JP2006041378A - 多層プリント配線板、多層プリント配線板の製造方法および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザビア加工技術を有効に活用して低コストで高密度配線を可能にした多層プリント配線板、多層プリント配線板の製造方法、および多層プリント配線板を実装した電子機器を提供することを課題とする。
【解決手段】電源若しくはグランド層として用いられる第2層(L2)と、信号層として用いられる第3層(L3)とを形成するコア材12には、内層側の第3層から外層側の第2層に向けて穴開けされメッキが施されたビア21bが設けられる。このビア21bにより信号層となる第3層(L3)と電源若しくはグランド層となる第2層(L2)との層間を接続する回路が形成される。
【選択図】 図1
【解決手段】電源若しくはグランド層として用いられる第2層(L2)と、信号層として用いられる第3層(L3)とを形成するコア材12には、内層側の第3層から外層側の第2層に向けて穴開けされメッキが施されたビア21bが設けられる。このビア21bにより信号層となる第3層(L3)と電源若しくはグランド層となる第2層(L2)との層間を接続する回路が形成される。
【選択図】 図1
Description
本発明は、例えば複数種の高周波信号を扱う電子回路、高密度が要求される電子回路等に適用して好適な多層プリント配線板、多層プリント配線板の製造方法、および多層プリント配線板を実装した電子機器に関する。
情報処理機器をはじめ各種の電子機器に於いては、絶縁材としてプリプレグとコア(銅張積層板)を交互に積層した多層プリント配線板が広く用いられる。多層プリント配線板には、電源パターン、グランドパターン、信号パターン等の各種配線パターンに加え、上記積層された配線板の相互を回路接続するスルーホール、ビア(バイアホール)等が設けられる。この種基板の製造技術として、例えば微細レーザビア加工とビルドアッププロセスにより複数の層間にビアを形成する等の高密度パターン設計を意識した基板製造技術が存在する。
東芝レビュー VOL.53 No.9(1998)[薄型・軽量ノートパソコンの実装技術]P.P65−69
東芝レビュー VOL.53 No.9(1998)[薄型・軽量ノートパソコンの実装技術]P.P65−69
しかしながら、従来のこの種基板製造技術に於いては、ビルドアッププロセスによる複数回の積層に伴う製造工程の煩雑化、複数層を貫くビアの深さに伴うメッキ技術の困難性等、製造性並びに経済性の面で問題があった。
本発明は上記実情に鑑みなされたもので、レーザビア加工技術を有効に活用して低コストで高密度配線を可能にした多層プリント配線板、多層プリント配線板の製造方法、および多層プリント配線板を実装した電子機器を提供することを目的とする。
本発明は、多層プリント配線板に於いて、内層側に信号層を形成し、外層側に電源若しくはグランド層を形成して、内層側から外層側に向けて穴開けしたビアにより前記信号層と前記電源若しくはグランド層とを接続した回路を具備するコア材を最外層を形成する絶縁材に積層して設けたことを特徴とする。
また本発明は、コアとプリプレグを交互に積層してn層を形成した多層プリント配線板の製造方法に於いて、第2、第3層をコアにより形成し、前記第2、第3層を形成するコアに前記第3層から前記第2層に向けてレーザ加工によりビアを形成し、前記ビアにメッキを施して前記第2層と前記第3層とを接続する回路を形成したことを特徴とする。
また本発明は、多層プリント配線板を実装した電子機器に於いて、内層側を信号層とし、外層側を電源若しくはグランド層として、内層側から外層側に向けて形成したビアにより前記信号層と前記電源若しくはグランド層との間を接続した回路を具備するコア材を最外層を形成する絶縁材に積層して設けた多層プリント配線板と、前記多層プリント配線板に実装され前記回路に接続された素子とを具備したことを特徴とする。
レーザビア加工技術を有効に活用して低コストで高密度配線を可能にした。
以下図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
図1に本発明の第1実施形態に係る多層プリント配線板の構成を示す。この実施形態に係る多層プリント配線板は、プリプレグとコア(銅張積層板)を交互に積層したn層構造の多層プリント配線板を示している。ここでは、プリプレグを用いた絶縁材11,13,15,17,19とコア材12,14,16,18とにより10(n=10)層構造とした積層例を示している。この10層のうち、第2層(L2)および第9層(L9)にそれぞれ電源若しくはグランド層を形成し、残る他の各層(第1層(L1)、第3層(L3)乃至第8層(L8)、第10層(L10))に信号層を形成する。
