JP2002303852A - 液晶表示素子用樹脂基板 - Google Patents
液晶表示素子用樹脂基板Info
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- JP2002303852A JP2002303852A JP2001106064A JP2001106064A JP2002303852A JP 2002303852 A JP2002303852 A JP 2002303852A JP 2001106064 A JP2001106064 A JP 2001106064A JP 2001106064 A JP2001106064 A JP 2001106064A JP 2002303852 A JP2002303852 A JP 2002303852A
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- resin substrate
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 耐液晶性、耐溶剤性、耐熱性、透明性が良好
であり、かつ水蒸気、酸素などに対するガスバリア性に
優れる液晶表示素子用基板を提供する。 【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に、
アンダーコート層、無機質薄膜層を順次被覆させること
による液晶表示素子用基板。基材シートには下記一般式
（１）でしめされる官能基を２つ有する（メタ）アクリ
レート（a）単独、もしくは平均粒子径が１〜１００ｎ
ｍであるシリカ微粒子（ｂ）を３０〜９０重量％含んで
なる複合体組成物を活性エネルギー線で架橋及び成形し
たシートを用い、アンダーコート層には、エポキシ樹脂
を用い、エポキシ樹脂の基材シートへの濡れ性向上のた
めにフッ素系界面活性剤を添加する。無機質層には水蒸
気、酸素バリア性に優れたケイ素酸化物を用いる。 （式中、Ｒ1，Ｒ2は互いに異なってもよく、水素原子又
はメチル基を示し、ａは１又は２を示し、ｂは０又は１
を示す。）
であり、かつ水蒸気、酸素などに対するガスバリア性に
優れる液晶表示素子用基板を提供する。 【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に、
アンダーコート層、無機質薄膜層を順次被覆させること
による液晶表示素子用基板。基材シートには下記一般式
（１）でしめされる官能基を２つ有する（メタ）アクリ
レート（a）単独、もしくは平均粒子径が１〜１００ｎ
ｍであるシリカ微粒子（ｂ）を３０〜９０重量％含んで
なる複合体組成物を活性エネルギー線で架橋及び成形し
たシートを用い、アンダーコート層には、エポキシ樹脂
を用い、エポキシ樹脂の基材シートへの濡れ性向上のた
めにフッ素系界面活性剤を添加する。無機質層には水蒸
気、酸素バリア性に優れたケイ素酸化物を用いる。 （式中、Ｒ1，Ｒ2は互いに異なってもよく、水素原子又
はメチル基を示し、ａは１又は２を示し、ｂは０又は１
を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐液晶性、耐溶剤
性、耐熱性、透明性が良好であり、かつ水蒸気、酸素な
どに対するガスバリア性に優れる液晶表示素子用基板に
関するものである。
性、耐熱性、透明性が良好であり、かつ水蒸気、酸素な
どに対するガスバリア性に優れる液晶表示素子用基板に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子用透明樹脂基板には耐熱
性、耐薬品性、表面硬度、光学的等方性および低吸水性
などが要求されるため、従来、ガラス基板が用いられて
いる。しかしながら、ガラスは割れやすく重いという欠
点があり、この欠点を改良するため、薄型かつ軽量の透
明樹脂基板が提案されている。透明樹脂基板は、例えば
特開平１０−７７３２１号に提案されている。しかしな
がら、このような透明樹脂基板を用いて液晶表示素子を
構成したばあい、透明樹脂基板のガスバリア性が不十分
であるため、伸び縮みや曲げによって容積が変化すると
液晶中にとけ込んだ気体が泡になって表示機能を阻害す
るために、液晶に気体を溶け込まさない工夫が種々行わ
れてきた。プラスチック基板に無機膜を積層することに
よるガスバリアー性を付与することも有効な手段として
採用されている。（例えば、特開平１０−３０９７７０
号、特開平１１−３１４３１３号、特開平１１−３１４
３１４号等）しかし、この場合液晶表示素子をプラスチ
ックフィルム上に形成する工程での加熱・吸水によるプ
ラスチック基板の寸法変化により無機薄膜層に亀裂や欠
陥が生じバリア性が大きく低下するおそれやプラスチッ
ク基板と無機薄膜層との密着性不良による無機薄膜層の
剥離等が発生するおそれがあるという問題がある。
性、耐薬品性、表面硬度、光学的等方性および低吸水性
などが要求されるため、従来、ガラス基板が用いられて
いる。しかしながら、ガラスは割れやすく重いという欠
点があり、この欠点を改良するため、薄型かつ軽量の透
明樹脂基板が提案されている。透明樹脂基板は、例えば
特開平１０−７７３２１号に提案されている。しかしな
がら、このような透明樹脂基板を用いて液晶表示素子を
構成したばあい、透明樹脂基板のガスバリア性が不十分
であるため、伸び縮みや曲げによって容積が変化すると
液晶中にとけ込んだ気体が泡になって表示機能を阻害す
るために、液晶に気体を溶け込まさない工夫が種々行わ
れてきた。プラスチック基板に無機膜を積層することに
よるガスバリアー性を付与することも有効な手段として
