JP2000215539A - 光学素子、記録及び／又は再生装置、並びに光学素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高ＮＡ化を実現するとともに、低消費電力で
効率よく光学記録媒体の光磁気記録層に磁界を印加し、
またコイルの断線等を抑制する。 【解決手段】 光磁気ヘッド２５は、光磁気ディスク２
の光磁気記録層２ａに照射する光を収束させるレンズ４
１，４２と、レンズ４１上のコイル支持基板４４ａ上の
光磁気ディスク２に対向する側に配置されている磁界発
生素子であるコイル部４６とを備えている。そして、レ
ンズ４１上のコイル支持基板４４ａには、コア部４６が
配設されている後退部４４ｃから光磁気ディスク２側に
向かって光の出射面４４ｄが突出してなる突起部４４ｂ
が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク等の光記
録媒体に対して情報信号の記録又は再生を行う記録及び
／又は再生装置に用いられる光学素子、この光学素子を
用いた記録及び／又は再生装置、並びに光学素子の製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁界変調方式により、記録媒体である光
磁気ディスクに対して情報信号の記録、再生を行う記録
及び／又は再生装置（以下、光ディスク装置という。）
として、光磁気ディスクの光磁気記録層側に光学系を配
して高ＮＡ化を図ることにより高密度記録を実現し、光
学系と磁気コイルを一体化することにより装置の薄型化
を実現した光ディスク装置が提案されている。

【０００３】この光ディスク装置は、対物レンズとして
図１５に示すような２つのレンズを有する光学素子１０
０を用いている。

【０００４】この光学素子１００は、２つのレンズの内
光磁気ディスク１０１側のレンズ（以下、この光磁気デ
ィスク１０１側のレンズを先玉レンズ１０２、他方のレ
ンズを後玉レンズ１０３という。）が半球レンズからな
り、先玉レンズ１０２の円形平面１０２ａ上に磁界変調
用のコイル部１０４が形成されている。

【０００５】そして、この光学素子１００は、光源から
出射されて光学素子１００に入射した光が、後玉レンズ
１０３及び先玉レンズ１０２により収束され、コイル部
１０４の中心孔１０４ａを通過して光磁気ディスク１０
１の光磁気記録層に照射されるようになっている。

【０００６】また、この光学素子１００は、コイル部１
０４が所定の装置から供給される記録信号に対応する磁
界を発生して、光磁気ディスク１０１の光磁気記録層の
光が照射される位置にこの磁界を印加するようになって
いる。

【０００７】されに、近年において、光ディスクの高密
度化のために、ニアフィールド光記録技術により、高Ｎ
Ａ化を図り高密度記録を実現しようとする試みが提案さ
れている。ニアフィールド光記録技術を実現するために
は、光学レンズと記録媒体の距離を光学的コンタクト状
態に保つことが必要となる。

【０００８】そこで、Terris et al.,Appl.Phys.Lett.6
5(4),p388-p390,25 July,1994あるいはTerris et al.,A
ppl.Phys.Lett.68(２),p141-p143,8 January,1996で
は、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）の浮上型スライ
ダー技術を応用した光記録が試みられている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の技術の光ディスク装置に用いられる光学素子１００
においては、高ＮＡ化を実現するとともに、低消費電力
で効率よく光磁気ディスク１０１のに光磁気記録層に磁
界を印加するために、コイル部１０４の中心孔１０４ａ
の径が小さく設定されることが望まれるが、上述した光
学素子１００は、このコイル部１０４の中心孔１０４ａ
の径を小さくすることが困難であった。

【００１０】すなわち、光学素子１００のコイル部１０
４が、先玉レンズ１０２の光磁気ディスク１０１に対応
する側に配されていると、コイル部１０４の厚み分だけ
先玉レンズ１０２と光磁気ディスク１０１の表面との間
の距離を大きくすることが必要となるが、先玉レンズ１
０２と光磁気ディスクの表面との間の距離が大きい場
合、光学素子１００は、高ＮＡ化を実現するためには、
コイル部１０４の中心孔１０４ａを径を大きくする必要
が生じる。

【００１１】すなわち、コイル部１０４の中心孔１０４
ａの径ｄは、（１）式で示すように、先玉レンズ１０２
と光磁気ディスク１０１との間の距離Ｌに依存する。

【００１２】 ｄ≧２（ｔ×tanθ₁＋Ｌ×tanθ₂） ・・・（１） ここで、θ₁は光磁気ディスク１０１の光磁気ディスク
層１０５側に設けられたカバーガラス１０６を透過した
光が、光磁気記録層１０５に照射される際の入射角を示
し、θ₂はカバーガラス１０６に入射する光の入射角を
示している。そして、ｔはカバーガラス１０６の厚さを
示し、高ＮＡ化を実現するために、所定の値に設定され
ている。入射角θ₁、θ₂は、（２）式及び（３）式で表
される。

【００１３】 θ₁＝sin^-1（NA／ｎ_s） ・・・（２） θ₂＝sin^-1（NA） ・・・（３） なお、ｎ_sは、カバーガラスの屈折率を示している。例
えば、高ＮＡ化を実現するために、入射角θ₁は３４°
程度とされ、入射角θ₂は５８°程度とされている。

【００１４】以上説明したように、コイル部１０４の厚
み分先玉レンズ１０２と光磁気ディスク１０１との間の
距離Ｌを大きくしなくてはならないため、コイル部１０
４の中心孔１０４ａの径が大きくなってしまう。

【００１５】しかし、コイル部１０４の中心孔１０４ａ
の径が大きくなると、記録時に必要な磁界を発生させる
ために、コイル部１０４に非常に大きな電流を供給しな
ければならず、消費電力が増加するばかりか、コイル部
１０４における発熱が大きくなり、コイル部１０４の断
線等を招いてしまう場合がある。

【００１６】本発明は、上述した実情の鑑みてなされた
ものであり、高ＮＡ化を実現するとともに、低消費電力
で効率よく光学記録媒体の光磁気記録層に磁界を印加
し、またコイルの断線等を抑制する光学素子、この光学
素子を用いた記録及び／又は再生装置、並びにこの光学
素子の製造方法を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光学素子
は、上述の課題を解決するために、光学記録媒体の光磁
気記録層に照射される光を収束させるレンズと、レンズ
の光学記録媒体に対向する側に配置されている磁界発生
素子とを備えている。そして、レンズは、磁界発生素子
が配設されている配設面から光学記録媒体側に向かって
光の出射面が突出してなる突出出射部を有している。

