JP3540678B2 - 光学ヘッド - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、光磁気ディスクへのデータの記録・再生を行うための光学ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の光学ヘッドの一例としては、特開平２−１８７２０号公報に記載のものがある。同公報に記載された光学ヘッドは、本願の図１９に示すように、スピンドル（図示略）によって高速回転させられる光磁気ディスクＤの半径方向に進退移動するアームＡの先端に、ミラーＭおよびサスペンションアームＳａに支持されたスライダＳを設けたものである。スライダＳには、対物レンズＬとコイルブロックＣｂとが搭載されている。コイルブロックＣｂは、一定の厚みを有しているとともに、対物レンズＬの光軸に一致した角錐状の孔ａを備え、この孔ａを取り囲むようにして底面に形成されたコイルＣとを備えている。
【０００３】
このような構成の光学ヘッドは、光磁気ディスクＤの記録層に対して直接対向するフロントイルミネーションタイプと称される光学ヘッドである。この光学ヘッドにおいては、水平方向に進行してくるレーザ光をミラーＭによって反射させることにより、対物レンズＬに入射させると、このレーザ光は集束されるため、光磁気ディスクＤの表面側の記録層上にはレーザスポットＬｓが形成される。コイルＣは、上記記録層上のレーザスポットＬｓに対応する個所に、データの書き込みと再生とに必要な外部磁界を与える。このような構成の光学ヘッドによれば、外部磁界を与えるための磁気ヘッドを別個に設ける必要はないため、装置全体を小型化することができる。また、コイルＣを光磁気ディスクＤの記録層に接近させることが容易であるために、記録層に外部磁界を効率良く作用させることもできる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の光学ヘッドにおいては、次に述べるように未だ解決すべき課題があった。
【０００５】
図２０に示すように、レーザ光が対物レンズＬを通過する場合、このレーザ光は、対物レンズＬの下向きのレンズ面９０からそのまま光磁気ディスクＤに向けて直進することはなく、レンズ面９０から空気中に出射するレーザ光の出射角ｒは、レンズ面９０への入射角ｉよりも大きくなる。空気の屈折率は種々の媒体の中で最小であり、ガラス製の対物レンズＬよりも空気の方が屈折率が小さいからである。光磁気ディスクＤの表面に対するレーザ光の入射角α（レーザ光の集束角は２α）は、出射角ｒと同一となる。一方、従来においては、レンズ面９０と光磁気ディスクＤとの間に、一定の厚みを有するコイルブロックＣｂの孔ａやコイルＣの中心孔としての空間領域が存在しているために、コイルＣを光磁気ディスクＤに殆ど接触させる程度にまで近づけた場合であっても、レンズ面９０と光磁気ディスクＤとの間の光軸方向の空気層の厚み寸法ｓ５は、コイルブロックＣｂとコイルＣとのそれぞれの厚みの合計寸法以上となる。したがって、光磁気ディスクＤに対して大きな入射角で入射しようとする傾きの大きなレーザ光の進行距離は長くなっている。
【０００６】
ところで、近年においては、光磁気ディスクのデータ記録の高密度化を達成することを目的として、対物レンズの高ＮＡ化（ＮＡは開口数（numerical aperture））が図られているが、上記のような構成において対物レンズＬのＮＡをさらに大きくしようとする場合、すなわち、図２０において上記出射角ｒを大きくしようとする場合、対物レンズＬそのものを大径化するとともに、コイルブロックＣｂの外径および孔ａを大径化するか、もしくは、コイルブロックＣｂとコイルの厚み合計を減らす必要がある。対物レンズＬやコイルブロックＣｂを大型化することは、ヘッドの重量が増大し、高速アクセスの要請等から、非現実的であるし、レーザスポットＬｓに十分な磁界を効率的に印加することが困難となる。また、コイルブロックＣｂとしての厚みを減じることは、加工・組み立て精度上、問題がある。さらには、対物レンズを出射後のレーザ光の空気中の進行距離が長く、かつこの長い距離を正確に規定する必要があることから、スライダ光学系においては、フォーカシンシグが困難となる。従来においては、このようなことが光磁気ディスクのデータ記録の高密度化を妨げる要因の一つとなっていたのである。
【０００７】
本願発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、コイルブロックの機械加工精度や組み立て加工精度上の問題を生じさせることなく、かつ効率的な印加磁界を発生させることができながら対物レンズの高ＮＡ化を達成することができ、しかもフォーカシングが容易な光学ヘッドを提供することをその課題としている。
【０００８】
【発明の開示】
上記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００９】
本願発明の第１の側面によって提供される光学ヘッドは、光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、上記コイルは、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記レンズ面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴としている。本願発明では、上記対物レンズとは、上記移動体に複数の対物レンズが搭載されている場合には、光磁気ディスクに最も接近している一つの対物レンズを意味している。
【００１０】
上記光学ヘッドは、別言すれば、光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するようにして、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面にレンズの光軸面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されて構成されたものである。
【００１１】
本願発明の第１の側面によって提供される光学ヘッドにおいては、対物レンズを用いてレーザ光を集束させる場合に、対物レンズに入射したレーザ光は、透光性物質で形成されたコイルの透光部から出射するまで、一貫して透光性を有する物質内を進行することとなる。したがって、本願発明においては、ヘッドの透光性物質から出射してからディスク上のレーザスポットにいたるまでの空気中の進行距離を、著しく短縮することができる。そのため、スライダをディスク面にμｍオーダ、あるいはサブμｍオーダで接近させるような場合に、フォーカッシングがより容易に行なえるようになる。
【００１２】
しかも、コイルは、基本的に対物レンズのディスク側レンズ面に１層または複数層状にパターン形成された導体により形成されている。このようなパターン形成は、いわゆるスパッタリングや蒸着等の薄膜成膜技術とフォトリソグラフィー技術を組み合わせた技術によって行なわれるのであって、基本的に、コイルブロックを用いることに比較し、コイルの厚みは数μｍ〜数十μｍオーダのきわめて薄状とすることができる。したがって、コイルの径、とくに内径をレーザスポットに近接した格好できわめて小径化することが可能となり、そうすると、小電流で光ディスク上のレーザスポット近辺に十分な強さの外部磁界を効率的に生成することができる。
【００１３】
好ましい実施の形態においては、上記対物レンズには、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記レンズ面上または上記レンズ面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００１４】
このような構成によれば、複数の導体部を利用してコイルへの電力供給を適切に行うことができる。複数の導体部に対する電力供給用の配線接続は、対物レンズの所定のレンズ面を避けるようにして行うことができ、対物レンズと光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材を嵩張った状態に設ける必要はない。したがって、コイルを光磁気ディスクに接近させて、光磁気ディスクの記録層に強い磁界を作用させるのに好都合となる。
【００１５】
本願発明の第２の側面によって提供される光学ヘッドは、光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、上記対物レンズの上記光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板を具備しており、かつ上記コイルは、上記基板の表面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記基板の表面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴とする。
【００１６】
上記光学ヘッドは、別言すれば、光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板と、この基板表面における上記対物レンズの光軸対応面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸対応面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されたものである。
【００１７】
このような構成によれば、対物レンズにコイルを直接設けるのではなく、対物レンズとは別体の基板の表面にコイルや透光層を設けるために、コイルの形成や透光層の形成に際して種々の便宜が図れることとなる。たとえば、対物レンズと比較すると基板の取り扱いは容易であるから、基板表面へのコイルの形成作業などは、対物レンズに直接コイルを形成する場合よりも容易なものにすることが可能であり、生産能率を高めることも可能となる。
【００１８】
