JP2002302651A

JP2002302651A - 後架橋型ポリッシュ用組成物

Info

Publication number: JP2002302651A
Application number: JP2001104663A
Authority: JP
Inventors: Tomoko Matsumoto; 知子松本
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2001-04-03
Filing date: 2001-04-03
Publication date: 2002-10-18

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた耐擦傷性、防汚性、光沢性を有し、ま
た、容易に剥離でき、塗布後に特性が発現するまでの時
間が短い後架橋型ポリッシュ組成物を提供する。【解決手段】平均粒子径が５０μｍ以下、アスペクト比
が１０〜３００であるシリカの板状粒子、好ましくは、
層状ポリケイ酸からなる、シリカＸまたはシリカＹから
なる鱗片状シリカ、特に、複数の鱗片状の１次粒子がそ
れらの面間で互いに平行的に配向して重なって形成され
た積層構造を有する２次粒子を含む後架橋型ポリッシュ
用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の基材、特に
床（フロアー）などの表面に保護、防汚、光沢（ポリッ
シュ）などを付与するための後架橋型ポリッシュ用組成
物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プラスチック、木材、コンクリー
トなどの各種の基材、例えば、床などの表面を保護、防
汚し、かつ美観上の光沢性（つや出し、ポリッシュ）を
付与する皮膜を形成するための種々のポリッシュ用組成
物が広く提案され、使用されている。

【０００３】かかるポリッシュ用組成物としては、近
年、塗布後に架橋して皮膜を形成する後架橋型ポリッシ
ュ組成物が主流になっている。この種の後架橋型ポリッ
シュ組成物には、強靭な耐久性ある皮膜を形成するだけ
でなく、汚れが付きにくい防汚性を有し、かつ美しい光
沢を発現、維持し、また、靴によるブラックヒールマー
クやスカッフマークなどの傷が付きにくい硬度を有する
ことが要求されている。さらに、一方では、一定期間の
使用により皮膜が汚れた場合には、比較的容易に剥離で
き、再塗布に障害にならないなどの各種の特性が要求さ
れる。

【０００４】加えて、塗布後に架橋して所定の特性が完
全に発現するまでは、従来のポリッシュ組成物では約１
週間程度を要するが、通常はその以前に使用を始めざる
を得ない。しかし、この間に傷や汚れがつきやすいとい
う、大きな問題があるため、塗布後に、なるべく速く架
橋、硬化し、所期の性能を発現することが実用上要求さ
れている。

【０００５】従来、特開平８−２９１２７２号公報、特
開平８−９２５２９号公報、特開平９−３２４２４８号
公報、特開平１０−１０２００６号公報及び特開平１１
−３４９９００号公報などには、塗布後に架橋させ、硬
化させる各種の後架橋型ポリッシュ組成物が開示されて
いる。しかしながら、これら従来のものは、ポリッシュ
組成物に要求される上記の各種の要求を充分に満たすも
のではなく、なお、改善の余地がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みて、優れた耐擦傷性、防汚性、光沢性を有し、ま
た、靴などによるブラックヒールマークなどの傷が付き
にくい高硬度を有し、さらに、比較的容易に剥離でき、
加えて、塗布後に特性が発現するまでの時間が短く、短
時間に使用できる、後架橋型ポリッシュ組成物を提供す
ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するために、後架橋型ポリッシュ組成物について
種々検討を行ったところ、ポリマーの水性分散液を含有
する塗布後に架橋して皮膜を形成する後架橋型ポリッシ
ュ用組成物において、下記する特定範囲の平均粒子径と
アスペクト比を有するシリカの板状粒子、なかでも厚み
がナノサイズの極めて薄い鱗片状のシリカの１次粒子、
特には、かかる複数の鱗片状の１次粒子が平行的に重な
り合った積層構造を有する２次粒子からなるシリカの板
状粒子を含有させた場合には、ポリッシュ用組成物の特
性が著しく向上することが見出された。

