JP2002298646A - 半導体微粒子ペースト、半導体膜およびその製造方法と光電変換素子 - Google Patents

半導体微粒子ペースト、半導体膜およびその製造方法と光電変換素子

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JP2002298646A
JP2002298646A JP2001103313A JP2001103313A JP2002298646A JP 2002298646 A JP2002298646 A JP 2002298646A JP 2001103313 A JP2001103313 A JP 2001103313A JP 2001103313 A JP2001103313 A JP 2001103313A JP 2002298646 A JP2002298646 A JP 2002298646A
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semiconductor film
sensitizing dye
polyethylene glycol
paste
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Kietsu Iwabuchi
喜悦 岩淵
Satoshi Uchida
聡 内田
Shigehiko Masaki
成彦 正木
Yoshiyuki Kashiwagi
由行 柏木
Miho Fuha
美帆 冨羽
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】均一な膜質の半導体膜を量産できる半導体微粒
子ペースト、それを用いて形成された半導体膜およびそ
の製造方法と、光電変換素子を提供する。 【解決手段】水を主成分とする溶媒と、半導体微粒子
と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレング
リコール、好適には平均分子量が500,000〜4,
000,000の範囲にあるポリエチレングリコールと
を有する半導体微粒子ペースト、それを用いて形成され
た半導体膜およびその製造方法と、光電変換素子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば金属酸化物
の半導体微粒子を含む半導体微粒子ペースト、半導体微
粒子ペーストを用いて形成される半導体膜およびその製
造方法と、そのような半導体膜を含む光電変換素子に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体膜は、半導体微粒子を支持体に固
着させたものであり、紫外線吸収体、光学材料、電気・
電子材料、装飾用材料、触媒、光触媒、吸着材、バイオ
リアクター等に有用である。光電変換素子は、電極間の
電気化学反応を利用して光エネルギーを電気エネルギー
に変換する素子である。
【0003】光電変換素子に光を照射すると、一方の電
極側で電子が発生し、リード線を通って対電極に移動す
る。対電極に移動した電子は、電解質中を移動して一方
の電極に戻る。すなわち、光電変換素子は光エネルギー
を電気エネルギーとして連続的に取り出すことが可能で
ある。このような光電変換素子は、太陽電池等に利用さ
れている。
【0004】太陽電池にはいくつかの種類があるが、実
用化されている太陽電池の大部分はシリコン太陽電池で
ある。最近、色素増感太陽電池が注目されるようにな
り、実用化を目指して活発に研究されている。色素増感
太陽電池は古くから研究されており、その基本構造は酸
化物半導体、酸化物半導体に吸着した色素、電解質溶液
および対極からなる。この場合、光電変換材料として
は、可視光領域に吸収を有する分光増感色素を半導体表
面に吸着させたものが用いられている。
【0005】例えば、特開平1−220380号公報に
は、金属酸化物半導体の表面に、遷移金属錯体等の分光
増感色素を有する太陽電池が開示されている。また、特
表平5−504023号には、金属イオンがドープされ
た酸化チタン半導体層の表面に、遷移金属錯体等の分光
増感色素を有する太陽電池が記載されている。特開平7
−176773号公報には、半導体層を有する光電変換
素子が開示されており、例えば酸化チタン層等の半導体
層を形成する方法としては、結晶育成法、ゾル−ゲル
法、電着法、蒸着法、スパッタリング法等が挙げられて
