ
ネルの接点は合致したパターンの位置の一部、典型的に
は全てにおいて第2のパネルの端末と合心状態となる。
第1のインターフェース(界面部)において、合心した
接点の全てを非選択的に接続するステップを含んでい
る。すなわち、第1のパネルの接点が第2のパネルの端
末と合心しているところならどこにおいても、接点と端
末とは互いに電気的に接続されるように、接続ステップ
を実施するのである。第1のパネルの上面上の接点に接
続された第1のパネルの透通電導体は第2のパネルの下
面上の端末に電気的に接続されるのである。しかし顧客
別特殊仕様化(カスタマイズ)された第1の回路パネル
上の透通電導体の全てがパネルの端末に接続される訳で
はないから、第1の回路パネル上の透通電導体の一部は
第2のパネル上の端末に接続されるのである。
または板状であるのか好ましく、下面と反対方向でしか
も平行な上面を有している。第2の回路パネル透通電導
体を有しており、これがパネル下面上の全または少なく
とも一部の端末と電気的に接続されている。これらの透
通電導体は第2の回路パネルの上面まで延在している。
は第2の回路パネルの下面上の端末に接続されている第
1の回路パネルの透通電導体は第2の回路パネルの透通
電導体と接続されて、2個のパネルを透通して延在する
連続的な電導体を一体構成するのである。そのような電
導体は一般に「垂直」または「Z方向」電導体と呼ばれ
ている。
2の回路パネルの透通電導体と接続されているか否かは
第1の回路パネルの透通電導体が第一の回路パネル上の
接点のどれかに接続されているか否かによって左右され
る。すなわち換言すれば、第1の回路パネルに施された
選択的な処理によって決まってくるのである。すなわち
この発明の方法においては、回路パネル上面の選択処理
により垂直方向の相互接続を制御しようとするものであ
る。
る技術にはかなり進歩したものがある。この技術は大量
生産にも短時間小量顧客別個別生産にも応用できるもの
である。
チング、選択的電気メッキおよびレーザー削摩などが挙
げられる。透通電導体をパネルの上面、下面または両面
上に延在する長い表面電導体に接続するには同じ選択処
理ステップを用いることができる。この選択処理は表面
電導体の形成にも用いることができるのである。
路パネルプリカーサーを用い、それぞれに内部透通電導
体を形成し上面と下面とに電導性材料からなる層を形成
する。このようなプリカーサーを得るには、貯蔵してあ
る材料の上下面に簡単な処理を施して顧客仕様特殊化す
ればよい。特定の部位のみに透通電導体を具えた顧客仕
様特殊化された個々の回路パネルを製造するには、なん
ら特別の道具や準備がいる訳ではないのである。
ターンを形成することもあり、爾後該層をエッチングま
たはメッキ溶液などの1通り以上の処理媒体により処理
してもよい。このような処理の後では電導体は抵抗パタ
ーンにより覆われていない区域にのみ残留するのであ
る。
端末に非選択的に接続するに際しては、しかるべき重の
可流性電導性材料を有した介装材をパネル間のインター
フェース(界面部)に設け、上記の第1のパターンの全
ての部位にその量が行き渡るようにするとよい。これに
より各介装材の可流性電導性材料はついで可流性の状態
とされ、これにより第1のパネルの各接点とこれと合心
している第2のパネルの端末とを溶かして電導性の一体
構造とする。
接合させるのが最も望ましい。この介装材と接合技術の
利用もこの発明の一環をなすものである。介装材が含有
する可流性誘電性材料は、第1と第2のパネルの相対す
る面を互いに接合するとともに、可流性の電導性材料が
設けられている第1のパターンの部位を除いて両面を互
いに電気的に絶縁するのである。
介装材を顧客別特別仕様とする必要がないということで
ある。すなわち、第1のパターンの部位に可流性電導性
材料を具えた標準品でよいということである。第1のパ
ネルの1個の透通電導体が第1パターンの特定の部位に
位置する接点に接続されていれば、可流性電導性材料を
介してその電導体は第2のパネルのいずれかの端末に接
続されるのである。かくして第1のパネルの透通電導体
は第2のパネルの透通電導体に接続されるのである。第
1のパネルの1個の透通電導体が第1パターンの特定の
部位に位置する接点に接続されてなければ、可流性電導
性材料が存在しても、第1のパネルの透通電導体を第2
のパネルの端末または透通電導体に接続はしないのであ
る。第1のパネルの第1の面または上面に施す選択的処
理により垂直または「Z方向」接続は左右されるのであ
るから、介装材を顧客別特殊仕様化する必要もなけれ
ば、垂直接続が必要とされる部位においてのみ電導性材
料をパネル間に設ける必要もないのである。
ば、多層回路パネルユニットを顧客別特殊仕様化するこ
とが自由にできるのである。またこの方法は2−3個の
パネルについて用いることができる。したがって第2の
パネルはその上面上に接点を有することができ、第2の
回路パネルの少なくとも一部の(しかし好ましくは全部
ではない)電導体はそのパネルの上面上の接点に電気的
に接続されるのである。かくして第2のパネルの上面は
上記した第1のパネルの場合と実質的に同様に選択処理
され得るのである。
路パネルを用いて、その誘電性の本体には下面を具え、
好ましくはこれと平行な上面も具えるようにする。第3
のパネルはその下面上に端末を有している。第2のパネ
ルの上面上の接点と第3のパネルの下面上の端末とは第
2のパターン内に設けるのが望ましい。第3のパネルは
第2のパネル上に重ねて、第2のインターフェース(界
面部)において第3のパネルの下面が第2のパネルの上
面に対面するようにする。ここで第2のパターンは互い
に合心するようにする。かくして第2のパネルの上面上
の接点と第3のパネルの下面上の端末とは、互いに合心
する。この第2のインターフェース(界面部)において
かく合心した接点と端末とは非選択的に接続されてい
る。この非選択的接続ステップは上記したように介装材
を含むものであるが、第2のインターフェース(界面
部)において用いられる介装材は第2のパターンの部位
に電導性材料を有しているのである。第3のパネルJは
上面と、第3のパネルの下面上の端末から該上面まで延
在する透通電導体とを、具えているのが望ましい。
それぞれのパネルの上下面間を実質的に垂直に延在して
いる。この積層ステップに際しては、第1と第3のパネ
ルの透通電導体が互いに合心するようにする。例えば各
パネルの端末は、透通電導体がパネル中に延在する通路
とともに端末を形成する下端とを有しているようなパネ
ル中の透通電導体の下端により、画定するようにしても
よい。この場合第1と第3のパネルの透通電導体は第2
のパターンの部位に配置され、第2のパネルの透通電導
体は第1のパターンの部位に配置されるようにしてもよ
い。かくしてユニットは種々のパネルをジグザグ状に延
在する複合垂直電導体を有することになるのである。
要素などのようなシート状の電導性の内部構成要素を有
している。また各パネルは透通電導体から離れた部位に
おいて該内部構成要素から上面または下面に向けて突出
した隆起を有している。
面電導体の全てではないが一部をそのような隆起に接続
させる。これにより透通電導体および/または表面電導
体の全てではないが一部がシート状の内部構成要素に接
続される。いずれの電導体が内部構成要素またはアース
要素に接続されるかは全く自由であるが、これには選択
処理に顧客別特殊仕様化を含ませる必要がある。
さらに他のタイプの多層回路ユニットを製造することが
できる。この回路ユニットは上記したような回路パネル
を複数個含んでなるものである。すなわち第1のセット
のパネルを少なくとも1涸と第2のセットのパネルを少
なくとも有するものである。各パネルは上下面を具えた
誘電性の本体と複数の透通電導体とを有している。各パ
ネルHはまた下面に端末を有しており、各端末は透通電
導体に接続されている。各パネルの上面にはさらに接点
が設けられている。
はそのパネルの透通電導体に接続されている。第1のセ
ットの各パネルは第1のパターンの少なくとも一部に接
点を、第2のパターンの全ての部位に端末を、それぞれ
有している。第2のセットのパネルは逆の構成であっ
て、第2のパターンの少なくとも一部に接点を、第1の
パターンの全ての部位に端末を、それぞれ有している。
これらのパネルはそれぞれの上下面を相対して、第1の
セットのパネルと第2のセットのパネルとが交互になっ
て相互間にインターフェース(界面部)を画定するよう
に、積層される。
心し、異なるパネルの第2のパターンもまた互いに合心
する。かくして各インターフェース(界面部)におい
て、各パネルの接点は他のパネルの端末と合心する。全
ての合心した接点と端末とは互いに接続されるのが望ま
しく、その場合には各パネルの少なくとも一部の透通電
導体はそれらの接点と端末とを介して他のパネルの透通
電導体にリンクされて、複数のパネルを透通延在する複
合垂直またはZ方向電導体を構成する。少なくとも一部
のパネルは、その透通電導体の一部がパネルの接点に接
続され、これによりそのパネルにおける透通電導体の一
部は積層中の次高のパネルの透通電導体に接続されるの
である。
電導体を具えているのが最も望ましく、この場合各イン
ターフェース(界面部)には絶縁層が介在して、隣接す
るパネル上の長い電導体を互いに隔離する。この長い表
面電導体はパネルの面に沿って互いに直交する第1と第
2の方向に延在するのが望ましい。各パネルの上面上の
長い電導体は第1の方向に延在し、下面上の長い電導体
は第2の方向に延在するのが、最も望ましい。
るのが望ましく、この場合列は第1の方向に対して平行
に、行は第2の方向に対して平行になるのが望ましい。
かくすることにより、接点と端末の行列はパネルの表面
上の長い電導体と平行に延在することになる。
端末から垂直上方に延在するのが好ましく、これにより
透通電導体は行列状の第1と第2のバターン内に配置さ
れることになる。第1と第2のパターンとは互いに折り
返し状であるが、互いに第1と第2の方向の一方に互い
違い状であるのが最も望ましい。
回路パネルプリカーサーを製造することができる。この
方法にあっては、第1の誘電性シート上に第1の電導性
材料を施し、誘電性シート上の離間した部位に電導性材
料のランド(island)を形成する。第1の電導性材料を施
すに際しては、電導性材料の連続層を形成するようにし
て、この層を透通して開口を延在せしめ、電導性材料の
ランド(island)はそのような開口中に配置するのが最も
望ましい。
材料を第1の電導性材料上に施して第2の誘電性シート
を形成して、2個の誘電性シート間に第1の電導性材料
が配置された積層体を得る。第1の電導性材料から離れ
た側のシートの表面は積層体の上下面をなすものであ
る。2個の誘電性材料は協働して電導性材料の各ランド
(island)を取り囲み、各ランド(island)を第1の電導性
材料の残余の部分から絶縁する。
を形成して電導性材料のランド(island)と合心させ、孔
を通して各ランド(island)が積層体の上下面に露出する
ようにする。誘電性シート中の孔の形成には、誘電性シ
ートが電導性のランド(island)により積層された後に誘
電性シートに輻射エネルギーを照射する。
沈在させて、積層体の上下面間に延在する透通電導体を
形成してもよい。この仲介材料は電導性材料のランド(i
sland)と会合して、各透通電導体が電導体の一部として
そのようなランド(island)を1個含むようにしてもよ
い。電導性材料が孔を具えた連続的な層として存在する
場所では、透通電導体は連続層中の開口を通って延在す
る。
て、表面材が透通電導体に接続されるようにしてもよ
い。仲介材料と表面材とはともに同時に施してもよく、
これには例えば積層体を孔とともにメッキ液に浸漬した
りスパッタリングしたりすればよい。
パネルプリカーサーを製造することができる。このプリ
カーサーは上記したような誘電性シートと電導性ランド
(island)とを有している。シートの誘電性材料は互いに
会合して各ランド(island)を取り囲み、プリカーサーの
上下面を構成する。プリカーサーは各誘電性層中に孔を
有するのが望ましく、仲介電導性材料はそのような孔中
を上下面からランド(island)まで延在して、仲介材料と
ランド(island)とが複合透通電導体を形成する。仲介材
料は典型的には中空の筒状で誘電性層の孔中を延在して
いる。
電導性材料を設けるのが望ましく、これが仲介材料に接
続される。仲介材料には金のような貴金属を含有させ、
電導性表面材には貴金属部分と塩基性金属部分とを含ま
せるのが望ましい。貴金属部分は透通電導体を取り囲む
上下面の端末形成区域およびこれから隔離された接点区
域に露出させるとよい。
造され、かつ上記したような多層回路構造を製造するの
に利用される。例えば異なる回路パネルを形成するに
は、このようなブリカーサーの上下面をエッチングすれ
ばよい。プリカーサに含まれている特殊な仲介構造は顕
著な利点を与えるものである。電導性材料のランド(isl
and)は誘電性材料を補強し、かつ孔が歪むのを防止す
る。加えて電導性のランド(island)は透通電導体の垂直