上記各層を形成するプリプレグを用いた絶縁材およびコア材のうち、電源若しくはグランド層として用いられる第2層(L2)と、信号層として用いられる第3層(L3)とを形成するコア材12には、内層側の第3層から外層側の第2層に向けて穴開けされメッキが施されたビア21bが設けられる。このビア21bにより信号層となる第3層(L3)と電源若しくはグランド層となる第2層(L2)との層間を接続する回路が形成される。
また、信号層として用いられる第8層(L8)と、電源若しくはグランド層として用いられる第9層(L9)とを形成するコア材18についても上記コア材12と同様に、内層側の第8層から外層側の第9層に向けて穴開けされメッキが施されたビア21cが設けられる。このビア21cにより信号層となる第8層(L8)と電源若しくはグランド層となる第9層(L9)との間を接続する回路が形成される。これらの層間接続を行うビア21b,21cの形成方法については図3および図4を参照して後述する。
上記コア材12,18に設けられたビア21b,21cの他に、プリプレグを用いた絶縁材11,19により形成された最外層となる各信号層にも電源若しくはグランド層との間にビア21a,21dが形成される。すなわちプリプレグを用いた絶縁材11により形成された第1層(L1)とコア材12により形成された電源若しくはグランド層となる第2層(L2)との間には、最外層となる第1層(L1)から第2層(L2)に向けて穴開けされメッキが施されたビア21aが設けられる。またコア材18により形成された電源若しくはグランド層となる第9層(L9)とプリプレグを用いた絶縁材19により形成された第10層(L10)との間に於いても、最外層となる第10層(L10)から第9層(L9)に向けて穴開けされメッキが施されたビア21dが設けられる。さらに上記最外層となる信号層(L1,L10)には信号パターンに応じた所定の部位にソルダーレジスト23a,23b等の皮膜加工が施される。
上記したような内層側から外層側に向けて穴開けされて形成された内層間を接続するビア21b,21cを含んだ多層プリント配線板構造とすることにより、電源若しくはグランド層(L2),(L9)を挟んだ内層側と外層側の各信号層(L1・L3),(L8・L10)に於いて、当該各信号層と電源若しくはグランド層の間を上記ビア21b,21cを用いて任意に電気的接続(回路接続)でき、高密度配線が可能となる。さらに、電源若しくはグランド層を挟んだ内層側の信号層と外層側の信号層とが電源若しくはグランド層で電磁遮蔽されることから、クロストークノイズを低減した高速回路の実装に適したプリント配線板が提供できる。例えば第1の高速クロックを用いた第1の高周波回路を上記ビア21bを用いて電源若しくはグランド層(L2)の内層側にある信号層(L3)に形成し、第2の高速クロックを用いた第2の高周波回路をビア21aを用いて電源若しくはグランド層(L2)の外層側(最外層)にある信号層(L1)に形成することにより、第1の高周波回路と第2の高周波回路とを電源若しくはグランド層(L2)で電磁遮蔽してクロストークノイズを低減した高速回路の実装が可能となる。
上記図1に示した多層プリント配線板の変形例を図2に示している。この図2に示す配線板構造が上記図1に示す構造と特に異なるところは、電源若しくはグランド層(L2,L9)をそれぞれベタパターンで構成し、コア材18に設けた、内層側の信号層(L8)から外層側の電源若しくはグランド層(L9)向けて穴開けされたビア21cと、プリプレグを用いた絶縁材19に設けたビア21dとの配置を非対象としている点である。尚、この図2ら示す構造はコア材18に設けたビア21cと、プリプレグを用いた絶縁材19に設けたビア21dとの配置のみを非対象としているが、コア材12に設けた、内層側の信号層(L3)から外層側の電源若しくはグランド層(L2)向けて穴開けされたビア21bと、プリプレグを用いた絶縁材11に設けたビア21aとの配置を含めて非対象としてもよい。さらにビア21aとビア21bとを非対象として、その各ビアをそれぞれ独立した電源パターン若しくはグランドパターンに接続する構成であってもよい。
次に図3および図4を参照して本発明の実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法を説明する。ここでは上記した図1に示す10層構造の多層プリント配線板を例に、その各構成要素に付した参照符号を括弧で括り、製造工程を説明する。