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】半導体微粒子の懸濁液
(ペースト)を支持体へ塗布する方法は多く存在する。
例えば、スクリーン印刷によるペーストの塗布は、スピ
ンコーティング法やディップコーティング法に比較し
て、ペーストの消費量が少ないという利点をもつ。一般
に、スピンコーティング法によれば、塗布されるペース
トの量よりも周囲に離散して損失するペーストの量の方
が大きくなる。したがって、スクリーン印刷によれば、
半導体微粒子ペーストの使用量を低減させることができ
る。
【0007】しかしながら、スピンコーティング法等に
適したペーストを、スクリーン印刷により塗布すると、
ペーストの粘度が不足して均一な塗布が困難となる。ス
クリーン印刷用のペーストには、一般に10Pa・s
(=10,000cP)程度の粘度が必要とされる。半
導体微粒子ペーストの塗布が不均一に行われると、半導
体微粒子ペーストを焼成して得られる半導体膜の膜質も
不均一となる。したがって、このような半導体膜を用い
て形成される光電変換素子や太陽電池のエネルギー変換
効率が、受光面内でばらつくという問題が起こる。
【0008】このように、光電変換素子や太陽電池の量
産化を図るには、塗布方法に応じた特性をペーストに持
たせる必要がある。半導体微粒子ペーストの粘度を上げ
る場合、これまで、多量の増粘剤が添加されていた。高
粘度の半導体微粒子ペーストを大量かつ安価に市場に供
給できる方法は、明確に確立されていない。
【0009】特開平6−188446号公報には、半導
体微粒子ペーストを例えばスクリーン印刷により塗布し
て、半導体膜を形成する方法が記載されている。しかし
ながら、特開平6−188446号公報には、ポリエチ
レングリコールを添加して、溶液の粘度を調整すること
については記載されていない。また、米国特許第492
7721号には、よく知られているゾル−ゲル法により
半導体微粒子を塗布する記載があるが、粘度調整に関す
る具体的な記載はない。
【0010】光触媒としての酸化チタン膜をゾル−ゲル
法により形成する場合、例えばチタンアルコキシドの加
水分解によって形成された酸化チタンのゾルを、ポリエ
チレングリコールとともに600〜700℃の温度で加
熱および焼成する。その結果、添加するポリエチレング
リコールの分子量および添加量に応じて、所望の径の空
隙を有する多孔質の酸化チタン膜が得られる。また、ポ
リエチレングリコールの分子量および添加量を調整する
ことにより、酸化チタン膜の密度も制御される。
【0011】特開平11−354169号公報には、酸
化チタン膜とその表面に吸着した増感剤を有する光電池
であって、酸化チタン膜に径10〜400nmの空隙が
形成されていることを特徴とする光電池が開示されてい
る。この光電池によれば、酸化チタン膜が径10〜40
0nmの空隙を少なくとも1個有することにより、空隙
内にも増感剤の色素分子が侵入して吸着する。これによ
り、空隙を形成しない場合に比較して、光電流を増加さ
せることが可能となっている。
【0012】特開平11−354169号公報の実施例
によれば、ポリエチレングリコールの添加量に比例し
て、細孔の表面占有率が増加する。原子間力顕微鏡(A
FM)を用いて測定された平均細孔径が60nmである
ことから、ポリエチレングリコールの量に応じて、酸化
チタン膜中の空隙の数を制御できることが確認されてい
る。また、分子量2000、6,000および20,0
00のポリエチレングリコールを同じ重量で添加して、
それぞれ酸化チタン膜を形成した結果、細孔径がポリエ
チレングリコールの分子量に比例して大きくなることも
確認されている。
【0013】上記の光電池を製造する場合、チタンアル
コキシドのアルコール溶液にポリエチレングリコール等
を添加して、この溶液を基板上にスピンコーティング
法、ディップコーティング法またはスプレーコーティン
グ法等により塗布する。チタンを含有する溶液の粘度に
関する記載はないが、これらのコーティング方法には、
例えばスクリーン印刷に比較して低粘度の溶液が適して
いる。
【0014】また、特開平11−354169号公報に
は、空隙の径が約10nmより小さいと、空隙内に増感
剤の色素分子を吸着させることができなくなり、空隙の
径が約400nmより大きいと、可視光が散乱して増感
剤による可視光の吸収が阻害されることが記載されてい