【０００８】即ち、上記の特定のシリカの板状粒子を含
む後架橋型ポリッシュ用組成物による皮膜は、防汚性、
光沢性を有するとともに、靴などによるブラックヒール
マークなどの傷が付きにくい高硬度性、耐擦傷性、強靭
性を有し、さらに、再塗布時などの場合には、比較的容
易に剥離でき、加えて、予想外のことに塗布後に所期の
特性が発現するまでの時間が短いという極めて優れた特
性を有する。

【０００９】本発明で、特定の物性を有するシリカの板
状粒子を含むポリッシュ組成物から形成される皮膜が何
故に優れた特性を有するかについては必ずしも明らかで
はないが、ほぼ次のように推定される。シリカの板状粒
子は、ポリマーなどに比べて、硬度が大きく、化学的安
定性に優れているので、長期間の耐擦傷性が得られ、ま
た、その大きい透明性のために光沢ある美観を有する。
同時に、平均粒子径及びアスペクト比が所定範囲を有す
るとき、特に、上記シリカＸ、シリカＹの鱗片状シリカ
で代表される扁平なシリカの板状粒子の場合、粒状物と
違い膜内で配向し、固く平坦な表面を形成するために、
皮膜の表面には、汚れがつきにくく、また、一方で付い
た汚れは落としやすいものと思われる。

【００１０】また、本発明の後架橋型ポリッシュ組成物
は、上記の特性に加えて、予想外のことに、塗布後に所
期の特性が発現するまでの時間が短い。かかる特性は、
特に、上記シリカＸ、シリカＹの鱗片状のシリカ粒子で
代表されるシリカの板状粒子が、その比表面積あたりの
シラノール基（−ＳｉＯＨ）濃度として通常のシリカゲ
ルの数倍〜数十倍もの大きな値を有することに基因する
ものと思われる。このような大きいシラノール濃度を有
するシリカ粒子は、ポリマーとの混合、攪拌過程で粒子
同士が極めて強く結着し、自己造膜性を示し、またその
乾燥、焼成では、シラノール基の縮合反応などが早期に
起こり、粒子結着が生じるためと思われる。なお、これ
らのメカニズムについての説明は必ずしも確認されたも
のではなく、推論に過ぎず、従って、本発明についての
解釈を拘束するものではない。

【００１１】かくして、本発明は上記した目的を充分に
達成するものあり、以下の構成を有するものである。（１）ポリマーの水性分散液を含有する塗布後に架橋し
て皮膜を形成する後架橋型ポリッシュ用組成物であっ
て、該組成物中に平均粒子径が５０μｍ以下、アスペク
ト比が１０〜３００であるシリカの板状粒子が含まれる
ことを特徴とする後架橋型ポリッシュ用組成物。（２）シリカの板状粒子が、層状ポリケイ酸からなる上
記（１）に記載の後架橋型ポリッシュ用組成物。（３）層状ポリケイ酸が、シリカＸまたはシリカＹから
なる上記（２）請求項２に記載の後架橋型ポリッシュ用
組成物。（４）シリカの板状粒子が、複数の鱗片状の１次粒子が
それらの面間で互いに平行的に配向して重なって形成さ
れた積層構造を有し、厚みが０．０１〜０．５μｍ、面
径が０．５〜１０μｍの２次粒子である上記（１）、
（２）または（３）に記載の後架橋型ポリッシュ用組成
物。（５）ポリマーの水性分散液のポリマーが、分子内にカ
ルボキシル基を有するα，β−不飽和カルボン酸系ポリ
マーである上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の
後架橋型ポリッシュ用組成物。（６）ポリマーの水性分散液のポリマーが、分子内にカ
ルボキシル基を有する水性ポリウレタン系ポリマーであ
る上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の架橋型ポ
リッシュ用組成物。（７）床用である上記（１）〜（６）のいずれか１項に
記載された後架橋型ポリッシュ用組成物。（８）上記（１）〜（６）のいずれか１項に記載された
後架橋型ポリッシュ用組成物が塗布され架橋して形成さ
れたポリッシュ皮膜。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の後架橋型ポリッシュ用組
成物に含まれるポリマーの水性分散液を形成するポリマ
ーとしては、この種の用途に知られている種々のポリマ
ーが使用される。ポリマーは、水性分散液中にエマルジ
ョン又はディスパージョンとして含まれるが、その含有
量は、ポリッシュ組成物に対して、固形分として、好ま
しくは５〜５０質量％、特には１０〜４０質量％である
のが好適である。