【００１８】このような構成を有する光学素子は、突出
出射部の光学記録媒体に対向される面に出射面を設けて
いることにより、配設面の磁界発生素子の形状を小型化
することができる。

【００１９】また、本発明に係る記録及び／又は再生装
置は、上述の課題を解決するために、光学記録媒体の光
磁気記録層に照射される光を収束させるレンズ及びこの
レンズの光学記録媒体に対向する側に配置されている磁
界発生素子を有し、光源から出射させる光の光路上に配
される光学素子とを備えている。そして、レンズは、記
磁界発生素子が配設されている配設面から光学記録媒体
側に向かって光の出射面が突出してなる突出出射部を有
している。

【００２０】このような構成を有する記録及び／又は再
生装置は、突出出射部の光学記録媒体に対向される面に
出射面を設けていることにより、配設面の磁界発生素子
の形状を小型化することができる。

【００２１】また、本発明に係る光学素子の製造方法
は、上述の課題を解決するために、光学記録媒体の光磁
気記録層に照射される光を収束させるレンズと、レンズ
の上記光学記録媒体に対向する側に配置されている磁界
発生素子とをからなる光学素子の製造方法であって、レ
ンズの光学記録媒体に対向される面に、光の出射面を設
けてなる突出出射部と、突出出射部の周囲の後退部に上
記磁界発生素子を配設する配設部とを形成する。

【００２２】このような光学素子の製造方法により、光
学素子は、光学記録媒体に対向される面に突出した出射
面が設けられ、突出出射部周囲の配設面の磁界発生素子
の形状が小型化されたものとなる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。本実施の形態は、光学
記録媒体である光磁気ディスクに対するデータの記録及
び／又は再生を行う記録及び／又は再生装置（以下、光
ディスク装置という）に適用したものである。

【００２４】この光ディスク装置は、図１に示すような
構成からなる光磁気ヘッド部２５を有している。図２に
示す光ディスク装置１は、この光磁気ヘッド部２５によ
り光磁気ディスク２に対する情報信号の記録及び再生を
行っている。

【００２５】光磁気ヘッド部２５は、図１に示すよう
に、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射する光
を収束させる対物レンズを構成するレンズ４１，４２及
びコイル支持基板４４ａと、レンズ４１上のコイル支持
基板４４ａ上の光磁気ディスク２に対向する側に配置さ
れている磁界発生素子であるコイル部４６とを備えてい
る。そして、レンズ４１上のコイル支持基板４４ａに
は、コア部４６が配設されている後退部４４ｃから光磁
気ディスク２側に向かって光の出射面４４ｄが突出して
なる突起部４４ｂが設けられている。コイル支持基板４
４ａの形状について換言すれば、コイル部４６が設けら
れる部分が、光の出射面４４ｄよりも後退し、当該出射
面４４ｄを含む突起部４４ｂが形成された形状とされて
いる。

【００２６】光ディスク装置１は、このような構成から
なる光磁気ヘッド部２５により、高ＮＡ化を実現すると
ともに、低消費電力で効率よく光磁気ディスク２の光磁
気記録層２ａに磁界を印加することができる。

【００２７】図２には、光ディスク装置１の具体例を示
している。光ディスク装置１は、この図２に示すよう
に、光磁気ディスク２を回転駆動させるスピンドルモー
タ３と、このスピンドルモータ３により回転駆動される
光磁気ディスク２に対して所定の信号を記録するととも
にこの光磁気ディスク２に記録された信号を読み取って
ＭＯ再生信号及び制御信号を生成するための受光信号を
出力するヘッド４と、ヘッド４から出力された受光信号
を入力して制御信号を生成する制御信号生成部５と、制
御信号生成部５から供給される制御信号に基づいてヘッ
ド４を光磁気ディスク２の径方向又は光磁気ディスク２
に接離する方向に移動させる駆動用アクチュエータ６と
を備えている。

【００２８】スピンドルモータ３は、図示しない電源に
接続されており、この電源から駆動電流が供給される
と、保持した光磁気ディスク２を所定の速度で回転駆動
させる。

【００２９】ヘッド４は、図示しない所定の装置から記
録信号が供給されると、光磁気ディスク２の光磁気記録
層２ａに光を照射させるとともに、記録信号に応じた磁
界を発生して、光磁気記録層２ａの光が照射された箇所
に、所定の信号を記録する。また、ヘッド４は、光磁気
ディスク２の光磁気記録層２ａに光を照射させ、その戻
り光を検出することにより、光磁気ディスク２に記録さ
れたデータを読み取ってＭＯ再生信号として出力すると
ともに、受光信号を制御信号生成部５に供給する。

【００３０】制御信号生成部５は、フォーカスマトリッ
クス回路８と、トラッキングマトリックス回路１１と、
位相補償回路９，１２と、アンプ７，１０，１３とを備
えている。

【００３１】フォーカスマトリックス回路８は、アンプ
７を介してヘッド４より供給された受光信号に基づいて
フォーカスエラー信号を生成し、このフォーカスエラー
信号を位相補償回路９に供給する。

【００３２】位相補償回路９は、フォーカスマトリック
ス回路８より供給されたフォーカスエラー信号の位相補
償を行い、位相補償された信号をアンプ１０を介して駆
動用アクチュエータ６に供給する。

【００３３】トラッキングマトリックス回路１１は、ア
ンプ７を介してヘッド４より供給された受光信号に基づ
いてトラッキングエラー信号を生成し、このトラッキン
グエラー信号を位相補償回路１２に供給する。

【００３４】位相補償回路１２は、トラッキングマトリ
ックス回路１１より供給されたトラッキングエラー信号
の位相補償を行い、位相補償された信号をアンプ１３を
介して駆動用アクチュエータ６に供給する。

【００３５】駆動用アクチュエータ６は、フォーカスマ
トリックス回路８から位相補償回路９及びアンプ１０を
介して供給されるフォーカスエラー信号に基づいて、ヘ
ッド４を光磁気ディスク２に接離する方向に移動させ、
フォーカシング制御を行う。また、駆動用アクチュエー
タ６は、トラッキングマトリックス回路１１から位相補
償回路１２及びアンプ１３を介して供給されるトラッキ
ングエラー信号に基づいて、ヘッド４を光磁気ディスク
２の径方向に移動させ、トラッキング制御を行う。

【００３６】ここで、ヘッド４の詳細について説明す
る。

【００３７】ヘッド４は、図３に示すように、所定のレ
ーザ光を出射する半導体レーザ２１を備え、この半導体
レーザ２１から出射されるレーザ光が、まずコリメータ
レンズ２２に入射するようになされている。