この場合においても、対物レンズに入射したレーザ光が基板に形成されたコイルの透光部を出射するまで一貫して透光性材料内を通過している点、基板の表面に形成されるコイルは、パターン形成されているのであって、その厚みは、コイルブロックに比較して圧倒的に薄状である点は、第１の側面に係る光学ヘッドと同様であり、したがって、この第２の側面に係る光学ヘッドにおいても、基本的に第１の側面に係る光学ヘッドについて述べたのと同様の利点を享受することができる。
【００１９】
本願発明の他の好ましい実施の形態においては、上記基板には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記基板の表面上またはこの表面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００２０】
このような構成によれば、コイルが表面に形成されている基板と光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材などを嵩張った状態に設けることなく、複数の導体部を利用してコイルへの電力供給を適切に行うことができる。したがって、コイルを光磁気ディスクに接近させて、記録層に強い磁界を作用させるのに有利となる。
【００２１】
本願発明の他の好ましい実施の形態においては、上記移動体には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記移動体のうち上記光磁気ディスクに対向する面またはこの面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００２２】
このような構成によれば、移動体と光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材などを嵩張った状態に設ける必要なく、コイルへの電力供給を適切に行うことができる。このため、コイルを光磁気ディスクに接近させるのにやはり有利となる。
【００２３】
本願発明のその他の特徴および利点については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかになるであろう。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２５】
図１は、本願発明が適用される光磁気記録・再生装置の一例の全体構成図である。図２は、図１の要部断面図であり、本願発明に係る光学ヘッドの一例を示している。図３は、図２に示す光学ヘッドの要部拡大断面図である。図４は、図２および図３に示す光学ヘッドのコイルを示す底面図である。図５（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの製造工程の一例を示す断面図である。
【００２６】
まず、本願発明が適用される光磁気記録・再生装置１０の全体的な構成の一例につき、図１を参照して説明する。光磁気ディスクＤは、スピンドルＳｐに装着された状態で高速回転するようになっている。本実施形態においては、光磁気ディスクＤの記録層は、光磁気ディスクＤの上向きの表面側に位置している。光学ヘッドＨは、スライダ２を具備して構成されており、このスライダ２は、サスペンションアームＳａを介してアームＡの先端に支持されている。アームＡは、スライダ２を光磁気ディスクＤの記録層に対面させてその半径方向に移動させうるように一定方向に進退移動可能であり、その進退移動の駆動源としては、たとえば直進ボイスコイルモータなどのリニアアクチュエータＡｃが用いられる。アームＡの先端にはミラーＭも設けられており、このミラーＭには固定モジュールＳＭからレーザ光が照射されるようになっている。固定モジュールＳＭは、レーザ発光部、検出器、コリメータ光学素子などを内蔵するものである。
【００２７】
スライダ２は、本願発明でいう移動体の一例に相当するものであり、たとえば全体が略ブロック状とされた樹脂成形品である。このスライダ２は、光磁気ディスクＤの回転停止時には、光磁気ディスクＤの表面に接触するようにサスペンションアームＳａによって支持されているものの、光磁気ディスクＤの高速回転時には光磁気ディスクＤとの間に形成される流体くさびの圧力上昇により、光磁気ディスクＤの表面から僅かな間隙を隔てて浮上するようになっている。図２によく表れているように、このスライダ２には、第１の対物レンズ３、第２の対物レンズ４、コイル５、透光層６、および一対の電極７が搭載されている。
【００２８】
第１の対物レンズ３は、第２の対物レンズ４のみを用いる場合よりも光学ヘッドＨの光学系の開口数ＮＡを高めるために設けられたものである。対物レンズを複数個用いれば、光学ヘッドＨの光学系の開口数を高めることが容易となり、これにより光磁気ディスクＤの記録密度を高めることが可能となる。第１の対物レンズ３は、スライダ２の上面部の凹部２１に嵌入されるなどしてミラーＭの直下に配されている。固定モジュールＳＭから出力されてミラーＭによって反射されたレーザ光は、この第１の対物レンズ３に入射し、この第１の対物レンズ３によってある程度集束されてから次の第２の対物レンズ４に向けて進行するようになっている。サスペンションアームＳａは、第１の対物レンズ３を避けるようにしてスライダ２を支持している。
【００２９】
第２の対物レンズ４は、第１の対物レンズ３を通過してきたレーザ光をさらに集束させることにより、光磁気ディスクＤの記録層上にレーザスポットＬｓを形成するものであり、スライダ２の孔部２２内に嵌入されるなどして第１の対物レンズ３の直下に装着されている。この第２の対物レンズ４は、上向きのレンズ面４０ａが球面状の凸面であるのに対し、下向きのレンズ面４０ｂは平面状とされている。
【００３０】
一対の電極７は、本願発明でいう導体部の一例に相当するものであり、たとえば導電性の良好な銅などの金属板によって形成されている。これら一対の電極７は、第２の対物レンズ４の平面状に形成された２つの側面４０ｃ，４０ｄに接着されていることにより、第２の対物レンズ４の厚み方向（光軸Ｏａ方向）に延びている。図３によく表れているように、各電極７の下端面７０は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂと略面一状の平面とされている。
【００３１】
コイル５は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂおよび各電極７の下端面７０上に導体の薄膜をパターン形成することによって構成されたものである。このような導体のパターン形成は、金属層をスパッタリングあるいは蒸着によって形成した後、フォトリソグラフィー技術によって不要部分を除去するという手法によって形成されるのであり、したがって、このコイル５は、その厚みが数μｍ〜数十μｍ程度の極薄状に形成される。図４によく表れているように、このコイル５は、複数条のコイル線素５０をレンズ面４０ｂ上において第２の対物レンズ４の光軸Ｏａを中心とする略同心円状に形成するとともに、それら略同心円状の複数条のコイル線素５０どうしを２本の引き出し配線部５１に並列接続したものである。このコイル５は、光軸Ｏａに対応した透光部５５をもついわゆる空心タイプのコイルとして形成されている。図３から理解されるように、第２の対物レンズ４内に入射したレーザ光は、レンズ面４０ｂの付近ではかなり小さな径に集束されるが、本願発明では、上述したように、コイル５そのものが極薄状であるため、このレーザ光が通過する経路となるコイル５の透光部５５をかなり小径にすることが可能である。これは、コイル５によってレーザスポットＬｓ近辺に発生させる磁界を強くするのに有利となる。図４に示すように、２本の引き出し配線部５１の各端部５１ｂは、一対の電極７の各下端面７０上に重なって設けられていることにより、それら一対の電極７と導通接触している。したがって、一対の電極７を利用することにより、コイル５に磁界発生用の電力供給を行うことが可能である。図２によく表れているように、スライダ２には、たとえば配線ガイド用の切り欠き孔２０が設けられており、この切り欠き孔２０に配線部材７９を通すことにより、スライダ２の上方から各電極７に対してコイル駆動用の電力供給が行えるように構成されている。
【００３２】
透光層６は、第２の対物レンズ４と同等もしくは略同等の屈折率をもつたとえば透明ガラス等でできた薄膜層であり、コイル５の全体を覆うようにレンズ面４０ｂと各電極７の下端面７０との略全面上にスパッタリング等によって形成されている。これにより、コイル５の透光部５５は透光層６によって塞がれている。
【００３３】
上記した一対の電極７、コイル５および透光層６を備えた第２の対物レンズ４は、次のようにして製造することができる。まず、図５（ａ）に示すように、第２の対物レンズ４を複数個製造する。各第２の対物レンズ４は、たとえば球状ガラスをカッティングすることによって製造することができる。次いで、同図（ｂ）に示すように、複数個の第２の対物レンズ４を列状に並べてから、それらの側面４０ａ，４０ｂに電極７の原型となる比較的長寸法の導電部材７’を接着し、その後同図（ｃ）に示すように、導電部材７’を適当な長さの電極７とするように切断する。この切断後には、必要に応じて電極７の下端面７０や第２の対物レンズ４の最終研磨を行う。このようにして電極７を備えた複数の第２の対物レンズ４が得られた後には、各第２の対物レンズ４や電極７の一端面７０上に、たとえば蒸着やスパッタリング、あるいはフォトリソグラフィー技術を組み合わせた薄膜導体パターン形成技術によって導体の薄膜形成を行うことにより、コイル５をパターン形成する。コイル５の各引き出し配線部５１の端部５１ｂを電極７の下端面７０に導通接触させる場合、オーミックコンタクトをうることが可能である。その後は、たとえばスパッタリングによって透明ガラスの薄膜形成を行い、透光層６を設ければよい。このような薄膜形成によるコイル５の製造や透光層６の形成作業は、一般の半導体製造のための設備を有するメーカであれば、特別な設備を別途準備することなく、容易に行うことが可能である。
【００３４】
次に、上記構成の光学ヘッドＨの作用について説明する。
【００３５】