図3(a)に示す工程1では、先ず第2層(L2)、第3層(L3)を形成するコア材(12)を用意する。
図3(b)に示す工程2では、工程1で用意したコア材(12)に内層側となる第3層(L3)から外層側となる第2層(L2)に向けてレーザビームにより穴開け加工をする。図3(b)では上側の層が内層側となる信号層(L3)、下側の層が外層側となる電源若しくはグランド層(L2)を示している。
図3(c)に示す工程3では、工程2で開けられた穴にメッキを施し、コア材(12)の第3層(L3)と第2層(L2)を接続するビア(21b)を形成する。
図3(d)に示す工程4では、ビア(21b)が形成されたコア材(12)の第3層(L3)を信号層、第2層(L2)を電源若しくはグランド層として各層に所定のパターンを形成する。
上記した工程1〜4により、第2層(L2)、第3層(L3)を形成するコア材(12)に、内層側となる第3層(L3)から外層側となる第2層(L2)に向けて穴開けされたビア(21b)が形成され、さらに第3層(L3)を信号層、第2層(L2)を電源若しくはグランド層として上記ビア(21b)を用いて各層に所定のパターンが形成される。
また第8層(L8)および第9層(L9)を形成するコア材(18)についても、上記コア材(12)と同様に、上記工程1〜4により、内層側となる第8層(L8)から外層側となる第9層(L9)に向けて穴開けされたビア(21c)が形成され、さらに第8層(L8)を信号層、第9層(L9)を電源若しくはグランド層として上記ビア(21c)を用いて各層に所定のパターンが形成される。
図3(e)に示す工程5では、上記工程4により、ビア(21b)を用いて信号層(L3)と電源若しくはグランド層(L2)にそれぞれパターンを形成したコア材(12)と、同じく上記工程4により、ビア(21c)を用いて信号層(L8)と電源若しくはグランド層(L9)にそれぞれパターンを形成したコア材(18)と、第4層(L4)乃至第7層(L7)の各信号層を形成するプリプレグを用いた絶縁材(13,15,17)および予めパターンが形成されたコア材(14,16)と、第1層を形成するプリプレグを用いた絶縁材11、および当該絶縁材11に最外層となる信号層を形成するための銅箔と、第10層を形成するプリプレグを用いた絶縁材19、および当該絶縁材19に最外層となる信号層を形成するための銅箔とをそれぞれ層順に積んで位置合わせをする。
図4(f)に示す工程6では、工程5で積まれたコア材およびプリプレグを用いた絶縁材を積層し一体化して、最外層の信号パターン形成を残した状態の多層基板を得る。
図4(g)に示す工程7では、工程6で積層し一体化した多層基板の最外層となる第1層(L1)から第2層(L2)に向けてレーザビームにより穴開け加工をする。さらに最外層となる第10層(L10)から第9層(L9)に向けてレーザビームにより穴開け加工をする。
図4(h)に示す工程8では、工程7で開けられた穴にメッキを施し、第1層(L1)と第2層(L2)を接続するビア(21a)を形成する。さらに第10層(L10)と第9層(L9)を接続するビア(21d)を形成する。
図4(i)に示す工程9では、工程8で形成したビア(21a)を用いて第1層(L1)に信号パターンを形成し、同じく工程8で形成したビア(21d)を用いて第10層(L10)に信号パターンを形成する。、
図4(j)に示す工程10(最終工程)では、工程9で信号パターンを形成した信号層(L1,L10)にソルダーレジスト(23a,23b)の皮膜を施す。
図4(j)に示す工程10(最終工程)では、工程9で信号パターンを形成した信号層(L1,L10)にソルダーレジスト(23a,23b)の皮膜を施す。
このような製造工程により、内層側から外層側に向けて穴開けされて形成された内層間を接続するビア21b,21cを含んだ高密度配線が可能な多層プリント配線板を最少積層回数で製造できる。さらにこの製造工程に於ける上記ビア21b,21cの形成は、既存のレーザビア加工手段およびメッキ手段を用いた通常の1層分のレーザビア加工で形成できる。これにより高密度配線を可能にした信頼性の高い層間接続回路を具備した多層プリント配線板を安価に提供できる。
上記製造工程により得られた多層プリント配線板を実装した電子機器の一構成例を図5に示している。ここでは、上記図1または図2に示す構造の多層プリント配線板を、キーボードを備えたポータブルコンピュータ等の情報処理機器に実装した構成例を示している。