【００３８】コリメータレンズ２２は、半導体レーザ２
１から出射されるレーザ光を平行光線に整えるもので、
このコリメータレンズ２２を透過したレーザ光は、平行
光線に整えられた状態で整形プリズム２３を介して、第
１のビームスプリッタ２４に入射するようになされてい
る。

【００３９】第１のビームスプリッタ２４は、整形プリ
ズム２３からのレーザ光を、２つのレンズからなる対物
レンズと薄膜コイルとを有する光学素子（光磁気ヘッド
部）２５に向けて透過させるとともに、光磁気ディスク
２の光磁気記録層２ａで反射され、光磁気ヘッド部２５
を透過するレーザ光（戻り光）を第２のビームスプリッ
タ２６に向けて反射させるようになされている。

【００４０】光磁気ヘッド部２５は、対物レンズが、第
１のビームスプリッタ２４からのレーザ光を収束して光
磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射させるととも
に、データ記録時においては、薄膜コイルが、アンプ３
６を介して供給される記録信号に対応する強度の磁界
を、光磁気記録層２ａのレーザ光の照射位置に印加する
ようになされている。

【００４１】また、この光磁気ヘッド部２５は、光磁気
ディスク２の光磁気記録層２ａで反射されるレーザ光
（戻り光）を第１のビームスプリッタ２４に入射させる
ようになされている。第１のビームスプリッタ２４に入
射した戻り光は、上述したように第１のビームスプリッ
タ２４により反射され、第２のビームスプリッタ２６に
入射する。

【００４２】第２のビームスプリッタ２６は、第１のビ
ームスプリッタ２４により反射される戻り光を、所定の
割合で第１の集光レンズ２７に向けて反射するととも
に、１／２波長板３０を介して第２の集光レンズ３１に
向けて透過させるようになされている。

【００４３】第１の集光レンズ２７は、第２のビームス
プリッタ２６により反射される平行光線の戻り光を収束
光にし、この収束光を非点収差を与えるシリンドリカル
レンズ２８を介して、第１の光検出器２９に入射させる
ようになされている。

【００４４】第１の光検出器２９は、４分割された受光
部を有し、それぞれの受光部に入射する戻り光を電気信
号（受光信号）に変換し、上述した制御信号生成部５の
アンプ７に供給する。

【００４５】第２の集光レンズ３１は、第２のビームス
プリッタ２６から１／２波長板３０を介して供給される
平行光線の戻り光を収束光にし、第３のビームスプリッ
タ３２に入射させるようになされている。

【００４６】第３のビームスプリッタ３２は、第２の集
光レンズ３１により収束光とされた戻り光の一部を第２
の光検出器３３に向けて透過させるとともに、戻り光の
他の部分を第３の光検出器３４に向けて反射させる。

【００４７】第２の光検出器３３及び第３の光検出器３
４は、第３のビームスプリッタ３２から入射する戻り光
をその光量に対応する電気信号に変換して、それぞれ差
動アンプ３５に供給するようになされている。

【００４８】差動アンプ３５は、第２の光検出器３３か
ら供給される電気信号と第３の光検出器３４から供給さ
れる電気信号の差を計算し、その計算結果をＭＯ再生信
号として、図示しない所定の装置に供給するようになさ
れている。

【００４９】光ディスク装置１は、以上のように構成さ
れることにより、光磁気ディスク２に対して所定の情報
信号を記録し、又は光磁気ディスク２から所定の情報信
号を読み取ることが可能とされている。

【００５０】なお、この光ディスク装置１は、光磁気デ
ィスクに限らず、相変化を利用した相変化型光ディスク
や読み出し専用の光ディスク等にも対応可能である。光
ディスク装置１は、相変化型光ディスクに情報信号を記
録する場合は、ヘッド４が相変化型光ディスクの記録層
にレーザ光を照射させ、この記録層の相変化を利用して
情報信号を記録し、相変化型光ディスクから情報信号を
読み取る場合は、ヘッド４が相変化型光ディスクの記録
層にレーザ光を照射させ、記録層の状態による戻り光の
違いから再生信号を得るようにする。

【００５１】また、この光ディスク装置１は、読み出し
専用の光ディスクから情報信号を読み取る場合は、ヘッ
ド４が読み出し専用の光ディスクの信号記録層にレーザ
光を照射させ、その戻り光を検出して再生信号を得るよ
うにする。

【００５２】次に、本発明の要部であるヘッド４の光磁
気ヘッド部２５について説明する。

【００５３】この光磁気ヘッド部２５は、図１に示すよ
うに、第１のビームスプリッタ２４を透過したレーザ光
の光路上に配された２つのレンズ４１，４２を備え、こ
の２つのレンズ４１，４２が半導体レーザ２１から出射
されたレーザ光を収束する対物レンズとして構成されて
いる。なお、以下の説明においては、この２つのレンズ
の内、光磁気ディスク２側に配されたレンズを先玉レン
ズ４１、他の方のレンズを後玉レンズ４２という。

【００５４】先玉レンズ４１及び後玉レンズ４２は、と
もに使用される透過光に対して透明な白板ガラス、青板
ガラスや石英ガラス等が所定の形状に成形されており、
それぞれのレンズホルダ４３に支持されて、第１のビー
ムスプリッタ２４を透過したレーザ光の光路上に配設さ
れている。特に、先玉レンズ４１は、半球状に形成さ
れ、円形平面が光磁気ディスク２と対向するようにレン
ズホルダ４３に支持されている。なお、先玉レンズ４１
の球面形状は、後玉レンズ４２の形状や配置位置、光磁
気ディスク２の基板厚さや屈折率等に応じて、光磁気記
録層２ａに照射されるレーザ光が球面収差の影響を受け
ないように最適化されている。

【００５５】また、先玉レンズ４１及び後玉レンズ４２
は、レンズホルダ４３に支持された状態で、駆動用アク
チュエータ６により、光磁気ディスク２の径方向及び光
磁気ディスク２に接離する方向に一体に移動され、これ
によりトラッキング制御やフォーカシング制御が行える
ようになされている。なお、フォーカシング制御を行う
際は、先玉レンズ４１又は後玉レンズ４２が他方のレン
ズに対して接離する方向に移動操作され、球面収差を補
正するようになされている。

【００５６】光磁気ヘッド部２５には、先玉レンズ４１
の光磁気ディスク２側に位置して、コイル支持基板４４
ａが設けられており、先玉レンズ４１とコイル支持基板
４４ａとは固着されて構成される。