中間点(プリカーサーの上下面の間の透通電導体の中間
点近く)の近くの各透通電導体中に追加の電導性材料を
与えるのである。電導性のランド(island)はかくして、
仲介材料を沈在させ難い部位において、透通電導体を補
強するのである。以下添付の図面によりさらに説明す
る。
明の多層回路ユニット製造方法の一実施態様において
は、複数個の回路パネル10と介装材12とが用いられ
ている。各回路パネル10は相反する側の主面16、1
8を具えた本体14を有しており、これらの主面の面積
はこれら主面を連結する端面20の面積より実質的に大
である。なおこの明細書においていう「薄層体(LAMELL
AR)]とは一般にシート状または板状の対象物を指すも
のである。
路パネルの本体14は薄層体であってかつ実質的に平坦
であり、その主面16、18も面状でかつ互いに並行で
ある。各回路パネルには第1または上面上に電導体22
が、またその第2または下面上には電導体24が設けら
れている。第2図に明示するように、電導体22は極薄
であって、その誘電性の本体14と反する側の面は本体
14の主面16の他の部分より突出している。すなわち
電導休22は主面16(上面)上にパターンまたはラン
ドを画定しており、電導体間には凹部23が存在する。
同様に電導体24も主面18(下面)上にパターンまた
はランドを画定しており、電導体24間には凹部25が
存在している。
路26を有しており、主面16、18上の接続部位5
6、58を連結している。図示のように通路26は各回
路パネルを完全に貫通している。各通路26には電導性
材料28が沈在して、通路の内壁を被覆して通路全長に
亘って延在している。各回路パネルの一部の通路26内
の電導性材料28は上面上の電導体22を下面上の電導
体24に接続している。
面16、18から離れた位置において、1個以上のシー
ト状の電導性の電位面要素30を本体14中に有してい
る。各電位面要素30は通路26内を延在する電導性材
料28に接続され、ひいては回路パネル上の電導体2
2、24の1個以上に接続されている。そのような意図
された接続は別として、電位面要素30は回路パネルの
他の電導性の構成要素からは絶縁されている。
の形成に使用される回路構成材料が含まれている。した
がって誘電性の本体14は熱硬化性、熱可塑性または反
応硬化性高分子またはそれらの組合せなどの高分子材料
から形成されている。特にエポキシ、フェノール類、エ
ラストマー、液晶高分子、ケトン、サルトン、ポリアミ
ド、エポキシ変態ポリアミド、フロリネート高分子およ
びそれらの組合せなどが一般に用いられる。
よく、例えばガラス、セラミック、アラミドその他繊
維、粒子または中空球体などの高弾性モジュラス材料な
どが含まれる。繊維性の補強材は本体を形成する誘電性
材料中に拡散させてもよく、シート状、ニット状または
織物状で含ませてもよい。
もよく、ガラス、セラミック、ガラス−セラミック材料
およびシリコンなどが用いられる。電導体、通路内の電
導性材料および電位面要素などに用いられる電導性材料
としては金属性電導性材料、例えば銅、銅合金、アルミ
ニウム、タングステン、モリブデン、インバーなどのニ
ッケル−鉄合金、金そのたの貴金属、またはそれらの組
合せや合金などが挙げられる。電導性材料は互いにメッ
キした層状の構造(図示せず)で与えてもよい。これに
代えてまたは加えて、回路パネルの電導性の部分には本
質的に電導性の高分子または非電導性材料(非電導性高
分子など)と電導性高分子粒子(高分子中に微細金属粒
子を拡散させたもの)との混合物を含ませてもよい。
配置および各パネルの相対する側の電導体間の電気的接
続のパターンは最終製品中に組み込まれる回路による必
要のいかんいよって左右される。通常同一のユニット中
において用いられパネルが異なれば電導体のパターンも
異なってくる。通常パネルの一方の面上の電導体22は
主として一方を指向し、パネルの反対面上の電導体24
はこれと直交する方向を指向する。回路パネルにはその
他にも、種々の電気要素を接続するための諸構造(図示
せず)が設けられている。
体32を有しており、この薄層体は本体14の端面より
面積の大きい第1と第2の主面34、36を具えてい
る。これらの薄層体は実質的に平坦でシート状の構造で
ある。各薄層体32にはその第1の主面34上に可流性
の誘電性材料からなる第1の層38が、また第2の主面
36上に可流性の誘電性材料からなる第2の層40が。
それぞれ設けられている。ここでいう「可流性」とは少
なくともある種の条件下においては材料が流化できるこ
とをいう。
る必要はない。また可流性材料は永久に流体である必要
はなく、つぎに記載する工程中の一部において流体であ
れば足りるのである。これらの層に用いられる可流性材
料は製造工程中流化した後に固化または「硬化」される
ものである。可流性材料には1種以上の高分子が含ま
れ、その全てまたは一部は有機高分子である。その例と
しては、非硬化または部分硬化反応硬化高分子前駆体
(プリカーサー)(例えば通常「B−段階」エポキシと
呼ばれる部分硬化エポキシ樹脂)が挙げられる。その他
にも非硬化または部分硬化熱硬化性高分子および熱可塑
性高分子が用いられる。
硬化性接着剤または高温溶化接着剤などを一成分として
含むものであってもよい。すなわち層38、40中の誘
電性可流性材料は、該材料が最終的には回路パネルの表
面上に設けられた誘電性に接着するように、選択され
る。このような接着は、流化時に誘電性可流性材料が回
路パネルの材料と接触した際、またはそのような接触後
可流性が硬化する際に、起きるものである。非硬化また
は部分硬化エポキシなどの反応性硬化高分子は本質的に
接着性である。また多くの熱可塑性材料も、軟化または
粘液状であれば、接触時に相互に接着する。
必要であり、かつ揮発性材料を実質的に含まないことが
要求される。この明細書において「揮発性材料を実質的
に含まない」とは、可流性材料中に揮発性材料があった
としても、材料を流体状にして硬化させるに必要な温度
(約125mmHgの絶対圧力条件下で)において該材
料が気泡を形成しないということを意味するものであ
る。可流性材料の露出表面に気泡または揮発性材料が存
在すると、気泡を生じることなしに積層工程の前期にお
いて消滅することは期待できないのである。
なシート状内部構成要素42を有している。この内部構
成要素42は主面34、36から離れた位置において薄
層体32中に設けられており、これらの面に対して平行
に延在するものである。ここで「寸法的に安定」とは構
成要素の主面と平行な方向に 寸法安定性を有している
ことをいう。すなわち内部構成要素42は薄層体32の
主面32、34に平行な方向の変形に対して抵抗性を有
している。しかしこの内部構成要素42は可撓性であっ
て、主面と直交する方向については容易に曲げることが
できる。
電性材料シートから形成されている。通常内部構成要素
42を形成する材料の弾性 係数は可流性誘電性材料の
それよりも高い。内部構成要素に用いる高弾性係数材料
としては、ポリアミド、エポキシ、結晶高分子および液
晶高分子などが挙げられる。内部構成要素42それ自体
は繊維またはフィラメントなどの補強材料を分散または
織布状で含んでいてもよい。例えばガラス、セラミック
繊維などが好適である。また内部構成要素42は例えば
ガラスやセラミックなどの実質的に剛性で、非可撓性の
誘電性から形成してもよい。各介装材12はその本体を
貫通延在する複数の孔を有していてもよく、各孔は第1
の面34の接続部位46から第2の面36の接続部位4
7まで延在している。以下さらに記載するように、各介
装材上のそのような接続部位は、介装材に使用される特
定の回路パネル10上の接続部位のパターンに合致する
ように、選ばれている。このようなパターンは最終回路
に要求される電気的な設計により定まるものである。
各介装材の各孔に設けられている。この単一要素48は
介装材を一方の主面から他方の主面まで貫通延在してお
り、第1の主面34上の接続部位46に露出する可流性
電導性材料の第1の部分と第2の主面36上の接続部位
47に露出する可流性電導性材料の第2の部分とを包含
している。各露出部分50はそれを取り巻く介装材の主
面と面一であっても若干凹状になっていてもよい。しか
し若干突出しているのが一番望ましい。
は孔と単一要素48とによって中断されており、これに
より介装材の接続部位46、47には可流性電導性材料
は存在しないようになっている。
料は通常内部錫接合などのロウ付けに用いられるタイプ
の金属合金でよく、例えば金基可流性合金(例えば錫−
金ロウ付け合金)などが用いられる。このような合金に
あっては大体積の合金をゴールドリッチカバーが覆って
いる。また可流性電導性材料は電導性の可流性高分子
(例えばポリアセチレン)などの非金属性電導性材料を
含有していてもよく、または非電導性の可流性高分子や
部分反応高分子前駆体(プリカーサー)(例えばエポキ
シ樹脂)などを、それらのうちに拡散した金属材料とと
もに、含有していてもよい。また鉛−錫熔接材などの熔
接材であってもよい。 しかしこれらの熔接材は電導性
材料との接合のためにフラックスやアクチベーターなど
を必要とするので、あまり好ましいものではない。その
ようなフラックスやアクチベーターなどが用いられるも
のの、それらは積層工程中に好ましくない吐出ガスを生
成し、最終的なユニットに好ましくない残留物を残すの
である。
これらの電導性材料は可流性である。すなわち電導性材
料は適宜な条件下で流化するが、室温で流体である必要
はないのである。可流性電導性材料は気泡が実質的にな
く、揮発性材料も含んでいないのが望ましい。また可流
性電導性材料は流化の後は適宜硬化できるのが望まし
い。また可流性電導性材料は、回路パネルの電導性材料
と接合するようなものが、選ばれる。この接合には必ず
しも電導性材料によって回路パネルを湿らせる必要はな
く、両者間に電気的な接続をもたらすものであればよい
のである。
ては、内部構成要素42を構成するのに適した寸法安定
性の高弾性材料のシートを層38、40を構成するのに
適した可流性誘電性材料の層とともに押出し積層または
コーチングして、半仕上げ介装材シートを形成する。こ
のコーチング作業は連続または半連続基台上で行ない、
カレンダーリング、ロールコーチング、浸漬コーチン
グ、スプレーコーチング、静電コーチング、電気泳動沈
降などの周知のコーチング技術を利用する。
リルなどにより接続部位に孔を形成する。この作業には
パンチやダイス、ドリルなどの機械的道具を用いるか、
集中レーザー光などの輻射エネルギー技術を用いる。こ
れに代えて化学的なエッチングによってもよい。
クト比または長さ/直径比が比較的低く、典型的には
3:1以下、通常は1:1以下であることが望ましい。
そのような孔の形成は正確かつ容易に行うことができる
ものである。
導性材料を流体状で孔中に導入してやるか、または予成
形された可流性電導性材料を実質的に剛性状で孔中に挿
入してやる。例えば単一要素48を構成する電導性材料
はロッド又はワイヤーの状態で供給して、ディスク状の
小さな形状に切断する。これに代えて電導性材料のシー
トから打抜き成形してもよい。電気化学沈降または真空
沈降などの沈降により単一要素48を形成してもよい。
シルクスクリーンプリントなどのプリント技術により形
成してもよい。単一要素48が介装材の周囲の主面3
4、36と面一であることは必ずしも必要ではない。同
様に単一要素48が孔を完全に満たすことも必ずしも必
要ではない。
介装材12と回路パネル10とを互いに組み付けること
ができる。組付け前に両者とも検査をするのが望まし
い。積層技術においては、回路パネルを完全に成形して
電導体を必要な両面に設け、組付け前にに電導体間に電
導性の接続を形成する。かくして各回路の全ての構成要
素は回路パネルを他の構成要素に組み付ける前に検査で
きるという利点がある。これにより回路中にある欠点に
起因する浪費と無駄とを大幅に節減することができ、最
終製品の信頼度を大幅に向上させるのである。従来の両
面回路ボードを検査する手法により回路パネルは検査す
ることができる。
る。この検査に際しては、選ばれた接続部位に単一要素
48が有るか否か、他の部位にはそのような要素が有る
か否か、各単一要素48の電気的な連続性などを検査し
て、単一要素が介装材を完全に透通しているか否かを確
認する。このように事前に各構成要素をチェックできる
が故に、続いての積層作業を高度に確実に行うことがで
きるという利点がある。ここの回路パネルと介装材とが
良好であれば、得られる最終製品も間違いなく良好なも
のとなる。この結果組付け後の穿孔などの信頼度の低い
作業を必要とする工程が非常に有利となる。
解状態で第1図に示す。回路パネル10と介装材12と
は、その主面が相対する状態で積層される。両者は交互
に積層されて、各介装材が1対の回路パネル間に配置さ
れる。例えば介装材12aは隣接する回路パネル10
a、10b間に、介装材12cは回路パネル10b、1
0c間に、それぞれ配置される(第2図)。図中では理
解を容易とするために、回路パネルと介装材とは離間し
て示されているが、積層中において両者の主面は互いに