情報処理機器40の筐体40aには、回路基板41が収納され、その回路基板41を覆うようにキーボード42が設けられる。
回路基板41には、CPUチップ43を実装するCPU実装基板46、第1の高速クロックを用いた第1の高速回路素子44、第2の高速クロックを用いた第2の高速回路素子45等が実装される。
回路基板41には、CPUチップ43を実装するCPU実装基板46、第1の高速クロックを用いた第1の高速回路素子44、第2の高速クロックを用いた第2の高速回路素子45等が実装される。
これら各素子を実装した回路基板41は図1に示す多層プリント配線板を用いて構成される。この多層プリント配線板を用いて構成された回路基板41は、プリプレグを用いた絶縁材11により表層(最上層)となる第1層(L1)が形成され、コア材12により第2層(L2)および第3層(L3)が形成される。第1層(L1)は信号層であり、ここでは回路基板41に実装された第1の高速回路素子44の配線に用いられる信号パターンが設けられる。第2層(L2)は電源若しくはグランド層であり、ここではグランドパターンが設けられる。第3層(L3)は信号層であり、ここでは回路基板41に実装された第2の高速回路素子45の配線に用いられる信号パターンが設けられる。
グランド層として用いられる第2層(L2)と、信号層として用いられる第3層(L3)とを形成するコア材12には、内層側の第3層(L3)から外層側の第2層(L2)に向けて穴開けされメッキが施されたビア21bが設けられ、このビア21bを用いて信号層となる第3層(L3)とグランド層となる第2層(L2)との層間を接続する回路が形成される。またプリプレグを用いた絶縁材11により形成された最外層となる信号層(L1)にもグランド層(L2)との間にビア21aが設けられ、このビア21aを用いて信号層となる第1層(L1)とグランド層となる第2層(L2)との層間を接続する回路が形成される。
上記回路基板41に実装された第1の高速回路素子44は、上記第1層(L1)と第2層(L2)を接続するビア21aと、第1層(L1)に形成された信号パターンを用いて回路配線される。上記ビア21aを用いることで高密度配線が可能となる。
上記回路基板41に実装された第2の高速回路素子45は、内層側の第3層(L3)から外層側の第2層(L2)に向けて穴開けされた、第3層(L3)と第2層(L2)を接続するビア21aと、第1層(L1)に形成された信号パターンを用いて回路配線される。
尚、上記各素子の電源入力端子は例えばスルーホールを介して図示しない電源層(例えば図1に示す第9層)に接続され、電源層から動作用電源が供給される。
第1の高速回路素子44および第2の高速回路素子45はそれぞれCPUチップ43の周辺回路を構成するもので、第1の高速回路素子44は第1の高速クロックを用いて所定の回路動作を行う。第2の高速回路素子45は第2の高速クロックを用いた所定の回路動作を行う。
ここで、第1の高速クロックを用いた第1の高速回路素子44の動作回路が形成される信号層(L1)と、第2の高速クロックを用いた第2の高速回路素子45の動作回路が形成される信号層(L3)との間には、グランド層(L2)が介在し、第1の高速回路素子44の動作回路と第2の高速回路素子45の動作回路との間がこのグランド層(L2)によって電磁遮蔽される。
これにより、上記各信号層(L1,L3)に高密度の回路を形成できるとともに、上記各信号層(L1,L3)の間をグランド層(L2)で電磁遮蔽して、上記各信号層(L1,L3)間のクロストークノイズを低減できる。ここでは、第1の高速回路素子44の動作回路を形成する信号層(L1)と、第2の高速回路素子45の動作回路を形成する信号層(L3)とをグランド層(L2)により電磁遮蔽して、上記各高速回路間のクロストークノイズを低減でき、第1の高速回路素子44で扱う第1の高速クロック信号と第2の高速回路素子45で扱う第2の高速クロック信号とが互いに干渉することのない安定した高速回路動作を期待できる。
尚、上記各信号層(L1,L3)に形成される回路は、高速クロックを用いた回路に限らず、例えば同一周波数帯の高周波信号を用いる複数の無線デバイスの送受信回路等に於いても各信号層(L1,L3)の間をグランド層(L2)で電磁遮蔽して、各信号層(L1,L3)間の送受信信号の漏洩ノイズを低減できる。
なお、この発明は、上述した実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。例えば多層プリント配線板の積層構造も10層に限るものではなく任意層数の積層構造であってよい。また上記図1、図2に示す多層プリント配線板構造に於いて、コア材12,18のいずれか一方を積層しない積層構造であってもよい。
尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階では本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。例えば多層プリント配線板の積層構造も10層に限るものではなく任意層数の積層構造であってよい。さらに上記図1、図2に示す多層プリント配線板構造に於いて、コア材12,18のいずれか一方を積層しない積層構造であってもよい。
11,13,15,17,19…プリプレグを用いた絶縁材、12,14,16,18…コア材、21a,21b,21c,21d…ビア、40…情報処理機器、40a…筐体、41…回路基板、42…キーボード、43…CPUチップ、44…第1の高速回路素子、45…第2の高速回路素子、46…CPU実装基板。
Claims (12)
- 内層側に信号層を形成し、外層側に電源若しくはグランド層を形成して、内層側から外層側に向けて穴開けしたビアにより前記信号層と前記電源若しくはグランド層とを接続した回路を具備するコア材を最外層を形成する絶縁材に積層して設けたことを特徴とする多層プリント配線板。
- 前記絶縁材は、外層側から内層側に向けて穴開けしたビアにより前記最外層に形成した信号層と前記電源若しくはグランド層とを接続した回路を具備する請求項2記載の多層プリント配線板。
- 二枚の前記絶縁材により第1層となる最外層と第n層となる最外層を形成し、二枚の前記コア材により第2、第3層と第n−2、第n−1層を形成して、前記第1層および第3層と、第n−2層および第n層とをそれぞれ信号層とし、第2層および第n−1層をそれぞれ電源若しくはグランド層としたn層で構成される請求項2記載の多層プリント配線板。
- 前記信号層に、互いに干渉する高周波信号を扱う機能回路の信号配線パターンを前記機能回路毎に層を別にして設けた請求項3記載の多層プリント配線板。
- コアとプリプレグを交互に積層してn層を形成した多層プリント配線板の製造方法に於いて、
第2、第3層をコアにより形成し、
前記第2、第3層を形成するコアに前記第3層から前記第2層に向けてレーザ加工によりビアを形成し、
前記ビアにメッキを施して前記第2層と前記第3層とを接続する回路を形成したことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 前記第2、第3層に加え、第n−2、第n−1層をコアにより形成し、
前記第n−2、第n−1層を形成するコアに前記第n−2層から前記第n−1層に向けてレーザ加工によりビアを形成し、
前記ビアにメッキを施して前記第n−2層と前記第n−1層とを接続する回路を形成したことを特徴とする請求項5記載の多層プリント配線板の製造方法。 - 前記第2層および前記第n−1層を電源若しくはグランド層とした請求項6記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 第1層および第n層をそれぞれプリプレグにより形成し、前記第1層および第n層を形成する各プリプレグにレーザ加工によりビアを形成し、当該各ビアにメッキを施して前記第1層と前記第2層との間、および前記n層と前記n−1層との間をそれぞれ接続する回路を形成したことを特徴とする請求項7記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 内層側を信号層とし、外層側を電源若しくはグランド層として、内層側から外層側に向けて形成したビアにより前記信号層と前記電源若しくはグランド層との間を接続した回路を具備するコア材を最外層を形成する絶縁材に積層して設けた多層プリント配線板と、前記多層プリント配線板に実装され前記回路に接続された素子とを具備したことを特徴とする電子機器。
- 前記多層プリント配線板は、当該配線板の表裏両面の最外層を形成する絶縁材各々に前記コア材を積層した請求項9記載の電子機器。
- 前記多層プリント配線板は、前記絶縁材により形成された前記最外層を信号層として、当該信号層から前記コア材に向けて形成したビアにより前記信号層と前記電源若しくはグランド層との間を接続した回路を具備する請求項10記載の電子機器。
- 前記コア材に形成した信号層を用いた第1の高周波回路と、前記絶縁材に形成した信号層を用いた第2の高周波回路とを具備する請求項11記載の電子機器。
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