JPH06349004A - 光磁気記録用磁気書き込みヘッド - Google Patents

光磁気記録用磁気書き込みヘッド

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JPH06349004A
JPH06349004A JP6101178A JP10117894A JPH06349004A JP H06349004 A JPH06349004 A JP H06349004A JP 6101178 A JP6101178 A JP 6101178A JP 10117894 A JP10117894 A JP 10117894A JP H06349004 A JPH06349004 A JP H06349004A
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JP
Japan
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coil
magnetic
magnetic head
head according
plane
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JP6101178A
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Jean B Albertini
ジャン・バティースト・アルベルティニ
Jean-Marc Fedeli
ジャン−マルク・フェデリ
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Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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Publication date
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    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大量生産可能で、損傷を受けにくい光磁気記
録用の書き込みまたは上書き磁気ヘッドを得る。 【構成】 導電体コイル２２が埋め込まれたシリコン基
板２１から製造されるヘッド。このコイル２２は、ヘッ
ドの移動または浮上走行面２８に対して引っ込んでい
る。また、このヘッドには、磁気回路（２４）が設けら
れている。 【効果】 コイル２２が引っ込んでいるため、損傷を受
けにくい。シリコン基板を用いるので低コストで大量生
産することが可能であり、優れた記録特性を有する。ま
た、磁場が広がっているので、ディスクと間隔をおいて
移動することが可能であり、ディスク表面のダストの影
響を受け難い。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録用の書き込
みまたは上書き磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録は、ここ数年に多大な発展を
遂げた。磁気記録と光メモリの中間に位置する光磁気プ
ロセス(process)は、支持体上のバイナリ・データを、任
意に読み書きすることを可能にする。この方法は、着脱
可能または交換可能なディスクに高い情報密度で保存さ
れるので、ハード・コンピューター・ディスク及び特にフ
ロッピー・ディスクに肩を並べることができる。
【０００３】アクセスまたは検索時間に関しては、光磁
気デバイスのパフォーマンス(performance)特性はハー
ド磁気ディスクに劣っている（ハード・ディスクの約８
ｍｓに比較して２０ｍｓ）。しかしながら、ディスクの
着脱の容易さ、情報の保存安定性（磁気フロッピー・デ
ィスクが２から３年であるのに対し、最短でも１５年
で、光磁気支持体の型によっては４０年）、及び高い情
報密度（直径８８ｍｍディスクでＩＳＯ規格１２８Ｍ
ｏ、または約１６ｋＴＰＩ及び１３ｋＢＰＩの密度、Ｉ
ＳＯ規格のおよそ２倍の容量の定義における新規格ＳＯ
ＮＹ（株）の６４ｍｍミニディスクで１００Ｍｏ以上）
という利点を有する。
【０００４】本発明の適用分野は、コンピューターのバ
ルクメモリ（マイクロプロセッシング、ワーク・ステー