【００１３】ポリマーとしては、分子内に酸型官能基を
有するポリマーが好ましい。酸型官能基としては、カル
ボキシル基、スルホニル基、リン酸基が挙げられる。ポ
リマー中の酸型官能基の含有量である、ポリマーの有す
る酸価としては、好ましくは、１５〜２００、特には３
５〜１７０が好適である。酸価が、１５よりも小さい場
合、本発明のポリッシュ組成物を塗布し形成された皮膜
が剥離しやすくなる。一方、酸価が２００を超えると得
られる皮膜の耐水性などが劣る。かかる酸価は、ポリマ
ー中の酸型官能基を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数
をポリマー固形分１ｇに対して示したものであり、ＪＩ
Ｓ−Ｋ００７０により求めることができる。ポリマーの
分子量は、重量平均値として、好ましくは５，０００〜
１，０００，０００、特には１０，０００〜２００，０
００が好適である。かかるポリマーとしては、なかで
も、カルボキシル基を有するα，β−不飽和カルボン酸
系ポリマー、又はカルボキシル基を有する水性ポリウレ
タン系ポリマーが好ましく使用される。

【００１４】カルボキシル基を有するα，β−不飽和カ
ルボン酸系ポリマーとしては、アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸又はイタコン酸などの炭素数が３〜１
０、好ましくは３〜６のα，β−不飽和カルボン酸系モ
ノマー、そのエステル、又はその塩の１種又は２種以上
の混合物のポリマーが挙げられる。また、上記のモノマ
ーと、スチレン、スチレンスルホン酸塩などのスチレン
系モノマーとのコポリマーが挙げられる。これらのポリ
マーまたはコポリマーは、一般に既知の乳化重合法また
は懸濁重合法により製造される。

【００１５】また、上記カルボキシル基を有する水性ポ
リウレタン系ポリマーとしては、ポリウレタン系樹脂の
鎖中に、カルボン酸またはカルボン酸塩が結合して存在
するポリマーが挙げられる。これらは、例えば、ポリウ
レタン樹脂の製造に際し、ジオールおよびジイソシアネ
ートにカルボン酸基を有するジオールなどを加えて、必
要により一部中和した後に重合することによって得られ
る。また、末端にイソシアネート基を有するポリウレタ
ンプレポリマーに過剰のポリアルキルポリアミンを反応
せしめてポリウレタン尿素ポリアミンを生成させ、環式
ジカルボン酸無水物などを反応させることによっても製
造される。

【００１６】本発明のポリッシュ組成物には、上記のよ
うに、平均粒子径が５０μｍ以下であり、アスペクト比
が１０〜３００であるシリカの板状粒子が含まれること
が特徴である。シリカは非結晶性であっても結晶性であ
ってもよいが、透明性が大きいものが好ましく、かつそ
の屈折率は１．３０〜１．５２であるものが好ましい。
本発明において、シリカの板状粒子の平均粒子径は、レ
ーザー散乱式測定装置（例えば、(株)堀場製作所製、Ｈ
ＯＲＩＢＡＬＡ−９２０）で測定したメジアン径を意
味する。平均粒子径が５０μｍを超える場合には、通常
の塗面では、板状粒子が配向しにくくなり、充分な性能
がでない。平均粒子径は小さい方が好ましいが、過度に
小さい場合には、二次凝集しやすくなるので、０．００
１μｍ以上が好ましい。なかでも、平均粒子径は、０．
０１〜３μｍが好適である。

【００１７】シリカ板状粒子のアスペクト比は、シリカ
の板状粒子についての厚みに対する長径の比率を表す。
本発明では、アスペクト比が充分に大きいことが一つの
特徴であり、本発明ではアスペクト比が５〜３００であ
ることが必要である。アスペクト比が５に満たない場合
は、厚みが増大するので透明性が不充分であり、例え
ば、床用のポリッシュ組成物の場合、その重要な特性で
ある意匠性が低下する。アスペクト比が３００を超える
場合には、厚みが過度に低下し、強度が低下し、ポリッ
シュ組成物に混入する過程で割れを起こし均一な特性を
有する皮膜が得られにくくなる。なかでも、アスペクト
比は、１０〜２００の場合、特には２０〜１００の場合
がさらに好ましい。