当接しているのである。
位を隣接する回路パネルの相対する主面上の接続部位と
合心させるようにする。接続部位46aひいてはそこに
露出している単一要素48aは回路パネル10aの接続
部位56aと合心し、回路パネル10bの単一要素58
aは介装材12aの反対側の接続部位4aひいてはその
部位に露出している単一要素48aの電導性材料と合心
する。
料が露出していることになる。図示の構造では、各回路
パネル上の各接続部位における露出電導性材料は通路中
の電導性材料28を含んでいる。例えば通路26aは回
路パネル10aの下面18aから内部に延在し、したが
って下面18ba上の接続部位56aにおける露出電導
性材料は通路26a中の電導性材料を含んでいる。各回
路パネルを貫通する電導性材料28は2個の異なる面上
における2個の離れた接続部位において露出電導性材料
を形成している。
業によってもあるいはロボット作業によっても行うこと
ができる。加えて回路パネルや介装材には案内孔や案内
端を形成して、これに案内ピンやロッドを係合させるよ
うにしてもよい。
とが流体状であり、かつ回路パネルと介装材とが合心状
態に維持されるので、両者は一体化を強制され、積層さ
れた回路パネルと介装材とを1対の板66(第3図)絞
ぼることにより、両者は強制的に合体される。もし必要
なるらば、単一要素48の可流性電導性材料または層3
8、40の可流性誘電性材料を流体状態とするために、
介装材と望ましくは回路パネルとを加圧工程前または中
に高温において加熱してもよい。かくして積層前に回路
パネルと介装材とは個々に予備加熱され、または絞ぼり
工程中に板に熱を加えることにより積層全体が予備加熱
される。両方を行ってもよい。
ると、各介装材の接続部位の可流性電導性材料は合心し
た接続部位において相対する回路パネルの電導性材料に
接触する。例えば接続部位46aにおける単一要素48
aの可流性電導性材料は回路パネル10aの合心した接
続部位56aにおける電導性材料28と接触する。同様
に接続部位47aないおける可流性電導性材料は回路パ
ネル10bの合心した接続部位58aにおける電導性材
料に流入接触する。電導性材料は回路パネルの電導性材
料と会合して連続的な電導性の通路を形成する。可流性
電導性材料は他の電導性材料と接合するのが望ましい。
性電導性材料はすでに同じ介装材の反対面上の可流性電
導性材料と電気的に接続されているので、これにより隣
接する回路パネルの接続部位間に連続した電導性の通路
が形成される。例えば単一要素48aの可流性電導性材
料は、介装材の両面上の接続部位46a、47aにおけ
る電導性材料も含めて、回路パネル10a、10b上の
接続部位58a、58bにおける電導性材料と絵合し両
回路パネルの間に延在する連続的電導性材料を形成す
る。これにより各回路パネル上の電導体22、24が相
互に接続されるのである。
0は隣接する回路パネルの相対する面と緊密に流化接触
して、面上の電導体間の凹部を満たす。例えば介装材1
2a上の層38aの可流性誘電性材料は回路パネル10
aの主面18a上の電導体24間の凹部25を満たすの
である。可流性誘電性材料は回路パネルの誘電性本体お
よび表面電導体と接着するのが最も望ましい。そのよう
な流化の後、各電導体は本体14の誘電性材料と可流性
誘電性材料とによって完全に取り囲まれる。このような
回路パネル上の電導体のカプセル化は、回路パネルが主
面上に可流性誘電性材料を有していなくとも起きるので
ある。
性材料とが流化した後、可流性材料は硬化されるか実質
的に固体状にされる。金属性熔接材や熱可塑性材料など
の可流性材料は積層を冷却することにより簡単に硬化さ
れる。エポキシやその他の高分子前駆体(プリカーサ
ー)などの反応性材料は反応を進行させることにより硬
化できる。完全となったユニットはそのまま使に供する
ことができる。半導体チップや別設の装置などは回路パ
ネル10a、10bの露出面に載設され電導体22、2
4に電気的に接続される。パネルユニットの露出面には
さらに可流性誘電性材料でコーチングを施して、露出面
上の電導体を保護するようにしてもよい。
面上の電導体は介装材の誘電性材料および相対する誘電
性本体14によって完全に包絡されているので、浸食そ
の他の大気中の悪影響から保護されている。同様にこれ
らの内部電導体は公知で且つ電気的特性が予測される電
気的特性を具えた固体誘電性材料により完全に包絡され
ているので、電導体近傍に存在する気泡による予測でき
ない電気的影響も除かれている。
工程態様を組み合わせることもできる。合心相対した接
続部位における可流性電導性材料は回路パネル内に画定
された通路26の空間内に浸透する。かくして通路の空
間は特定の接続部位に存在する過剰の可流性電導性材料
を収容する貯留場所として機能する。これにより接続部
位における隣接する回路パネル間の距離の変動が吸収さ
れる。
でなかったり平行でなかったりするときは、特定の回路
パネルの一部分が介装材の電導性材料に係合する。しか
し介装材の電導性材料が可流性であるので、かつ接続部
位における貯留場所内の空間に流れ込むので、第1の接
触部位における介装材の電導性材料は坐屈して、パネル
が介装材の方に移動する。かくして介装材の電導性材料
が同じパネル上の他の接続部位における電導性材料に接
触する。また介装材の電導性材料は回路パネル内に画定
された貯留場所に流れ込むことができるので、可流性電
導性材料は各貯留場所の電導性材料によって画定される
電導性材料の区域のほぼ全域に接触するのである。
則であるかまたは精密な平坦度や平行度から偏倚してい
る場合でも、回路パネルの面と完全で信頼できる面接触
を遂げることができる。誘電性材料の流れがそのような
偏倚を補償してしまうのである。可流性誘電性材料の一
部は、それまで可流性電導性材料により占められていた
空間および/または回路パネル上に画定された貯留場所
の一部または全部に、強制的に押し込まれるのである。
第3図に明示するように、介装材12a上の層38、4
0の可流性誘電性材料の一部は、当初、可流性電導性材
料48aにより占められていた空間中に膨出する。また
回路パネルの通路または貯留場所56が電導性材料を具
えていない介装材の部分に相対する場所においては、可
流性誘電性材料の一部がその通路内に浸透することがで
きる。例えば第3図に示す積層構造の下部に近い介装材
12b上の層38の可流性誘電性材料の一部は、回路パ
ネル10b中の通路26bに浸透するのである。
間の合心度に関しては、比較的鈍感である。第4図に示
すように、介装材12上の接続部位は隣接する回路パネ
ルに対して、介装材とパネルの主面と平行な方向につい
て、合心していない。このような偏心が1この貯留場所
または通路26の全直径より小ならば、隣接する介装材
の可流性電導性材料48は隣接する回路パネルの接続部
位において電導性材料28とまだ接触できるのである。
介装材12上の誘電性層38、40は可流性であるか
ら、誘電性材料は回路パネルを介装材の電導性材料から
離間した状態では保持しないのである。誘電性材料と電
導性材料とは却て貯留場所または通路26に浸透して行
くのである。
装材の両側の回路パネルはその介装材に対してまたは同
士間においてかなり偏心することもあるが、それでも介
装材の電導性材料によって確実に相互接続され得るので
ある。介装材の誘電性材料は接続とは干渉しない。過剰
の誘電性材料は過剰電導性材料とともに貯留場所または
通路26内に押し込まれるのである。
の回路パネルの場合には、特に重要である。隣接する通
路の直径や距離などの寸法が減少するとともに、回路パ
ネルと介装材の製造および合心における許容度は大きな
割合となる。にもかかわらず、許容される偏心の程度は
通路26の全直径に等しいから、非常に小さな通路直径
および隣接する通路間が小距離でも、かなりの偏心が許
容されるのである。このことは半導体チッブなどに使用
される非常に密で小型の回路ユニットの場合にはこの発
明の大きな利点となる。回路パネルユニットは望ましく
は直径が約0.5mm未満の複数の通路(ビア)を備え
た回路パネルを含んでおり、より好ましくは直径が約
0.25mm未満の複数の通路(ビア)を備えた回路パ
ネルである。間隔は約1.0mm未満、より好ましくは
約0.5mm未満である。
実施態様における介装材12’は内部構成要素42’を
有しており、この内部構成要素はその主面から内部に向
けて延在する孔43を具えている。可流性誘電性材料の
層38’、40’は内部構成要素42’の両面上に延在
して、可流性電導性材料からなる単一要素48’が主面
に露出している接続部位を除いて、介装材の主面3
4’、36’を画定している。
素について上記した材料と同じものから形成してもよ
い。孔43は内部構成要素の畦によって相互から隔離さ
れているのが望ましく、これにより孔が存在するにも拘
わらず、内部構成要素は相当の強度と寸法安定性を帯び
ることができるのである。
材料の層38’、40’を適宜な方法で施してもよい。
しかしその処理により孔を完全に埋めてしまうようなも
のであってはならない。したがって組付け作業の前に、
各孔43は可流性誘電性材料によっては占められていな
い充分な空間を内部に保有していなければならない。
介装材12’が工程中に利用されている。上記したよう
に、可流性電導性材料からなる単一要素48’と可流性
誘電性材料からなる層38’、40’とが流体状である
ときには、積層された回路パネルと介装材とは1対の板
間で絞ぼられて、隣接するパネル10’と相互に押しつ
けてその間に介装材12’を圧縮する。ここでも介装材
上の可流性電導性材料の単一要素48’の一部は各接続
部位における通路26’内に流れ込む。各介装材の主面
上の誘電性材料はパネル10’の相対する面に流化接触
して、回路パネル上の電導体間の空間を満たす。内部構
成要素42’内の孔43はここでも可流性誘電性材料を
収容する追加的な貯留場所として機能する。
材料の一部は、回路パネルが相互に押しつけられたとき
に、この材料の孔に押し込められる。これにより積層工
程中に介装材の圧縮が起きて、パネルの主面16’、1
8’が正確な平坦度から偏心している場合でも、システ
ムの信頼できる挙動を与える能力が顕著に向上されるの
である。加えて、回路パネル上における電導体の密度の
不均一さが孔の存在により補償されるのである。層3
8’、40’の誘電性材料の孔43’への流入によりパ
ネル面上の電導体22、24によって占められていた体
積が補償される。これらの電導体により置換された可流
性誘電性材料は満たされてない孔に流れ込み、パネルに
平行に流れる必要はないのである。
材12’’を第8図に示す。この介装材は繊維70を含
む繊維材料からなる内部構成要素42’’を有してい
る。該繊維70は互いの間に内部空間72を画定してお
り、この内部空間は第6、7図に示す孔43と同様な働
きをするものである。可流性誘電性の層38’’、4
0’’中の孔および繊維性の内部構成要素42’’を通
って可流性電導性材料48’’が延在している。
38’’、40’’に形成してもよく、これにはこれら
を内部構成要素42’’と組み付けた後にレーザーを選
択的に照射すればよい。可流性電導性材料はこれらの孔
中に分離して設けられ、これにより該分離した可流性電
導性材料は内部構成要素の両面に沈在することになる。
積層工程中に、可流性電導性材料は両面から内部構成要
素中に浸透し、可流性電導性材料は介装材を透通して延
在する一体の塊体を構成する。
内部構成要素を通って流れて、積層工程前に一体の塊体
を構成してもよい。さらにこれに代えて、可流性電導性
材料を内部構成要素上に沈在させて、構成要素の層を電
導性材料の周囲に選択的に沈在させるようにしてもよ
い。第8図に示したような構造および上記のような構造
においては、内部構成要素中の満たされない空間は貯溜
場所として機能して、積層工程中可流性電導性材料を吸
収する。
2などの満たされない空間を含んだ内部構成要素におい
ては、誘電性材料が流体状であるときに、可流性誘電性
材料が孔に流れ込むのを許すが、そのような流れに対し
てそこそこの抵抗を有している必要がある。これによ
り、積層された介装材と回路パネルとが互いに押しつけ
られたとき、可流性誘電性材料がかなりの圧力に達し
て、可流性誘電性材料が内部構成要素の中の抗を完全に
満たす前に、電導体と他の不純物との間の空間に浸透す
る。換言すれば、可流性材料が孔に流れ込むことに対す
る抵抗は、誘電性材料が回路パネル面上の電導体間の空
間に流れ込むことに対する抵抗に、約等しいものでなけ
ればならないのである。かくして可流性誘電性材料と内
部構成要素との間の境界にある孔の寸法は、回路パネル
の面上の隣接する電導体間の距離より、大きいものであ
ってはならないのである。小さい孔は内部構成要素内の
空間への流込みに対する抵抗がもっと大きいのである。
を有していないが、その代わりに両主面134、136
に可流性誘電性材料の固体を有している。内部構成要素
を有していない介装材を用いた積層工程においては、温
度と圧力条件とを厳密に制御して、主面134、136
における可流性誘電性材料の層138が、回路パネル上