ション、及び大型システム）、着脱可能なフロッピー・
ディスク上のコンピューター・データの保存（ソフトウ
ェア、データベース、情報ファイリング）、及び一般大
衆向けのオーディオ／ビデオ用途（ＳＯＮＹ（株）ミニ
ディスクまたは将来の記録可能なビデオディスク）であ
る。
【０００５】光磁気記録の方法は、いわゆるコンパクト
光ディスク読み取り機の方法から導かれる。後者の場
合、レーザダイオード、光学ヘッド、ディスク作動機
構、及び主に論理的な電子回路を必要とする。しかし、
光情報のみを読み出すには、反射光（カー効果）または
透過光（ファラデー効果）の偏光面の回転を必要とする
ので、光学ヘッドの製造はより複雑になる。
【０００６】最も一般的な光磁気記録機は、書き込みに
際して２つの段階で作動する。即ち、所定の方向の磁場
が印可される消去フェーズ(phase) と、引き続いてその
磁場が反転される書き込みフェーズである。消去フェー
ズは、磁場の方向を十分に速く反転させることが不可能
なときに必要である。直接上書きプロセスは、それに先
立つ消去フェーズを不要にし、従って書き込み時間（全
記録時間の１／２）を短縮するため、近い将来一般的に
使用されるようになると予想される。
【０００７】現在、２通りの直接上書きプロセスがあ
る。即ち、レーザビーム変調、言い換えればＬＢＭ、あ
るいは磁場変調、言い換えればＭＦＭである。第１のプ
ロセスは、（数層の磁性被覆を持った）特別なディス
ク、並びに２レベル間のレーザパワーの変化とを必要と
するが、磁場の変化は不要である。本発明を適用する第
２のプロセスは、磁場が極めて高速（数メガヘルツに相
当するミリセカンドの数分の一以下）で変調される間に
全光磁気ディスクに書き込むことができる。
【０００８】効率を上げるためには、磁場の変動または
変調は、種々の基準を満足しなければならない。 ・ディスクの光磁気被覆内のレーザの焦点において、十
分な磁場（およそ２０ｍＴ）を発生すること。 ・十分に速い変動（数ＭＨｚから５０ＭＨｚに相当す
る、マイクロセカンドの数分の一またはマイクロセカン
ドの数十分の一の矩系波パルス）をさせるための、限ら
れたインダクタンス（およそ１μＨ）。 ・ダストを運びうる着脱可能なディスクとの互換性。 ・最小アクセス時間を確保するための限られた質量。 ・良好な熱拡散。
【０００９】現在、光磁気記録機（特にＳＯＮＹ（株）
ミニディスク）で、磁場変調のために使用されている磁
気ヘッドは、比較的大きな寸法（数ｍｍ）を有してい
る。従ってこれらのヘッドは、高インダクタンスが高い
という欠点を有し、よって変調周波数そして書き込み時
間が限定される。それらの大きな寸法は、大きな重量に
つながり、あまり良好なアクセス時間は導かれない。
【００１０】欧州特許出願（ＥＰ−Ａ−４９２８８８）
は、導電体コイルを収納するためにくぼみが設けられた
磁気材料基板からなる薄膜磁気ヘッドを記載している。
このコイルは、磁気外縁部の水平面及び中心極と同一平
面にある。
【００１１】添付した図１は、この従来技術による磁気
ヘッドを示す。符号２は、磁気ヘッド基板である。外縁
部３と中心極４の間にくぼみが形成され、その中心極４
の周囲を取り囲むようにコイル５が配設されている。こ
のアセンブリは、記録用被覆７を有する支持体６の上方
側に配置される。８は磁力線である。それらの磁力線８
は、比較的広い領域で記録用被覆層７を横切るが、それ
は実質的に書き込みを受ける中心極４に面した領域であ
り、磁場は、中心極４から離れるにしたがって急速に非
常に弱くなる。さらに、書き込みまたは上書き領域はレ
ーザビーム９によって、さらに特異的に選定されるが、
そのレーザビーム９は、記録用被覆層７の、データ要素
を書き込みたい非常に狭い部分を照射している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】この種のヘッドは、次
のような欠点を有する。コイルにより発散される熱の拡
散が十分ではない。浮上走行中(flight)または移動中(m
ovement)の事故が生じた場合、ヘッドが被覆層７上でつ
ぶれたり破砕したりしたとき、コイル５は重大な破壊を
受けるだろう。さらに、そのようなヘッドは、（ニッケ
ル−亜鉛フェライトなどのフェライトからつくられた）
基板の性質によってかなりの重量を有するので、アクセ
ス時間が長くなる。最後に、基板の機械加工によるその
ようなヘッドの製造工程は、大量生産には不適であるの