る。
【0015】したがって、細孔径を400nm以下とす
るためには、ポリエチレングリコールの分子量を所定の
値より大きくすることは望ましくないと予想される。特
開平11−354169号公報には、分子量が20,0
00を超えるような高分子のポリエチレングリコールを
用いることについては、記載されていない。以上のよう
に、従来の半導体膜の製造方法においては、高分子量の
ポリエチレングリコールを選択することによるペースト
の粘度調整はなされていない。
【0016】本発明は上記の問題点に鑑みてなされたも
のであり、したがって本発明は、均一な膜質の半導体膜
を量産するのに適した半導体微粒子ペーストを提供する
ことを目的とする。また、本発明は、膜質が均一で生産
効率の高い半導体膜およびその製造方法を提供すること
を目的とする。さらに、本発明は、エネルギー変換効率
が受光面で均一であり、かつ量産化に適した光電変換素
子を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の半導体微粒子ペーストは、水を主成分とす
る溶媒と、半導体微粒子と、平均分子量が20,000
を超えるポリエチレングリコールとを有することを特徴
とする。好適には、前記ポリエチレングリコールの平均
分子量は500,000〜4,000,000の範囲に
ある。好適には、前記溶媒は硝酸を含み、酸性である。
好適には、前記半導体微粒子は酸化チタン微粒子であ
る。
【0018】これにより、増粘剤の使用量(重量)を増
やさずに、半導体微粒子ペーストの粘度を上げることが
可能となる。したがって、高粘度のペーストを用いるこ
とが望ましい、例えばスクリーン印刷等の塗布方法によ
り、ペーストを均一に塗布することが可能となる。
【0019】上記の目的を達成するため、本発明の半導
体膜は、水を主成分とする溶媒と、半導体微粒子と、平
均分子量が20,000を超えるポリエチレングリコー
ルとを含むペーストを焼成して得られることを特徴とす
る。好適には、前記ポリエチレングリコールの平均分子
量は500,000〜4,000,000の範囲にあ
る。好適には、前記溶媒は硝酸を含み、酸性である。好
適には、前記半導体微粒子は酸化チタン微粒子である。
本発明の半導体膜は、好適には、前記半導体膜の表面に
吸着された増感色素をさらに有する。好適には、前記増
感色素はルテニウム錯体を含む。
【0020】これにより、半導体膜の膜質が均一とな
り、半導体膜を光電変換素子等に適用した場合に、エネ
ルギー変換効率を膜の面内で均一にすることが可能とな
る。また、半導体微粒子ペーストの粘度が高いため、例
えばスクリーン印刷等によるペーストの塗布が可能であ
り、半導体膜を量産化することができる。
【0021】上記の目的を達成するため、本発明の半導
体膜の製造方法は、水を主成分とする溶媒と、半導体微
粒子と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレ
ングリコールとを含む半導体微粒子ペーストを、支持体
上に塗布する工程と、前記支持体上の前記半導体微粒子
ペーストを、前記ポリエチレングリコールが分解および
蒸発する温度以上に加熱して焼成する工程とを有するこ
とを特徴とする。好適には、前記ポリエチレングリコー
ルの平均分子量は500,000〜4,000,000
の範囲にある。好適には、前記半導体微粒子ペーストを
前記支持体上に塗布する工程は、スクリーン印刷工程を
含む。
【0022】本発明の半導体膜の製造方法は、好適に
は、前記半導体微粒子ペーストを焼成した後、前記半導
体膜の表面に増感色素を吸着させる工程をさらに有す
る。好適には、前記増感色素を吸着させる工程は、増感
色素を含む増感色素溶液に前記半導体膜を浸漬させる工
程と、前記増感色素溶液から前記半導体膜を取り出し、
前記半導体膜上の前記増感色素溶液を乾燥させる工程と
を含む。あるいは、好適には、前記増感色素を吸着させ
る工程は、増感色素を含む増感色素溶液を前記半導体膜
に塗布する工程と、前記半導体膜上の前記増感色素溶液
を乾燥させる工程とを含む。
【0023】これにより、半導体微粒子ペーストを支持
体上に均一に塗布することが可能となる。したがって、
膜質の均一な半導体膜が得られる。また、半導体微粒子
ペーストの粘度が高いため、例えばスクリーン印刷等に
よるペーストの塗布が可能であり、半導体膜を量産化す
ることができる。
