JP2002298464A - 浮上型光ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一面積の基板からより多くの浮上型光ヘッ
ドを得ることが可能な浮上型光ヘッドの製造方法を提供
する。 【解決手段】 互いに隣接する２つの磁気コイル２用の
４つのパッド４をその２つの磁気コイル２の間の１本の
切断しろ３上に配置する。これにより、基板１の端に無
駄な取りしろを設けることなく基板１全体を有効に利用
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は浮上型光ヘッドおよ
びその製造方法に関し、さらに詳しくは、光磁気ディス
クに記録再生用の磁界を印加するコイルを備えた浮上型
光ヘッドおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気ディスク用の記録再生装置では、
光磁気ディスクに対してレーザビームを照射しかつ磁界
を印可する光ヘッドが用いられている。この光ヘッドに
は、レーザビームの光軸上に磁界を発生するための磁気
コイルが設けられている。

【０００３】現在、実際に製品化されている記録再生装
置では、光ヘッドはスレッド機構に搭載され、光磁気デ
ィスクの透明基板表面から一定間隔を維持しながら光磁
気ディスクの半径方向に移動可能になっている。

【０００４】これに対し最近では、光磁気ディスクの回
転に伴い光磁気ディスク上を飛行する浮上型光ヘッド
（スライダとも呼ばれる）が開発されている。この浮上
型光ヘッドは、光磁気ディスクの記録膜表面から微小間
隔をおいて浮上するので、特に記録密度の高い光磁気デ
ィスクの記録再生に適している。

【０００５】このような浮上型光ヘッドとして、たとえ
ば特開２０００−２１５４２７号公報には、光磁気ディ
スクに対向する浮上面上の保護膜をパターン化して浮上
面の両側に２つのレール部を形成した浮上型光ヘッドが
記載されている。

【０００６】また、特開２０００−２４２９５５号公報
には、浮上面上の保護膜をパターン化して「コ」の字形
のレールを形成した浮上型光ヘッドが記載されている。

【０００７】また、T. Irita et al. "A Proposal of M
icromachined Optical Flying Headwith Micro Solid I
mmersion Lens" ISOM '98 Technical Digest (1998.10.
20-22) pp.152-153には、浮上面上の保護膜をパターン
化して浮上面の両側に２つレールとその中央にマイクロ
ソリッドイマージョンレンズを支持する１つのレールと
を形成した浮上型光ヘッドが記載されている。

【０００８】しかしながら、このような浮上型光ヘッド
は未だ大量生産されておらず、その具体的な製造方法は
提案されていない。

【０００９】図５は、考えられる最も単純な製造方法を
示す斜視図である。図６は、図５に示した基板の一部を
示す平面図である。図５および図６に示すように、大型
の基板（ウエハともいう）１を用意し、その基板１上に
複数の磁気コイル２を縦横に並べて形成する。各磁気コ
イル２は複数層で構成される。また、図上横方向に延び
る切断しろ３上に並ぶように１つの磁気コイル２に対し
て導通テスト用のパッド４を２つずつ形成する。また、
磁気コイル２からパッド４まで延びる引出線５も磁気コ
イル２およびパッド４と一緒に形成する。

【００１０】このように１枚の大型の基板１上に各々が
１つの磁気コイル２と２つのパッド４と２本の引出線５
とからなる複数のセットを形成した後、図上横方向に延
びる切断しろ３および縦方向に延びる切断しろ６に沿っ
て基板１を切断し、複数の短冊状のチップＣＨを得る。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この製
造方法では、基板１上で最も端に近い切断しろ３ａに沿
って基板１を切断する必要があるため、基板１の端に無
駄な取りしろ７が生じるという問題がある。

【００１２】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたもので、その目的は、基板切断時に生じる
無駄な取りしろをなくすことが可能な浮上型光ヘッドの
製造方法、およびその方法により製造した浮上型光ヘッ
ドを提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明による浮上型光ヘ
ッドの製造方法は、複数のセットを基板上に２次元状に
形成する工程と、基板を切断しろに沿って切断する工程
とを含む。各セットは、コイルと、第１および第２のパ
ッドと、コイルからそれぞれ第１および第２のパッドま
で延びる第１および第２の引出線とからなる。このと
き、複数のセットのうち互いに隣接する２つのセットの
第１および第２のパッドをその２つのセットの間の切断
しろ上に配置する。