で、ヘッドの価格が高くなる。本発明の目的は、これら
の欠点を除くことにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気ヘ
ッドはシリコン基板上で製造され、マイクロエレクトロ
ニクス技術、特に集約的製造を用いることを可能にする
一方、コイルから発散される熱の良好な拡散をもたら
す。このコイルは、少なくとも１０回螺旋状に巻かれた
１またはそれ以上の導電体平面からなり、各ターンは、
基板に平行な面に配置される。内径が約２０μｍから１
００μｍで、外径が約１００μｍから１ｍｍのコイルと
すれば、その軸上に、大きな垂直磁気成分を有する磁場
を発生できる。
【００１４】磁気回路(circuit)は、この書き込み磁場
を増幅することができる。この磁気回路は、マイクロエ
レクトロニクス技術で容易に製造できる均一な厚さ（お
よそ４μｍ）の磁気薄膜に限られる。前述のＥＰ−Ａ−
４９２８８８においては、磁極もまたヘッド中央の磁場
の増加を助長しているが、本出願人によるシミュレーシ
ョンの結果によると、かなりの距離をおけば前記極の影
響は無視できるようになること、及び一定厚さの磁性シ
ート（例えば、ＦｅＮｉまたはセンダスト）に限るのが
好ましいことが示された。これは、よりよいパフォーマ
ンス特性を持つ、より簡便な製造方法を与え、それは、
ディスクから著しい距離（およそ５μｍ）で動くヘッド
に対してもほとんど同様に良好である。
【００１５】本発明のヘッドは、非常に短時間、即ち
（数ダース(dozen)ＭＨｚ）の高周波で作動することを
意図されており、誘導電流が磁気回路中に流れることも
ある。この誘導電流は、ヘッドで発生した有用な磁場に
悪影響を及ぼす。それらの悪影響は、ディスク面に放射
状の細長い穴または溝を形成することにより除去するこ
とができる。これらの溝は、磁気回路を完全に横断する
が、磁場の通路を妨害することなく、磁気回路を電気的
に絶縁されたセクタに細分する。
【００１６】電気的接続は、シリコン基板を通して形成
することができる（内部接続(intraconnection)）。一
重ターンの導電体に対しては、１または２個の内部接続
が適当である。電流は、外側のターンに接続された導電
体スタッド(stud)に接続された内部接続部から入り、基
板を横切ってそのターンの内側に位置する他のスタッド
に接続された第２の内部接続部か、あるいは、導電体タ
ーンの内部末端に接続されたスタッドに接続されること
により接続されたシリコン基板のどちらかから去る。
【００１７】本発明のヘッドは、シリコン基板内に集約
的に製造することができる。従って、形成したアセンブ
リはスライダーに切り出し、ハード磁気ディスク上の従
来のヘッドと同様な方法で、回転ディスク上で移動(mov
e)または浮上走行(fly)することができる。切り出した
後、各スライダーは、レール状、ぎざぎざ状等の形状に
加工することができる。
【００１８】磁場を発生するコイルは、浮上走行スライ
ダー（または浮上走行／移動平面）の軸受け表面に対し
て引っ込んで(set back)おり、浮上走行または移動事故
（スライダーのディスク上でのつぶれや破砕）からそれ
を保護するようにされている。
【００１９】このコイルは、２つの走行支持面間のくぼ
み内に形成することができ、切り出しに先だって、基板
上に形成される非磁性の保護被覆の下に埋めることが可
能である。
【００２０】ディスクに最も接近する移動平面とコイル
の平面との間隔は、約１０μｍとすることができる。
【００２１】適宜な弾性体（１から数ｇｆの力）に配設
された約４×３×０．５ｍｍまたは３×２×０．５ｍｍ
のスライダーは、ディスクの上方数マイクロメーターで
浮上走行または移動できる。
【００２２】シリコン基板を用いることにより、本発明
のヘッドは、従来のマイクロエレクトロニクス装置で製
造することができ、低コスト、大量生産することを可能
にする。さらに、この技術で達成可能な微小寸法は、そ
のようなヘッドに、アクセスまたは検索時間を短縮する
のに有利な限られた重量、並びに、磁場を高周波で変化
させ、非常に高い情報密度を得ることを可能にする低イ
ンダクタンスを与える。
【００２３】さらに、シリコンは、良好な熱伝導性を有
しており、作動中のヘッドの正確な冷却を確実にする。
【００２４】ディスク面に平行なコイル面を持つヘッド