【００５７】コイル支持基板４４ａは、上述した先玉レ
ンズ４１と同一材料により形成されており、すなわち、
白板ガラス、青板ガラスや石英ガラス等のガラス材によ
り形成されている。このコイル支持基板４４ａは、略平
板状に成型されてなり、その光磁気ディスク２と対向す
る面には、出射面４４ｄを有する突起部４４ｂが設けら
れている。

【００５８】突起部４４ｂは、光磁気ヘッド部２５にお
いて光磁気ディスク２に対して光が出射される部分であ
り、また、光磁気ディスク２からの戻り光が入射される
部分とされる。突起部４４ｂは、例えば、フォトリソグ
ラフィー技術を用いて所定の径にパターニングを行い、
突起部４４ｂの周囲をイオンミリング、リアクティブイ
オンエッチング等のプラズマエッチングにより後退させ
ることにより形成されている。この突起部４４ｂの成形
方法については、後で詳しく説明する。

【００５９】そして、この突起部４４ｂの周囲の後退部
４４ｃの光磁気ディスク２と対向される主面上には、図
４及び図５に示すように、磁界発生のためのコイル部４
６が形成されている。

【００６０】コイル部４６は、コイル支持基板４４ａ上
の突起部４４ｂの周囲の後退部４４ｃの光磁気ディスク
２と対向する主面上に形成された磁性体コア４７と、こ
の磁性体コア４７上に形成されたスパイラル形状の薄膜
コイル４８を有している。ここで、薄膜コイル４８に隣
接して磁性体コア４７を設けるのは、コイル部４６の磁
界効率が高められるからである。

【００６１】磁性体コア４７は、中心孔４７ａを有して
円環上に形成されてなる。この磁性体コア４７に中心孔
４７ａは、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収
束されたレーザ光を通過させて、光磁気ディスク２の光
磁気記録層２ａに照射されるためのものであり、この中
心孔４７ａ内に、コイル支持基板４４ａと一体的に形成
された突起部４４ｂが配置されている。例えば、中心孔
４７ａの直径は、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１に
より収束されるレーザ光を透過させて、光磁気ディスク
２の光磁気記録層２ａに照射させることを要件として決
定されており、例えば、１１０μｍ程度とされる。

【００６２】磁性体コア４７の材料としては、例えばNi
-Fe合金、Co系アモルファス合金、Fe-Al-Si合金、Fe-C
合金とNi-Fe合金の積層体、Fe-Ta-N合金、Mn-Znフェラ
イト等、広範囲の材料を使用することができ、これらを
２種以上組み合わせて使用することも可能である。な
お、磁性体コア４７を導電性を有する材料により形成す
れば、この磁性体コア４７を介して薄膜コイル４８を一
方の電極に接続することが可能で、別に引き出し電極を
設けて薄膜コイル４８を一方の電極に接続する必要がな
い。したがって、磁性体コア４７を導電性を有する材料
により形成し、この磁性体コア４７を介して薄膜コイル
４８を一方の電極に接続させるようにすれば、コイル部
４６の厚みを薄くすることができ、コイル支持基板４４
ａ上の突起部４４ｂの高さを低くすることが可能であ
る。

【００６３】なお、磁性体コア４７のコイル支持基板４
４ａに対する密着性を向上させるために、コイル支持基
板４４ａの主面上にCr膜等の接着層を形成し、この接着
層を介してコイル支持基板４４ａ上の磁性体コア４７を
形成するようにしてもよい。

【００６４】薄膜コイル４８は、所定の装置から供給さ
れる記録信号に対応する磁界を発生し、この磁界を光磁
気ディスク２の光磁気記録層２ａのレーザ光が照射され
る位置に印加するもので、中心孔を有するスパイラル形
状をなすように、磁性体コア４７上に形成されている。

【００６５】この薄膜コイル４８は、例えば、Cu、Ag、
Auから選ばれる１種、あるいはこれらの内から少なくと
も１種以上を含む合金等の導電性を有する材料からな
り、磁性体コア４７上にフォトリソグラフィー技術を用
いて、中心孔を有するスパイラル形状で、所定の厚さに
メッキ成長されてなるか、あるいは、磁性体コア４７上
に所定の厚さで成膜された後に、フォトリソグラフィー
技術を用いてこの導電性を有する材料が中心孔を有する
スパイラル形状にエッチングされることにより形成され
る。

【００６６】そして、この薄膜コイル４８は、絶縁材料
からなる絶縁層４９の中に埋め込まれた形とされて保護
が図られているとともに、スパイラル形状の外周部か
ら、この薄膜コイル４８に駆動電流を供給するための一
方の電極５０ａが引き出されている。

【００６７】また、この薄膜コイル４８は、磁性体コア
４７が導電性を有する材料を用いて形成される場合は、
スパイラル形状の内周部をこの磁性体コア４７を介して
他方の電極５０ｂに接続される。

【００６８】薄膜コイル４８の保護を図るための絶縁層
４９の材料としては、例えば、レジスト材料、ポリイミ
ド、アクリル樹脂等が用いられる。そして、絶縁層４９
も薄膜コイル４８の形状に応じて中心部に中心孔が設け
られており、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により
収束されたレーザ光がこの中心孔を通過するようになさ
れている。

【００６９】この薄膜コイル４８は、光磁気ディスク２
の光磁気記録層２ａに対して略平行となるように、コイ
ル支持基板４４ａ上の磁性体コア４７上に形成されてい
る。したがって、この薄膜コイル４８を流れる電流の方
向は、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに対して略
平行となるので、薄膜コイル４８は、中心孔を貫いて光
磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに略垂直な磁界を発
生し、この磁界を光磁気記録層２ａに印加する。

【００７０】以上のように光磁気ヘッド部２５は、コイ
ル部４６の中心孔の内側であって、コイル部４６が形成
されているコイル支持基板４４ａに一体的に突起部４４
ｂが形成されているので、コイル部４６の中心孔、ある
いは磁性体コア４７の中心孔４７ａを小さくすることが
できる。

【００７１】コイル部４６の中心孔、あるいは磁性体コ
ア４７の中心孔４７ａを小さく形成することができるの
は次の理由からである。図６中（Ａ）には、コイル部４
６が配置される面と光が出射する出射面４４ｄ₁とが同
一平面となるようなコイル支持基板４４ｂを示し、図６
中（Ｂ）には、突起部４４ｂが形成されているコイル支
持基板４４ｂを示している。

【００７２】図６中（Ａ）の例では、出射面４４ｄ₁か
ら出射された光がコイル部４６の中心孔４６ａ内を通過
して、焦点を結ぶようになされている。例えばこの場合
の中心孔４６ａの直径はｄ₁である。