【００１４】この製造方法では、互いに隣接する２つの
セットの４つのパッドがその２つのセットの間の切断し
ろ上に並んでいるので、基板の端に無駄な取りしろを設
ける必要はない。その結果、同一面積の基板から製造可
能な浮上型光ヘッドの数が従来よりも多くなる。

【００１５】本発明による浮上型光ヘッドは、基板と、
コイルと、引出線とを備える。コイルは基板上に形成さ
れる。引出線は基板上に形成され、コイルから基板の端
まで延びる。ここで、コイルの中心は基板の中心線から
ずれている。

【００１６】このような浮上型光ヘッドは、特に上記製
造方法により容易に製造することができる。この浮上型
光ヘッドでは、コイルの中心が基板の中心線からずれて
いるので、この浮上型光ヘッドが光磁気ディスクの最外
周上に位置するとき、コイルの中心が基板の中心線より
もさらに外周に位置することになる。その結果、この浮
上型光ヘッドを使用すれば、光磁気ディスクのより外周
のトラックにアクセスすることができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳しく説明する。なお、図中同一または相当
部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。

【００１８】図１は、本発明の実施の形態による浮上型
光ヘッドの製造方法において、１枚の基板上に複数のコ
イル等を形成した工程を示す斜視図である。図１に示す
ように、まずガラス等の光学的に透明な材料からなる大
型の基板１を用意する。

【００１９】続いて、基板１上に複数の磁気コイル２、
複数のパッド４、複数の引出線５とを銅メッキにより形
成する。ここで、１つの磁気コイル２、その磁気コイル
２から対応する２つのパッド４まで延びる２本の引出線
５、およびそれら２つのパッド５は、１つのセットを構
成する。これら複数のセットを基板１上に縦横に並べて
形成する。

【００２０】図２は、図１に示した基板１の一部を示す
平面図である。図２には、基板１を切断することにより
得られるチップＣＨの中心線Ｃが示されている。磁気コ
イル２の中心は中心線Ｃから所定距離だけずれている。
２本の引出線５は磁気コイル２から図上縦方向にまっす
ぐに延びている。２つのパッド４はそれぞれ２本の引出
線５の端部に設けられる。ここで、互いに隣接する２つ
のセットの４つのパッド４はその２つのセットの間で図
上横方向に延びる１本の切断しろ３上に位置している。
したがって、互いに隣接する２つのセットは点対称にな
っている。

【００２１】このように複数の磁気コイル２等を１枚の
基板１上に形成した状態でパッド４にプローブを当て磁
気コイル２の導通テストを行なう。

【００２２】なお、磁気コイル２は積層構造を有し、各
層のコイルはスパイラル状の導電線で構成される。この
ような積層構造を有する磁気コイル２は公知の手法によ
り形成することができるので、ここでは詳細な形成方法
は述べない。

【００２３】磁気コイル２等のセットを基板１上に形成
した後、さらに基板１上にこれらのセットを覆うように
保護膜（図示せず）を形成する。保護膜を形成した後、
その保護膜の表面を平坦にするためにＣＭＰ(Chemical
Mechanical Polishing)により保護膜の表面を研磨す
る。

【００２４】次に、このように複数の磁気コイル２等を
形成した１枚の基板１を図上横方向に延びる切断しろ３
および縦方向に延びる切断しろ６に沿って切断する。こ
れにより、複数の短冊状のチップＣＨが得られる。この
とき、最終製品には不要なパッド４は切断しろ３上に配
置されているので、切断により除去される。

【００２５】最後に、得られたチップＣＨにおいて磁気
コイル２と反対側の基板１上の主面に平凸対物レンズ
（図示せず）を貼付すると、図３に示すような浮上型光
ヘッド１０が得られる。