採用されている。（例えば、特開平１０−３０９７７０
号、特開平１１−３１４３１３号、特開平１１−３１４
３１４号等）しかし、この場合液晶表示素子をプラスチ
ックフィルム上に形成する工程での加熱・吸水によるプ
ラスチック基板の寸法変化により無機薄膜層に亀裂や欠
陥が生じバリア性が大きく低下するおそれやプラスチッ
ク基板と無機薄膜層との密着性不良による無機薄膜層の
剥離等が発生するおそれがあるという問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、耐薬品性、耐熱性、透明性に加え、水蒸
気、酸素へのバリア性の優れた液晶表示素子用基板を提
供することである。
する課題は、耐薬品性、耐熱性、透明性に加え、水蒸
気、酸素へのバリア性の優れた液晶表示素子用基板を提
供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、 （１）下記一般式（１）で示される（メタ）アクリレー
トモノマーを含む樹脂を架橋してなる基材シート層と、
少なくともエポキシ樹脂を含むアンダーコート層、およ
び無機層からなる液晶表示素子用樹脂基板。
トモノマーを含む樹脂を架橋してなる基材シート層と、
少なくともエポキシ樹脂を含むアンダーコート層、およ
び無機層からなる液晶表示素子用樹脂基板。
【０００５】
【化３】
【０００６】（一般式（１）中、Ｒ1，Ｒ2は互いに異な
ってもよく、水素原子又はメチル基を示し、ａは１又は
２を示し、ｂは０又は１を示す。） （２）基材シートが前記一般式（１）で示される（メ
タ）アクリレート（a）に対して平均粒子径が１〜１０
０ｎｍであるシリカ微粒子（ｂ）を３０〜９０重量％含
んでなる複合体組成物を活性エネルギー線で架橋して成
ることを特徴とする（１）項記載の液晶表示素子用樹脂
基板。 （３）アンダーコート層に界面活性剤を含むことを特徴
とする（１）項または（２）項記載の液晶表示素子用樹
脂基板 （４）アンダーコート層に含まれるエポキシ樹脂が、一
般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂であることを
特徴とする（１）〜（３）項何れか１項記載の液晶表示
素子用樹脂基板。
ってもよく、水素原子又はメチル基を示し、ａは１又は
２を示し、ｂは０又は１を示す。） （２）基材シートが前記一般式（１）で示される（メ
タ）アクリレート（a）に対して平均粒子径が１〜１０
０ｎｍであるシリカ微粒子（ｂ）を３０〜９０重量％含
んでなる複合体組成物を活性エネルギー線で架橋して成
ることを特徴とする（１）項記載の液晶表示素子用樹脂
基板。 （３）アンダーコート層に界面活性剤を含むことを特徴
とする（１）項または（２）項記載の液晶表示素子用樹
脂基板 （４）アンダーコート層に含まれるエポキシ樹脂が、一
般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂であることを
特徴とする（１）〜（３）項何れか１項記載の液晶表示
素子用樹脂基板。
【０００７】
【化４】
【０００８】（５）アンダーコート層に含まれる界面活
性剤が、フッ素系界面活性剤であることを特徴とする
（３）または（４）項記載の液晶表示素子用樹脂基板。 （６）前記フッ素系界面活性剤が、Ｃ8Ｆ17基を持つア
クリルオリゴマーを含むことを特徴とする（５）項記載
の液晶表示素子用樹脂基板。 （７）アンダーコート層に含まれる界面活性剤が、シリ
コン系界面活性剤であることを特徴とする（３）または
（４）項記載の液晶表示素子用樹脂基板。 （８）前記シリコン系の界面活性剤が、（ＳｉＯ（Ｍ
ｅ）2）を繰り返し単位とするオリゴマーであり、末端
および側鎖に（ＯＣ2Ｈ4）a（ ＯＣ3Ｈ6）bＯＲ基
（ａ，ｂ：５０未満の整数、Ｒ：アルキル基または水素
原子）を導入したことを特徴とする（７）項記載の液晶
表示素子用樹脂基板。に関する。
性剤が、フッ素系界面活性剤であることを特徴とする
（３）または（４）項記載の液晶表示素子用樹脂基板。 （６）前記フッ素系界面活性剤が、Ｃ8Ｆ17基を持つア
クリルオリゴマーを含むことを特徴とする（５）項記載
の液晶表示素子用樹脂基板。 （７）アンダーコート層に含まれる界面活性剤が、シリ
コン系界面活性剤であることを特徴とする（３）または
（４）項記載の液晶表示素子用樹脂基板。 （８）前記シリコン系の界面活性剤が、（ＳｉＯ（Ｍ
ｅ）2）を繰り返し単位とするオリゴマーであり、末端
および側鎖に（ＯＣ2Ｈ4）a（ ＯＣ3Ｈ6）bＯＲ基
（ａ，ｂ：５０未満の整数、Ｒ：アルキル基または水素
原子）を導入したことを特徴とする（７）項記載の液晶
表示素子用樹脂基板。に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 （基材シート）本発明での基材シートで用いられる（メ
タ）アクリレート（ａ）は、脂環式構造を含む２つの官
能基を有する（メタ）アクリレートであり、一般式
（１）で示される。
タ）アクリレート（ａ）は、脂環式構造を含む２つの官
能基を有する（メタ）アクリレートであり、一般式
（１）で示される。
【００１０】
【化５】
【００１１】（一般式（１）中、Ｒ1，Ｒ2は互いに異な
ってもよく、水素原子又はメチル基を示し、ａは１又は
２を示し、ｂは０又は１を示す。） 一般式（１）で示される（メタ）アクリレートの中で
も、反応性、熱安定性の面から、ジシクロペンタジエニ
ルジ（メタ）アクリレート（Ｒ1，Ｒ2は水素原子、ａは
１，ｂは０）が好ましい。また、前記（メタ）アクリレ
ートを用いた基材シートの線膨張係数を低減させるた
め、シリカ微粒子を添加することが好ましい。