の水平構造は、その活性な被覆内に垂直な磁場を発生す
るために最適の形状である。
【００２５】可能な限りディスクに接近して移動しなけ
ればならないハード磁気ディスク用記録ヘッドの場合と
は異なり、本発明の磁気ヘッドは、大きな間隔をおいて
磁場を形成し、それはかなり広がっているので、前記ヘ
ッドを約１０μｍの厚さを持つ保護被覆の下に埋めるこ
と、あるいはヘッドの移動平面に対してこれを引っ込め
ることを可能にする。これは２つの利点を導く。一方で
は、（電流破壊またはショックにより）スライダーがデ
ィスク上へ突然衝突するように着地した場合でも、ヘッ
ドは良好に保護される。他方では、スライダーが保護被
覆を持たないディスク上に着地したときでさえ、ディス
ク上に発生する磁場は、ヘッド表面がディスクに接触し
たときよりもかなり小さい。従って、レーザで加熱され
た位置以外では、（磁気光材料の強制的な磁場を越え
て）記録した情報を消去する危険性はない。
【００２６】かなり広がった磁場による他の利点は、ス
ライダーがディスクの上のかなり離れたところ（数マイ
クロメーターから約１ダースマイクロメーター）で移動
することを可能にしたことであり、これは、ディスク表
面にいかなるダストがあっても害を及ぼさないことを意
味する。
【００２７】絶対に不可欠ではないが、磁気回路は、デ
ィスク上に所定の磁場を発生するために必要な電流を減
少させることにより、ヘッドの効率を向上させることを
可能にする。
【００２８】
【実施例】図２は光磁気記録支持体１０の断面を示して
おり、その回転速度の方向は図面の平面に垂直である。
磁気ヘッド２０はシリコン基板２１を有しているが、こ
れはコイル２２が埋め込まれた、例えば二酸化ケイ素Ｓ
ｉＯ2等の、絶縁層２３によって覆われている。図示さ
れている変形例では、磁気中心極２６と共に磁気回路２
４も、例えば薄いディスクの形状で、絶縁体２３中に埋
め込まれており、コイル２２は完全に上記極を囲んでい
る。ヘッドは浮上走行平面又は移動平面２８を規定す
る、例えば二酸化ケイ素からなる、保護被覆２７によっ
て仕上げられている。
【００２９】例えば、磁気回路２４の直径Ｄは２００μ
ｍと２ｍｍの間の値を取ることができ、極の直径ｄは４
０〜２００μｍの値を取ることができ、保護被覆２７の
厚さｈは、浮上走行平面２８と記録支持体１０との間の
距離ｅと同様に、およそ５μｍの値を取ることができる
ことが指摘されている。
【００３０】図３は下から見たヘッドを示し、そのコイ
ル２２と極２６も示している。スライダーの浮上走行又
は移動の特性を向上させるために、磁気記録用のこの様
なスライダーに関する公知の手順によって、浮上走行ス
ライダーはその表面の全部又は一部に、面取り部分又は
ぎざぎざ部分３０（又は破線沿いの３０'）を有すると
考えられる。
【００３１】図４は双胴船型スライダーを形成するため
にエッチングされた保護被覆を有する別の実施態様を図
示している。２つの浮上走行スキー３２及び３４はくぼ
みによっておよそ５μｍの高さｂで隔てられている。図
２と共通の参照符号は同一の構成要素を示している。
【００３２】図５は下から見た同一のヘッドを示してい
る。前部に、浮上走行スキー３２,３４は面取り部分又
はぎざぎざ部分３６,３８を有している。この変形例に
おいて、面取り部分及び／又はぎざぎざ部分はレールの
外縁上の全部又は一部に形成されていてもよい。
【００３３】図６は中心極の無い磁気回路２５を有する
別の変形例を示している。次に、この回路は薄いディス
ク様の磁気被覆によって簡単に形成される。
【００３４】図７はディスク２５の実施態様を示してお
り、これは誘導電流を減少させるように放射状分離溝２
３を有している。このディスクは、内部接続が通るよう
に中心開口２９も有する。中心極を有する磁気回路２４
に溝が形成されていてもよい。
【００３５】図８は特別な実施態様における内部接続の
詳細を示している。ヘッドの側部上の内部接続４０は、
例えばシリコン中へのレーザ穿孔によって形成される、
開口を有し、該開口は、例えば陽極酸化によって得られ
る、絶縁層４１によって囲まれている。次にこの開口は
ＰｂＳｎペーストなどの導電性材料４２で満たされる。
第２の内部接続４６はヘッドの中心に位置し、中心開口
２９を介して磁気回路２５を通る。第１のものと同様
に、この第２の内部接続は絶縁層４７と導電性コア４８
とを有する。
【００３６】内部接続４０及び４６は、絶縁層２３を横