【００１８】本発明で使用される、上記の平均粒子径お
よびアスペクト比を有するシリカの板状粒子は、例え
ば、粒子径が、１０〜２００ｎｍのシリカの極小微粒子
をシート状に成形したシリカの板状粒子でもよいが、好
ましくは、層状ポリケイ酸からなるシリカの板状粒子が
好適である。層状ポリケイ酸は、その基本構成単位がＳ
ｉＯ₄四面体からなるシリケート構造のポリケイ酸であ
り、本発明では、そのＨ型および／またはアルカリ金属
などの塩型が好ましい。これらの層状ポリケイ酸の例と
しては、シリカＸ、シリカＹを始め、ケニアアイト、マ
カディアイト、マカタイト、アイラアイト、カネマイ
ト、オクトシリケートなどが挙げられる。

【００１９】本発明のポリッシュ組成物では、層状ポリ
ケイ酸のなかでも、シリカＸまたはシリカＹからなる鱗
片状、または葉状のシリカ粒子の使用が好ましい。この
鱗片状のシリカ粒子で特徴的なことは、その比表面積あ
たりに有するシラノール基（−ＳｉＯＨ）が３０〜１０
０μｍｏｌ／ｍ²、特には５０〜７０μｍｏｌ／ｍ²と極
めて大きく、同じシリカ材料でもシリカゲルなどに比べ
て数倍〜数十倍と大きな値を有することである。かかる
シラノール基の含有量が大きいために、上記のように本
発明のポリッシュ組成物は、特に優れた特性が発揮され
るものと思われる。ここで、シラノール基の含有量は、
以下の式によって求められる、熱重量分析法により測定
された数値である。（Ｗ×１１１１．１）／ＳＡ上記式において、Ｗは、温度１２０℃から１２００℃に
加熱した場合の、それぞれ平衡に達した状態における重
量（％）の減少差であり、ＳＡは、ＢＥＴ法による比表
面積である。

【００２０】本発明で使用されるシリカの板状粒子は、
シリカＸ、またはシリカＹで代表される鱗片状シリカの
１次粒子でもよいが、実質上、複数の鱗片状シリカの１
次粒子がそれらの面間で互いに平行的に配向して重なっ
て形成された積層構造を有する２次粒子が好ましい。か
かる鱗片状シリカの２次粒子は、厚みが好ましくは０．
０１〜０．５μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μ
ｍで、面径が好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好まし
くは、１〜５μｍであるのが好ましい。上記範囲の厚み
や面径を有する場合は目的とする強度、透明性などの特
性がさらに向上するので好ましい。

【００２１】また、上記鱗片状シリカの２次粒子は、積
層された極薄片の鱗片状シリカの１次粒子間の間隙など
に細孔を形成するが、この細孔容積が好ましくは、０．
０１〜１．０ｍｌ／ｇ、特には０．１０〜０．１５ｍｌ
／ｇが好ましい。また、その比表面積は、好ましくは２
０〜２００ｍ²／ｇ、特には、５０〜８０ｍ²／ｇが好ま
しい。

【００２２】本発明で使用される特定の物性を有するシ
リカＸまたはシリカＹなどの層状ポリケイ酸からなる鱗
片状シリカは、好ましくは、次のような方法で製造され
る。即ち、シリカヒドロゲル、活性ケイ酸または含水ケ
イ酸をアルカリ金属塩の存在下に１５０〜２２０℃にて
水熱処理することにより、１次粒子と２次粒子が３次元
的に重なりあった鱗片状シリカの３次凝集粒子が製造で
きる。この３次凝集粒子を湿式粉砕装置などを使用して
粉砕、分散化することにより、上記した鱗片状シリカの
２次粒子が製造される。これらの鱗片状シリカは、旭硝
子（株）から、商品名「サンラブリー（登録商標）」で
販売されている。