ってもよく、水素原子又はメチル基を示し、ａは１又は
２を示し、ｂは０又は１を示す。） 一般式（１）で示される（メタ）アクリレートの中で
も、反応性、熱安定性の面から、ジシクロペンタジエニ
ルジ（メタ）アクリレート（Ｒ1，Ｒ2は水素原子、ａは
１，ｂは０）が好ましい。また、前記（メタ）アクリレ
ートを用いた基材シートの線膨張係数を低減させるた
め、シリカ微粒子を添加することが好ましい。
【００１２】基材シート中のシリカ微粒子の添加量は
（メタ）アクリレートに対して３０〜９０重量％が好ま
しく、線膨張係数と軽量化のバランスの点で、さらに好
ましくは、４０〜８０重量％、最も好ましくは、５０〜
７０重量％である。シリカ微粒子の添加量が少ないと十
分な線膨張係数が得られず、また逆に多いと、流動性、
分散性が悪化するとともに、シート自体がもろくなる。
また、シリカ微粒子の平均粒径は１〜１００ｎｍが好ま
しく、さらに好ましくは１〜５０ｎｍ、最も好ましくは
５〜４０ｎｍである。また、基材シート内でのシリカ微
粒子の分散安定性を向上するため、式（３）に示される
シラン化合物（ｃ）を用いてもよい。
（メタ）アクリレートに対して３０〜９０重量％が好ま
しく、線膨張係数と軽量化のバランスの点で、さらに好
ましくは、４０〜８０重量％、最も好ましくは、５０〜
７０重量％である。シリカ微粒子の添加量が少ないと十
分な線膨張係数が得られず、また逆に多いと、流動性、
分散性が悪化するとともに、シート自体がもろくなる。
また、シリカ微粒子の平均粒径は１〜１００ｎｍが好ま
しく、さらに好ましくは１〜５０ｎｍ、最も好ましくは
５〜４０ｎｍである。また、基材シート内でのシリカ微
粒子の分散安定性を向上するため、式（３）に示される
シラン化合物（ｃ）を用いてもよい。
【００１３】
【化６】
【００１４】（一般式（３）中、Ｒ4は水素原子又はメ
チル基を表し、Ｒ5は炭素数１〜３のアルキル基又はフ
ェニル基、Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水
素残基を表し、ｑは１〜６の整数、ｒは０〜２の整数を
表す。） また、基材シート中には、少量の酸化防止剤、紫外線吸
収剤、染顔料、他の無機フィラー等の充填剤等を含んで
いても良い。
チル基を表し、Ｒ5は炭素数１〜３のアルキル基又はフ
ェニル基、Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水
素残基を表し、ｑは１〜６の整数、ｒは０〜２の整数を
表す。） また、基材シート中には、少量の酸化防止剤、紫外線吸
収剤、染顔料、他の無機フィラー等の充填剤等を含んで
いても良い。
【００１５】（アンダーコート層）本発明の特色は、一
般式（１）で示される（メタ）アクリレートモノマーを
架橋してなる基材シート層にアンダーコート層を介して
無機層を形成することにより、基材シート層と無機質層
との密着性の向上を目指すものである。本発明のアンダ
ーコート層に用いられる樹脂はエポキシ樹脂である。エ
ポキシ樹脂の例としては、ビスフェノール型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂な
ど特に限定しないが、脂環式エポキシが好ましい。脂環
式エポキシとしては一般式（２）、および（４）〜
（９）で示されるものが挙げられる。中でも一般式
（２）で示される脂環式エポキシが好ましい。
般式（１）で示される（メタ）アクリレートモノマーを
架橋してなる基材シート層にアンダーコート層を介して
無機層を形成することにより、基材シート層と無機質層
との密着性の向上を目指すものである。本発明のアンダ
ーコート層に用いられる樹脂はエポキシ樹脂である。エ
ポキシ樹脂の例としては、ビスフェノール型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂な
ど特に限定しないが、脂環式エポキシが好ましい。脂環
式エポキシとしては一般式（２）、および（４）〜
（９）で示されるものが挙げられる。中でも一般式
（２）で示される脂環式エポキシが好ましい。
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】エポキシ樹脂における硬化剤の例として
は、無水フタル酸、無水テトラフタル酸、無水メチルテ
トラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水
トリメリット酸、ポリアゼライン酸無水物、等の酸無水
物系硬化剤、エチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、メタフェニレンジアミン、等のアミン系硬化剤、フ
ェノール類ノボラック、トリスフェノールメタン、フェ
ノール類・ジシクロペンタジエン重合物、フェノール類
・キシリレングリコール類重縮合物、フェノール類・ビ
フェニルジメタノール類重縮合物、ビスフェノールＳ等
のフェノール系硬化剤など特に限定しないが、フェノー
ル系硬化剤がより好ましく、ビスフェノールＳが特に好
ましい。エポキシ樹脂における硬化触媒、促進剤の例と
しては、アセト酢酸アルミキレート、２−エチル−４−
メチルイミダゾール、オクチル酸錫、ＢＦ3モノエチル
アミン、ＢＦ3ポペリジン、ナトリウムアルコレート、
トリメチロールプロパン、エチレングリコール、グリセ
リン、ポリプロピレングリコール、などがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
は、無水フタル酸、無水テトラフタル酸、無水メチルテ
トラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水