【0024】さらに、上記の目的を達成するため、本発
明の光電変換素子は、第1の電極と、第2の電極と、前
記第1の電極と第2の電極との間に封入された電解質と
を含む光電変換素子であって、前記第1の電極は、水を
主成分とする溶媒と、半導体微粒子と、平均分子量が2
0,000を超えるポリエチレングリコールとを含むペ
ーストを焼成して得られる半導体膜を含むことを特徴と
する。好適には、前記半導体膜は、前記焼成後に表面に
吸着された増感色素をさらに有する。
【0025】これにより、光電変換素子のエネルギー変
換効率を、受光面で均一にすることができる。また、半
導体膜に増感色素を吸着させることにより、光電変換素
子のエネルギー変換効率を高くすることができる。ま
た、半導体微粒子ペーストの粘度が高いため、例えばス
クリーン印刷等によるペーストの塗布が可能であり、半
導体膜およびそれを含む光電変換素子を量産化すること
ができる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の半導体微粒子ペ
ースト、半導体膜およびその製造方法と光電変換素子の
実施の形態について、図面を参照して説明する。本発明
の半導体膜は、水を主成分とする溶媒と、半導体微粒子
粉末と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレ
ングリコールとを含むペーストを用いて形成される。
【0027】ポリエチレングリコールは粘度調整剤とし
て添加され、上記の分子量のポリエチレングリコールを
選択することにより、特にスクリーン印刷に好適な高粘
度のペーストが得られる。また、ポリエチレングリコー
ルの分子量および添加量(重量)を変えてペーストを調
製した結果、添加量が同じ場合には、ポリエチレングリ
コールの分子量が大きい方が、高粘度のペーストが得ら
れた。すなわち、本発明によれば、高分子量のポリエチ
レングリコールを少量添加することにより、高い増粘効
果が得られる。
【0028】本発明の半導体微粒子ペーストとは、酸化
チタンをはじめとする各種の金属酸化物半導体粒子が分
散された懸濁液を示す。半導体微粒子ペースト中に分散
させる金属酸化物半導体微粒子の種類は、使用目的や用
途等に応じて適宜変更することが可能である。
【0029】上記の半導体微粒子ペーストを光電変換材
料、触媒、光触媒、触媒担体、吸着材等の形成に用いる
場合は、半導体微粒子が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ニ
オブまたは酸化タングステンの微粒子であることが好ま
しい。このとき、固液比は1〜60wt%程度であるこ
とが好ましく、好適には4〜30wt%とする。半導体
微粒子として酸化チタン微粒子を用いる場合、微粒子の
粒径は数nm〜数10nm程度とする。酸化チタンの粒
子径が小さいほど、酸化チタンの比表面積が大きくな
る。
【0030】本発明において、分散媒となる溶媒は使用
目的、用途等に応じて適宜選択することができる。半導
体微粒子の表面を帯電させることにより、半導体微粒子
を互いに反発させ、分散媒中に均一に分散させることが
可能である。したがって、溶液中のpHは半導体微粒子
の等電点と離れていることが望ましい。
【0031】酸化チタン微粒子のペーストを調製する場
合、溶液をpH2以下の強酸性とすると、酸化チタン微
粒子を均一に分散させることができる。この場合、塩
酸、硫酸、硝酸等の酸を添加して、溶液を酸性にする。
酸化チタンは化学的に安定であるため、これらの酸を添
加しても変質しない。ペーストを焼成した後の残留物の
有無等から、特に硝酸を用いることが好ましい。
【0032】本発明において、ポリエチレングリコール
は市販の平均分子量が特定されたものを用いることがで
きる。ポリエチレングリコールの分子量は特に500,
000〜4,000,000が好ましい。分解して揮発
する温度は、分子量500,000のものが250℃前
後、分子量4,000,000のものが320℃前後で
あり、いずれも半導体膜を成膜する上で問題とならな
い。
【0033】これらのポリエチレングリコールの増粘効
果は、分散させる半導体微粒子の種類や量によっても変
化するが、分子量4,000,000のポリエチレング
リコールは分子量500,000のポリエチレングリコ
ールの5〜10倍程度の増粘効果を示す。
【0034】半導体膜の用途や、分散させる半導体微粒