【００２３】本発明のポリッシュ用組成物におけるシリ
カの板状粒子の含有量は、全ポリッシュ組成物に対し、
好ましくは０．１〜２０質量％である。該含有量が
０．１質量％より小さい場合には、目的とする特性が不
充分であり、一方、２０質量％を超えるポリッシュ組成
物の粘度が上昇し、使用上好ましくない。なかでも、シ
リカの板状粒子の含有量は、０．５〜１０質量％である
のが好適である。シリカの板状粒子は、好ましくは、そ
の水性分散液の形態にて入手し、使用されるが、この場
合、その板状粒子の濃度は好ましくは１〜３０質量％、
特には、５〜２０質量％が好適である。

【００２４】また、本発明のポリッシュ用組成物は、上
記の成分に加えて、組成物を塗布後に上記のポリマーを
架橋して皮膜を形成するための架橋剤、及び、必要に応
じて、可塑剤、皮膜形成剤、融合剤、レベリング剤、滑
り調整剤、乳化剤、防腐剤、消泡剤などの既知の各種成
分を含有させることができる。

【００２５】架橋剤としては、好ましくは多価金属化合
物が使用され、かかる多価金属化合物としては、好まし
くは、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、亜
鉛、ジルコニウム、若しくは銅の酸化物、水酸化物、塩
基性塩、酸性塩、中性塩またはそれらの錯体、キレート
物が選ばれる。これらの架橋剤の使用量は、ポリマーの
有する酸型官能基の１当量に対して、０．１〜１．０当
量が好ましく、特には０．３〜０．５当量が好適であ
る。架橋剤使用量が０．３より小さいと得られる皮膜の
耐擦傷性が得られず、一方、１．０より大きいと造膜性
が低下する。

【００２６】上記した滑り調整剤としては、植物系、動
物系、鉱物系、石油系ワックスなどの天然ワックス、ま
たは合成炭化水素、ポリエチレンワックス、ポリプロピ
レンワックス、変性ワックスなどの合成ワックスなどが
使用される。これらのワックスは、ポリッシュ組成物に
含まれるポリマー（固形分）１００質量部当り、好まし
くは５〜５０質量部、特には１０〜２５質量部含まれる
のが好適である。

【００２７】また、可塑剤としては、ジブチルフタレー
トなどのフタル酸エステル、トリブトキシエチルホスフ
ェートなどのリン酸エステル、ジメチルアジピン酸エス
テルなどのアジピン酸エステルなどが使用される。レベ
リング剤としては、フッ素系界面活性剤が使用される。
造膜助剤としては、アルコール類、グリコールエーテル
類が使用される。皮膜形成剤としては、スチレン−マレ
イン酸共重合体、水溶性アクリル樹脂などのアルカリ可
溶性樹脂が使用される。

【００２８】本発明のポリッシュ組成物は、上記の各成
分を混合することによって製造される。例えば、水中に
可塑剤、皮膜形成剤、アルカリ可溶性樹脂、フッ素系界
面活性剤を添加した後、上記したポリマーの水性分散
液、シリカの板状粒子、可塑剤、ワックス類などを混
合、攪拌することにより製造される。

【００２９】かくして製造される本発明のポリッシュ組
成物は、最終的にそのｐＨを６〜９の範囲になるように
調整するのが好ましい。ｐＨが６より小さいと組成物の
製品安定性や、形成される皮膜のレベリング性が低下す
る傾向がる。また、ｐＨが９より大きい場合には、ポリ
ッシュ組成物の塗布性が低下するので好ましくない。ポ
リッシュ組成物の最終的ｐＨの調整は、金属酸化物など
の塩基の添加や炭酸ガスや酢酸などの酸を添加すること
によって行うことができる。