切る導電体４４'及び４９'によって２つの接続スタッド
に導かれる。この第１のものはコイル２２の外側ターン
に接続され、第２のものは内側ターンに接続される。
【００３７】図９では、内部接続４０は図８でのものと
同一の構造を有するが、この第２の内部接続は単純化さ
れている。それはもう一度スタッド４９と導電体４９'
とを有しているが、後者は半導体基板２１に接触してお
り、電気的接続の確立を可能にしている。
【００３８】図１０及び１１はヘッドの集約的製造のた
めの工程を例示的に図示している。この工程は図１０の
段階ａからｅを含む： ａ） 出発物は、複数のヘッドを製造するために適切な
寸法を有するシリコンウエハ５０であり、 ｂ） 該ウエハは、例えばのちに内部接続となるヘッド
のそれぞれの位置にレーザを用いて、２つの開口５２
ａ,５２ｂによって穿孔される、 ｃ） 開口に酸化膜５３,５５を形成するために熱酸化
が用いられ、該開口はＰｂＳｎなどの導電性ペースト５
４,５６で満たされる、 ｄ） 基板はくぼみ６２を形成するためにエッチングさ
れる、 ｅ） 磁気材料被膜６４（例えばＦｅＮｉからなるも
の）が電気分解又はスパッタリングによって付着される
（この場合この操作に続いてエッチングが行われる）。
【００３９】この工程では、続いて図１１に図示されて
いるｆからｊの操作が行われる： ｆ） ＳｉＯ2等の絶縁層６６を付着させる、 ｇ） 螺旋７２及び内部接続５４,５６に面する開口６
８,７０を形成するために、層６６をエッチングする、 ｈ） 導電体が銅から形成でき、電気分解又はスパッタ
リングそしてこれに続く表面７９のエッチング及び／又
は平坦化によって付着を行うことができるように、２つ
の内部接続スタッド７４,７６及びコイル７８を、スタ
ッドとターンの間の図示されない対応する接続と共に形
成するために、エッチングされた螺旋及び開口６８,７
０の底部に導電性材料を付着させる、 ｉ） ＳｉＯ2などの保護被覆８０が付着され、支持面
又は浮上走行平面として働く、 ｊ） 浮上走行平面（ここでは、浮上走行スキー８４,
８６）を規定するために、被覆８０をエッチングする。
【００４０】これらの操作は、シリコンウエハを基準と
して集約的に行うことができる。磁気ヘッドが形成され
た表面の反対側の基板の表面上の内部接続に、接続スタ
ッドは形成され接続される。次に、個々のヘッドを得る
ために、異なるヘッドの間を通る切断線に沿ってウエハ
を切断する必要がある。浮上走行スライダーのパフォー
マンス特性を向上させるために、浮上走行スライダーを
機械仕上げする(machine)ことも任意に可能である（面
取り部の機械仕上げ、縁部の研磨等）。
【００４１】限定されない性質の第２の実施例の形態
で、図１２及び１３は集約的ヘッド製造工程を図示する
が、これも又、図１２の段階ａからｅを有する： ａ） 出発物は、複数のヘッドを製造するために十分な
寸法を有するシリコンウエハ５０であり、二酸化ケイ素
層５１で覆われている、 ｂ） 上記ウエハ中には、のちに内部接続となるヘッド
のそれぞれの位置に例えばレーザを用いて、２つのイッ
シューしない(non-issueing)開口５２ａ',５２ｂ'が形
成される、 ｃ） 開口に酸化膜５３'及び５５'を形成するために、
そしてＳｉ／ＳｉＯ2界面を上げるために、熱酸化が行
われ、該開口はＰｂＳｎなどの導電性ペースト５４',５
６'で満たされる、 ｄ） 表面酸化物５１は、内部接続５４'及び５６'に面
する２つの開口６２"とくぼみ６２'とを形成するために
エッチングされる、 ｅ） 磁気材料被膜６４'及び６４"（例えばＦｅＮｉか
らなるもの）が電気分解又はスパッタリングによって付
着され（この場合この操作に続いてエッチングが行われ
る）、次に表面６５は平坦化される。
【００４２】この工程では、続いて図１３に図示されて
いるｆからｊの操作が行われる： ｆ） ＳｉＯ2等の絶縁層６６'を付着させる、 ｇ） 螺旋７２'及び付着物６４"に面する開口６８',７
０'を形成するために、層６６'をエッチングする、 ｈ） 導電体が銅から成るものとすることができ、電気
分解又はスパッタリングそしてこれに続く表面７９'の
エッチング及び／又は平坦化によって付着を行うことが
できるように、２つの内部接続スタッド７４',７６'及
びコイル７８'を、スタッドとターンの間の対応する図
示されない接続と共に形成するために、エッチングされ