【００７３】ここで、コイル支持基板４４ｂの出射面４
４ｄ₁は、光磁気ディスク２との対向面であり、光磁気
ディスク２との間は空間とされていることから、例え
ば、ガラス材と空気との屈折率の違いにより、出射面４
４ｄ₁から出射された光の出射角θ₃は、コイル支持基板
４４ｂの入射角θ₄より大きな値となる。このような関
係を考慮して、所定の位置で焦点を結ぶようにコイル部
４６の中心孔４６ａの径ｄ₁が決定されている。

【００７４】しかし、本発明を適用して構成したコイル
支持基板４４ａでは、図６中（Ｂ）に示すように、突起
部４４ｂを有することにより、突起部４４ｂの突出量分
を入射角θ₄として光路を確保して出射面４４ｄ₂を光を
出射させていることから、上述した図６中（Ａ）の出射
面４４ｄ₁と同一位置の平面を通過する光の径を小さく
することが可能になる。すなわち、コイル部４６の中心
孔４６ａ、あるいは磁性体コア４７の中心孔４７ａの直
径ｄ₂を、小さく形成することができる。

【００７５】よって、光磁気ヘッド部２５は、コイル部
４６の中心孔の径が小されるので、低消費電力で効率よ
く光学記録媒体の光学記録層に磁界を印加することがで
きる。

【００７６】したがって、この光磁気ヘッド部２５は、
特に、高い周波数時において、薄膜コイル４８の熱によ
る発生磁界の低効率化を招くことがなく、また、薄膜コ
イル４８の損傷も抑制される。

【００７７】なお、磁性体コア４７は、後退部４４ｃに
のみ形成されることに限定されるものではなく、少なく
とも突起部４４ｂの出射面４４ｄから光が出射すること
を確保しつつ、突起部４４ｂの各面に形成することもで
きる。すなわち、図７中（Ａ）は、コイル支持基板４４
ａ上の突起部４４ｂの周囲に形成される例として説明し
たが、図７中（Ｂ）に示すように、突起部４４ｂの側壁
４４ｂに対しても形成することもでき、さらに、図７中
（Ｃ）に示すように、突起部４４ｂの側壁４４ｅ及び出
射面４４ｄの外側面に形成することもできる。このよう
に磁性体コア４７を突起部４４ｂの外側面に対しても形
成することにより、磁界効率を高めることが可能にな
る。

【００７８】図８には、この効果を確認すべく得た測定
結果を示している。この測定では、後退部４４ｃにのみ
磁性体コア４７を形成したもの、及び突起部４４ｂの側
壁に磁性体コア４７を形成したものを用いて、薄膜コイ
ルに通電し、その時に得た発生磁界の値を得ている。具
体的には、白板ガラス上にリアクティブイオンエッチン
グにより、突起部を形成し、それぞれの突起高さに対応
した光磁気記録用光学素子（光磁気ヘッド部）を作製
し、この光学素子の発生磁界と、突起のないコイル支持
基板を用いた光学素子の発生磁界とを比較している。

【００７９】ここで、図８中、縦軸に発生磁界をとり、
横軸にコイル支持基板４４ａの突起部４４ｂの高さ（μ
ｍ）をとっている。なお、横軸のコイル支持基板４４ｂ
の高さの変化によりコイル部４６の中心孔の径も変化し
ており、すなわち、突起部４４ｂの高さの増加は、コイ
ル部４６の中心孔の径の増加となる。

【００８０】この図８に示す結果から、突起部４４ｂの
側壁４４ｅに磁性体コア４７を形成することにより、発
生磁界の値が大きくなっているのがわかる。また、突起
部４６を設けた光学素子では、突起の存在しないコイル
の支持基板（突起高さが０μｍ）を用いた場合に比し
て、磁界発生効率が向上しており、さらに、突起部高さ
の増加、すなわち、コイル部の中心孔の減少により、発
生磁界効率が高くなるのがわかる。

【００８１】次にコイル支持基板４４ａの製造方法の具
体例について、図９中（Ａ）〜（Ｄ）、図１０中（Ｅ）
〜（Ｈ）、図１１中（Ｉ）〜（Ｋ）、及び図１２中
（Ｌ）〜（Ｎ）からなる各工程を説明する。

【００８２】（Ａ）工程では、コイル支持基板の母材４
４としてガラス材からなるウェハを用意する。例えばガ
ラス材としてＢＫ−７を用いる。

【００８３】（Ｂ）工程は、突起部４４ｂを造る工程の
最初の工程であり、フォトレジスト６１を塗布し、その
後、露光、現像を行う。

【００８４】（Ｃ）工程では、リアクティブイオンエッ
チング又はイオンミリングにより、上記フォトレジスト
６１を塗布した周囲部をエッチングする。これにより突
起部４４ｂが形成されたコイル支持基板４４ａの形状と
される。

【００８５】（Ｄ）工程では、フォトレジスト６１を除
去し、突起部４４ｂ及びその周囲部分に磁性コア材６２
を成膜する。例えば、磁性コア材６２としてCoPdZrを成
膜する。

【００８６】（Ｅ）工程では、突起部４４ｂの表面の光
の出射部分６２ａ以外の部分に、フォトレジスト６３を
塗布し、露光、現像を行う。

【００８７】（Ｆ）工程では、エッチングプロセスとし
て、イオンミリングにより、フォトレジスト６３が塗布
されていない部分６２ａの磁性コア材６２を除去する。
これにより、突起部４４ｂの表面の光の出射部分４４ｄ
以外の部分に磁性体コア４７が形成される。なお、この
磁性体コア４７の形状は、上述した図７（Ｃ）の形状に
対応している。

【００８８】（Ｇ）工程では、フォトレジスト６３を除
去する。

【００８９】（Ｈ）工程では、導通孔及び中心孔６４を
有した絶縁層６５を形成する。具体的には、フォトレジ
スト（６５）を塗布し、露光、現像を行い、これを熱処
理して、有機溶剤に溶けない絶縁層６５を形成する。例
えば、感光性を有するアクリル樹脂を用いて、フォトリ
ソグラフィーの手法によりアクリル樹脂層による絶縁層
６５を形成する。また、この工程において、コイルリー
ドを形成する。

【００９０】（Ｉ）工程では、電解メッキ処理を行うた
めのメッキ用の電極を形成する。具体的には、全体にメ
ッキ下地層６６を成膜する。

【００９１】（Ｊ）工程では、パターニングをするため
のフォトレジスト６７の塗布を行う。具体的には、メッ
キ成長させたい所以外の部分にフォトレジスト６７を塗
布して、露光、現像を行う。