子の種類等に応じて、平均分子量の異なるポリエチレン
グリコールを適宜混合し、ペーストの粘度を調整するこ
とも可能である。また、ペーストを調製する際にボール
ミルを用いることにより、半導体微粒子やポリエチレン
グリコールをペースト中に均一に分散させることができ
る。
【0035】このように、ポリエチレングリコールの分
子量と添加量を調節することにより、例えばスクリーン
印刷に適した高粘度のペーストが得られる。半導体微粒
子ペーストの塗布をスクリーン印刷で行うことにより、
均一な膜質の半導体膜を量産することが容易となる。
【0036】本発明の半導体膜の支持体は、半導体膜の
用途等に応じて材質、形状、大きさ等を適宜選択するこ
とができる。材質としては、例えばガラス、金属、セラ
ミック等が挙げられる。但し、支持体の材質は、半導体
膜を焼成する際の加熱で変質しないものが望ましい。
【0037】半導体微粒子ペーストの焼成は、前記ポリ
エチレングリコールが分解および蒸発する温度以上に加
熱して行うことが望ましい。また、必要に応じて、半導
体微粒子ペースト中にポリエチレングリコール以外にバ
インダー等を添加してもよく、焼成温度を適宜設定する
ことにより、これらの添加物を残留させたり、あるいは
除去したりできる。
【0038】次に、本実施形態の光電変換素子について
説明する。図1は、本実施形態の光電変換素子の断面図
である。図1に示すように、本実施形態の光電変換素子
1は、上記のように高分子量のポリエチレングリコール
を含むペーストを用いて形成された酸化チタン膜2を電
極として有し、さらに対電極3を有する。酸化チタン膜
2は、例えばITO(indium tin oxide)等の透明導電
性ガラス基板4上に形成される。
【0039】対電極3としては例えば白金層5で被覆さ
れた透明導電性ガラス基板6が用いられる。また、電極
である酸化チタン膜2と対電極3との間には電解質7が
封入され、電子移動層が形成されている。この光電変換
素子1は、電極間の電気化学反応を利用して、光エネル
ギーを電気エネルギーに変換する。
【0040】この光電変換素子1に光を照射すると、酸
化チタン膜2の電極で電子が発生し、電極2、3間に設
けられたリード線8を通って対電極3に移動する。対電
極3に移動した電子は、電解質7中を移動する。このよ
うにして、光エネルギーが電気エネルギーに変換され
る。
【0041】さらに、酸化型および還元型の状態を可逆
的にとり得るような酸化還元系(酸化還元対)を、電解
質7中に存在させると、対電極3に移動した電子は酸化
還元系の酸化型物質を還元する。その結果生じた還元型
物質は、酸化チタン膜2の電極で酸化されて再び酸化型
に戻る。このように酸化還元系を存在させた光電変換素
子は、光エネルギーを継続して電気エネルギーに変換す
ることができ、太陽電池として有効に利用できる。
【0042】光電変換素子の電極となる酸化チタン膜に
は、光エネルギーの利用効率を高めるため、増感色素を
吸着させることが好ましい。対電極としては、例えば透
明導電膜をコーティングしたガラス板等を用いることが
できる。電解質としては、リチウムイオン等の陽イオン
や塩素イオン等の陰イオン等、種々の電解質を用いるこ
とができる。
【0043】電解質中に存在させる酸化還元系として
は、例えばヨウ素−ヨウ素化合物、臭素−臭素化合物、
あるいはキノン/ヒドロキノン等を用いることができ
る。上記の本実施形態の光電変換素子は、例えば太陽電
池等に有効に利用することが可能である。
【0044】(実施例1)半導体微粒子として酸化チタ
ン粉末を使用して、半導体微粒子ペーストを調製した。
酸化チタン粉末はX線一次粒子径7nm、比表面積30
0m2 /gのもの(石原産業(株)ST-01)を使用した。
溶媒として水を用い、固体濃度が30wt%となるよう
にペーストを調製した。
【0045】このペーストに平均分子量200、30
0、500、600、1,000、1,540、2,0
00、3,400、4,000、6,000、8,00
0、20,000、500,000、2,000,00
0、4,000,000のポリエチレングリコールを対
酸化チタン比で40wt%添加したときの各ペーストの
粘度を、図2に示す。
【0046】図2に示すように、平均分子量500,0
00のポリエチレングリコールを対酸化チタン比で40
wt%添加したところ、ペーストの粘度は12.7Pa
・s(=12,700cP)となった。このペーストは