トリメリット酸、ポリアゼライン酸無水物、等の酸無水
物系硬化剤、エチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、メタフェニレンジアミン、等のアミン系硬化剤、フ
ェノール類ノボラック、トリスフェノールメタン、フェ
ノール類・ジシクロペンタジエン重合物、フェノール類
・キシリレングリコール類重縮合物、フェノール類・ビ
フェニルジメタノール類重縮合物、ビスフェノールＳ等
のフェノール系硬化剤など特に限定しないが、フェノー
ル系硬化剤がより好ましく、ビスフェノールＳが特に好
ましい。エポキシ樹脂における硬化触媒、促進剤の例と
しては、アセト酢酸アルミキレート、２−エチル−４−
メチルイミダゾール、オクチル酸錫、ＢＦ3モノエチル
アミン、ＢＦ3ポペリジン、ナトリウムアルコレート、
トリメチロールプロパン、エチレングリコール、グリセ
リン、ポリプロピレングリコール、などがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
【００２４】（界面活性剤）一般式（１）で示される
（メタ）アクリレートモノマーを架橋してなる基材シー
ト層に対して、エポキシ樹脂を含むアンダーコート層に
は、基材シートとの濡れ性を改善し、厚みムラをなくす
目的で界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤と
しては、フッ素系界面活性剤およびシリコン系界面活性
剤が好ましい。
（メタ）アクリレートモノマーを架橋してなる基材シー
ト層に対して、エポキシ樹脂を含むアンダーコート層に
は、基材シートとの濡れ性を改善し、厚みムラをなくす
目的で界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤と
しては、フッ素系界面活性剤およびシリコン系界面活性
剤が好ましい。
【００２５】フッ素系の界面活性剤の中でも、 Ｃ8Ｆ17
基を持つアクリルオリゴマーが効果的であり、オリゴマ
ー中に含まれる親水性基、親油性基の配分を変えること
により多種樹脂に効果を発揮する。具体例としては、メ
ガファックＦ―１７７、Ｆ―１４０５、Ｆ−１４２Ｄ、
Ｆ−４７０，Ｆ−４７２，Ｆ−４７４（すべて大日本イ
ンキ社製）等があげられる。シリコン系の界面活性剤は
ＳｉＯ（CH3）2を繰り返し単位とするオリゴマーであ
り、多種の極性を発現させるため、前記オリゴマーの末
端および側鎖に（ＯＣ2Ｈ4）a（ ＯＣ3Ｈ6）bＯＲ基
（ａ，ｂ：任意、Ｒ：アルキル基または水素原子）を導
入したものである。極性、分子量の違いによりＦＺ−２
１０４、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２，ＦＺ−２１
２３，ＦＺ−２１６５、ＦＺ−２１９１、Ｌ−７００
６、Ｌ−７６０４（すべて日本ユニカー社製）等があげ
られる。
基を持つアクリルオリゴマーが効果的であり、オリゴマ
ー中に含まれる親水性基、親油性基の配分を変えること
により多種樹脂に効果を発揮する。具体例としては、メ
ガファックＦ―１７７、Ｆ―１４０５、Ｆ−１４２Ｄ、
Ｆ−４７０，Ｆ−４７２，Ｆ−４７４（すべて大日本イ
ンキ社製）等があげられる。シリコン系の界面活性剤は
ＳｉＯ（CH3）2を繰り返し単位とするオリゴマーであ
り、多種の極性を発現させるため、前記オリゴマーの末
端および側鎖に（ＯＣ2Ｈ4）a（ ＯＣ3Ｈ6）bＯＲ基
（ａ，ｂ：任意、Ｒ：アルキル基または水素原子）を導
入したものである。極性、分子量の違いによりＦＺ−２
１０４、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２，ＦＺ−２１
２３，ＦＺ−２１６５、ＦＺ−２１９１、Ｌ−７００
６、Ｌ−７６０４（すべて日本ユニカー社製）等があげ
られる。
【００２６】アンダーコート層に含まれるエポキシ樹脂
に対して好ましい界面活性剤は、フッ素系ではＦ−１７
７、Ｆ−４７０、Ｆ−４７２、Ｆ−４７４、シリコン系
ではＬ−７００６、Ｌ−７６０４等であり、特に好まし
いのはフッ素系界面活性剤Ｆ−１７７である。なおアン
ダーコート層は種々の添加剤、例えば、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、熱安定剤などの安定剤；可塑剤；充填剤な
どを含有してもよい。アンダーコート層の厚みは、特に
限定はしないが、例えば、０．０１〜５μｍの範囲が好
ましく、さらに好ましくは０．１〜１μｍ、特に好まし
くは、０．２〜０．７μｍの範囲である。
に対して好ましい界面活性剤は、フッ素系ではＦ−１７
７、Ｆ−４７０、Ｆ−４７２、Ｆ−４７４、シリコン系
ではＬ−７００６、Ｌ−７６０４等であり、特に好まし
いのはフッ素系界面活性剤Ｆ−１７７である。なおアン
ダーコート層は種々の添加剤、例えば、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、熱安定剤などの安定剤；可塑剤；充填剤な
どを含有してもよい。アンダーコート層の厚みは、特に
限定はしないが、例えば、０．０１〜５μｍの範囲が好
ましく、さらに好ましくは０．１〜１μｍ、特に好まし
くは、０．２〜０．７μｍの範囲である。
【００２７】（無機層）本発明で用いられる無機層とし
ては、透明性、水蒸気および酸素に対するバリア性に優
れていることからけい素酸化物、ＳｉＯx （x＝１．５
〜１．８）が好ましい。ｘが１．８より大きいと、得ら
れる無機層の透明性は高くなるが、バリア性は低下す
る。反対にＳｉＯx のｘが１．５以下であると、バリア