【００９２】（Ｋ）工程では、電解メッキ処理して、所
望の膜厚までメッキ６８を成長させる。例えば、電解メ
ッキ処理は、Cuを用いて行う。

【００９３】（Ｌ）に示すように、フォトレジストを除
去する。これにより、スパイラル形状のコイル部分（薄
膜コイル）４８が形成されたことになる。

【００９４】（Ｍ）工程では、上記（Ｌ）工程のままだ
と、コイル間が下地のメッキ下地層６６により接続され
た状態となっているので、メッキ下地層６６をイオンミ
リングにより、エッチング除去する。これにより、隣接
するコイル間の導通が切断されて、スパイラル形状の薄
膜コイル４８のパターンが完成する。

【００９５】（Ｎ）工程では、フォトレジスト６９を塗
布して、露光、現像、熱処理を行う。これにより、薄膜
コイル４８等に対しての上述した絶縁保護膜（絶縁層４
９）が形成される。

【００９６】以上のようにして突起部４４ｂ及びコイル
部４６が形成されて、ピックアップにあう形状に切断さ
れて、コイル支持部材４４ａが形成される。そして、こ
のコイル支持部材４４ａは先玉レンズ４１のレーザ光の
出射面側に取り付けられ、当該先玉レンズ４１が後玉レ
ンズ４２とともにレンズホルダ４３に取り付けることに
より光磁気ヘッド部２５が作製される。

【００９７】次に、上述した光磁気ヘッド部２５を有す
る光ディスク装置１の記録再生動作について説明する。

【００９８】この光ディスク装置１は、所定のデータを
光磁気ディスク２に記録する際は、スピンドルモータ３
が装着された光磁気ディスク２を回転駆動させるととも
に、ヘッド４の半導体レーザ２１からレーザ光が出射さ
れる。

【００９９】半導体レーザ２１から出射されたレーザ光
は、コリメータレンズ２２、整形レンズ２３及び第一の
ビームスプリッタ２４を介して光磁気ヘッド部２５に入
射する。そして、光磁気ヘッド部２５に入射されたレー
ザ光は、光磁気ヘッド部２５の後玉レンズ４２及び先玉
レンズ４１により収束され、コイル部４６の磁性体コア
４７に設けられた中心孔４７ａ及び薄膜コイル４８の中
心孔を通過して、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａ
に照射される。

【０１００】光ディスク装置１は、このように光磁気デ
ィスク２の光磁気記録層２ａにレーザ光を照射させるこ
とにより、このレーザ光が照射された箇所の磁性材料を
キュリー温度又は補償温度以上まで上昇させて、その箇
所の磁化を消失させる。

【０１０１】そして、光ディスク装置１は、記録するデ
ータに対応して変調された記録信号が、アンプ３６を介
して光磁気ヘッド部２５に供給されると、薄膜コイル４
８がその記録信号に対応する磁界を発生し、この磁界を
光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａのレーザ光が照射
された箇所を印加する。

【０１０２】このようにして、光ディスク装置１は、所
定のデータ（記録信号）を光磁気ディスク２に記録す
る。なお、光ディスク装置１は、この記録時において
も、後述する再生時と同様に、フォーカシング制御及び
トラッキング制御を行うようになされている。

【０１０３】この光ディスク装置１は、光磁気ディスク
２に記録されたデータを読み取る際は、記録動作時と同
様に、スピンドルモータ３が装着された光磁気ディスク
２を回転駆動させるとともに、ヘッド４の半導体レーザ
２１からレーザ光が出射される。

【０１０４】半導体レーザ２１から出射されたレーザ光
は、コリメータレンズ２２、整形レンズ２３及び第１の
ビームスプリッタ２４を介して光磁気ヘッド部２５に入
射する。そして、光磁気ヘッド部２５の後玉レンズ４２
及び先玉レンズ４１により収束され、コイル部４６の磁
性体コア４７に設けられた中心孔４７ａ及び薄膜コイル
４８の中心孔を通過して、光磁気ディスク２の光磁気記
録層２ａの照射される。 光磁気記録層２ａで反射され
た戻り光は、第２のビームスプリッタ２６、１／２波長
板３０、第２の集光レンズ３１及び第３のビームスプリ
ッタ３２を介して、第２の光検出器３３及び第３の光検
出器３４に入射し、検出される。この光磁気記録層２ａ
からの戻り光の偏波面は、カー効果により、光磁気記録
層２ａの磁化の向き（記録されているデータの値に対応
する）によって互いに反対方向に回転している。そし
て、この光磁気記録層２ａからの戻り光は、第３のビー
ムスプリッタ３２を介して第２の光検出器３３及び第３
の光検出器３４に入射することにより、その偏波面の向
きと光磁気記録層２ａに照射された光の偏波面の向きと
の間に見られる回転角（カー回転角）の変化が光の強度
変化に変換され、この強度変化が検出される。

【０１０５】第２の光検出器３３及び第３の光検出器３
４は、入射した戻り光の強度に対応する電気信号の差動
アンプ３５に出力し、差動アンプ３５は、第２の光検出
器３３と第３の光検出器３４との出力の差を計算し、Ｍ
Ｏ再生信号として出力する。

【０１０６】また、光磁気記録層２ａで反射された戻り
光の一部は、第２のビームスプリッタ２６により反射さ
れ、第１の集光レンズ２７及びシリンドリカルレンズ２
８を介して第１の光検出器２９に入射する。

【０１０７】第１の光検出器２９は、入射した戻り光を
電気信号に変換し、この電気信号を制御信号生成部５及
びアンプ７を介して、フォーカスマトリックス回路８及
びトラッキングマトリックス回路１１に供給する。

【０１０８】フォーカスマトリックス回路８及びトラッ
キングマトリックス回路１１は、この信号に基づいてフ
ォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号をそれ
ぞれ生成し、これらのフォーカスエラー信号及びトラッ
キングエラー信号をアンプ１０，１３を介して駆動用ア
クチュエータ６に供給する。

【０１０９】駆動用アクチュエータ６は、これらのフォ
ーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号に対応し
て、光磁気ヘッド部２５を光磁気ディスク２に接離する
方向又は光磁気ディスク２の径方向に移動させ、フォー
カシング制御及びトラッキング制御を行う。

【０１１０】以上説明したように、この光磁気ディスク
装置１に用いられる磁気ヘッド部２５は、コイル部４６
がコイル支持基板４４ａ上の突起部４４ｂの周囲の後退
部４４ｃ上に形成されているので、コイル支持基板４４
ａ上の光の出射面４４ｄと光磁気ディスク２の表面との
間の距離を短くすることができ、コイル部４６の中心孔
の径を小さくすることができる。これにより、低消費電
力で効率よく光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに磁
界を印加することが可能になる。