の電導体間の空間に浸透するに充分なだけ流化するが、
誘電性材料の大きな流れが位置を外れている介装材の内
部構成要素を掃引しないようにしなければならない。か
くして可流性誘電性材料はペースト状または粘性状とさ
れるのである。
導性の高分子マトリックス151中に分散された電導性
粒子149から構成される複合可流性電導性材料148
を含んだ、内部構成要素を有している。この複合材料は
電導性ではあるが、その電導性は純粋な金属のそれより
は低く、したがって可流性電導性材料148全体を通し
ての電気抵抗は比較的高いものである。
路を形成するために、帯状の金属性電導体153が、上
面134付近か下面136付近まで、介装材112の全
厚さに亘って延在している。この電導体は複合可流性電
導性材料148と接触している。この可流性電導性材料
が介装材の両側において回路パネルの電導性材料と接触
すると、回路パネルの電導性材料は金属性電導体153
の近くに沈在する。各接続部位において、回路パネルの
電導性材料は介装材の金属性電導体153と、複合可流
性電導性材料を通る短い低抵抗性の通路のみにより、接
続される。
素が介装材全体を透通延在する可流性電導性材料の単一
体ではない点において、上記したものとは異なってい
る。各電導性要素は介装材の一方の主面上に可流性電導
性材料の塊体248を、また他方の主面上には他の同様
な塊体249を、さらにこれらの塊体248、249間
に延在する非可流性電導性材料250を、それぞれ有し
ている。
上の接続部位の一部が他の側のそれと互い違いな配置に
なっている。例えば主面234上において塊体248a
により画定される接続部位は主面236上の塊体249
aにより画定される接続部位と互い違いの配置になって
いる。この配置は隣接する回路パネル面上の接続部位が
互い違いになっている場合に利用できる。
延在する可流性電導性材料348の塊体を有した介装材
312を用いたユニットの場合には全ての回路パネル中
に貯留場所を必要とはしないのである。したがって回路
パネル310bは接続部位に通路も孔も有していないの
である。接続部位には回路パネルの主面上の電導体32
2に接続された電導性材料の平坦なディスクまたは板を
有しているだけである。
続部位356a面318に開口する貯留場所326と、
接続部位において通路被覆328の形で電導性材料と
を、有している。貯留場所326は組付け作業中介装材
312中の電導性材料の本体348からの過剰な電導性
材料を収容する。組付け作業中可流性電導性材料の本体
348は完全に流体状であるから、貯留場所326は介
装材312の面上の接続部位358aおよび356aと
流体連通している。接続部位358に存在するであろう
過剰の可流性電導性材料は全て上方の接続部位356の
方に移動して、貯留場所326が過剰の電導性材料を効
果的に収容する。
製であって、最終製品におけるアース面または電位面と
してこれを利用できる。内部構成要素342は可流性電
導性材料の塊体348の一部と接触しており、これによ
り上記の電位面経の電気的な接続を与えている。最終製
品にあっては、内部構成要素342は可流性電導性材料
に電気的に接続されている回路パネル電導体に電気的に
接続されている。残余の可流性電導性材料(図示せず)
は可流性電導性材料を取り巻く誘電性材料によって電導
性の内部構成要素342から絶縁されている。
ネル410はその接続部位456、458に貯留場所を
有していない。介装材480はその両面上の接続部位4
46、447間に貫通延在する可流性電導性材料の塊体
448を有している。介装材の内部構成要素442はこ
れらの塊体448に開口する貯留場所451と可流性誘
電性材料の層438、440に開口する孔443とを有
している。
電導性材料は回路パネル410が合体されるときに貯留
場所451内に押し込まれる。この過程は層438、4
40からの過剰可流性誘電性材料が孔443に押し込ま
れる際のそれと同じである。かくして各貯留場所451
は合心した相対する接続部位446、456および合心
した相対する接続部位458、447と流体連通状態と
なり、これによりそれらの対になった接続部位からの過
剰な可流性電導性材料を貯留場所451が収容するので
ある。
一例を挙げると、第1−5図に示した全構成は逆にする
ことができ、回路パネルに可流性電導性材料の塊体を設
け、介装材を貫通して延在する電導性の筒状の要素の形
で貯溜場所を与えることもできる。またこの発明のユニ
ットに用いられる回路パネルおよび介装材の数は増減自
由であるが、通常は少なくとも2個の回路パネルと少な
くとも1個の介装材が用いられる。
していてもよい。積層体の端部に配置される回路パネル
は必ずしも層状である必要はない。介装材に対面するこ
とのないこのような端部の回路パネルはいかなる外形形
状であってもよい。例えば最上または最下の回路パネル
は突起や壁やその他の構造を端面や積層部位から外れた
部位に具えたケースの一部などであってもよい。また同
様に、内部回路パネルおよび/または介装材などの積層
外側方に突出していて積層体中の他の構成要素に相対し
ない部分は層状でなくともよい。
は半連続式に改変することができる。すなわち回路パネ
ルと介装材とを連続リボン状で供給し、ニップローラー
などの連続積層装置により積層作業を行なうようにす
る。
前に回路パネルに固定することも必ずしも必要ではない
のである。例えば、可流性材料の層と上記の内部層とを
回路パネルの積層とともに正しい位置に積層して介装材
を形成することもできるのである。
きる。すなわち2個以上の回路パネルを適宜な介装材と
ともに積層し、これを組み合わせてサブユニットとして
から、サブユニットを互いに積層してもよいし、サブユ
ニットを他のサブユニットおよび介装材と積層してもよ
いし、これらの積層したものをさらに積層してより大き
なユニットとすることもできるのである。
す回路パネル前駆体(プリカーサー)を製造する方法に
おいては、誘電性材料からなる第1のシート500を利
用する。この材料としては上記した回路パネル用のもの
から適宜なものを選んで使用する。しかし第1のシート
は好ましくは熱可塑性高分子、より好ましくはポリアミ
ドから形成する。またシート500の厚さは約150μ
m未満であるのが望ましい。
の金属の電導性材料からなる連続層が積層される。この
電導性の層は従来のメッキ法などによって施してもよ
く、別設の層をシートと重ねてから加圧加熱しても形成
できる。ついで層502の一部を除いて第14図に示す
ような構造とする。これにより層には孔504とランド
(island)506とが行列状に形成される。この行列配列
のうち、列は層の面と平行な図中矢印Xで示す第1の方
向に、これと直交して行は面と平行な図中矢印Yで示す
第2の方向に、それぞれ指向している。
置されている。各ランドは層502の他の部分から隔離
されている。すなわちランド506と孔504とを形成
するに際しては、層502の各ランド506を取り巻く
環状の部分は除かれる。これには電子要素の製造にも用
いられる周知の適宜な方法によればよい。例えばまず層
502をフォトレジストでコーチングしてから、光に暴
露して取り除かれるべき環状部分を除いてフォトレジス
トを硬化させる。ついでフォトレジストを洗浄して硬化
されてない部分を除く。ついでエッチング液に暴露して
層をエッチングする。この際フォトレジストは層を保護
しているので、暴露された部分のみが除かれる。
とランド(island)506とを適宜周知の方法により選択
沈降させてもよい。一例として、孔504に対応する区
域においてシート500をレジストでコーチングし、爾
後無電解メッキ液のさらしてレジストにより覆われてい
ない区域に金属材料を沈降させてもよい。
(island)とが形成された後、層502上にさらに誘電性
材料を施す。これにより第2の誘電性の層508が第1
5図に示すように形成される。かくして積層体は誘電性
層500と508との間に電導性材料層502を有する
ことになる。電導性材料層502から離れた方の下側の
誘電性層500の表面516は積層体の下面を構成し、
上側の誘電性層503の表面514は積層体の上面を構
成することになる。
電性材料と同じ組成と厚さとを有しているのが望ましい
が、組成や厚さが異なっていてもよい。層508の材料
は液状の誘電性材料をコーチングしても得られるし、別
設の層508を用いてシート500および層502と加
圧加熱合体しても得られる。誘電性シート500と層5
08とは孔504の環状部分に浸透して互いに合体し、
各ランド(island)506と電導性層502を取り巻く区
域との間において各孔504内に誘電性材料510を形
成する。第15図中には2個の孔504と2個のランド
(island)506のみが示されているが、残余の孔とラン
ド(island)も実質的に同様な構造である。
06と合心してシートおよび層500、508内に通路
512が形成される(第16、17図)。これによりラ
ンド(island)516は積層の上面514と下面516と
にに暴露される。通路512は行列状(X、Y方向)に
配置される。通路512を形成するに際しては、面51
4、516のランド(island)506と合心する区域を暫
時レーザーなどの強力光源からの放射にさらして、誘電
性材料を除去する。他の選択除去方法でもよい。例えば
適宜なフォトレジストでマスキングして、高分子を化学
的エッチング液で選択的にエッチングしてもよい。
は積層の約半分未満を透通延在している。したがって面
514、516からの距離が増加して通路512が傾斜
または縮径しようとしても、表面から電導性ランド(isl
and)までの限られた距離については各通路512の直径
は実質的に減少しないのである。
下側の誘電性シート500にのみ形成することもある。
この突起通路は孔504の外側の位置において積層の下
面516から層502まで延在して、各突起通路512
を介して層502の連続した部分が露出される(第17
図参照)。これらの各突起通路はX方向の列の孔と合心
しているが、Y方向の行の孔からは距離Dγだけずれて
いる。第16図に示す他の通路512の行は上記のよう
な突起通路を伴なっていない。これらの突起通路のパタ
ーンはランド(island)516および通路512のパター
ンと予め定められた関係を持っているのが望ましい。例
えば、突起通路をランド(island)および通路512の4
行毎に設けるというような関係である。これに代えて突
起通路は各行毎に設けてもよい。
2を形成するためには、ロボットビジョンシステムによ
るように、ランド(island)の位置を光学的測定により決
定するのが望ましい。シートと層500、508の一方
または双方が透明である場合には、ロボットビジョンシ
ステムによりランド(island)を直接観察することができ
る。両者が不透明な場合には、孔504とランド(islan
d)506とを形成したと同様な方法で、ランド(island)
に対して所定の空間的関係でマーク518(第14図)
を層502中に形成する。例えば、上記のフォトエッチ
ングにより形成することができる。該マークを含んだ層
5F02の区域は層508によっては覆われてなく、し
たがってマークはロボットビジョンシステムにより観察
することができる。
性金属などの塩基性電導性材料の層522、524(第
18、19図参照)を積層の上下面514、516上に
沈降させる。これらの層は前面を覆うものである。上下
層の塩基性材料は通路512内にも延在して孔中に被覆
層を形成する(第19図)。これらの被覆層はランド(i
sland)506の電導性材料と会合して各ランド(island)
506の部位において積層全体を透通する単一の透通電
導体を形成する。これにより該透通電導体は通路により
占められていた部位に位置することになる。
いて上記したのと同じような格子状の行列配置となる。
この配置の列は所定のY方向の格子距離DYにより互い
に離間され、行の方はX方向の格子距離DXにより互い
に離間される。同様にして下側の塩基性金属層524は
突起通路内に延在して、積層の下面から電導性層502
まで延在する電導性中空突起528を形成する。
4と一体に電気的に接続されており、突起は下面の電導
性層524と一体となっている。第19に明示されてい
るように、各透通電導体527はほぼ垂直に延在してい
る。また透通電導体527は下面の層524において開
口する貯溜場所532を有している。透通電導体も同様
に層522において開口533を有している。
両面に選択的に施される。この貴金属は、各透通電導体
527の下端を取り巻く環状の電極部(terminal regio
n)530を被覆するように、また各電導体の下部の内部
空間532を被覆するように、施されるものである。し
かし各孔を介して沈降された貴金属と塩基性金属とは孔
を完全に満たすものではなく、各空間532の一部は空
のまま残され、電極部530内において積層の下面への
開口状態を残している。
上端に隣接する環状の接点538にも施される。各環状
の接点538は上記の列X内の透通電導体527と互い
違いになっている。しかし各環状接点は行Y中の透通電