性は高くなるものの、けい素酸化物はやや褐色を呈し、
透明性が悪くなる。無機層は、慣用の方法、例えば、物
理的方法（真空蒸着法、反応性蒸着法、スパッタリング
法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング
法、反応性イオンプレーティング法など）、化学的方法
（ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法な
ど）により、アンダーコート層の表面を、前記無機物で
被覆することにより形成できる。
ては、透明性、水蒸気および酸素に対するバリア性に優
れていることからけい素酸化物、ＳｉＯx （x＝１．５
〜１．８）が好ましい。ｘが１．８より大きいと、得ら
れる無機層の透明性は高くなるが、バリア性は低下す
る。反対にＳｉＯx のｘが１．５以下であると、バリア
性は高くなるものの、けい素酸化物はやや褐色を呈し、
透明性が悪くなる。無機層は、慣用の方法、例えば、物
理的方法（真空蒸着法、反応性蒸着法、スパッタリング
法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング
法、反応性イオンプレーティング法など）、化学的方法
（ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法な
ど）により、アンダーコート層の表面を、前記無機物で
被覆することにより形成できる。
【００２８】
【実施例】以下に本発明を実施例及び比較例によってさ
らに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によっ
てなんら制限されるものではない。
らに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によっ
てなんら制限されるものではない。
【００２９】（基材シートの作成） 基材シート用組成物 （メタクリレート単独基材シート）ジシクロペンタジエ
ニルジメタクリレート（東亞合成(株)製）１００重量部
に、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシ
ル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製
のイルガキュア１８４）を０．６ｇ添加し、溶解させた
混合物をメタクリレート単独基材シート用組成物とし
た。
ニルジメタクリレート（東亞合成(株)製）１００重量部
に、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシ
ル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製
のイルガキュア１８４）を０．６ｇ添加し、溶解させた
混合物をメタクリレート単独基材シート用組成物とし
た。
【００３０】（アクリレート系無機フィラー複合基材シ
ート）ジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合
成(株)製）７５重量部、γ−アクリロキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン１５重量部、イソプロピルアルコー
ル分散型コロイダルシリカ［シリカ含量３０重量％、平
均粒子径１０〜２０ｎｍ、商品名スノーテックＩＰＡ−
ＳＴ；日産化学(株)製］４００重量部を混合し、４５℃
で撹拌しながら減圧下揮発分を除去した。揮発分を約２
００ｇ除去できたところで、光重合開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバス
ペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）を０．
６ｇ添加し、溶解させ、さらに、３級アミン化合物とし
て、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートを０．
１ｇ添加し、溶解させた後、さらに減圧下揮発分を約２
７０ｇ除去し、アクリレート系無機フィラー複合基材シ
ート用組成物を得た。
ート）ジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合
成(株)製）７５重量部、γ−アクリロキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン１５重量部、イソプロピルアルコー
ル分散型コロイダルシリカ［シリカ含量３０重量％、平
均粒子径１０〜２０ｎｍ、商品名スノーテックＩＰＡ−
ＳＴ；日産化学(株)製］４００重量部を混合し、４５℃
で撹拌しながら減圧下揮発分を除去した。揮発分を約２
００ｇ除去できたところで、光重合開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバス
ペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）を０．
６ｇ添加し、溶解させ、さらに、３級アミン化合物とし
て、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートを０．
１ｇ添加し、溶解させた後、さらに減圧下揮発分を約２
７０ｇ除去し、アクリレート系無機フィラー複合基材シ
ート用組成物を得た。
【００３１】シート化 で得られた基材シート用組成物をそれぞれ８０℃のオ
ーブンで加熱し、ガラス板上に作成した厚み０．４ｍｍ
の枠内に注入し、上部よりガラス板をのせ枠内に組成物