【０１１１】したがって、この光磁気ヘッド部２５は、
特に、高い周波数時において、薄膜コイル４８の熱によ
る発生磁界の低効率化を招くことがなく、また、薄膜コ
イル４８の断線等の損傷も抑制される。

【０１１２】なお、本実施の形態では、先玉レンズ４１
の光磁気ディスク２と対向する側に、コイル支持基板４
４ａが固着された状態で配置され、このコイル支持基板
４４ａ上に突起部４４ｂが設けられ、さらに、突起部４
４ｂの周囲の後退部４４ｃにコイル部４６が設けられた
光磁気ヘッド部２５について説明したが、図１３に示す
ように、先玉レンズ４１の円形状平面側に、突起部４１
ａを形成し、この周囲の後退部４１ｂ上にコイル部４６
を設けるようにしてもよい。このような形状としても上
述したような効果を得ることができる。

【０１１３】また、本実施の形態では、薄膜コイル４８
を単層のコイルにより構成した例について説明したが、
光磁気ヘッド部２５に用いられる薄膜コイル４８は、図
１４に示すように、上層コイル４８ａと下層コイル４８
ｂの２層構成とされ、それぞれのコイルが絶縁層４９中
に埋め込まれた形とされてもよい。

【０１１４】この場合、上層コイル４８ａのスパイラル
形状の外周部及び下層コイル４８ｂのスパイラル形状の
外周部から、この薄膜コイル４８に駆動電流を供給する
ための一対の電極５０ａ、５０ｂを引き出すとともに、
上層コイル４８ａのスパイラル形状の内周部と下層コイ
ル４８ｂのスパイラル形状の内周部とを接続させ、上層
コイル４８ａと下層コイル４８ｂとを電気的に導通させ
る。

【０１１５】また、本実施の形態では、コイル支持基板
４４ａ上に設けられた突起部４４ｂの周囲の後退部４４
ｃ上に磁性体コア４７が形成され、この磁性体コア４７
上に薄膜コイル４８が形成される例について説明した
が、この例に限定されるものではなく、コイル支持基板
４４ａ上に設けられた突起部４４ｂの周囲の後退部４４
ｃ上に磁性体コア４７を介さずに薄膜コイル４８が形成
されるようにしてもよい。

【０１１６】また、本実施の形態では、コイル支持基板
４４ａの突起部４４ｂあるいは、先玉レンズ４１の突起
部４４ｂを形成した後、コイル部４６を形成する例につ
いて述べたが、コイル支持基板４４ａ、あるいは先玉レ
ンズ４１の円形平面４１ａ上に予めコイル部４６を形成
し、その後に成膜光学部材により、コイル部４６の中心
孔を埋めて突起部を設けることとしてもよい。そして、
このように形成された突起部の出射面を研磨等により平
坦化してもよい。コイル部４６を予め形成し、その後に
設けた突起部の出射面を研磨等して平坦化することによ
り、例えば、成膜した際に生じた出射面の誤差を、先に
設けているコイル部４６を基準にとり、修正することが
できるようになる。

【０１１７】

【発明の効果】本発明に係る光学素子は、光学記録媒体
の光磁気記録層に照射される光を収束させるレンズと、
レンズの光学記録媒体に対向する側に配置されている磁
界発生素子とを備えている。そして、レンズは、磁界発
生素子が配設されている配設面から光学記録媒体側に向
かって光の出射面が突出してなる突出出射部を有してい
る。このような構成を有する光学素子は、突出出射部の
光学記録媒体に対向される面に出射面を設けていること
により、配設面の磁界発生素子の形状を小型化すること
ができる。

【０１１８】これにより、低消費電力で効率よく光学記
録媒体の光磁気記録層に磁界を印加することが可能にな
る。よって、特に高い周波数時において、磁界発生素子
の熱による発生磁界の低効率化を招くこともなく、ま
た、磁界発生素子内に構成されるコイル等の断線等の損
傷も抑制される。

【０１１９】また、本発明に係る記録及び／又は再生装
置は、光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光を収
束させるレンズ及びこのレンズの光学記録媒体に対向す
る側に配置されている磁界発生素子を有し、光源から出
射させる光の光路上に配される光学素子とを備えてい
る。そして、レンズは、記磁界発生素子が配設されてい
る配設面から光学記録媒体側に向かって光の出射面が突
出してなる突出出射部を有している。このような構成を
有する記録及び／又は再生装置は、突出出射部の光学記
録媒体に対向される面に出射面を設けていることによ
り、配設面の磁界発生素子の形状を小型化することがで
きる。

【０１２０】これにより、低消費電力で効率よく光学記
録媒体の光磁気記録層に磁界を印加することが可能にな
る。よって、特に高い周波数時において、磁界発生素子
の熱による発生磁界の低効率化を招くこともなく、ま
た、磁界発生素子内に構成されるコイル等の断線等の損
傷も抑制される。

【０１２１】また、本発明に係る光学素子の製造方法
は、光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光を収束
させるレンズと、レンズの上記光学記録媒体に対向する
側に配置されている磁界発生素子とをからなる光学素子
の製造方法であって、レンズの光学記録媒体に対向され
る面に、光の出射面を設けてなる突出出射部と、突出出
射部の周囲の後退部に上記磁界発生素子を配設する配設
部とを形成する。このような光学素子の製造方法によ
り、光学素子は、光学記録媒体に対向される面に突出し
た出射面が設けられ、突出出射部周囲の配設面の磁界発
生素子の形状が小型化されたものとなる。

【０１２２】これにより、低消費電力で効率よく光学記
録媒体の光磁気記録層に磁界を印加することが可能にな
る。よって、特に高い周波数時において、磁界発生素子
の熱による発生磁界の低効率化を招くこともなく、ま
た、磁界発生素子内に構成されるコイル等の断線等の損
傷も抑制される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態である光学素子を示す縦断
面図である。