導体537とは一線になっている。各接点と透通電導体
527との心間距離はずれ距離DOである。接点538
を被覆している貴金属はその中心に孔5F37を画定す
る環状である。上面の塩基性金属層522は各孔537
内に露出している。接点538は隣接する透通電導体5
27の上端534から隙間540だけ離間している。上
面上の塩基性金属層522は各隙間内に露出している。
同様にして各下面電極部530の被覆貴金属と隣接する
突起、下面の塩基性金属層、との間には隙間542(第
18図)が存在する。
駆体(プリカーサー)は2個のタイプまたはセットから
なるのが最も望ましい。透通電導体527と接点538
との間のずれの距離DOの大きさは、両方のタイプにつ
いて同じであるが、ずれの態様は2個のタイプの間で逆
になっている。第20、21図に2個の回路パネル前駆
体(プリカーサー)を製造工程の後の段階で示してあ
る。
ーサー)、すなわち第1のタイプの回路パネル544
(第20図)は透通電導体527と接点538とを有し
ており、接点はパネル面と平行なX方向の列546、5
48、550および552上に配列されている。隣接す
る列は距離DYだけ離間している。透通電導体527、
すなわち透通電導体の下端における電極部530はX方
向に対して直交するY方向の行554、556内に配列
されている。透通電導体の行554、556は格子距離
DXだけ離間している。換言すれば、1個の透通電導体
527、すなわち1個の電極部530は特定の行55
4、556と列546、548、550、552の交点
に配置されている。かくして下面上の透通電導体ひいて
は電極部530はこれらの行列に対応する第1の四辺形
パターンの全ての位置に配置されているのである。
に配置され、行558、560と列546、548、5
50、552との間の交点に配置されている。したがっ
て上面上の接点538はこれらの行列に対応する第2の
四辺形パターンの全ての位置に配置されているのであ
る。第2のパターンは第1のパターンと同一であるが、
第1のパターンに対して第2のパターンはX方向にずれ
距離DOだけずれている(第18図中では右方にずれて
いる)。すなわち行558は行554に対してX方向に
距離DOだけ、行560は同様に行556からずれてい
る。透通電導体の行と同様に接点も距離DXだけずれて
いる。
ーサー)、すなわち回路パネル562(第21図)は透
通電導体527と第2のパターン中の下面電極部530
とを有しており、これらは行558、560と列54
6、548、550、552の交点には配置されてい
る。上面上の接点538は第1パターン内に配置されて
おり、行554、556と同じ列との交点に位置してい
る。したがって接点538は透通電導体537の下面端
電極部530から−X方向に距離DOだけずれている。
1個の第1のタイプの前駆体(プリカーサー)と少なく
とも1個の第2のタイプの前駆体(プリカーサー)とを
用いるのが、最も望ましい。これらの前駆体(プリカー
サー)は、例えば表面電導性層522、524を選択的
にエッチングするなど(第18、19図)の、適宜な処
理を上下面に選択的に施すことにより、回路パネルにさ
れる。
電導性層の一部をパネルの上下面に沿って延在する長い
表面電導体として残すようにして、行なう。各パネルの
上面上のこの表面電導体564(第20、21図)は第
1のX方向に延在し、下面上の表面電導体566(破線
で示す)は第1の方向と直交する(上面の表面電導体5
64と直交する)第2のY方向に延在している。
ンは、パネル544上の表面電導体564の一部または
全てが各パネルの透通電導体527と電気的に接続され
るように、選ばれる。上面電導体564は典型的には1
個以上の透通電導体527の上端534と合体してい
る。同様にして、パネル544の下側表面電導体566
の一部または全てはパネル下面上の端末530と合体し
て、パネルの透通電導体527の1個以上と電気的に接
続されている。各パネルの表面電導体の一部また全部は
同様にして透通電導体に接続されている。図中には明確
にするために極く一部の表面電導体564、566のみ
を示してあるが、実際には数百の表面電導体と透通電導
体とを含んでいてもよいのである。
は、各回路パネルの全てではないが一部の透通電導体5
27を接点538に接続するように、選ばれる。例えば
透通電導体527aひいてはその下端の電極部530a
はパネル544の上面上の隣接する接点538aと接続
されている。また透通電導体527bは上面上の接点5
38aとは接続されていないのである。同様にして透通
電導体527cひいては下面上のその電極部530cは
接点538aに電気的に接続されており、同パネル上の
その他の透通電導体は接点には接続されていないのであ
る。
端534と接点538との間の隙間540(第18、1
9図)内の塩基性金属を選択的にエッチングする。接続
を必要とする部位においては、隙間内の塩基性金属はそ
のままにしておいて、透通電導体の上端と接点538と
の間に短い導線570(第20、21図)を形成する。
接続が必要とされない部位においては、隙間内の塩基性
金属をエッチングにより除去する。例えば、レジストが
施されて光に暴露することにより選択的に硬化された、
フォトレジストを用いた典型的なエッチング工程におい
ては、隙間540上に横たわるレジストが硬化されて、
そこに残ってエッチングを邪魔して導線570を残す。
しかし硬化されないままでいて、レジストが除かれて、
接続が望まれない部分においては金属がエッチングされ
る。
部530と接点とを構成する区域は、選択的処理または
エッチング工程によっては影響されないのである。エッ
チング工程中これらの区域は好ましくは硬化されたレジ
ストにより覆われている。またこれらの区域のそれぞれ
を覆っている貴金属はエッチング処理に対しては抵抗性
を具えている。
ング処理は、電極部530と突起538の下端との間の
隙間542に選択的に塩基性金属が残るように、制御さ
れる。これにより、電極部530ひいては透通電導体5
27と突起528との間に接続部572(第20、21
図)が構成される。ここでも接続が必要とされない部位
においては、隙間内の塩基性金属は除かれる。そのよう
な接続部572は1個の端末530ひいては1個の透通
電導体を1個の突起に接続し、かつ各突起538は内部
電導性層502の連続部分と電気的に接続されているか
ら、各接続部572は1個の端末ひいては1個の透通電
導体を連続電導性層に接続する役目をする。典型的には
各パネル上の極く一部の透通電導体のみが連続電導性層
に接続されるのである。
体に接続されていようといまいと、上面の表面電導体5
64と接点538との間に接続部を、形成することもで
きる。加えて下面の表面電導体566も、突起が透通電
導体に接続されていようといまいと、突起528に接続
される。
ーンは回路に対する要求により左右される。以下詳述す
るように、この接続は組付け後に複数のパネルを透通延
在する多層通電導体を形成する。最終製品における異な
るパネルの透通電導体間の接続は透通電導体と接点間の
接続部がないところでは中断される。表面電導体56
4、566およびそれらの他の構成要素に対する接続の
パターンは回路に対する要求により左右される。
じ選択的処理またはエッチング工程はパネルの上下面に
「基準」またはガイドマーク574、576を形成する
こともできる。これらのマークはエッチング工程中残さ
れた上面金属層の一部により構成されるものである。こ
のマークは他の構成要素を形成するのに用いられる選択
的処理と同じ処理により形成されるので、他の構成要素
に対して正確な位置づけを行なうことができる。特にパ
ネルの上下面の連続電導体に対してこれらの基準マーク
は正確な位置にある。フォトレジストの硬化の場合のよ
うにエッチング工程が光に対する選択的露光を含んでい
る場合には、他の構成要素を形成するのと同じパターン
などで選択的露光を行なうことにより基準マークを形成
することができる。パネルの上下面に構成要素を正確に
位置づけるには、上下面は単一のステップで露光されな
ければならない。基準マークは接点および端末に対して
予め設定された位置に配置される。上面上の基準マーク
574は接点538の最も近接する行に対して距離Df
だけX方向にずれ、下面上の基準マーク575は端末5
30の最も近接した行に対して同じ距離だけずれてい
る。
574は下面上の基準マーク575に対して透通電導体
527と接点538との間のずれの距離DOに等しい距
離だけX方向にずれている。すなわち第1のタイプのパ
ネル544の下面上の基準マーク575はそのパネルの
上面上の基準マーク574に対して+X方向(第20図
中右方に)にずれている。第2のタイプのパネル562
(第21図)の下面上の基準マーク575に対して上面
上の基準マーク574は−X方向にずれている。これら
の基準マークは辺XY方向に延在する四辺形であるのが
望ましい。これらの辺は自動ビジョン合心システムによ
り検知することができる。
関連して介装材を利用する。介装材(第22図)は上下
面577、579を具えかつ誘電性材料からなる平坦ま
たはシート状体576を有している。各介装材は可流性
電導性材料からなる塊体578を有しており、これが上
下面577、579間を延在している。これらの塊体5
78はパネルの行列に対応する行列内に相互に離間して
配置されている。すなわち塊体578は第1のX方向の
列581、583、585および587内と第2のY方
向の行589、591内に配置されている。行589、
591間のX方向の間隔はパネル上の隣接する接点の行
間距離DXに等しく、列581−587間のY方向の間
隔はパネル上の隣接する接点の列間距離DYに等しい。
準マーク584を有しており、最も望ましくはこれらの
基準マークは可流性電導性材料の位置づけに用いられた
と同じ手法で施される。例えば、介装材の本体を透通し
て設けられた孔内に可流性電導性材料が沈降される場合
には、基準マークは本体を透通する孔であり、塊体57
8のための孔を形成すると同じ手法で形成される。逆に
可流性電導性材料がシルクスクリーンなどのプリント手
法で施される場合には、基準マークは可流性電導性材料
から形成されて、電導性の塊体578と同じ手法でプリ
ントされる。
の最も隣接した行との間の距離Dfはパネル上面上の基
準マーク574と接点538の行との間の距離Dfと同
じであり、かつ下面上の基準マーク575と端末530
(第20、21図)間の距離Dfと同じである。
各介装材は最も望ましくはその上下面に可流性誘電性材
料の層を有している。組立て作業中の1ステップにおい
て、少なくとも1個の第1のタイプの回路パネル544
と少なくとも1個の第2のタイプのパネルとが上下面を
相対して積層される。このとき第1のセットの回路パネ
ル544と第2のセットの回路パネル562とは積層中
で交互に積み重ねられる。
す。回路パネル間にはインターフェース(界面部)が介
在している。これらのインターフェース(界面部)には
2通りのタイプがあり、第1のタイプのインターフェー
ス(界面部)571にあっては第1のセットの回路パネ
ル544の上面が第2のセットのパネル562の下面5
16に対面しており、第2のタイプのインターフェース
(界面部)573にあっては第2のタイプのパネル56
2の上面が第1のタイプの回路パネル544の下面51
6に対面している。
介装材580が設けられていて、各第1のタイプのパネ
ルの上面とつぎの隣接する第2のタイプのパネルの下面
との間に介在している。同様にして、各第2のタイプの
インターフェース(界面部)にあっては、第2のセット
のパネル562の上面とつぎの隣接する第1のタイプの
パネル544の下面との間に介装材580が介在してい
る。かくして介装材とパネルとは交互に積み重ねられて
おり、パネル間には介装材が介在している。これらのパ
ネルは各面(上記のXおよびY方向)に平行な方向に互
いに合心している。これにより第1および第2のパター
ンは互いに合心している。かくして積層中の各パネル上
の行554は共通の面554’内に位置し、同様に各パ
ネルの行556−560は共通の面556’−560’
内に位置している。同様にして列546−552は第2
3図の図面と平行な共通な面内に位置している。
部)571にあっては、電導性の塊体の行581、58
3は面558’、560’内に配列されている。したが
って各第1のタイプのインターフェース(界面部)57
1にあっては、第1のセットの回路パネル544の上面
上の接点538は第2セットのパネル562の下面上の
端末534と合心し、そのようなインターフェース(界
面部)における可流性電導性材料578の塊体はこれら
の構成要素と合心している。これらの合心した構成要素
は第1のパターンの全ての部位に配置されている。例え
ば、最も内側の第1セット回路パネル544の上面上の
接点538d、他の第2のタイプの回路パネル564の
下面上の端末530dおよび電導性塊体578dは全
て、行558(面558’)および列のひとつの交点の
そのような第1パターン部位のひとつにおいて、互いに
合心している。
部)において、介装材は、電導性の塊体の行581、5