【００２６】この浮上型光ヘッド１０は、基板１と、基
板１上に形成された磁気コイル２と、基板１上に形成さ
れ、磁気コイル２から基板１の端まで延びる２本の引出
線５とを備える。コイル２の中心は基板１の中心線Ｃか
らずれている。

【００２７】上述した製造方法によれば、互いに隣接す
る２つのセットの４つのパッド４がその２つのセットの
間の切断しろ３上に並んでいるので、大型の基板１の端
に無駄な取りしろを設ける必要がなく、大型の基板１全
体を無駄なく有効に利用して浮上型光ヘッド１０を製造
することができる。また、［従来の技術］の欄で説明し
た製造方法に比べて基板１の切断回数が１回減るので、
製造効率を上げることができる。

【００２８】図４は、この方法により製造された図３に
示した浮上型光ヘッドの使用状態を示す平面図である。
図４に示すように、この浮上型光ヘッド１０は光磁気デ
ィスク１１の膜面側に磁気コイル２を向けて配置され
る。光磁気ディスク１１が回転すると、浮上型光ヘッド
１０は光磁気ディスク１１の膜面からごくわずかな間隔
をおいて浮上し、この状態で光磁気ディスク１１に対し
てレーザビームを照射するとともに磁気コイル２から磁
界を印加する。また、浮上型光ヘッド１０は光磁気ディ
スク１１の半径方法Ｒに沿って移動可能にされる。浮上
型光ヘッド１０は光磁気ディスク１１の回転により生じ
る気流により浮上するので、光磁気ディスク１１の外側
まで移動することができない。そのため、光磁気ディス
ク１１の外周にはアクセス不可能な部分が生じる。

【００２９】この浮上型光ヘッド１０では磁気コイル２
の中心が半径方向Ｒと直交する中心線Ｃよりも外周側に
ずれているため、磁気コイル２の中心が中心線Ｃ上に位
置している従来の浮上型光ヘッドに比べて光磁気ディス
ク１１のより外周のトラックまでアクセスすることがで
きる。

【００３０】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明は上述した実施の形態に限定されるものではな
い。たとえば上述した実施の形態では、互いに隣接する
２つのセットの４つのパッド４が各セットごとに交互に
並んでいるが、一方のセットの２つのパッドが隣接して
並び、さらに他方のセットの２つのパッドが隣接して並
んでいてもよい。すなわち、互いに隣接する２つのセッ
トの４つのパッドがその２つのセットの間の１本の切断
しろ３上に並んでいればよく、その位置順序は特に限定
されない。

【００３１】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による浮上型光ヘッドの製造方法にお
いて１枚の基板に複数の磁気コイル等を形成する工程を
示す斜視図である。

【図２】 図１に示した基板の一部を示す平面図であ
る。

【図３】 図１および図２に示した製造方法により得ら
れる浮上型光ヘッドの外観構成を示す斜視図である。

【図４】 図３に示した浮上型光ヘッドの使用状態を示
す平面図である。

【図５】 従来の技術として考えられる浮上型光ヘッド
の単純な製造方法において１枚の基板に複数のコイル等
を形成する工程を示す斜視図である。

【図６】 図５に示した基板の一部を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板、２ 磁気コイル、３，６ 切断しろ、４ パ
ッド、５ 引出線、１０ 浮上型光ヘッド。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、 前記基板上に形成されたコイルと、 前記基板上に形成され、前記コイルから前記基板の端ま
   で延びる引出線とを備えた浮上型光ヘッドにおいて、 前記コイルの中心が前記基板の中心線からずれているこ
   とを特徴とする、浮上型光ヘッド。
2. 【請求項２】 各々がコイルと第１および第２のパッド
   と前記コイルからそれぞれ前記第１および第２のパッド
   まで延びる第１および第２の引出線とからなる複数のセ
   ットを基板上に２次元に形成する工程と、 前記基板を切断しろに沿って切断する工程とを含む浮上
   型光ヘッドの製造方法において、 前記複数のセットのうち互いに隣接する２つのセットの
   第１および第２のパッドを前記２つのセットの間の切断
   しろ上に配置したことを特徴とする浮上型光ヘッドの製
   造方法。