【００３０】本発明のポリッシュ組成物は、既知のポリ
ッシュ組成物と同様に各種基材に対して塗布することに
より使用される。基材としては、プラスチック、木材、
コンクリート、ゴムなどの各種の材質からなる、床、天
井、壁などに対して、１回乃至複数回重ねて塗布し、室
温にて、１〜３時間乾燥することにより行われる。この
ようして、上記した物性の優れた、厚みが好ましくは５
〜１００μｍの皮膜が短時間にて得ることができる。一
方、かくして、形成された皮膜を除去するにあたって
は、アミン、アルカリ金属水酸化物、キレート剤、界面
活性剤などを水に溶解した除去剤を皮膜形成面に塗布し
てパットなどを装備したポリッシャーなどで摩擦し、洗
浄することにより容易に除去することができる。

【００３１】

【実施例】以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではないことはもちろんである。なお、下記の実施例
において、「部」及び「パーセント」は、特に断りのな
い限りいずれも質量基準である。

【００３２】＜アクリルエマルジョン１の作成＞攪拌装
置、還流冷却器、滴下ロート、温度計及び窒素導入管を
備えた反応容器に窒素を封入後、脱イオン水５９．４
ｇ、乳化剤（ラウリル硫酸ナトリウム）０．５ｇを加
え、その後水浴中で８０℃まで加温した。そして、攪拌
しながら、メチルメタクリレート２７．６ｇ、ノルマル
ブチルアクリレート１０．０ｇ、メタクリル酸２．４ｇ
からなるモノマー類、触媒（過硫酸アンモニウム４％水
溶液）４ｇ、及び分子量調整剤（ラウリルメルカプタ
ン）０．１０ｇを２時間かけて徐々に滴下して重合を完
了させ、アクリルポリマーのエマルジョン１を得た。

【００３３】＜アクリルエマルジョン２の作成＞上記ア
クリルポリマー分散液１の作成において、モノマー類と
して、メチルメタクリレート４．０ｇ、ノルマルブチル
アクリレート１４．０ｇ、スチレン１６．０ｇ及びメタ
クリル酸６．０ｇを使用した以外は同様に実施すること
により、アクリルポリマーのエマルジョン２を得た。

【００３４】＜ウレタンエマルジョン１の作成＞ポリエ
ステルポリオール（分子量１０００）１５８．２ｇ、ジ
メチロールプロピオン酸２０．７ｇ、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート１０９．２ｇ及びＮ-メチル-２
-ピロリドン１７１．１ｇを還流冷却器、温度計、攪拌
装置を備えた反応器にとり、８０〜１００℃に保ちなが
ら、ウレタン化反応を行い、プレポリマーを製造した。
ついで該プレポリマーにトリエチルアミン１５．６ｇを
加えて中和した後に、ヘキサメチレンジアミン１１．９
ｇを加え、蒸留水を添加しつつ、反応器内の温度を３５
℃以下に保持しながら、高分子化反応を行い、反応終了
までに合計４９０ｇの蒸留水を加えることにより、ポリ
ウレタンエマルジョン１を得た。

【００３５】＜フロアーポリッシュ組成物の製造＞上記
で作成した３種のエマルジョンを、下記の表１及び表２
に示される処方にて調合することによりフロアーポリッ
シュ組成物を製造した。なお、シリカの板状粒子として
は、鱗片状シリカの２次粒子である、「サンラブリーＬ
ＦＳ」（旭硝子（株）社商品名）の固形分濃度が１５質
量％のスラリーを使用した。かかるスラリー中のシリカ
粒子は、シリカＸからなり、複数の鱗片状の一次粒子が
平行的に配向して重なって形成され積層構造を有するシ
リカの２次粒子であり、それには、厚みが０．１μｍ、
面径が４μｍの鱗片状の粒子が最も多く含まれており、
その平均粒子径は、１．２μｍ、アスペクト比は４０で
あった。また、その細孔容積は、０．１３ｍｌ／ｇ、比
表面積は５５ｍ²／ｇであり、その比表面積当りのシラ
ノール基の含有量は、６５μｍｏｌ／ｍ²であった。