を充填した。 架橋 で得られた、ガラス板に挟んだ組成物に、両面から約
５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して硬化させ、ガラ
スからシートを剥離した。 熱処理 で得られたシートを、ステンレス板上で、約２７５
℃、３時間加熱し、基材シートを得た。
ーブンで加熱し、ガラス板上に作成した厚み０．４ｍｍ
の枠内に注入し、上部よりガラス板をのせ枠内に組成物
を充填した。 架橋 で得られた、ガラス板に挟んだ組成物に、両面から約
５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して硬化させ、ガラ
スからシートを剥離した。 熱処理 で得られたシートを、ステンレス板上で、約２７５
℃、３時間加熱し、基材シートを得た。
【００３２】（実施例１）アンダーコート剤として、固
形分換算で脂環式エポキシ（ダイセル社製：セロキサイ
ド２０２１Ｐ）１００重量部に対して硬化剤ビスフェノ
ールＳ（ダイセル社製：試作品ＥＸ−１（Ｂ））３重量
部、カチオン触媒（ダイセル社製：試作品ＥＸ−１
（Ａ））を０．５重量部、界面活性剤Ｆ−１７７（大日
本インキ社製）を１重量部添加し、２−ブトキシエタノ
ールに溶解させ、前記基材シート（メタクリレート単独
基材シート）に厚み０．５μｍでディップコートさせ
た。これを１７０℃、３０分プレキュアさせた後２００
℃２時間熱硬化させアンダーコート層を形成させ、さら
にＳｉＯをターゲットとして、反応性スパッタリング法
により厚さ５００オングストロームのケイ素酸化物蒸着
層を無機質層として形成して、液晶表示素子用基板を得
た。
形分換算で脂環式エポキシ（ダイセル社製：セロキサイ
ド２０２１Ｐ）１００重量部に対して硬化剤ビスフェノ
ールＳ（ダイセル社製：試作品ＥＸ−１（Ｂ））３重量
部、カチオン触媒（ダイセル社製：試作品ＥＸ−１
（Ａ））を０．５重量部、界面活性剤Ｆ−１７７（大日
本インキ社製）を１重量部添加し、２−ブトキシエタノ
ールに溶解させ、前記基材シート（メタクリレート単独
基材シート）に厚み０．５μｍでディップコートさせ
た。これを１７０℃、３０分プレキュアさせた後２００
℃２時間熱硬化させアンダーコート層を形成させ、さら
にＳｉＯをターゲットとして、反応性スパッタリング法
により厚さ５００オングストロームのケイ素酸化物蒸着
層を無機質層として形成して、液晶表示素子用基板を得
た。
【００３３】（実施例２）界面活性剤にＦ−４７０（大
日本インキ社製）を用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例３）界面活性剤にＦ−４７４（大日本インキ社
製）を用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例４）界面活性剤を用いていない点以外は実施例
１と同じ。 （実施例５）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例６）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例２と同じ。 （実施例７）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例３と同じ。 （実施例８）界面活性剤を用いていない点以外は実施例
５と同じ。
日本インキ社製）を用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例３）界面活性剤にＦ−４７４（大日本インキ社
製）を用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例４）界面活性剤を用いていない点以外は実施例
１と同じ。 （実施例５）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例１と同じ。 （実施例６）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例２と同じ。 （実施例７）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は実施例３と同じ。 （実施例８）界面活性剤を用いていない点以外は実施例
５と同じ。
【００３４】（比較例１）基材シート（メタクリレート
単独基材シート）に対して直接、ＳｉＯをターゲットと
して反応性スパッタリング法により厚さ５００オングス
トロームのケイ素酸化物蒸着層を無機質層として形成し
て、液晶表示素子用基板を得た。 （比較例２）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は比較例１と同じ。以上の
ようにして作成した液晶表示素子用基板について、下記
の方法により、色、外観、耐溶剤性（ＤＭＳＯ、ＮＭ
Ｐ）、耐液晶性、無機膜の外観および水蒸気に対するバ
リア性を評価した。
単独基材シート）に対して直接、ＳｉＯをターゲットと
して反応性スパッタリング法により厚さ５００オングス
トロームのケイ素酸化物蒸着層を無機質層として形成し
て、液晶表示素子用基板を得た。 （比較例２）基材シートにアクリレート系無機フィラー
複合基材シートを用いた以外は比較例１と同じ。以上の
ようにして作成した液晶表示素子用基板について、下記
の方法により、色、外観、耐溶剤性（ＤＭＳＯ、ＮＭ
Ｐ）、耐液晶性、無機膜の外観および水蒸気に対するバ
リア性を評価した。
【００３５】＜評価方法＞ 色： 目視によって観察した。 外観：目視によって塗布状態を観察した。 耐ＤＭＳＯ： ６０℃のジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）に試料を浸漬して３０分間放置した後、試料を取