光磁気ディスクＤへのデータ記録またはデータ再生を行うときには、上述した流体くさびの圧力作用を利用することにより、図３に示すように、高速回転している光磁気ディスクＤ上にスライダ２を浮上させる。光磁気ディスクＤの表面と透光層６の表面との間の間隔ｓ１は、たとえばμｍオーダまたはサブμｍオーダの微小間隔とする。コイル５への電力供給は、既述したとおり、一対の電極７に接続した配線部材７９を介してスライダ２の背面側（上面側）から行うことができ、透光層６やコイル５の表面部分に金線などの嵩高い配線部材を設ける必要はない。このため、透光層６と光磁気ディスクＤとの間を微小間隔にすることができるのである。このようにすれば、光磁気ディスクＤの表面上のレーザスポットＬｓにコイル５を近づけることができ、レーザスポットの形成個所に作用する磁界の強さを強くすることが可能となる。
【００３６】
次いで、レーザ光についての作用を考察してみると、まず第１の対物レンズ３を通過して第２の対物レンズ４内に進行したレーザ光は、透光層６によって塞がれたコイル５の透光部５５を通過してから光磁気ディスクＤに向けて進行する。ただし、透光層６は、第２の対物レンズ４と屈折率が同一または略同一の材質であるから、レーザ光が第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂから透光層６内に進行する際に大きく屈折することはない。レーザ光は、透光層６から光磁気ディスクＤに向けて出射する時点で屈折率が大きく異なる空気中を進行することとなるため、その時点で大きく屈折することとなる。
【００３７】
図６（ａ）は、本願発明についての作用説明図であり、同図（ｂ）は、本願発明との対比例を示す作用説明図である。同図（ｂ）に示すように、第２の対物レンズ４と光磁気ディスクＤとの間に寸法ｓ２の隙間（空気層）が存在する場合には、第２の対物レンズ４を通過したレーザ光は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂの入射角ｉよりも大きな出射角ｒのまま寸法ｓ２の全範囲を進行する。これに対し、同図（ａ）に示すように、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂに重ねて透光層６を形成している場合には、透光層６の表面と光磁気ディスクＤとの間の寸法ｓ３を寸法ｓ２よりも小さくし、透光層６から出射角ｒで出射したレーザ光の進行距離を、同図（ｂ）の場合よりも短くできる。同図（ａ）に示す構成においては、レーザ光が大きな角度ｒで屈折する個所を、レンズ面４０ｂやコイル５の位置よりも光磁気ディスクＤ寄りの位置に設定することができるのである。このため、同図（ｂ）に示す構成においては、第２の対物レンズ４の表面におけるレーザ光の集束径Ｄｂが大きく、このレーザ光を空気層においてさらに大きな割合で集束させる必要があるのに対し、同図（ａ）に示す構成においては、透光層６の表面におけるレーザ光の集束径Ｄａを予め充分に小さくしておくことが可能となり、その分だけ同図（ａ）に示す構成の方が、コイル５そのものが薄状化されていることとあいまって、コイル５の最小径を著しく小径化することができる。また、同図（ａ）に示す構成では、透光層６と光磁気ディスクＤとの間の微小寸法ｓ３を規定すればよく、スライダ２の浮上寸法もμｍオーダ、あるいはサブμｍオーダとする場合のフォーカッシングが容易となる。なお、図６（ａ），（ｂ）のいずれの場合においても光磁気ディスクＤの表面に対するレーザ光の集束角が同一であることから理解されるように、本実施形態の光学ヘッドＨにおいて光学系の開口数が小さくなるといった不具合はない。
【００３８】
図７ないし図１１は、本願発明の他の実施形態を示している。なお、図７以降の図においては、先の実施形態と同一または類似の要素には、先の実施形態と同一符号を付している。
【００３９】
図７に示す構成においては、一対の電極７を第２の対物レンズ４の同一の側面４０ｃに並べて設けており、これら一対の電極７にコイル５を導通接続させている。このような構成によれば、一対の電極７が互いに接近して設けられているために、各電極７への配線作業を一層容易にすることができる。また、図１ないし図４に示した先の実施形態の場合よりもコイル５の２本の引き出し配線部５１を短くし、コイルのパターン形状を合理的なものにすることができる。
【００４０】
図８に示す構成においては、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂの端縁部分から側面４０ｃおよび側面４０ｄのそれぞれにわたって２つの導体膜７Ａを設けている。これら２つの導体膜７Ａは、先の一対の電極７と同様に、本願発明でいう導体部の具体例に相当するものである。各導体膜７Ａのうち、レンズ面４０ｂ上に位置する部分には、コイル５が２本の引き出し配線部５１を介して導通接続されている。各導体膜７Ａをたとえばスパッタリングにより薄膜状に形成すれば、コイル５をその後パターン形成する場合に、２本の引き出し配線部５１の各端部５１を各導体膜７Ａ上に適切に積層させることができ、やはりオーミックコンタクトをうることができる。このような構成によれば、先の実施形態の場合と同様に、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂを避けた位置から２つの導体膜７Ａを介してコイル５に駆動電力を供給することができ、透光層６を光磁気ディスクに接近させることが適切に行える。このように、本願発明においては、コイル５への電力供給に利用される導体部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。もちろん、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂとそれ以外の面とにパッド状などの電極を設けるとともに、これらの電極どうしをスルーホールによって導通接続させるような手段を用いることもできる。
【００４１】
図９に示す構成においては、コイル５を構成する各コイル線素５０の表面と透光層６の表面とを面一状にしている。このような構成によれば、コイル５と透光層６とのそれぞれを、光磁気ディスクの表面から同等距離になるように光磁気ディスクに接近させることができ、コイル５によって発生される磁界を光磁気ディスクに強く作用させるのにより好適となる。このように、本願発明においては、透光層６は必ずしもコイル５の全体を覆うように形成されていなくてもかまわない。透光層６は、要は、コイル５の透光部５５を塞ぐように形成されていればよい。したがって、本願発明においては、コイル５の透光部５５以外の部分には透光層６が形成されていない構成とすることもできる。また、コイル５の透光部５５の全体が透光層６によっ塞がれておらず、レーザ光の進行経路となる透光部５５の一部の領域のみが透光層６によって塞がれた構成とされていてもかまわない。ただし、コイル５の全体を透光層６によって覆ったり、あるいはコイル５を構成する導体どうしの隙間に透光層６が介在すれば、コイル５を保護することができる利点が得られる。
【００４２】
図１０に示す構成においては、２層のコイル５，５ａを備えた構成とされている。このような構成によれば、強い磁界を発生させるのにより有利となる。このように、本願発明においては、コイルを２層に設けてもよく、さらにはそれ以上の多層状に設けてもかまわない。
【００４３】
図１１に示す構成においては、コイル５Ａが、１条のコイル線素５０を渦巻き状に形成した構造を有している。渦巻き状のコイル線素５０の中央部に位置する一端部５０ａは、コイル線素５０とは異なる面に形成された配線部５８や、この配線部５８の両端に導通したスルーホール５９ａ，５０ｂを介して、２本の引き出し配線部５１ｃの一方と接続されている。このように、本願発明においては、コイルとしては渦巻き状の構造のものを採用してもよく、その具体的な構成は種々に設計変更である。
【００４４】
図１２は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。図１３は、図１２の上下反転分解斜視図である。
【００４５】
図１２および図１３に示す構成においては、第２の対物レンズ４にコイル５や透光層６を直接設けておらず、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂに接合された基板８の表面に、コイル５や透光層６を設けている。この場合も、コイルは金属薄膜をパターン形成するのであり、その厚みは極薄状であることに変わりはない。もちろん、透光層６は、コイル５の透光部５５を塞ぐよう設けられているのであり、この透光層６の厚みも、コイルの厚みと対応した薄状である。
【００４６】
基板８は、たとえば第２の対物レンズ４と同様な材質の透明ガラス製である。第２の対物レンズ４と基板８との接合は、たとえば基板８の裏面と第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂとを高精度な平滑面に仕上げてから接触させることによって行われている。互いに接触する２つの面がいわゆる完全平面である場合には、それらの部材の分子間力を利用して密に接着させることができ、オプティカルコンタクト（光の通過を補償するコンタクト）が可能である。ただし、本願発明はこれに限定されず、たとえば透光性を有する接着剤を利用して基板８をレンズ面４０ｂに接着させてもかまわない。
【００４７】
基板８には、本願発明でいう導体部の具体例としての一対の電極７Ｂが設けられている。これら一対の電極７Ｂは、基板８をその厚み方向に貫通して設けられており、その上端部は基板８の上面側（裏面側）に突出している。各電極７Ｂの下端面７０ｂは、基板８の表面と略面一である。この下端面７０ｂには、コイル５が導通接続されるように、その引き出し配線部５１の端部５１ｂが重なって設けられている。したがって、各電極７Ｂの上端部に配線接続を行うことにより、基板８の上面側からコイル５に電極を供給することができる。基板８の表面側にコイル５への配線部材を嵩張って設ける必要はなく、基板８の表面と光磁気ディスクＤとの間隙を微小にすることができる。
【００４８】