【００３６】かくして得られたフロアーポリッシュ組成
物を、ポリ塩化ビニルを主体とするからなる床材に対し
て、アプリケーターを使用して塗布し、塗膜の光沢度、
耐ヒールマーク性、耐擦傷性及び硬化までの時間（乾燥
時間）を評価した。結果を下記の表１に示す。また、比
較のためにシリカの板状粒子を含まないポリッシュ組成
物を使用した場合を表２に示す。なお、塗膜の特性につ
いての各測定法は以下のとおりである。 1.光沢度：ＪＩＳＫ−３９２０に準拠し、ポリッシュ
組成物を３回塗布後測定した。 2.耐ヒールマーク性：ＪＩＳＫ−３９２０に準拠し、
１０段階にて評価した。数値が小さい方が耐ヒールマー
ク性が大きい。 3.耐擦傷性：ＪＩＳＫ−３９２０に準拠した。ポリッ
シュ組成物を５回塗布後、常温にて１６８時間乾燥し、
放置し、テーバー試験機（磨耗輪ＣＳ-１７、荷重５０
０ｇ、サイクル数３００回）にて磨耗度を測定した。磨
耗減量をｍｇで表示した。 4.硬化までの時間：温度２０℃、湿度６０％の雰囲気下
にて、基材にポリッシュ組成物を１５５ｇ／ｍ²で塗
布、乾燥し、カーボンブラックが皮膜に付着しなくなる
までの時間を測定した。また、表１及び表２における注１〜注４は、それぞれ以
下のものを表す。注1：固形分として８質量％水溶液を使用した。注2：ロームアンドハース社製、商品名「プライマルＢ
−６４４」。注3：東邦化学工業株式会社製、商品名「ハイテックＥ
−４Ｂ」。注4：セイミケミカル社製、商品名「サーフロンＳ−３
８３」。

【００３７】

【表１】

【００３８】

【表２】

【発明の効果】本発明によれば、優れた耐擦傷性、防汚
性、光沢性を有し、また、靴によるブラックヒールマー
クなどの傷が付きにくい高硬度を有し、さらに、比較的
容易に剥離でき、加えて、塗布後に特性が発現するまで
の時間が短く、短時間に使用できる、後架橋型ポリッシ
ュ組成物が提供される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｄ 201/00 Ｃ０９Ｄ 201/00 Ｃ０９Ｇ 1/04 Ｃ０９Ｇ 1/04 1/16 1/16 Ｆターム(参考） 4J038 CC021 CC091 CG031 CG061 CG141 CG151 DG06 DG261 DG29 GA06 GA13 GA14 HA216 HA446 JC38 KA03 KA20 MA08 MA10 MA14 NA01 NA04 NA11 PB05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリマーの水性分散液を含有する塗布後に
架橋して皮膜を形成する後架橋型ポリッシュ用組成物で
あって、該組成物中に平均粒子径が５０μｍ以下、アス
ペクト比が１０〜３００であるシリカの板状粒子が含ま
れることを特徴とする後架橋型ポリッシュ用組成物。
【請求項２】シリカの板状粒子が、層状ポリケイ酸から
なる請求項１に記載の後架橋型ポリッシュ用組成物。
【請求項３】層状ポリケイ酸が、シリカＸ、またはシリ
カＹからなる請求項２に記載の後架橋型ポリッシュ用組
成物。
【請求項４】シリカの板状粒子が、複数の鱗片状の１次
粒子がそれらの面間で互いに平行的に配向して重なって
形成された積層構造を有し、厚みが０．０１〜０．５μ
ｍ、面径が０．５〜１０μｍの２次粒子である請求項
１、２または３に記載の後架橋型ポリッシュ用組成物。
【請求項５】ポリマーの水性分散液が、分子内にカルボ
キシル基を有するα，β−不飽和カルボン酸系ポリマー
である請求項１〜４のいずれか１項に記載の後架橋型ポ
リッシュ用組成物。
【請求項６】ポリマーの水性分散液のポリマーが、分子
内にカルボキシル基を有する水性ポリウレタン系ポリマ
ーである請求項１〜４のいずれか１項に記載の後架橋型
ポリッシュ用組成物。
【請求項７】床用である請求項１〜６のいずれか１項に
記載された後架橋型ポリッシュ用組成物。
【請求項８】請求項１〜６のいずれか１項に記載された
後架橋型ポリッシュ用組成物が塗布され架橋して形成さ
れたポリッシュ皮膜。