83が面554’、556’内において合心するよう
に、配置されている。したがって第2セット回路パネル
562の上面上の接点538は第1セット回路パネル5
44の下面上の端末530と合心しており、かつ介装材
580の可流性電導性塊体と合心している。例えば、接
点538e、可流性塊体578eおよび端末530eは
全て互いに合心している。第2タイプインターフェース
(界面部)におけるこのような合心は、第2パターンの
全ての部位において起きる、すなわち面554’、55
6’(各積層された構成要素の行554、556)と前
記の列との間の交点に対応する全ての部位において起き
るのである。
るが、これには基準マークと自動ビジョンシステムとが
利用されており、回路構成要素をそれらの構成要素の面
に平行にX、Y方向に望むように変位させて、精密な合
心を達成するのである。
ステムは好ましくはすでに積層体中にある一番高い構成
要素の上面と、ついで積層体に添加されるべきつぎの構
成要素の下面を観察する。各場合において、そのような
面上の基準マークを互いに上下に位置させることによ
り、適宜合心が達成される。したがって第1タイプイン
ターフェース(界面部)571と第2タイプインターフ
ェース(界面部)573との間の介装材の電導性塊体の
所望位置間のずれは、上下の基準マーク574、575
間のずれの結果として、自動的に生み出されるのであ
る。
一時的に流体状とすることにより、回路パネルと介装材
とは単一のユニットに溶合される。これには積層体を加
圧下で加熱すればよい。積層技術について上記したのと
同様な過程により、介装材の可流性電導性材料は各合心
した接点と端末とを一体化して電気的に相互接続するの
である。
なわちパネルの上面上の接点538がつぎの直ちに積層
されたパネルの下面上の端末534と合心しているとこ
ろならばどこでも、該接点と端末とはたがいに接続され
るのである。各透通電導体527(第19図)の下端に
開口する空間532は、積層技術について上記したのと
同様な過程で、可流性電導性材料のための貯溜場所とし
て機能する。また介装材上の可流性電導性材料は回路パ
ネルを相互に接合し、パネルの上下面における不規則さ
(例えば異なるパネルの上下面上の表面電導体564、
566の不規則さ)を補償するのである。
直電導体を形成するが、この垂直電導体は複数のパネル
を透通延在するものである。そのような複合垂直電導体
の典型例を第24図に示す。これらの複合電導体は2個
のパターン部位(すなわち第1パターンの部位588と
第2パターンの部位590)にある透通電導体、端末お
よび接点から構成される。第24図において回路パネル
の誘電性部分および介装材は、理解を容易とするため
に、割愛してある。また各パネルの中心における内部電
導性層502も同様の理由から一部大きく割愛されてい
る。
点コネクター570fは透通電導体527fの上端と接
点538fとの間に延在している。接点538fは電導
性塊体578により重ねられた電極部530fに接続さ
れており、透通電導体527f、527gは互いに電気
的に接続されて、ユニット中の2個の最下段パネルを透
通延在する複合垂直電導体589を構成している。この
複合電導体は透通電導体527fの下端から透通電導体
527gの上端まで延在し、積層体中の下から2段目の
パネルの上面上の表面電導体564gを最下段のパネル
の下面上の表面電導体566fに相互接続している。最
下段のパネルの端末530fと突起528fとの間に延
在する突起コネクター572fがあるので、この複合垂
直電導体ひいては表面電導体564g、566fはアー
スまたは電位面として作用する最下段のパネルの内部電
導性層502に接続されている。
コンタクターはない。接点538gはつぎに重ねられて
いるパネルの電極部530hに接続されているが、この
接続は透通電導体527gを透通電導体527hに接続
するものではない。第2のパネルの上面上の電導体56
4gは接点538gに電気的に接続されており、したが
って第3のパネルの透通電導体527hにも電気的に接
続されるだろう。しかしこれらの構成要素は透通電導体
527gおよび2個の最下段のパネル中の複合垂直電導
体からは隔離されている。
面上に接点電導体570h、570i、570jgを有
している。したがってこれらのパネルの透通電導体52
7h、527i、527jは一体となって複合垂直電導
体595を構成し、この垂直電導体は電極部530hお
よび接点538gから始まって上方に延在して最上段に
パネルの上面まで至っており、そこで電導体564jに
接続されている。この複合垂直電導体により透通される
パネルの一部は隣接する部位に突起528h、528j
を有しており、これらの突起は電極部および透通電導体
には接続されていない。すなわちこれら特定のパネルの
下面上には突起電導体は存在していないということであ
る。
パネルの中央電導性層502h、502jからは電気的
に隔離されている。異なるパネル上の表面電導体56
4、566はこの複合垂直電導体に接続されている。延
在する電導体は、種々のパネル上の接点538、電極部
530または透通電導体の上端534と交差するよう
に、形成されているのである。
ジグザグ状に延在して、第1のパターンの部位588か
ら第2のパターンの部位590に至っている。突起52
8が透通電導体527とX方向に合心しており、特定の
行の透通電導体か間に介在しているので、下面電導体5
66と突起および突起コネクターとが干渉することはな
い。
ので、それらは行に沿って走り、X方向の透通電導体か
らはずれている。同様にして、接点538が透通電導体
とY方向に合心しているので、上面電導体564と干渉
することはない。X方向に延在する上面電導体はY方向
の透通電導体とは必ずずれており接点538とは接触し
ないのである。
て「ジグザグ」またはずれを構成する一手法を示す。1
個のパネルには1対の上面電導体部分564k、564
lが設けられていて、これらは第1またはX方向に延在
しているが、第2のY方向については相互にずれてい
る。これらの電導体の内のひとつは第1の接点538k
に会合しており、他の電導体564lは同じパネル上の
同じ行内の他の接点538lと会合している。
8kのいずれかにより次高のパネルの下面上の電極部5
30kと会合している。この電極部は該パネルの下面電
導体566kを介して他の電極部530lに接続されて
いる。この電極部は可流性電導性材料塊体578lを介
して接点538lに接続している。これにより第1のパ
ネル上の2個の電導体部分564k、564lは複合ジ
グザグ電導体に一体化しており、このジグザグ電導体は
X方向に延在するが、Y方向についてはジグザグまたは
ずれた状態になっている。
み合わせることもできる。例えば、端末530kまたは
530lは他のパネルに接続してもよく、透通電導体5
27kまたは527lを介してより高いパネルの上面に
接続してもよい。
図に示されている。この複合ジグザグY方向電導体はパ
ネルの下面上に1対の下面電導体部分566m、566
nを有している。電導体部分566mは端末530mお
よび可流性電導性材料塊体578mを介して次低パネル
の上面上の接点538mに接続されている。接点538
mは次低パネル上のX方向または上面電導体564mを
介して同じパネル上の接点538nに接続されている。
を介して上記のパネルの下面上の他の端末539nに接
続されている。端末530nは他の電導性部分566n
に接続されている。かくして接点、電極部(端末)およ
び可流性塊体は1個のパネル上の電導体564mととも
に他のパネル上の2個の電導性部分566m、566n
をX方向にジグザグ状の複合電導性連続Y方向コネクタ
ーに一体化するのに用いられる。
パネルに形成することもできる。例えば、あるパネル上
の上面またはX方向電導体部分をそのパネル内の透通電
導体の上端と接続し、該透通電導体の下端をパネルの下
面上のY方向電導体に接続し、この下面電導体をさらに
他の透通電導体に接続し、該透通電導体を上端において
さらに他の昇降または上面電導体部分に接続することに
よりジグザグX方向電導体を形成できる。
成することができる。このように単一のパネルにおいて
も複数のパネルにおいてもジグザグ電導体を形成できる
ということは、非常に変化に富んだ回路設計ができると
いうことである。ある電導体があるパネルにおいて他の
構成要素により中断されなけらばならない場合には、電
導体をジグザグ状にしてそのような邪魔な対象を迂回す
ることができる。ジグザグ電導体に関連して上記した
X、Y方向表面電導体間の相互接続は他の目的にも利用
できるものである。かくして同一のパネルであろうと異
なるパネルであろうとX、Y方向電導体は回路設計上の
必要に応じて自由に接続することができるのである。
ネルの数は必要に応じて自由に設定することができる。
複合垂直またはZ方向DとよびX、Y方向電導体のレイ
アウトはいかなるものでも提供できるのである。回路パ
ネル前駆体(プリカーサー)と介装材とはロットとして
大量生産することができる。異なる回路の要求に応える
べく回路パネル前駆体(プリカーサー)または介装材の
デザインを変更する必要ないのである。必要なのはユニ
ットを顧客別仕様化(カスタマイズ)することだけであ
って、複合垂直電導体の配置や個数やパネル面の処理を
適宜選択すればよいのである。ユニット形成に際しては
穿孔など特別の透通電導体形成技術を必要とするもので
もない。
ては、エッチングなどの標準表面処理が必要なだけであ
って、回路ボードなどの製造において広く知られてかつ
利用されている手法を用いれば足りるのである。加えて
ユニットは極めてコンパクトである。他の構成要素に比
較して接点コネクター570および突起コネクター57
2の長さは図面中では極端に誇張されている。実際には
これらのコネクター類は約0.25mmくらいのものな
のである。
ー)およびユニットは種々変更することが可能である。
前駆体(プリカーサー)のー変化例を第27図に示す。
このパネル前駆体(プリカーサー)は第1のまたは下部
誘電性シート600と第2のまたは上部誘電性シート6
08とを有している。しかし、単一の内部電導性層また
は介装材に代えて、2個の内部電導性層602、603
が設けられている。電導性層602、603間には追加
の誘電性層609が設け得られていて互いに平行に延在
している。上記の内部電導性層の場合と同様に層602
は選択的に処理されている。すなわち層602は孔60
4内にランド(island)606を具えている。また層60
2は層の連続部分から隔離された区域611を有してお
り、この区域は層中の通路613により囲まれている。
(island)と合心して請う615を有している。透通電導
体627は上面塩基性金属層622と下面塩基性金属層
624の一部を含んでいるもので、誘電性層中の通路の
被覆を形成し、各ランド(island)606に延在してい
る。透通電導体は層603中の孔615を透通して延在
している。第2の電導性層603はさらに他の部分から
隔離されかつ層602の隔離医域611と合心する区域
617を有している。
面塩基性金属層624から層602の隔離区域611ま
で、延在している。接点638中にはさらなる突起62
9が形成されている。この突起は上面塩基性金属層62
2からパネル617へと延在している。X、Y方向に互
いに離間して数セットの区域611、617が配置され
ており、各セットは1対の突起628、629を有して
いる。各セットの区域611、617はX、Y方向に互
いに合心している。
サー)とは上記したのと非常に類似した方法により製造
される。第24図に示す回路パネル前駆体(プリカーサ
ー)は上下面の塩基性金属層を選択的にエッチングする
ことにより変更され、透通電導体が選択的に接点に接続
されかつ上下面に沿って延在する長い表面電導体を形成
する。これらの表面電導体と透通電導体の一部は突起6
28、629に選択的に接続されてもよい。
サーを構成する。表面電導体および/または透通電導体
に対する突起628、629の選択的接続により、これ
らのコンデンサー板はシステム中の他の電気的構成要素
に接続される。勿論この板は回路パネル前駆体(プリカ
ーサー)中に存在しており、製造時に購入したり特別に
取り扱ったりする必要はない。
602、603のみに設けてもよい。他方の層は透通電
導体の孔とは離れた実質的に連続した電導性層として残
しておく。この場合全てのコンデンサーは一端を並列接
続されている。例えばそのような電導性層の連続部分が
アースされているときには、内部コンデンサーはアース
に容量を与える。透通電導体の一部を電導性内部構成要
素の隔離された区域または連続した内部層に接続させる
ようにしてもよい。したがって、もし特定のランド(isl
and)が層形成工程中に層602に接続されていれば、そ
のランド(island)に形成される透通電導体は層に対して
内部接続を有することになる。
(プリカーサー)には実質的に連続した金属層が設けら
れており、該金属層はエッチングにより選択処理されて
必要のない部分を除去して、所望の表面電導体のパター
ンと透通電導体と上面接点との間の相互接続を得てい
る。