スクリーン印刷に十分な粘度を有し、スクリーン印刷に
より均一な膜質の酸化チタン膜を形成することができ
る。
【0047】また、平均分子量500,000以上のポ
リエチレングリコールを用いたペーストは、平均分子量
20,000以下のポリエチレングリコールを用いたペ
ーストに比較して、粘度が飛躍的に増大する。したがっ
て、平均分子量500,000、2,000,000ま
たは4,000,000のポリエチレングリコールを用
いることにより、スクリーン印刷に好適な高粘度の半導
体微粒子ペーストが得られる。
【0048】(実施例2)実施例1と同様に、半導体微
粒子としてX線一次粒子径7nm、比表面積300m2
/gの酸化チタン粉末(石原産業(株)ST-01)を使用し
て、半導体微粒子ペーストを調製した。溶媒として水を
用い、固体濃度が30wt%となるようにペーストを調
製してから、硝酸を加えてpHを1.5に調整した。こ
のペーストに平均分子量500,000のポリエチレン
グリコールを対酸化チタン比で40wt%添加した。
【0049】上記のようにして得られたペーストを、ス
クリーン印刷により透明導電性ガラス基板上に塗布し
た。透明導電性ガラス基板としては、シート抵抗27Ω
/□のITO膜を表面に有するガラス基板を用いた。ペ
ーストの塗布後、450℃で50分焼成して、酸化チタ
ン膜を形成した。このようにして得られた酸化チタン膜
の膜厚は15μmであった。
【0050】この酸化チタン膜に、増感色素としてルテ
ニウム錯体であるRu(II)(ビピリジン−ジカルボン
酸)2 (イソチオシアン酸)2 (Solaronix 社製Ruthen
ium 535-bisTBA)を吸着させた。増感色素の吸着は、増
感色素のエタノール溶液に酸化チタン膜を浸漬させ、そ
の後、酸化チタン膜を乾燥させることにより行った。
【0051】次に、以上のようにして得られた酸化チタ
ン膜の光電変換特性を調べるため、酸化チタン膜を、白
金で被覆された対電極と対向するように配置し、それら
の間にヨウ素−ヨウ素化合物イオンを酸化還元対とする
電解液(Solaronix 社製TG50)を封入した。以上のよう
にして、光有効面積5cm2 の光電変換素子が得られ
た。この光電変換素子のエネルギー変換効率は0.9%
であり、光電変換素子として機能することが確認され
た。
【0052】上記の本発明の実施形態の半導体微粒子ペ
ーストによれば、ポリエチレングリコールの添加量(重
量)を増加させずに、ペーストの粘度を上げることが可
能となる。したがって、スクリーン印刷により均一にペ
ーストを塗布することが可能となり、半導体膜およびそ
れを用いた光電変換素子を量産化できる。
【0053】本発明の半導体微粒子ペースト、半導体膜
およびその製造方法と光電変換素子の実施形態は、上記
の説明に限定されない。例えば、ドクターブレード法や
スキージ法等、スクリーン印刷以外の方法により本発明
の半導体微粒子ペーストを塗布して、半導体膜を形成す
ることも可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で、種々の変更が可能である。
【0054】
【発明の効果】本発明の半導体微粒子ペーストによれ
ば、均一な膜質の半導体膜を量産することが可能とな
る。本発明の半導体膜によれば、膜質を均一化させるこ
とができる。本発明の半導体膜の製造方法によれば、均
一な膜質の半導体膜を高い生産効率で製造することが可
能となる。本発明の光電変換素子によれば、エネルギー
変換効率を受光面で均一とし、かつ光電変換素子を量産
化することが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の光電変換素子の断面図である。
【図2】図2は本発明の実施例1に係り、ポリエチレン
グリコールの分子量とペースト粘度の関係を示す図であ
る。
【符号の説明】
1…光電変換素子、2…酸化チタン膜、3…対電極、
4、6…透明導電性ガラス基板、5…白金層、7…電解
質、8…リード線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正木 成彦 宮城県仙台市青葉区片平2−1−1 東北 大学 多元物質科学研究所内 (72)発明者 柏木 由行 宮城県仙台市青葉区片平2−1−1 東北 大学 多元物質科学研究所内 (72)発明者 冨羽 美帆 宮城県仙台市青葉区片平2−1−1 東北 大学 多元物質科学研究所内 Fターム(参考) 4M118 AA01 AB10 BA01 CA15 CB20 5F051 AA14 BA14 CB13 FA04 FA06 5G301 DA23 DA28 DD01 5H032 AA06 AS16 BB02 BB04 BB05 CC16 EE01 EE02 EE16 EE17 HH00 HH02