【図２】本発明の実施の形態である光ディスク装置の構
成を示すブロック図である。

【図３】上記光ディスク装置のヘッドの構成を示す図で
ある。

【図４】上記光学素子のコイル部を示す平面図である。

【図５】上記コイル部を示す図であり、図４におけるＡ
−Ａ線断面図である。

【図６】上記コイル部の中心孔を小さくすることができ
ることについての説明に使用した図である。

【図７】上記コイル部を支持するコイル支持部材に形成
された突起部に、当該コイル部の磁性体コアが形成され
る複数の形態を示す断面図である。

【図８】本発明を適用して形成した光学素子の発生磁界
の特性を示す特性図である。

【図９】上記コイル支持基板の前半の製造工程を示す図
である。

【図１０】上記コイル支持基板の中半の製造工程を示す
図である。

【図１１】上記コイル支持基板の中半の製造工程を示す
図である。

【図１２】上記コイル支持基板の後半の製造工程を示す
図である。

【図１３】先玉レンズの表面に突起部を形成した場合を
示す断面図である。

【図１４】上記コイル部の他の例を示す図であり、図４
におけるＡ−Ａ線断面図である。

【図１５】従来の光学素子を示す縦断面図である。

【符号の説明】

４１ 先玉レンズ、４４ａ コイル支持基板、４４ｂ
突起部、４４ｃ 後退部、４４ｄ 出射面、４６ コイ
ル部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大里 潔 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 2H052 BA02 BA06 BA11 5D075 AA03 CC04 CD17 CF03 CF08 5D119 AA22 AA37 BA01 BB05 JA43 JB02 JC05 NA03 NA05

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学記録媒体の光磁気記録層に照射され
   る光を収束させるレンズと、 上記レンズの上記光学記録媒体に対向する側に配置され
   ている磁界発生素子とを備え、 上記レンズは、上記磁界発生素子が配設されている配設
   面から上記光学記録媒体側に向かって光の出射面が突出
   してなる突出出射部を有していることを特徴とする光学
   素子。
2. 【請求項２】 上記レンズの上記光学記録媒体に対向さ
   れる面に、上記配設面及び上記突出出射部が設けられた
   光学部材からなる磁界発生素子支持基板が取り付けられ
   ていることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
3. 【請求項３】 上記レンズは、上記光学記録媒体に照射
   される光の光路上に配された複数のレンズからなり、 上記複数のレンズの内の上記光学記録媒体に最も近いレ
   ンズの当該光学記録媒体に対向される側に、上記配設面
   及び上記突出出射部を有していることを特徴とする請求
   項１記載の光学素子。
4. 【請求項４】 上記複数のレンズの内の上記光学記録媒
   体に最も近いレンズの当該光学記録媒体に対向される面
   に、上記配設面及び上記突出出射部が設けられた光学部
   材からなる磁界発生素子支持基板が取り付けられている
   ことを特徴とする請求項３記載の光学素子。
5. 【請求項５】 上記磁界発生素子は、磁界発生用の薄膜
   コイルを備えていることを特徴とする請求項１記載の光
   学素子。
6. 【請求項６】 上記磁界発生素子は、磁性コアを備えて
   いることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
7. 【請求項７】 上記磁性コアは、上記突出出射部の周囲
   に設けられていることを特徴とする請求項６記載の光学
   素子。
8. 【請求項８】 上記磁性コアは、上記突出出射部の外側
   面に対しても形成されていることを特徴とする請求項７
   記載の光学素子。
9. 【請求項９】 光学記録媒体を回転駆動させる回転駆動
   手段と、 上記光学記録媒体に向けて光を出射する光源と、 上記光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光を収束
   させるレンズ及びこのレンズの上記光学記録媒体に対向
   する側に配置されている磁界発生素子を有し、上記光源
   から出射させる光の光路上に配される光学素子と、 上記光学記録媒体で反射された戻り光を受光する受光手
   段と、 上記受光手段により受光された戻り光に基づいて所定の
   信号を生成する信号処理手段とを備え、 上記レンズは、上記磁界発生素子が配設されている配設
   面から上記光学記録媒体側に向かって光の出射面が突出
   してなる突出出射部を有していることを特徴とする記録
   及び／又は再生装置。
10. 【請求項１０】 上記レンズの上記光学記録媒体に対向
    される面に、上記配設面及び上記突出出射部が設けられ
    た光学部材からなる磁界発生素子支持基板が取り付けら
    れていることを特徴とする請求項９記載の記録及び／又
    は再生装置。
11. 【請求項１１】 上記光学素子は、上記光学記録媒体に
    照射される光の光路上に配された複数のレンズを有し、 上記複数のレンズの内の上記光学記録媒体に最も近いレ
    ンズの当該光学記録媒体に対向される側に、上記配設面
    及び上記突出出射部を有していることを特徴とする請求
    項９記載の記録及び／又は再生装置。
12. 【請求項１２】 上記複数のレンズの内の上記光学記録
    媒体に最も近いレンズの当該光学記録媒体に対向される
    面に、上記配設面及び上記突出出射部が設けられた光学
    部材からなる磁界発生素子支持基板が取り付けられてい
    ることを特徴とする請求項１１記載の記録及び／又は再
    生装置。
13. 【請求項１３】 上記磁界発生素子は、磁界発生用の薄
    膜コイルを備えていることを特徴とする請求項９記載の
    記録及び／又は再生装置。
14. 【請求項１４】 上記磁界発生素子は、磁性コアを備え
    ていることを特徴とする請求項９記載の記録及び／又は
    再生装置。
15. 【請求項１５】 上記磁性コアは、上記突出出射部の周
    囲に設けられていることを特徴とする請求項１４記載の
    記録及び／又は再生装置。
16. 【請求項１６】 上記磁性コアは、上記突出出射部の外
    側面に対しても形成されていることを特徴とする請求項
    １５記載の記録及び／又は再生装置。
17. 【請求項１７】 光学記録媒体の光磁気記録層に照射さ
    れる光を収束させるレンズと、上記レンズの上記光学記
    録媒体に対向する側に配置されている磁界発生素子とを
    からなる光学素子を製造する光学素子の製造方法であっ
    て、 上記レンズの上記光学記録媒体に対向される面に、光の
    出射面を設けてなる突出出射部と、上記突出出射部の周
    囲の後退部に上記磁界発生素子を配設する配設部とを形
    成することを特徴とする光学素子の製造方法。
18. 【請求項１８】 上記突出出射部を、エッチング処理に
    より形成することを特徴とする請求項１７記載の光学素
    子の製造方法。
19. 【請求項１９】 上記突出出射部を、光学材料を積層さ
    せて形成することを特徴とする請求項１７記載の光学素
    子の製造方法。
20. 【請求項２０】 上記配設部に上記磁界発生素子を設け
    た後に、上記光学材料を積層させて上記突出出射部の形
    成することを特徴とする請求項１９記載の光学素子の製
    造方法。
21. 【請求項２１】 上記突出出射部の光の出射面を研磨し
    て平坦化することを特徴とする請求項２０記載の光学素
    子の製造方法。