上記した構成の基板８を備えた第２の対物レンズ４は、コイル５や透光層６を有する基板８を製造した後に、この基板８を第２の対物レンズ４に接合させることにより製造することができる。コイル５や透光層６を有する基板８は、第２の対物レンズ４の製造工程とは別工程によって大量生産することができるために、多数の第２の対物レンズ４の１つずつにコイル５や透光層６を直接設けてゆく場合と比較すると、その生産能率を高めることが可能となる。また、コイル５は、基板８の表面上に形成するために、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂよりも大径に形成し、その巻き数を多くすることが可能であるから、第２の対物レンズ４が小径の場合において強い磁界を発生させるのにも便利となる。
【００４９】
上記した構成においては、第２の対物レンズ４内に進行したレーザ光は、基板８およびコイル５の透光部５５を塞ぐ透光層６を通過してから光磁気ディスクＤに到達する。しかし、第２の対物レンズ４、基板８、および透光層６のそれぞれの屈折率は同一または略同一であるから、これらの各境界部分においてレーザ光が大きく屈折することはない。レーザ光は、光磁気ディスクＤに近い透光層６の表面から光磁気ディスクＤと透光層６との間隙の空気中に出射した時点で大きく屈折することとなる。したがって、図６（ａ），（ｂ）を参照して説明したのと同様の利点を享受することができる。
【００５０】
本願発明においては、上記したように基板８を用いる場合に、一対の電極７Ｂを基板８に設ける手段に代えて、たとえば図１４および図１５に示すような手段を採用してもかまわない。図１４に示す手段においては、スルーホール７７を含む導体膜７Ｃが基板８に設けられており、この導体膜７Ｃの一部が基板８の裏面側に位置するとともに、導体膜７Ｃの他の部分が基板８の表面側に位置してコイル５と導通接触している。図１５に示す手段においては、基板８の表面から基板８の側面を経由して基板８の裏面に到る導体膜７Ｄが設けられている。これら図１４および図１５のいずれの手段においても、導体膜７Ｃまたは７Ｄを利用してコイル５への電力供給を基板８の裏面側（上面側）から行うことができる。なお、上記基板８は、スライダとして利用するとも可能である。
【００５１】
図１６は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。図１７は、図１６に示すスライダを底面側から見た要部斜視図である。
【００５２】
図１６および図１７に示す構成においては、スルーホール７８を含む一対の導体膜７Ｅがスライダ２に設けられている。各導体膜７Ｅの上下部は、スライダ２の上面部または下面部に位置するパッド状の電極部７８ａ，７８ｂとして形成されている。コイル５は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂ上に設けられているが、その引き出し配線部５１は電極部７８ｂまで延びていることにより、電極部７８ｂに導通接続されている。透光層６は、コイル５の全体を覆うようにスライダ２の下面とレンズ面４０ｂ上とに形成されている。
【００５３】
上記構成においては、各導体膜７Ｅの電極部７８ａに適当な電気配線接続を行うことにより、スライダ２の上方からコイル５に駆動電力を供給することができる。このように、本願発明においてはスライダ２に導体部を設けることによってコイル５への電力供給を行ってもかまわない。なお、上記構成において、各導体膜７Ｅに代えて、図１２に示したような形態の電極や、図１５に示したような形態の導体膜をスライダ２に設ける手段を用いてもよいことは勿論である。
【００５４】
図１８は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【００５５】
同図に示す構成においては、スライダ２の孔部２２の底部に、第２の対物レンズ４を受ける支持部２８が形成されており、かつこの支持部２８の下面を含むスライダ２の下面にコイル５が形成されている。支持部２８の中央部には、レーザ光を通過させるための孔部２８ａが設けられており、この孔部２８ａとコイル５の透光部５５とが透明物質によって一連に塞がれるようにして透光層６がスライダ２の下面上に形成されている。このように、本願発明においては、コイル５をスライダ２の一部分に設けることも可能である。もちろん、スライダ２以外の不透明な部材上にコイル５を設けてから、その不透明な部材をスライダ２に取り付けるといった手段を採用することもできる。
【００５６】
本願発明に係る光学ヘッドの各部の具体的な構成は、上述の実施形態に限定されるものではない。
【００５７】
本願発明でいう移動体は、スライダに限定されず、たとえば２次元アクチュエータによって光磁気ディスクの表面に沿って移動可能に構成されたホルダのような構成の他の部材であってもかまわない。したがって、本願発明に係る光学ヘッドは、光磁気ディスクの上方からデータ記録・再生を行うものに限らず、光磁気ディスクの下方からデータ記録・再生を行うタイプの光学ヘッドとして構成することもできる。ただし、光磁気ディスクに対する浮上安定性の高いスライダを用いれば、フォーカスサーボ検出系を無くすことが可能であり、光磁気ディスクからの反射光をフォーカスサーボ検出系に送信する必要がなくすことができる分だけ、光磁気信号検出系に送られる光量を多くすること可能となるため、光磁気信号中に占めるノイズ成分の割合を少なくすることができるという利点が得られる。
【００５８】
また、上述の実施形態においては、２つの対物レンズを用いているために、光学系の開口数を大きくする上で好ましいが、やはり本願発明はこれに限定されない。本願発明においては、対物レンズを１つのみ用いた場合にも適用できることは言うまでもない。
【００５９】
さらに、本願発明においては、透光性を有する物質としては、対物レンズと屈折率が同一または略同一のものを用いることが好ましいものの、やはり本願発明はその具体的な材質は特定されない。本願発明においては、たとえば透明な合成樹脂を用いることもできる。
【００６０】
【発明の効果】
以上の説明のように、本願発明によれば、対物レンズを通過したレーザ光がコイルの透光部を通過する以前に空気中に進行しないようにすることができ、光磁気ディスクの記録層に対してレーザ光が大きな入射角で入射するように進行する距離を、従来の光学ヘッドよりも短くすることが可能となる。そして、コイルがパターン形成されたものであるために薄状である。その結果、スライダをμｍオーダあるいはサブμｍオーダで光磁気ディスクから浮上させる場合において、そのフォーカッシングが容易に行なえるとともに、コイルの最小径を著しく小径化して、小電流によって十分な外部磁界を光磁気ディスクのレーザスポットに生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明が適用される光磁気記録・再生装置の一例の全体構成図である。
【図２】図１の要部断面図であり、本願発明に係る光学ヘッドの一例を示している。
【図３】図２に示す光学ヘッドの要部拡大断面図である。
【図４】図２および図３に示す光学ヘッドのコイルを示す底面図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの製造工程の一例を示す断面図である。
【図６】（ａ）は、本願発明についての作用説明図であり、（ｂ）は、本願発明との対比例を示す作用説明図である。
【図７】コイルおよび導体部の他の例を示す要部底面部である。
【図８】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図９】コイルの他の例を示す要部断面図である。
【図１０】コイルの他の例を示す要部断面図である。
【図１１】コイルの他の例を示す平面説明図である。
【図１２】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１３】図１２の上下反転分解斜視図である。
【図１４】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図１５】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図１６】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１７】図１６に示すスライダを底面側から見た要部斜視図である。
【図１８】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１９】従来の光学ヘッドの要部拡大図である。
【図２０】図１９に示す光学ヘッドの作用説明図である。
【符号の説明】
Ｄ 光磁気ディスク
Ｈ 光学ヘッド
２ スライダ（移動体）
４ 第２の対物レンズ（対物レンズ）
５ コイル
６ 透光層
７ 電極（導体部）
５１ 引き出し配線部
５５ 中心孔（コイルの）
【発明の属する技術分野】
本願発明は、光磁気ディスクへのデータの記録・再生を行うための光学ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の光学ヘッドの一例としては、特開平２−１８７２０号公報に記載のものがある。同公報に記載された光学ヘッドは、本願の図１９に示すように、スピンドル（図示略）によって高速回転させられる光磁気ディスクＤの半径方向に進退移動するアームＡの先端に、ミラーＭおよびサスペンションアームＳａに支持されたスライダＳを設けたものである。スライダＳには、対物レンズＬとコイルブロックＣｂとが搭載されている。コイルブロックＣｂは、一定の厚みを有しているとともに、対物レンズＬの光軸に一致した角錐状の孔ａを備え、この孔ａを取り囲むようにして底面に形成されたコイルＣとを備えている。
【０００３】
このような構成の光学ヘッドは、光磁気ディスクＤの記録層に対して直接対向するフロントイルミネーションタイプと称される光学ヘッドである。この光学ヘッドにおいては、水平方向に進行してくるレーザ光をミラーＭによって反射させることにより、対物レンズＬに入射させると、このレーザ光は集束されるため、光磁気ディスクＤの表面側の記録層上にはレーザスポットＬｓが形成される。コイルＣは、上記記録層上のレーザスポットＬｓに対応する個所に、データの書き込みと再生とに必要な外部磁界を与える。このような構成の光学ヘッドによれば、外部磁界を与えるための磁気ヘッドを別個に設ける必要はないため、装置全体を小型化することができる。また、コイルＣを光磁気ディスクＤの記録層に接近させることが容易であるために、記録層に外部磁界を効率良く作用させることもできる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の光学ヘッドにおいては、次に述べるように未だ解決すべき課題があった。