第28図の前駆体(プリカーサー)の本体には誘電性層
700、708と内部電導性層702と上下面間71
4、716に延在する透通電導体727が設けられてい
る。しかし前駆体(プリカーサー)はその上下面上には
電導性層を具えていない。後からのメッキ工程のために
金属材料の薄い層は設けられているが、この層は必要な
電導性構成要素を構成するほどに充分な厚さを有したも
のではないのである。
を選択的に沈降させて接点738(第29図)とこれら
の接点を透通電導体727に接続する接点コネクター7
70とを形成する。この選択的沈降につづいて、簡単な
エッチング処理により薄い層を除く。接点738は他の
構成要素について前記したような行列からなるパターン
に形成される。望ましくはそのような各部位に配置され
る。例えば部位739は正規な接点パターンの部位であ
る。接点コネクターは省かれても、上面接点738aは
部位739に形成される。したがってパネルの他の構成
要素に接続されない部位にも接点は形成され、接点がな
んら電気的な機能を発揮しない部位にも形成されるので
ある。
全ての部位に接点を設けるのが望ましく、これにより各
介装材中の各可流性塊体はパネル本体上の裸の地点より
も接点と端末とに対向する。接点と接点コネクターを形
成するのに用いられる選択沈降工程は上面上に表面電導
体764をまた下面上に延在電導体を形成するのにも用
いられる。
エッチングで形成されたパネルと全く同様に使用され
る。電導性材料を選択的に沈降する手法ならいずれもこ
のやり方に利用できるのである。第28、29図のパネ
ルとパネル前駆体(プリカーサー)とは上記の前駆体
(プリカーサー)とは、第28、29図の透通電導体7
27は簡単で、連続的な「バレル」通路である内部電導
性層702中のて誘電性層透通孔706を完全に透通し
て延在している点で、異なっている。これらの通路は従
来からの穿孔技術により形成される。
パネルを合心させるために使用される基準マークは上記
したものとは異なっていてもよい。第26図の介装材は
各コーナーに基準マークの列を具えている(図中には1
個の列のみが示されているが)。このような各列は四辺
形の格子状に配列された複数の孔803を含んでおり、
この格子配列はX方向の第1の離間距離805とY方向
の第2の離間距離807とを有している。これらの距離
は異なっていても同じであってもよい。孔803は介装
材の本体を完全に透通延在している。
3の列811が設けられている。各列の該スポット81
3は同様な四辺形パターンに配列されており、各列中の
スポットはX方向には一定の中心間距離815をY方向
にも中心間距離817を有している。両中心間距離は異
なっていても同一であってもよい。スポット813間の
距離は対応する孔803間の距離とは異なっている。す
なわちスポット813間のX方向中心間距離815は孔
803間のX方向中心間距離805とは異なり、スポッ
ト間のY方向中心間距離8157孔間のY方向中心間距
離807とは異なっている。介装材とパネルとのいずれ
の相対位置においても1個の孔803のみがスポットと
合心している。孔とスポットとの合心は孔からスポット
を見下げることにより確認できる。
パネルの中心スポット813aと合心しているときにパ
ネルと介装材とが所望の相対位置関係にあるように、配
置してもよい。この結果列は2方向ベニヤスケールとし
て機能する。距離805、807、85F5および81
7のいずれよりも小さい誤差の範囲内で列が相互に合心
しているならば、1個の孔803と1個のスポット81
3とが互いに合心する。合心した孔とスポットとを確認
することにより、残りの合心の量と方向とを知ることが
できる。例えば、孔803bがスポットと合心している
ならば、パネルに対して介装材を一方向に変位させて孔
803aとスポット813aと合心するようにしなけれ
ばならない。もし孔803cがスポットと合心している
ならば、介装材を反対方向に変位させて合心させなけれ
ばならない。
更を加えることができる。例えば、上記したように介装
材を可流性電導性材料および可流性誘電性材料と一緒に
用いることが最も好ましく、これにより信頼度の高い接
続と回路パネルの接合が得られる。しかししかしその他
にも非選択的な方法を用いて、端末と接点とを接続する
こともできる。例えば、介装材を省いて端末と接点とを
互いに直接溶合させるようにしてもよい。この場合各イ
ンターフェース(界面部)に誘電性絶縁シートを用い
て、そのようなシートがインターフェース(界面部)に
おいて端末と接点の正規パターンに対応するようにす
る。例えば、第1の正規パターンの端末が同じ第1の正
規パターン中の接点と接続される場合には、誘電性シー
トには同じ第1の正規パターン中に孔を設ける。つぎの
隣接するインターフェース(界面部)においては、端末
と接点科第2のパターン中に配置されている場合には、
誘電性シートには第2の正規パターン中に孔を設ける。
れ自身上にある誘電性材料により覆われている場合に
は、誘電性シートを用いる必要はない。また端末と接点
とは所謂Z方向接着剤(非等方性電導性を有した接着
剤)の層によっても接続できる。この場合にもパネルの
インターフェース(界面部)毎に誘電性材料を設けて、
表面電導体上を覆うようにしてもよいが、端末と接点の
上には延在しないようにする。また「上」、「下」およ
び「垂直」などの用語は任意に決められたもので、通常
の観念に縛られるものではないと理解されたい。したが
って構成要素またはユニットの上向きの垂直方向とは、
通常の観念では上方にも、下方にもまたは水平方向にも
延在し得るものである。第28、29図における筒状の
通路は予備メッキした表面電導性層とともに用いること
もでき、第18−21図に示す場合のように、後で顧客
別仕様化(カスタマイズ)することもできるのである。
実施態様に言及したまでのものであり、この他にも発明
の趣旨を逸脱しない限りにおいては種々の変更が採用可
能である。
路構造体(例えば多層回路ボード)や該構造体の部品の
製造に関連する産業において応用することができるもの
である。
の状態を示す説明斜視図である。
す断面図である。
である。
である。
態を示す断面図である。
る構成要素の状態を示す断面図である。
素の状態を示す断面図である。
素の状態を示す断面図である。
要素の状態を示す断面図である。
要素の状態を示す断面図である。
要素の状態を示す断面図である。
ける構成要素の状態を示す斜視図である。
ける構成要素の状態を示す斜視図である。
テップにおける構成要素の状態を示す断面図である。
成要素の状態を示す斜視図である。
である。
す斜視図である。
である。
要素の状態を示す斜視図である。
要素の状態を示す斜視図である。
要素の状態を示す斜視図である。
態の一例を示す断面図である。
み立てた状態の他の例をしめす一部削除斜視図である。
を示す斜視図である。
を示す斜視図 である。
図である。
図である。
図である。
図である。
Claims (49)
- 【請求項1】 上下面に誘電性本体を、上面上の第1の
パターンの部位に接点(538)を、下面上に端末(5
30)を、端末に接続されてかつパネルの上面に延在す
る透通電導体(527)を、それぞれ具えた第1の回路
パネル(544)と、 下面を具えた誘電性本体とパネルの下面上の第1のパタ
ーンの部位に端末(530)を、それぞれ具えた第2の
回路パネル(562)とを、 用意し;この用意をするに際しては、 第1の回路パネルの上面を選択処理することにより該パ
ネルを顧客別仕様化して、パネルの透通電導体の一部を
パネルの接点に接続せしめ、 該回路パネルを上下面対面状に積層して、第1の回路パ
ネルの上面が第1のインターフェースにおいて第2の回
路パネルの下面に対面するようにし、対面する面上の第
1のパターンが互いに合心するようにし、合心したパタ
ーンの少なくとも一部において第1のパネルの接点が第
2のパネルの端末と合心するようにし、 上記のインターフェースにおいて合心した接点と端末の
全てを非選択的に接続して、顧客別仕様化されたパネル
の一部が隣接するパネルの端末に接続されるようにする
ことを特徴とする多層回路ユニットを製造する方法。 - 【請求項2】 第2の回路パネルの誘電性本体が下面と
逆を指向する上面と、パネルの下面上においてパネルの
上面に延在する端末に接続された透通電導体を有してい
て、第1のパネルの透通電導体の一部が第2のパネルの
透通電導体に接続されて、第1と第2のパネルを透通延
在する複合垂直電導体を構成することを特徴とする請求
項1に記載の方法。 - 【請求項3】 第2のパネルが第1のパターンンオ全て
の部位に端末を、またこれらの端末に接続された透通電
導体(527)を有しており、 接点に接続された第1のパネルの透通電導体の全てが第
2のパネルの透通電導体と接続されて、複合垂直電導体
を構成することを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 非選択的に接続するに際して、 可流性電導性材料の塊体(578)を載設した介装材
(580)をインターフェースに置設して、第1のパタ
ーンの全ての部位に塊体が位置するようにし、かつ介装
材の全ての可流性電導性材料を流動化させることを特徴
とする請求項1−3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 さらに第1と第2のパネルの誘電性本体
を互いに接合して、介装材上の可流性誘電性材料を、可
流性電導性材料を流動化させるのと同時に、流動化させ
ることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 さらに第2のパネルの上面を選択的に処
理し 第1と第2のパネルの主面上における選択的処理
を、第1と第2のパネル上の透通電導体を各パネルの上
面に沿って延在する表面電導体に選択的に接続すること
を特徴とする請求項2または3に記載の方法。 - 【請求項7】 さらにパネルの下面を選択的に処理し
て、各パネルの透通電導体を各パネルの下面に沿って延
在する表面電導体に選択的に接続することを特徴とする
請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 表面電導体が選択的処理中に形成される
ことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 【請求項9】 さらにパネルを内部に透通電導体を有し
かつ上下面に電導性材料の層を具えた回路パネルプリカ
ーサーの形で供給し、 選択的処理に際して、レジストパターンを該層上に供給
して、該層を1種以上の処理媒体に暴露して、暴露後に
電導性材料が層上のレジストによって覆われていない区
域にのみ残るようにしたことを特徴とする請求項8に記
載の方法。 - 【請求項10】 電導性層の一部上にレジストを供給す
るに際して、 レジストの層をパターン的な照射に写真的に暴露して、
表面電導体に対応するレジスト区域を画定し、かつ同時
に基準マークに対応するレジスト区域をも画定し、 表面電導体に対して所定の空間的な関係でもってパネル
の面の少なくとも一部上に基準マークを形成して、 積層に際しては、該基準マークを基準としてパネルを合
心させることを特徴とする請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 非選択的に接続するに際して、 電導性材料の塊体(578)を載設した介装材(58
0)を第1のインターフェースにおいて第1のパターン
の全ての部位に置設して、該塊体に対して所定の空間的
関係で介装材上に基準マーク(584)を位置させ、 介装材を置設するに際して、基準マークを基準として介
装材を合心させる ことを特徴とする請求項10に記載
の方法。 - 【請求項12】 介装材と回路パネルの少なくともある
1個が所定の離間で配列された孔の群の形で基準マーク
を有しており、 介装材と回路パネルの他の1個が孔の
それとは異なる所定の離間で配列されたスポットの群の
形で基準マークを有しており、各群のスポットがその群
のただ1個の区と合心することができ、 介装材を置設するに際して、各群のうちのいずれの孔が
スポットと合心するかを決めることによりパネルのひと
つに対する介装材の合心を決めることを特徴とする請求
項11に記載の方法。 - 【請求項13】 各回路パネルの上下面上の表面電導体
が各パネル上において互いに直交する第1と第2の方向
に延在し、 積層するに際して、パネルの第1の方向が互いに合心
し、第2の方向が互いに合心するように行なうことを特
徴とする請求項7に記載の方法。 - 【請求項14】 第1と第2のパネルの各透通電導体が
各パネルの上下面間を実質的に垂直に延在し、各端末が
各透通電導体の下端に配置され、第1のパネルの接点が
該パネルの端末と透通電導体とから第1の方向にずれて
おり、 積層するに際して、第2のパネルの透通電導体が第1の
パネルの透通電導体から第1の方向にずれるように、パ
ネルを配列することを特徴とする請求項13に記載の方
法。 - 【請求項15】 第1のパネルが上下面間に配置された
シート状の内部電導性構成要素と、透通電導体から第2