り出し、目視にて外観を観察した。 耐ＮＭＰ性： ６０℃のＮ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）に試料を浸漬して３０分間放置した後、試料を取り
出し、目視にて外観を観察した。 耐液晶性： シートの表面にメルク社製ＺＩＬ−４７
９２を１滴たらし、１５０℃のオーブン中で１時間放置
した後、試料を取り出し、目視にて外観を観察した。 無機膜の外観：純水９０℃ボイル３０分の後に２００
℃２時間乾燥させ、無機膜の外観変化を目視により観察
した。 バリア性：モコン社製透湿度測定器ＰＥＲＭＡＴＲＡ
Ｎ−Ｗ３/３１ＭＧを用いて、４０℃、９０％水蒸気に
対するバリア性を測定。 実施例１〜４および比較例１を表１に、実施例５〜８お
よび比較例２を表２に示す。
ＳＯ）に試料を浸漬して３０分間放置した後、試料を取
り出し、目視にて外観を観察した。 耐ＮＭＰ性： ６０℃のＮ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）に試料を浸漬して３０分間放置した後、試料を取り
出し、目視にて外観を観察した。 耐液晶性： シートの表面にメルク社製ＺＩＬ−４７
９２を１滴たらし、１５０℃のオーブン中で１時間放置
した後、試料を取り出し、目視にて外観を観察した。 無機膜の外観：純水９０℃ボイル３０分の後に２００
℃２時間乾燥させ、無機膜の外観変化を目視により観察
した。 バリア性：モコン社製透湿度測定器ＰＥＲＭＡＴＲＡ
Ｎ−Ｗ３/３１ＭＧを用いて、４０℃、９０％水蒸気に
対するバリア性を測定。 実施例１〜４および比較例１を表１に、実施例５〜８お
よび比較例２を表２に示す。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】これらの結果から、アンダーコート層の無
い場合には、無機層に亀裂を生じ、バリア機能を果たし
ていないことがわかった。アンダーコート剤にエポキシ
樹脂を用いることで、バリア性は良好に保たれ、特に、
アンダーコート剤に脂環式エポキシ、界面活性剤にF-17
7を用いた場合、外観、耐液晶性、耐溶剤性（ＤＭＳ
Ｏ、ＮＭＰ）、および無機膜、バリア性がすべて良好で
あり、液晶表示基板として好適であると考えられた。
い場合には、無機層に亀裂を生じ、バリア機能を果たし
ていないことがわかった。アンダーコート剤にエポキシ
樹脂を用いることで、バリア性は良好に保たれ、特に、
アンダーコート剤に脂環式エポキシ、界面活性剤にF-17
7を用いた場合、外観、耐液晶性、耐溶剤性（ＤＭＳ
Ｏ、ＮＭＰ）、および無機膜、バリア性がすべて良好で
あり、液晶表示基板として好適であると考えられた。
【００３９】
【発明の効果】本発明の複合フィルムは、耐薬品性、耐
熱性、透明性に加え、酸素、水蒸気バリア性に優れるこ
とから、液晶表示基板に好適に用いることができる。
熱性、透明性に加え、酸素、水蒸気バリア性に優れるこ
とから、液晶表示基板に好適に用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 2/46 Ｃ０８Ｆ 2/46 ４Ｊ１００ 20/20 20/20 Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｆ Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｄ 163/00 163/00 // Ｃ０９Ｄ 7/12 7/12 Ｃ０８Ｌ 33:06 Ｃ０８Ｌ 33:06 Ｆターム(参考） 2H090 HB07X JA06 JB03 4F006 AA22 AB34 AB67 AB69 BA01 CA05 CA08 DA04 EA05 4F100 AA01C AA20A AA20H AK25A AK53B AL05A AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C CA18 DE01A EJ06 EJ062 EJ42 EJ422 EJ52A EJ54 EJ542 EJ82 EJ822 GB43 JB07 JD02 JD05 JJ03 JM02B JN01 YY00A 4J011 PA13 PB22 PB40 QA12 SA61 SA90 UA01 VA01 VA04 WA07 WA10 4J038 DA032 DB041 DB061 DB071 JA42 JA55 JA64 JB04 JB05 JB07 JC30 KA03 KA09 NA12 PA14 PB11 PC08 4J100 AL08Q AL66P BA77Q BC37P CA01 CA04 JA39 JA43
Claims (8)
- 【請求項１】下記一般式（１）で示される（メタ）アク
リレートモノマーを含む樹脂を架橋してなる基材シート
層と、少なくともエポキシ樹脂を含むアンダーコート
層、および無機層からなる液晶表示素子用樹脂基板。 【化１】 （一般式（１）中、Ｒ1，Ｒ2は互いに異なってもよく、
水素原子又はメチル基を示し、ａは１又は２を示し、ｂ
は０又は１を示す。） - 【請求項２】基材シートが前記一般式（１）で示される
（メタ）アクリレート（a）に対して平均粒子径が１〜
１００ｎｍであるシリカ微粒子（ｂ）を３０〜９０重量
％含んでなる複合体組成物を活性エネルギー線で架橋し
て成ることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子用