【０００５】
図２０に示すように、レーザ光が対物レンズＬを通過する場合、このレーザ光は、対物レンズＬの下向きのレンズ面９０からそのまま光磁気ディスクＤに向けて直進することはなく、レンズ面９０から空気中に出射するレーザ光の出射角ｒは、レンズ面９０への入射角ｉよりも大きくなる。空気の屈折率は種々の媒体の中で最小であり、ガラス製の対物レンズＬよりも空気の方が屈折率が小さいからである。光磁気ディスクＤの表面に対するレーザ光の入射角α（レーザ光の集束角は２α）は、出射角ｒと同一となる。一方、従来においては、レンズ面９０と光磁気ディスクＤとの間に、一定の厚みを有するコイルブロックＣｂの孔ａやコイルＣの中心孔としての空間領域が存在しているために、コイルＣを光磁気ディスクＤに殆ど接触させる程度にまで近づけた場合であっても、レンズ面９０と光磁気ディスクＤとの間の光軸方向の空気層の厚み寸法ｓ５は、コイルブロックＣｂとコイルＣとのそれぞれの厚みの合計寸法以上となる。したがって、光磁気ディスクＤに対して大きな入射角で入射しようとする傾きの大きなレーザ光の進行距離は長くなっている。
【０００６】
ところで、近年においては、光磁気ディスクのデータ記録の高密度化を達成することを目的として、対物レンズの高ＮＡ化（ＮＡは開口数（numerical aperture））が図られているが、上記のような構成において対物レンズＬのＮＡをさらに大きくしようとする場合、すなわち、図２０において上記出射角ｒを大きくしようとする場合、対物レンズＬそのものを大径化するとともに、コイルブロックＣｂの外径および孔ａを大径化するか、もしくは、コイルブロックＣｂとコイルの厚み合計を減らす必要がある。対物レンズＬやコイルブロックＣｂを大型化することは、ヘッドの重量が増大し、高速アクセスの要請等から、非現実的であるし、レーザスポットＬｓに十分な磁界を効率的に印加することが困難となる。また、コイルブロックＣｂとしての厚みを減じることは、加工・組み立て精度上、問題がある。さらには、対物レンズを出射後のレーザ光の空気中の進行距離が長く、かつこの長い距離を正確に規定する必要があることから、スライダ光学系においては、フォーカシンシグが困難となる。従来においては、このようなことが光磁気ディスクのデータ記録の高密度化を妨げる要因の一つとなっていたのである。
【０００７】
本願発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、コイルブロックの機械加工精度や組み立て加工精度上の問題を生じさせることなく、かつ効率的な印加磁界を発生させることができながら対物レンズの高ＮＡ化を達成することができ、しかもフォーカシングが容易な光学ヘッドを提供することをその課題としている。
【０００８】
【発明の開示】
上記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００９】
本願発明の第１の側面によって提供される光学ヘッドは、光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、上記コイルは、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記レンズ面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴としている。本願発明では、上記対物レンズとは、上記移動体に複数の対物レンズが搭載されている場合には、光磁気ディスクに最も接近している一つの対物レンズを意味している。
【００１０】
上記光学ヘッドは、別言すれば、光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するようにして、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面にレンズの光軸面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されて構成されたものである。
【００１１】
本願発明の第１の側面によって提供される光学ヘッドにおいては、対物レンズを用いてレーザ光を集束させる場合に、対物レンズに入射したレーザ光は、透光性物質で形成されたコイルの透光部から出射するまで、一貫して透光性を有する物質内を進行することとなる。したがって、本願発明においては、ヘッドの透光性物質から出射してからディスク上のレーザスポットにいたるまでの空気中の進行距離を、著しく短縮することができる。そのため、スライダをディスク面にμｍオーダ、あるいはサブμｍオーダで接近させるような場合に、フォーカッシングがより容易に行なえるようになる。
【００１２】
しかも、コイルは、基本的に対物レンズのディスク側レンズ面に１層または複数層状にパターン形成された導体により形成されている。このようなパターン形成は、いわゆるスパッタリングや蒸着等の薄膜成膜技術とフォトリソグラフィー技術を組み合わせた技術によって行なわれるのであって、基本的に、コイルブロックを用いることに比較し、コイルの厚みは数μｍ〜数十μｍオーダのきわめて薄状とすることができる。したがって、コイルの径、とくに内径をレーザスポットに近接した格好できわめて小径化することが可能となり、そうすると、小電流で光ディスク上のレーザスポット近辺に十分な強さの外部磁界を効率的に生成することができる。
【００１３】
好ましい実施の形態においては、上記対物レンズには、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記レンズ面上または上記レンズ面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００１４】
このような構成によれば、複数の導体部を利用してコイルへの電力供給を適切に行うことができる。複数の導体部に対する電力供給用の配線接続は、対物レンズの所定のレンズ面を避けるようにして行うことができ、対物レンズと光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材を嵩張った状態に設ける必要はない。したがって、コイルを光磁気ディスクに接近させて、光磁気ディスクの記録層に強い磁界を作用させるのに好都合となる。
【００１５】
本願発明の第２の側面によって提供される光学ヘッドは、光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、上記対物レンズの上記光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板を具備しており、かつ上記コイルは、上記基板の表面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記基板の表面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴とする。
【００１６】
上記光学ヘッドは、別言すれば、光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板と、この基板表面における上記対物レンズの光軸対応面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸対応面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されたものである。
【００１７】
このような構成によれば、対物レンズにコイルを直接設けるのではなく、対物レンズとは別体の基板の表面にコイルや透光層を設けるために、コイルの形成や透光層の形成に際して種々の便宜が図れることとなる。たとえば、対物レンズと比較すると基板の取り扱いは容易であるから、基板表面へのコイルの形成作業などは、対物レンズに直接コイルを形成する場合よりも容易なものにすることが可能であり、生産能率を高めることも可能となる。
【００１８】
この場合においても、対物レンズに入射したレーザ光が基板に形成されたコイルの透光部を出射するまで一貫して透光性材料内を通過している点、基板の表面に形成されるコイルは、パターン形成されているのであって、その厚みは、コイルブロックに比較して圧倒的に薄状である点は、第１の側面に係る光学ヘッドと同様であり、したがって、この第２の側面に係る光学ヘッドにおいても、基本的に第１の側面に係る光学ヘッドについて述べたのと同様の利点を享受することができる。
【００１９】
本願発明の他の好ましい実施の形態においては、上記基板には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記基板の表面上またはこの表面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００２０】
このような構成によれば、コイルが表面に形成されている基板と光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材などを嵩張った状態に設けることなく、複数の導体部を利用してコイルへの電力供給を適切に行うことができる。したがって、コイルを光磁気ディスクに接近させて、記録層に強い磁界を作用させるのに有利となる。
【００２１】
本願発明の他の好ましい実施の形態においては、上記移動体には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記移動体のうち上記光磁気ディスクに対向する面またはこの面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている。
【００２２】
このような構成によれば、移動体と光磁気ディスクとの間、あるいはコイルと光磁気ディスクとの間に、配線部材などを嵩張った状態に設ける必要なく、コイルへの電力供給を適切に行うことができる。このため、コイルを光磁気ディスクに接近させるのにやはり有利となる。
【００２３】