の方向にずれた突起部位に内部構成要素から下面まで延
在する突起を有しており、 下面を選択的に処理するに際して、 パネルの透通電導体都表面電導体とを選択的に突起に接
続することを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 【請求項16】 第2のパネルの上面を選択的に処理す
るに際して、 第2の回路パネルの透通電導体の一部を第2の回路パネ
ルの上面に設けられた接点に第2のパターンの部位にお
いて接続し、 誘電性本体を画定する上下面を具えた第3の回路パネル
を供給し、 この第3のパネルには第2のパターンの部位において下
面上に端末を設け、第2のパネルに第3のパネルを重ね
て、第2のインターフェースにおいて第3のパネルの下
面を第2のパネルの上面に対面させ、 第2のパターンを互いに合心させ、 第2のインターフェースにおいて第2のパネルの接点と
第3のパネルの端末とを互いに合心させ、 第2のインターフェースにおいて、全ての合心した端末
と接点とを非選択的に接続することを特徴とする請求項
6に記載の方法。 - 【請求項17】 第3のパネルが上面と、パネルの端末
から上面まで延在する透通電導体とを有しており、 第1−3のパネルの透通電導体が該パネルの上下面間を
垂直に延在し、 積層および重合せを行なうに際して、第1と第3のパネ
ルの透通電導体が互いに合心することを特徴とする請求
項16に記載の方法。 - 【請求項18】 第1のセットのパネルを少なくとも1
個と、第2のセットのパネルを少なくとも1個と、パネ
ルの上下面間に延在する複数個の透通電導体(527)
と、パネルの下面上の複数個の端末(530)と、パネ
ルの上面上の複数個の接点(538)とを含んだ回路パ
ネル(544)を有してなり 各パネルは反対方向を指向する上下面を具えた誘電性本
体を有しており、 各端末は1個の透通電導体に接続されており、 各パネルの接点の少なくとも一部は該パネルの透通電導
体に接続されており、 第1のセットのパネルは第1のパターンの少なくとも一
部の部位に上記の接点を、第2のパターンの全ての部位
に上記の端末を、それぞれ有しており、 第2のセットのパネルは第2のパターンの少なくとも一
部の部位に上記の接点を、第1のパターンの全ての部位
に上記の端末を、それぞれ有しており、 パネルは第1と第2のセットのパネルを交互に、かつ上
下面を対面させて重ねられており、 パネルはその間に少なくとも1個のインターフェースを
画定しており、 第1のパターンは相互に、また第2のパターンも相互
に、合心しており、 低い方のパネルの接点が高い方のパネルの端末に各イン
ターフェースにおいて合心しており、 合心した接点と端末とは各インターフェースにおいて互
いに接続されており、 パネルの透通電導体の少なくとも一部は接続された端末
と接点とによって他のパネルの透通電導体に接続されて
複数個のパネルを透通延在する垂直電導体を構成し、少
なくとも1個のパネルの透通電導体の一部はそのパネル
の接点に接続されており、そのパネルの透通電導体の一
部は次高のパネルの透通電導体に接続されていることを
特徴とする多層回路ユニット。 - 【請求項19】 パネルが上下面に沿って延在する表面
電導体を有しており、 表面電導体の少なくとも一部が透通電導体に接続されて
おり、 各インターフェースには絶縁層が設けられていて、隣接
するパネルの表面電導体を相互から隔離していることを
特徴とする請求項18に記載のユニット。 - 【請求項20】 表面電導体が相互に直交する第1と第
2の方向に延在しており、 各パネルの上面上の表面電導体が第1の方向に延在し、 各パネルの下面上の表面電導体が第2の方向に延在し、 第1と第2のパターンが四辺形行列格子をなしており、 列が第1の方向に平行で、行が第2の方向に平行である
ことを特徴とする請求項19に記載のユニット。 - 【請求項21】 第2のパターンが第1のパターンと同
一であるが、第1の方向にずれていることを特徴とする
請求項20に記載のユニット。 - 【請求項22】 透通電導体がパネルの上下面間で実質
的に垂直に延在し、 第1のセットの各パネルの透通電導体が第2のパターン
の部位に配置され、第2のセットの各パネルの透通電導
体が第1のパターンの部位に配置されており、 各パネ
ルの端末がパネルの透通電導体の下端に配置されている
ことを特徴とする請求項20に記載のユニット。 - 【請求項23】 各パネルの接点がそのパネルの透通電
導体から第1の方向にずれているが、第2の方向につい
ては合心していることを特徴とする請求項22に記載の
ユニット。 - 【請求項24】 少なくとも一部のパネルがシート状の
内部構成要素を含んでおり、 各内部構成要素がある1個のパネルの誘電性本体内に配
置されて、かつその上下面と平行に延在しており、内部
構成要素を含んだパネルが内部構成要素を少なくとも1
個の電導体に接続する手段を有していることを特徴とす
る請求項20−23のいずれかに記載のユニット。 - 【請求項25】 内部電導性構成要素を含んだ各パネル
の内部誘電性構成要素手段が、内部構成要素と上下いず
れかの面との間に延在する突起を有しており、 該突起が透通電導体に対して第2の方向にはずれている
が、第1の方向については合心していることを特徴とす
る請求項24に記載のユニット。 - 【請求項26】 各内部構成要素がそれを透通する孔を
有しており、 パネルの透通電導体が内部構成要素中の孔を通って延在
して、孔中において内部構成要素からは離間しており、 パネルの誘電性本体が該孔中において透通電導体と内部
構成要素間に延在していることを特徴とする請求項25
に記載のユニット。 - 【請求項27】 少なくとも1個のパネルが1対の電導
性内部構成要素を有しており、これが誘電性材料を間に
おいて互いに重なっており、 対のうち一方の内部構成要素をパネルのある1個の電導
体に接続する手段が設けられており、 対のうち他方の誘電性材料をパネルの他の1個の電導体
に接続する手段が設けられていることを特徴とする請求
項24に記載のユニット。 - 【請求項28】 パネルの上面上を第1の方向に延在す
る表面電導体の少なくとも1個が次高パネルの下面上を
第2の方向に延在する表面電導体に接続されている こ
とを特徴とする請求項20−23のいずれかひとつに記
載のユニット。 - 【請求項29】 パネルの上面上を第1の方向に延在す
る表面電導体の少なくとも1個が、透通電導体により、
該パネルの下面上を第2の方向に延在する表面電導体に
接続されていることを特徴とする請求項28に記載のユ
ニット。 - 【請求項30】 第1の電導性材料(502)を第1の
誘電性シート(500)の第1の面上に施して、電導性
材料により相互に離間するアイランド(506)を形成
し、 さらなる誘電性材料(508)を第1の電導性材
料上に施して、第2の誘電性シートを形成しかつ誘電性
シート間に設けられた第1の電導性材料およびアイラン
ドを取り巻く誘電性材料と積層を形成し、 アイランドと合心して各誘電性シート内に孔(504)
を形成して、該孔を介してアイランドを積層の上下面に
露出させることを特徴とする回路パネルプリカーサのー
製造方法。 - 【請求項31】 第1の電導性材料を施すに際して、該
電導性材料が孔を有した連続層を形成し、各アイランド
が該孔中に配置されるようにすることを特徴とする請求
項30に記載の方法。 - 【請求項32】 第1の電導性材料を施すに際して、第
1の誘電性シートに電導性材料のシートを積層して前記
の連続層を形成し、該層から環状部分を除去して上記の
孔とアイランドとを形成することを特徴とする請求項3
1に記載の方法。 - 【請求項33】 第2の誘電性材料を施すに際して、第
2の誘電性材料の凝集性のシートを第1の電導性材料上
に積層することを特徴とする請求項32に記載の方法。 - 【請求項34】 さらに電導性通路材料を前記の孔中に
沈降させて、積層の上下面に延在しかつ前記のアイラン
ドを含む透通電導体を形成することを特徴とする請求項
30−33のいずれかひとつに記載の方法。 - 【請求項35】 積層の上下面電導性表面材料を施すに
際して、表面材料が透通電導体に電気的に接続されるよ
うにすることを特徴とする請求項34に記載の方法。 - 【請求項36】 通路材料と表面材料とを施すに際し
て、積層をメッキ溶液に浸漬して同時に行なうことを特
徴とする請求項35に記載の方法。 - 【請求項37】 誘電性層の厚さが約150μm未満で
あって、各孔の最少直径が約250μm未満であること
を特徴とする請求項34に記載の方法。 - 【請求項38】 第1と第2の誘電性シート(500、
508)と、これらの誘電性シート間に設けられた実質
的に連続な電導性層(502)とを有してなり、 該シートが電導性層から離れた上下面を画定し、 連続層が透通する孔(504)を有しており、 さらにシート間において孔中に沈降された電導性材料の
アイランド(506)が設けられていて、 シートの誘電性材料が孔中において互いに会合して、誘
電性材料がアイランドを電導性の連続層から絶縁してい
ることを特徴とする回路パネルプリカーサー。 - 【請求項39】 誘電性シートがアイランドと合心する
孔を有していることを特徴とする請求項38に記載のプ
リカーサー。 - 【請求項40】 さらに孔内に電導性通路材料が設けら
れていて、アイランドから誘電性層の上下面まで延在し
ていることを特徴とする請求項39に記載のプリカーサ
ー。 - 【請求項41】 さらに誘電性シートの上下面上に表面
電導性材料が設けられていて、 この表面電導性材料が通路材料に接続されていることを
特徴とする請求項40に記載のプリカーサー。 - 【請求項42】 誘電性本体を画定する上下面(50
8、500)が互いに平行に延在しており、 複数個の透通電導体(527)が上下面間において該本
体を透通延在して該面に上下端を有しており、 塩基性金属の実質的に連続な層が透通電導体に接続され
てかつ上下面を覆っており、 透通電導体からずれた複数個の上面の分離接点区域およ
び下面の複数個の分離端末区域において、貴金属が塩基
性金属層上を覆っており、 接点区域のひとつと端末区域のひとつとが各透通電導体
を伴なっていることを特徴とする回路パネルプリカーサ
ー - 【請求項43】 各透通電導体の上端とそれに伴なう接
点区域との間には貴金属を欠く隙間があり、 各隙間には上の塩基性金属が露出していることを特徴と
する請求項42に記載のプリカーサー。 - 【請求項44】 透通電導体が上下面間において実質的
に垂直に延在し、 各端末区域が透通電導体の下端を取り巻いていることを
特徴とする請求項42に記載のプリカーサー。 - 【請求項45】 透通電導体が四辺形行列格子状に配列
されており、その列が第1の方向に行がこれと直交する
第2の方向に、それぞれ延在していることを特徴とする
請求項44に記載のプリカーサー。 - 【請求項46】 各接点区域透通電導体から第1の方向
にずれており、全てのずれの態様が同じ大きさと様跡で
あることを特徴とする請求項45に記載のプリカーサ
ー。 - 【請求項47】 さらにシート状の電導性内部構成要素
が誘電性本体内に設けられていて、上下面に対して実質
的に平行に延在しており、 複数個の電導性突起(528)が下面から電導性内部構
成要素まて延在しており、 各突起が透通電導体の1個の行に対して第1の方向に合
心しているが、第2の方向についてはずれていることを
特徴とする請求項46に記載のプリカーサー。 - 【請求項48】 さらに前記の貴金属からなる基準マー
ク(574、575)が上下面の少なくとも一方の上に
設けられており、接点区域および端末区域に対して所定
の空間的関係を有している ことを特徴とする請求項4
6に記載のプリカーサー。 - 【請求項49】 前記の基準マークが上下面上に設けら
れており、 下面上の基準マークが上面上の基準マークに対して第1
の方向にずれており、 ずれの態様が透通電導体から接点へのずれの態様と同じ
であることを特徴とする請求項48に記載のプリカーサ
ー。
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EP0229850B1 (en) * | 1985-07-16 | 1992-06-10 | Nippon Telegraph and Telephone Corporation | Connection terminals between substrates and method of producing the same |
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DE3810486A1 (de) * | 1988-03-28 | 1989-10-19 | Kaleto Ag | Verfahren zum herstellen kundenspezifischer elektrischer schaltungen, insbesondere gedruckter schaltungen |
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