た螺旋及び開口６８',７０'の底部に導電性材料を付着
させる、 ｉ） ＳｉＯ2などの保護被覆８０'が付着され、支持面
又は浮上走行平面として働く、 ｊ） 浮上走行平面（ここでは、浮上走行スキー８４',
８６'）を規定するために、被覆８０'をエッチングす
る。
【００４３】図１０及び１１の実施態様に関しては、こ
れらの操作はシリコンウエハを基準として集約的に行う
ことができる。磁気ヘッドが形成された表面の反対側の
基板の表面上の内部接続に、接続スタッドは形成され接
続される。次に、個々のヘッドを得るために、異なるヘ
ッドの間を通る切断線に沿ってウエハを切断する必要が
ある。浮上走行スライダーのパフォーマンス特性を向上
させるために、浮上走行スライダーを機械仕上げするこ
とも任意に可能である（面取り部の機械仕上げ、縁部の
研磨等）。
【００４４】前記された磁気ヘッドは、任意にレーザビ
ーム変調と組み合わされた、磁場変調によって機能する
直接上書きを有する光磁気読み取り／記録システムにお
ける構成部分として用いられる。この磁場の変調は、磁
気ヘッドに注入(inject)される電流を変調させることに
よって得られる。
【００４５】この様なシステムは、次の分野で主に応用
される：
【００４６】データ・ネットワーク、ワーク・ステーショ
ン、マイクロコンピュータ：着脱可能ディスク上のユー
ザー・ソフトウエア及びデータの保存用、着脱可能ディ
スク上の販売されているソフトウエアの使用用、任意に
ディスク・チェンジャーを備えた、マルチディスク・シス
テム上のデータのファイリング用；
【００４７】オーディオ、ビデオ、一般大衆マルチメデ
ィア：ＳＯＮＹ（株）ミニディスク型オーディオ・レコ
ーダーのパフォーマンス特性の向上、ビデオ・レコーダ
ー（ビデオ・テープ・レコーダーに代わるもの）、写真レ
コーダー： 写真を作り表示することが可能で、次に、
もし不適当なら、消去することができ、従って新しい成
功した写真のためのスペースを開けておける、マルチメ
ディア・レコーダー： 画像、音、ゲーム又は一般大衆
アプリケーション（例えばドモティック(domotic)又は
語学）用ソフトウエア、及びこれらのデータ。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来技術の磁気ヘッドを示す図である。
【図２】 中心極を有する磁気回路を持った本発明の磁
気ヘッドを示す断面図である。
【図３】 図２で示したものと同様のヘッドを下からみ
た図である。
【図４】 双胴船型の変形例を示す図である。
【図５】 図４で示したものと同様の変形例を下からみ
た図である。
【図６】 単純化した磁気回路を持つ他の変形例を示す
図である。
【図７】 内部接続のための通路孔を持つ、溝を設けた
磁気回路の平面図である。
【図８】 内部接続の１つの実施態様を示す図である。
【図９】 内部接続の他の実施態様を示す図である。
【図１０】 本発明のヘッドの製造工程の種々の段階を
示す図である。
【図１１】 図１０に示した本発明のヘッドの製造工程
の引き続く段階を示す図である。
【図１２】 ヘッドの他の製造工程を示す図である。
【図１３】 図１２に示したヘッド製造工程の引き続く
段階を示す図である。
【符号の説明】
２１……基板、２２……コイル、２３……絶縁層（分離
溝）、２４,２５……磁気材料回路、２６……極、２７
……保護被覆、２８……浮上走行平面、２９……開口、
３２,３４……浮上走行スキー、４０,４６……内部接
続、４４,４９……接続スタッド、４４',４９'……導電
体、５１……絶縁層、８０,８０'……保護被覆、８２,
８２'……引っ込み(set back)領域、８４,８６,８４',
８６'……浮上走行スキー。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板（２１）がシリコンから形成され、
    コイル（２２）が基板（２１）上に付着された絶縁層
    （２３）中に埋め込まれており、コイル（２２）がヘッ
    ドの浮上走行平面（２８）に関して引っ込んでいる(set
    back)ことを特徴とする、基板と平面導電体コイルとを
    有する光磁気記録用磁気書き込みヘッド。
  2. 【請求項２】 コイル（２２）の近傍かつ後方に磁気材
    料回路（２４）をさらに有することを特徴とする、請求
    項１記載の磁気ヘッド。