本願発明のその他の特徴および利点については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかになるであろう。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２５】
図１は、本願発明が適用される光磁気記録・再生装置の一例の全体構成図である。図２は、図１の要部断面図であり、本願発明に係る光学ヘッドの一例を示している。図３は、図２に示す光学ヘッドの要部拡大断面図である。図４は、図２および図３に示す光学ヘッドのコイルを示す底面図である。図５（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの製造工程の一例を示す断面図である。
【００２６】
まず、本願発明が適用される光磁気記録・再生装置１０の全体的な構成の一例につき、図１を参照して説明する。光磁気ディスクＤは、スピンドルＳｐに装着された状態で高速回転するようになっている。本実施形態においては、光磁気ディスクＤの記録層は、光磁気ディスクＤの上向きの表面側に位置している。光学ヘッドＨは、スライダ２を具備して構成されており、このスライダ２は、サスペンションアームＳａを介してアームＡの先端に支持されている。アームＡは、スライダ２を光磁気ディスクＤの記録層に対面させてその半径方向に移動させうるように一定方向に進退移動可能であり、その進退移動の駆動源としては、たとえば直進ボイスコイルモータなどのリニアアクチュエータＡｃが用いられる。アームＡの先端にはミラーＭも設けられており、このミラーＭには固定モジュールＳＭからレーザ光が照射されるようになっている。固定モジュールＳＭは、レーザ発光部、検出器、コリメータ光学素子などを内蔵するものである。
【００２７】
スライダ２は、本願発明でいう移動体の一例に相当するものであり、たとえば全体が略ブロック状とされた樹脂成形品である。このスライダ２は、光磁気ディスクＤの回転停止時には、光磁気ディスクＤの表面に接触するようにサスペンションアームＳａによって支持されているものの、光磁気ディスクＤの高速回転時には光磁気ディスクＤとの間に形成される流体くさびの圧力上昇により、光磁気ディスクＤの表面から僅かな間隙を隔てて浮上するようになっている。図２によく表れているように、このスライダ２には、第１の対物レンズ３、第２の対物レンズ４、コイル５、透光層６、および一対の電極７が搭載されている。
【００２８】
第１の対物レンズ３は、第２の対物レンズ４のみを用いる場合よりも光学ヘッドＨの光学系の開口数ＮＡを高めるために設けられたものである。対物レンズを複数個用いれば、光学ヘッドＨの光学系の開口数を高めることが容易となり、これにより光磁気ディスクＤの記録密度を高めることが可能となる。第１の対物レンズ３は、スライダ２の上面部の凹部２１に嵌入されるなどしてミラーＭの直下に配されている。固定モジュールＳＭから出力されてミラーＭによって反射されたレーザ光は、この第１の対物レンズ３に入射し、この第１の対物レンズ３によってある程度集束されてから次の第２の対物レンズ４に向けて進行するようになっている。サスペンションアームＳａは、第１の対物レンズ３を避けるようにしてスライダ２を支持している。
【００２９】
第２の対物レンズ４は、第１の対物レンズ３を通過してきたレーザ光をさらに集束させることにより、光磁気ディスクＤの記録層上にレーザスポットＬｓを形成するものであり、スライダ２の孔部２２内に嵌入されるなどして第１の対物レンズ３の直下に装着されている。この第２の対物レンズ４は、上向きのレンズ面４０ａが球面状の凸面であるのに対し、下向きのレンズ面４０ｂは平面状とされている。
【００３０】
一対の電極７は、本願発明でいう導体部の一例に相当するものであり、たとえば導電性の良好な銅などの金属板によって形成されている。これら一対の電極７は、第２の対物レンズ４の平面状に形成された２つの側面４０ｃ，４０ｄに接着されていることにより、第２の対物レンズ４の厚み方向（光軸Ｏａ方向）に延びている。図３によく表れているように、各電極７の下端面７０は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂと略面一状の平面とされている。
【００３１】
コイル５は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂおよび各電極７の下端面７０上に導体の薄膜をパターン形成することによって構成されたものである。このような導体のパターン形成は、金属層をスパッタリングあるいは蒸着によって形成した後、フォトリソグラフィー技術によって不要部分を除去するという手法によって形成されるのであり、したがって、このコイル５は、その厚みが数μｍ〜数十μｍ程度の極薄状に形成される。図４によく表れているように、このコイル５は、複数条のコイル線素５０をレンズ面４０ｂ上において第２の対物レンズ４の光軸Ｏａを中心とする略同心円状に形成するとともに、それら略同心円状の複数条のコイル線素５０どうしを２本の引き出し配線部５１に並列接続したものである。このコイル５は、光軸Ｏａに対応した透光部５５をもついわゆる空心タイプのコイルとして形成されている。図３から理解されるように、第２の対物レンズ４内に入射したレーザ光は、レンズ面４０ｂの付近ではかなり小さな径に集束されるが、本願発明では、上述したように、コイル５そのものが極薄状であるため、このレーザ光が通過する経路となるコイル５の透光部５５をかなり小径にすることが可能である。これは、コイル５によってレーザスポットＬｓ近辺に発生させる磁界を強くするのに有利となる。図４に示すように、２本の引き出し配線部５１の各端部５１ｂは、一対の電極７の各下端面７０上に重なって設けられていることにより、それら一対の電極７と導通接触している。したがって、一対の電極７を利用することにより、コイル５に磁界発生用の電力供給を行うことが可能である。図２によく表れているように、スライダ２には、たとえば配線ガイド用の切り欠き孔２０が設けられており、この切り欠き孔２０に配線部材７９を通すことにより、スライダ２の上方から各電極７に対してコイル駆動用の電力供給が行えるように構成されている。
【００３２】
透光層６は、第２の対物レンズ４と同等もしくは略同等の屈折率をもつたとえば透明ガラス等でできた薄膜層であり、コイル５の全体を覆うようにレンズ面４０ｂと各電極７の下端面７０との略全面上にスパッタリング等によって形成されている。これにより、コイル５の透光部５５は透光層６によって塞がれている。
【００３３】
上記した一対の電極７、コイル５および透光層６を備えた第２の対物レンズ４は、次のようにして製造することができる。まず、図５（ａ）に示すように、第２の対物レンズ４を複数個製造する。各第２の対物レンズ４は、たとえば球状ガラスをカッティングすることによって製造することができる。次いで、同図（ｂ）に示すように、複数個の第２の対物レンズ４を列状に並べてから、それらの側面４０ａ，４０ｂに電極７の原型となる比較的長寸法の導電部材７’を接着し、その後同図（ｃ）に示すように、導電部材７’を適当な長さの電極７とするように切断する。この切断後には、必要に応じて電極７の下端面７０や第２の対物レンズ４の最終研磨を行う。このようにして電極７を備えた複数の第２の対物レンズ４が得られた後には、各第２の対物レンズ４や電極７の一端面７０上に、たとえば蒸着やスパッタリング、あるいはフォトリソグラフィー技術を組み合わせた薄膜導体パターン形成技術によって導体の薄膜形成を行うことにより、コイル５をパターン形成する。コイル５の各引き出し配線部５１の端部５１ｂを電極７の下端面７０に導通接触させる場合、オーミックコンタクトをうることが可能である。その後は、たとえばスパッタリングによって透明ガラスの薄膜形成を行い、透光層６を設ければよい。このような薄膜形成によるコイル５の製造や透光層６の形成作業は、一般の半導体製造のための設備を有するメーカであれば、特別な設備を別途準備することなく、容易に行うことが可能である。
【００３４】
次に、上記構成の光学ヘッドＨの作用について説明する。
【００３５】
光磁気ディスクＤへのデータ記録またはデータ再生を行うときには、上述した流体くさびの圧力作用を利用することにより、図３に示すように、高速回転している光磁気ディスクＤ上にスライダ２を浮上させる。光磁気ディスクＤの表面と透光層６の表面との間の間隔ｓ１は、たとえばμｍオーダまたはサブμｍオーダの微小間隔とする。コイル５への電力供給は、既述したとおり、一対の電極７に接続した配線部材７９を介してスライダ２の背面側（上面側）から行うことができ、透光層６やコイル５の表面部分に金線などの嵩高い配線部材を設ける必要はない。このため、透光層６と光磁気ディスクＤとの間を微小間隔にすることができるのである。このようにすれば、光磁気ディスクＤの表面上のレーザスポットＬｓにコイル５を近づけることができ、レーザスポットの形成個所に作用する磁界の強さを強くすることが可能となる。
【００３６】
次いで、レーザ光についての作用を考察してみると、まず第１の対物レンズ３を通過して第２の対物レンズ４内に進行したレーザ光は、透光層６によって塞がれたコイル５の透光部５５を通過してから光磁気ディスクＤに向けて進行する。ただし、透光層６は、第２の対物レンズ４と屈折率が同一または略同一の材質であるから、レーザ光が第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂから透光層６内に進行する際に大きく屈折することはない。レーザ光は、透光層６から光磁気ディスクＤに向けて出射する時点で屈折率が大きく異なる空気中を進行することとなるため、その時点で大きく屈折することとなる。
【００３７】