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水を主成分とする溶媒と、 半導体微粒子と、 平均分子量が20,000を超えるポリエチレングリコ
    ールとを有する半導体微粒子ペースト。
  2. 【請求項2】前記ポリエチレングリコールの平均分子量
    が500,000〜4,000,000の範囲にある請
    求項1記載の半導体微粒子ペースト。
  3. 【請求項3】前記溶媒は硝酸を含み、酸性である請求項
    1記載の半導体微粒子ペースト。
  4. 【請求項4】前記半導体微粒子は酸化チタン微粒子であ
    る請求項1記載の半導体微粒子ペースト。
  5. 【請求項5】水を主成分とする溶媒と、半導体微粒子
    と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレング
    リコールとを含むペーストを焼成して得られる半導体
    膜。
  6. 【請求項6】前記ポリエチレングリコールの平均分子量
    が500,000〜4,000,000の範囲にある請
    求項5記載の半導体膜。
  7. 【請求項7】前記溶媒は硝酸を含み、酸性である請求項
    5記載の半導体膜。
  8. 【請求項8】前記半導体微粒子は酸化チタン微粒子であ
    る請求項5記載の半導体膜。
  9. 【請求項9】前記半導体膜の表面に吸着された増感色素
    をさらに有する請求項5記載の半導体膜。
  10. 【請求項10】前記増感色素はルテニウム錯体を含む請
    求項5記載の半導体膜。
  11. 【請求項11】水を主成分とする溶媒と、半導体微粒子
    と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレング
    リコールとを含む半導体微粒子ペーストを、支持体上に
    塗布する工程と、 前記支持体上の前記半導体微粒子ペーストを、前記ポリ
    エチレングリコールが分解および蒸発する温度以上に加
    熱して焼成する工程とを有する半導体膜の製造方法。
  12. 【請求項12】前記ポリエチレングリコールの平均分子
    量が500,000〜4,000,000の範囲にある
    請求項11記載の半導体膜の製造方法。
  13. 【請求項13】前記半導体微粒子ペーストを前記支持体
    上に塗布する工程は、スクリーン印刷工程を含む請求項
    11記載の半導体膜の製造方法。
  14. 【請求項14】前記半導体微粒子ペーストを焼成した
    後、前記半導体膜の表面に増感色素を吸着させる工程を
    さらに有する請求項11記載の半導体膜の製造方法。
  15. 【請求項15】前記増感色素を吸着させる工程は、増感
    色素を含む増感色素溶液に前記半導体膜を浸漬させる工
    程と、 前記増感色素溶液から前記半導体膜を取り出し、前記半
    導体膜上の前記増感色素溶液を乾燥させる工程とを含む
    請求項14記載の半導体膜の製造方法。
  16. 【請求項16】前記増感色素を吸着させる工程は、増感
    色素を含む増感色素溶液を前記半導体膜に塗布する工程
    と、 前記半導体膜上の前記増感色素溶液を乾燥させる工程と
    を含む請求項14記載の半導体膜の製造方法。
  17. 【請求項17】第1の電極と、第2の電極と、前記第1
    の電極と第2の電極との間に封入された電解質とを含む
    光電変換素子であって、 前記第1の電極は、水を主成分とする溶媒と、半導体微
    粒子と、平均分子量が20,000を超えるポリエチレ
    ングリコールとを含むペーストを焼成して得られる半導
    体膜を含む光電変換素子。
  18. 【請求項18】前記半導体膜は、前記焼成後に表面に吸
    着された増感色素をさらに有する請求項17記載の光電
    変換素子。
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