  3. 【請求項３】 磁気材料回路（２４）が放射状分離溝
    （２３）を包含することを特徴とする、請求項２記載の
    磁気ヘッド。
  4. 【請求項４】 磁気材料回路が、その中心にコイル（２
    ２）によって囲まれた極（２６）を有することを特徴と
    する、請求項２記載の磁気ヘッド。
  5. 【請求項５】 導電体コイル（２２）が、その中心を浮
    上走行スライダーの中央平面内に有することを特徴とす
    る、請求項１記載の磁気ヘッド。
  6. 【請求項６】 スライダーが双胴船様の形状であって、
    浮上走行面が引っ込み(set back)領域によって分離され
    ている２つの浮上走行スキー（３２,３４）を有するこ
    とを特徴とする、請求項１記載の磁気ヘッド。
  7. 【請求項７】 コイル（２２）が、２つの浮上走行スキ
    ー（３２,３４）の等距離の引っ込み領域の下に位置し
    ていることを特徴とする、請求項６記載の磁気ヘッド。
  8. 【請求項８】 コイル（２２）を有するシリコン浮上走
    行スライダーが、浮上走行平面（２８）を規定する非磁
    性の保護被覆（２７）によって覆われていることを特徴
    とする、請求項１記載の磁気ヘッド。
  9. 【請求項９】 保護被覆が、その周辺の全部又は一部の
    上方でエッチングされていることを特徴とする、請求項
    ８記載の磁気ヘッド。
  10. 【請求項１０】 引っ込み領域（８２,８２'）によって
    分離された２つの浮上走行スキー（８４,８６,８４',８
    ６'）が形成された非磁性の保護被覆を有することを特
    徴とする、請求項６記載の磁気ヘッド。
  11. 【請求項１１】 浮上走行平面（２８）の反対側のスラ
    イダーの表面を導電体コイル（２２）の平面と接続す
    る、２つの内部接続（４０,４６）をさらに有し、２つ
    の接続スタッド（４４,４９）がコイルの平面内に位置
    してそれぞれ内部接続（４０,４６）とコイル（２２）
    の端の１つとに接続されていることを特徴とする、請求
    項１記載の磁気ヘッド。
  12. 【請求項１２】 内部接続の１つ（４６）が、コイルの
    中心に導かれ、接続スタッドの１つ（４９）がその中心
    に位置することを特徴とする、請求項１１記載の磁気ヘ
    ッド。
  13. 【請求項１３】 磁気材料回路（２５）が開口（２９）
    によって中心に穿孔されており、内部接続（４６）が該
    開口（２９）を通ってコイルの中心に導かれていること
    を特徴とする、請求項２及び１２のうちいずれか一項記
    載の磁気ヘッド。
  14. 【請求項１４】 シリコン基板（２１）上に付着された
    補足的な絶縁層（５１）を有し、磁気回路（２４）が該
    絶縁層（５１）上に付着されていることを特徴とする、
    請求項２記載の磁気ヘッド。
  15. 【請求項１５】 浮上走行平面の反対側のスライダーの
    表面を導電体コイルの平面と接続する第１の内部接続
    （４０）をさらに有し、第１の接続スタッド（４４）が
    コイル平面内に位置して第１の内部接続とコイル（２
    ２）の第１の端とに接続され、第２の接続スタッド（４
    ９）がシリコン基板（２１）とコイル（２２）の第２の
    端とに接続されていることを特徴とする、請求項１記載
    の磁気ヘッド。
  16. 【請求項１６】 第２の接続スタッド（４９）がコイル
    （２２）の中心に位置し、磁気回路（２５）が開口（２
    ９）の中心に設けられ、第２の接続スタッド（４９）が
    該開口（２９）を通ってシリコン基板（２１）に接続さ
    れていることを特徴とする、請求項１５記載の磁気ヘッ
    ド。
  17. 【請求項１７】 接続スタッド（４４,４９）が、上記
    磁気材料から作られる導電体（４４',４９'）を介して
    内部接続（４４,４６）に接続されていることを特徴と
    する、請求項１１及び１５のうちいずれか一項記載の磁
    気ヘッド。
JP6101178A 1993-05-14 1994-05-16 光磁気記録用磁気書き込みヘッド Withdrawn JPH06349004A (ja)

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