図６（ａ）は、本願発明についての作用説明図であり、同図（ｂ）は、本願発明との対比例を示す作用説明図である。同図（ｂ）に示すように、第２の対物レンズ４と光磁気ディスクＤとの間に寸法ｓ２の隙間（空気層）が存在する場合には、第２の対物レンズ４を通過したレーザ光は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂの入射角ｉよりも大きな出射角ｒのまま寸法ｓ２の全範囲を進行する。これに対し、同図（ａ）に示すように、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂに重ねて透光層６を形成している場合には、透光層６の表面と光磁気ディスクＤとの間の寸法ｓ３を寸法ｓ２よりも小さくし、透光層６から出射角ｒで出射したレーザ光の進行距離を、同図（ｂ）の場合よりも短くできる。同図（ａ）に示す構成においては、レーザ光が大きな角度ｒで屈折する個所を、レンズ面４０ｂやコイル５の位置よりも光磁気ディスクＤ寄りの位置に設定することができるのである。このため、同図（ｂ）に示す構成においては、第２の対物レンズ４の表面におけるレーザ光の集束径Ｄｂが大きく、このレーザ光を空気層においてさらに大きな割合で集束させる必要があるのに対し、同図（ａ）に示す構成においては、透光層６の表面におけるレーザ光の集束径Ｄａを予め充分に小さくしておくことが可能となり、その分だけ同図（ａ）に示す構成の方が、コイル５そのものが薄状化されていることとあいまって、コイル５の最小径を著しく小径化することができる。また、同図（ａ）に示す構成では、透光層６と光磁気ディスクＤとの間の微小寸法ｓ３を規定すればよく、スライダ２の浮上寸法もμｍオーダ、あるいはサブμｍオーダとする場合のフォーカッシングが容易となる。なお、図６（ａ），（ｂ）のいずれの場合においても光磁気ディスクＤの表面に対するレーザ光の集束角が同一であることから理解されるように、本実施形態の光学ヘッドＨにおいて光学系の開口数が小さくなるといった不具合はない。
【００３８】
図７ないし図１１は、本願発明の他の実施形態を示している。なお、図７以降の図においては、先の実施形態と同一または類似の要素には、先の実施形態と同一符号を付している。
【００３９】
図７に示す構成においては、一対の電極７を第２の対物レンズ４の同一の側面４０ｃに並べて設けており、これら一対の電極７にコイル５を導通接続させている。このような構成によれば、一対の電極７が互いに接近して設けられているために、各電極７への配線作業を一層容易にすることができる。また、図１ないし図４に示した先の実施形態の場合よりもコイル５の２本の引き出し配線部５１を短くし、コイルのパターン形状を合理的なものにすることができる。
【００４０】
図８に示す構成においては、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂの端縁部分から側面４０ｃおよび側面４０ｄのそれぞれにわたって２つの導体膜７Ａを設けている。これら２つの導体膜７Ａは、先の一対の電極７と同様に、本願発明でいう導体部の具体例に相当するものである。各導体膜７Ａのうち、レンズ面４０ｂ上に位置する部分には、コイル５が２本の引き出し配線部５１を介して導通接続されている。各導体膜７Ａをたとえばスパッタリングにより薄膜状に形成すれば、コイル５をその後パターン形成する場合に、２本の引き出し配線部５１の各端部５１を各導体膜７Ａ上に適切に積層させることができ、やはりオーミックコンタクトをうることができる。このような構成によれば、先の実施形態の場合と同様に、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂを避けた位置から２つの導体膜７Ａを介してコイル５に駆動電力を供給することができ、透光層６を光磁気ディスクに接近させることが適切に行える。このように、本願発明においては、コイル５への電力供給に利用される導体部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。もちろん、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂとそれ以外の面とにパッド状などの電極を設けるとともに、これらの電極どうしをスルーホールによって導通接続させるような手段を用いることもできる。
【００４１】
図９に示す構成においては、コイル５を構成する各コイル線素５０の表面と透光層６の表面とを面一状にしている。このような構成によれば、コイル５と透光層６とのそれぞれを、光磁気ディスクの表面から同等距離になるように光磁気ディスクに接近させることができ、コイル５によって発生される磁界を光磁気ディスクに強く作用させるのにより好適となる。このように、本願発明においては、透光層６は必ずしもコイル５の全体を覆うように形成されていなくてもかまわない。透光層６は、要は、コイル５の透光部５５を塞ぐように形成されていればよい。したがって、本願発明においては、コイル５の透光部５５以外の部分には透光層６が形成されていない構成とすることもできる。また、コイル５の透光部５５の全体が透光層６によっ塞がれておらず、レーザ光の進行経路となる透光部５５の一部の領域のみが透光層６によって塞がれた構成とされていてもかまわない。ただし、コイル５の全体を透光層６によって覆ったり、あるいはコイル５を構成する導体どうしの隙間に透光層６が介在すれば、コイル５を保護することができる利点が得られる。
【００４２】
図１０に示す構成においては、２層のコイル５，５ａを備えた構成とされている。このような構成によれば、強い磁界を発生させるのにより有利となる。このように、本願発明においては、コイルを２層に設けてもよく、さらにはそれ以上の多層状に設けてもかまわない。
【００４３】
図１１に示す構成においては、コイル５Ａが、１条のコイル線素５０を渦巻き状に形成した構造を有している。渦巻き状のコイル線素５０の中央部に位置する一端部５０ａは、コイル線素５０とは異なる面に形成された配線部５８や、この配線部５８の両端に導通したスルーホール５９ａ，５０ｂを介して、２本の引き出し配線部５１ｃの一方と接続されている。このように、本願発明においては、コイルとしては渦巻き状の構造のものを採用してもよく、その具体的な構成は種々に設計変更である。
【００４４】
図１２は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。図１３は、図１２の上下反転分解斜視図である。
【００４５】
図１２および図１３に示す構成においては、第２の対物レンズ４にコイル５や透光層６を直接設けておらず、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂに接合された基板８の表面に、コイル５や透光層６を設けている。この場合も、コイルは金属薄膜をパターン形成するのであり、その厚みは極薄状であることに変わりはない。もちろん、透光層６は、コイル５の透光部５５を塞ぐよう設けられているのであり、この透光層６の厚みも、コイルの厚みと対応した薄状である。
【００４６】
基板８は、たとえば第２の対物レンズ４と同様な材質の透明ガラス製である。第２の対物レンズ４と基板８との接合は、たとえば基板８の裏面と第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂとを高精度な平滑面に仕上げてから接触させることによって行われている。互いに接触する２つの面がいわゆる完全平面である場合には、それらの部材の分子間力を利用して密に接着させることができ、オプティカルコンタクト（光の通過を補償するコンタクト）が可能である。ただし、本願発明はこれに限定されず、たとえば透光性を有する接着剤を利用して基板８をレンズ面４０ｂに接着させてもかまわない。
【００４７】
基板８には、本願発明でいう導体部の具体例としての一対の電極７Ｂが設けられている。これら一対の電極７Ｂは、基板８をその厚み方向に貫通して設けられており、その上端部は基板８の上面側（裏面側）に突出している。各電極７Ｂの下端面７０ｂは、基板８の表面と略面一である。この下端面７０ｂには、コイル５が導通接続されるように、その引き出し配線部５１の端部５１ｂが重なって設けられている。したがって、各電極７Ｂの上端部に配線接続を行うことにより、基板８の上面側からコイル５に電極を供給することができる。基板８の表面側にコイル５への配線部材を嵩張って設ける必要はなく、基板８の表面と光磁気ディスクＤとの間隙を微小にすることができる。
【００４８】
上記した構成の基板８を備えた第２の対物レンズ４は、コイル５や透光層６を有する基板８を製造した後に、この基板８を第２の対物レンズ４に接合させることにより製造することができる。コイル５や透光層６を有する基板８は、第２の対物レンズ４の製造工程とは別工程によって大量生産することができるために、多数の第２の対物レンズ４の１つずつにコイル５や透光層６を直接設けてゆく場合と比較すると、その生産能率を高めることが可能となる。また、コイル５は、基板８の表面上に形成するために、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂよりも大径に形成し、その巻き数を多くすることが可能であるから、第２の対物レンズ４が小径の場合において強い磁界を発生させるのにも便利となる。
【００４９】
上記した構成においては、第２の対物レンズ４内に進行したレーザ光は、基板８およびコイル５の透光部５５を塞ぐ透光層６を通過してから光磁気ディスクＤに到達する。しかし、第２の対物レンズ４、基板８、および透光層６のそれぞれの屈折率は同一または略同一であるから、これらの各境界部分においてレーザ光が大きく屈折することはない。レーザ光は、光磁気ディスクＤに近い透光層６の表面から光磁気ディスクＤと透光層６との間隙の空気中に出射した時点で大きく屈折することとなる。したがって、図６（ａ），（ｂ）を参照して説明したのと同様の利点を享受することができる。
【００５０】
本願発明においては、上記したように基板８を用いる場合に、一対の電極７Ｂを基板８に設ける手段に代えて、たとえば図１４および図１５に示すような手段を採用してもかまわない。図１４に示す手段においては、スルーホール７７を含む導体膜７Ｃが基板８に設けられており、この導体膜７Ｃの一部が基板８の裏面側に位置するとともに、導体膜７Ｃの他の部分が基板８の表面側に位置してコイル５と導通接触している。図１５に示す手段においては、基板８の表面から基板８の側面を経由して基板８の裏面に到る導体膜７Ｄが設けられている。これら図１４および図１５のいずれの手段においても、導体膜７Ｃまたは７Ｄを利用してコイル５への電力供給を基板８の裏面側（上面側）から行うことができる。なお、上記基板８は、スライダとして利用するとも可能である。