樹脂基板。 - 【請求項３】アンダーコート層に界面活性剤を含むこと
を特徴とする請求項１または２記載の液晶表示素子用樹
脂基板 - 【請求項４】アンダーコート層に含まれるエポキシ樹脂
が、一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂である
ことを特徴とする請求項１〜３何れか１項記載の液晶表
示素子用樹脂基板。 【化２】 - 【請求項５】アンダーコート層に含まれる界面活性剤
が、フッ素系界面活性剤であることを特徴とする請求項
３または４記載の液晶表示素子用樹脂基板。 - 【請求項６】前記フッ素系界面活性剤が、Ｃ8Ｆ17基を
持つアクリルオリゴマーを含むことを特徴とする請求項
５記載の液晶表示素子用樹脂基板。 - 【請求項７】アンダーコート層に含まれる界面活性剤
が、シリコン系界面活性剤であることを特徴とする請求
項３または４記載の液晶表示素子用樹脂基板。 - 【請求項８】前記シリコン系の界面活性剤が、（ＳｉＯ
（Ｍｅ）2）を繰り返し単位とするオリゴマーであり、
末端および側鎖に（ＯＣ2Ｈ4）a（ ＯＣ3Ｈ6）bＯＲ基
（ａ，ｂ：５０未満の整数、Ｒ：アルキル基または水素
原子）を導入したことを特徴とする請求項７記載の液晶
表示素子用樹脂基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001106064A JP2002303852A (ja) | 2001-04-04 | 2001-04-04 | 液晶表示素子用樹脂基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001106064A JP2002303852A (ja) | 2001-04-04 | 2001-04-04 | 液晶表示素子用樹脂基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002303852A true JP2002303852A (ja) | 2002-10-18 |
Family
ID=18958642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001106064A Withdrawn JP2002303852A (ja) | 2001-04-04 | 2001-04-04 | 液晶表示素子用樹脂基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002303852A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004300433A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-28 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明複合体組成物およびこれを用いた表示素子用基板 |
| JP2007126685A (ja) * | 2007-02-05 | 2007-05-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 超微粒子を含有する架橋樹脂組成物及び光学部材 |
| JP2007148007A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | スペーサ付表示装置用基板 |
| JP2010235935A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-10-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | コーティング組成物及び透明性フィルム |
-
2001
- 2001-04-04 JP JP2001106064A patent/JP2002303852A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004300433A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-28 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明複合体組成物およびこれを用いた表示素子用基板 |
| JP2007148007A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | スペーサ付表示装置用基板 |
| JP2007126685A (ja) * | 2007-02-05 | 2007-05-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 超微粒子を含有する架橋樹脂組成物及び光学部材 |
| JP4750051B2 (ja) * | 2007-02-05 | 2011-08-17 | 日本合成化学工業株式会社 | 光学部材用架橋樹脂組成物及び光学部材 |
| JP2010235935A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-10-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | コーティング組成物及び透明性フィルム |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071107 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100531 |