【００５１】
図１６は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。図１７は、図１６に示すスライダを底面側から見た要部斜視図である。
【００５２】
図１６および図１７に示す構成においては、スルーホール７８を含む一対の導体膜７Ｅがスライダ２に設けられている。各導体膜７Ｅの上下部は、スライダ２の上面部または下面部に位置するパッド状の電極部７８ａ，７８ｂとして形成されている。コイル５は、第２の対物レンズ４のレンズ面４０ｂ上に設けられているが、その引き出し配線部５１は電極部７８ｂまで延びていることにより、電極部７８ｂに導通接続されている。透光層６は、コイル５の全体を覆うようにスライダ２の下面とレンズ面４０ｂ上とに形成されている。
【００５３】
上記構成においては、各導体膜７Ｅの電極部７８ａに適当な電気配線接続を行うことにより、スライダ２の上方からコイル５に駆動電力を供給することができる。このように、本願発明においてはスライダ２に導体部を設けることによってコイル５への電力供給を行ってもかまわない。なお、上記構成において、各導体膜７Ｅに代えて、図１２に示したような形態の電極や、図１５に示したような形態の導体膜をスライダ２に設ける手段を用いてもよいことは勿論である。
【００５４】
図１８は、本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【００５５】
同図に示す構成においては、スライダ２の孔部２２の底部に、第２の対物レンズ４を受ける支持部２８が形成されており、かつこの支持部２８の下面を含むスライダ２の下面にコイル５が形成されている。支持部２８の中央部には、レーザ光を通過させるための孔部２８ａが設けられており、この孔部２８ａとコイル５の透光部５５とが透明物質によって一連に塞がれるようにして透光層６がスライダ２の下面上に形成されている。このように、本願発明においては、コイル５をスライダ２の一部分に設けることも可能である。もちろん、スライダ２以外の不透明な部材上にコイル５を設けてから、その不透明な部材をスライダ２に取り付けるといった手段を採用することもできる。
【００５６】
本願発明に係る光学ヘッドの各部の具体的な構成は、上述の実施形態に限定されるものではない。
【００５７】
本願発明でいう移動体は、スライダに限定されず、たとえば２次元アクチュエータによって光磁気ディスクの表面に沿って移動可能に構成されたホルダのような構成の他の部材であってもかまわない。したがって、本願発明に係る光学ヘッドは、光磁気ディスクの上方からデータ記録・再生を行うものに限らず、光磁気ディスクの下方からデータ記録・再生を行うタイプの光学ヘッドとして構成することもできる。ただし、光磁気ディスクに対する浮上安定性の高いスライダを用いれば、フォーカスサーボ検出系を無くすことが可能であり、光磁気ディスクからの反射光をフォーカスサーボ検出系に送信する必要がなくすことができる分だけ、光磁気信号検出系に送られる光量を多くすること可能となるため、光磁気信号中に占めるノイズ成分の割合を少なくすることができるという利点が得られる。
【００５８】
また、上述の実施形態においては、２つの対物レンズを用いているために、光学系の開口数を大きくする上で好ましいが、やはり本願発明はこれに限定されない。本願発明においては、対物レンズを１つのみ用いた場合にも適用できることは言うまでもない。
【００５９】
さらに、本願発明においては、透光性を有する物質としては、対物レンズと屈折率が同一または略同一のものを用いることが好ましいものの、やはり本願発明はその具体的な材質は特定されない。本願発明においては、たとえば透明な合成樹脂を用いることもできる。
【００６０】
【発明の効果】
以上の説明のように、本願発明によれば、対物レンズを通過したレーザ光がコイルの透光部を通過する以前に空気中に進行しないようにすることができ、光磁気ディスクの記録層に対してレーザ光が大きな入射角で入射するように進行する距離を、従来の光学ヘッドよりも短くすることが可能となる。そして、コイルがパターン形成されたものであるために薄状である。その結果、スライダをμｍオーダあるいはサブμｍオーダで光磁気ディスクから浮上させる場合において、そのフォーカッシングが容易に行なえるとともに、コイルの最小径を著しく小径化して、小電流によって十分な外部磁界を光磁気ディスクのレーザスポットに生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明が適用される光磁気記録・再生装置の一例の全体構成図である。
【図２】図１の要部断面図であり、本願発明に係る光学ヘッドの一例を示している。
【図３】図２に示す光学ヘッドの要部拡大断面図である。
【図４】図２および図３に示す光学ヘッドのコイルを示す底面図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの製造工程の一例を示す断面図である。
【図６】（ａ）は、本願発明についての作用説明図であり、（ｂ）は、本願発明との対比例を示す作用説明図である。
【図７】コイルおよび導体部の他の例を示す要部底面部である。
【図８】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図９】コイルの他の例を示す要部断面図である。
【図１０】コイルの他の例を示す要部断面図である。
【図１１】コイルの他の例を示す平面説明図である。
【図１２】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１３】図１２の上下反転分解斜視図である。
【図１４】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図１５】導体部の他の例を示す要部断面図である。
【図１６】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１７】図１６に示すスライダを底面側から見た要部斜視図である。
【図１８】本願発明の他の例を示す要部断面図である。
【図１９】従来の光学ヘッドの要部拡大図である。
【図２０】図１９に示す光学ヘッドの作用説明図である。
【符号の説明】
Ｄ 光磁気ディスク
Ｈ 光学ヘッド
２ スライダ（移動体）
４ 第２の対物レンズ（対物レンズ）
５ コイル
６ 透光層
７ 電極（導体部）
５１ 引き出し配線部
５５ 中心孔（コイルの）
Claims (8)
- 光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、
上記コイルは、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記レンズ面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴とする、光学ヘッド。 - 上記透光性物質は、上記対物レンズの屈折率と同一もしくは略同一の屈折率をもっている、請求項１に記載の光学ヘッド。
- 上記対物レンズには、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記レンズ面上または上記レンズ面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている、請求項２に記載の光学ヘッド。
- 光磁気ディスクに対向してその半径方向に移動可能な移動体を有しているとともに、この移動体には、上記光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光軸に対応した透光部をもち、かつ上記対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するように設けられたコイルと、が搭載されている、光学ヘッドであって、
上記対物レンズの上記光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板を具備しており、かつ上記コイルは、上記基板の表面に１層または複数層状にパターン形成された導体により構成されているとともに、上記基板の表面上に堆積して膜状に形成された透光性物質によって被覆されており、かつ上記コイルの透光部は上記透光性物質によって形成されていることを特徴とする、光学ヘッド。 - 上記基板には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記基板の表面上またはこの表面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている、請求項４に記載の光学ヘッド。
- 上記移動体には、上記コイルに通電を行うための複数の導体部が設けられており、かつ上記各導体部の一部は、上記移動体のうち上記光磁気ディスクに対向する面またはこの面と略面一状となる位置に配されていることにより上記コイルに導通接続されている、請求項２または４に記載の光学ヘッド。
- 光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズと上記光磁気ディスクとの間に位置するようにして、上記対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面にレンズの光軸面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されていることを特徴とする、光学ヘッド。
- 光磁気ディスクに対向し、この光磁気ディスク上にレーザスポットを形成するようにレーザ光を集束する対物レンズと、この対物レンズの光磁気ディスク寄りのレンズ面に裏面が接合された透光性を有する基板と、この基板表面における上記対物レンズの光軸対応面部を明けてこれを取り囲むように所定のパターンで一体的に形成された導体よりなる磁界印加用のコイルとを有し、かつ、上記コイル導体が上記光軸対応面部を含めて透光性の絶縁膜で略面一に被覆されていることを特徴とする、光学ヘッド。
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