JP2002277623A - 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 - Google Patents
光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子Info
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Abstract
タを製造する。 【解決手段】 透明基板1上にTiO2等感光性化合物
を含有する樹脂組成物からなる隔壁パターン4を形成
し、その側面を露光することにより、上記感光性化合物
の作用により、該側面の親インク性を増加せしめ、上面
が撥インク性、側面が親インク性の隔壁4’を形成し、
該隔壁4’で囲まれた領域にインク5を付与して着色部
6を形成し、カラーフィルタを形成する。
Description
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台に使用されてい
るカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタや、
発光素子といった光学素子とその製造方法に関し、さら
には、該光学素子の一つであるカラーフィルタを用いて
なる液晶素子に関する。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要
が増加している。しかしながら、さらなる普及のために
は大幅なコストダウンが必要であり、特にコスト的に比
重の重いカラーフィルタのコストダウンが求められてい
る。
ては、基板上に先ずブラックマトリクスを形成し、イン
クジェット方式により該ブラックマトリクスの開口部に
インクを付与して着色部(画素)を形成する方法が提案
されている。この方法に関して、それぞれの着色部に対
応するブラックマトリクスの開口部に良好にインクが収
まるようにするため、ブラックマトリクスの材料とし
て、該インクに濡れにくく、はじきやすいものが検討さ
れている。
は、インクに対して20°以上の接触角を有する材料を
用いてブラックマトリクスを形成し、その開口部にイン
クを付与する方法が提案されている。また、特開平7−
335915号公報には、ブラックマトリクス材料とし
て水に対して40°以上の接触角を有する材料が提案さ
れている。さらに、特開平6−347637号公報に
は、それぞれの材料の臨界表面張力を、基板面>インク
>ブラックマトリクス面とし、ブラックマトリクス面<
35×10-5N/m、基板面≧36×10-5N/m、イ
ンクは両者から5×10-5N/m以上の差を有するよう
に、それぞれ設定することが提案されている。これらの
提案では、いずれもブラックマトリクスの材料として撥
インク性を持たせるために、フッ素化合物やケイ素化合
物を含むことが提案されている。
は、基板と逆の親和性を有する堤を形成し、その間にイ
ンクを注入する方法が提案されているが、材料について
の詳細は記載されていない。
スに撥インク性を持たせることにより、ブラックマトリ
クス上に飛散したインクをブラックマトリクスの開口部
内に引き込ませることが可能となり、各着色部に対応す
る開口部にインクがうまく収まらないという問題は改善
された。
たようにインクに濡れにくく、はじきやすい性質を持つ
ブラックマトリクスはインクとの界面部分で互いにはじ
きあい、着色部の周囲で膜厚が薄くなってしまう。その
様子を図6に示す。図中、61は透明基板、62はブラ
ックマトリクス、63、63’は着色部である。図6は
1画素分の断面模式図であり、(a)に示すように、ブ
ラックマトリクス62の撥インク性によって、着色部6
3の周縁部膜厚が薄くなってしまう。図6(b)は理想
的な着色部63’の断面であり、着色部63’内におい
て膜厚が均一である。
る膜厚分布は色ムラとなり、場合によっては着色部63
の周縁部で白抜けを生じる場合もある。
ンクジェット方式で製造しうる同様の構造の光学素子に
おいても生じる。即ち、基板上に隔壁を形成し、該隔壁
の開口部にインクジェット方式でインクを付与して画素
を形成する光学素子において、所定量のインクを開口部
に収めるためには隔壁の撥インク性が重要であるが、該
撥インク性によって生じた画素内の膜厚分布によって、
画素内で光学特性の分布を生じてしまう。
し、画素内において膜厚分布の発生を防止し、画素内に
おいて均一な光学特性を有する光学素子を提供し、該光
学素子を用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をよ
り安価に提供することにある。
に画素と該画素を囲む隔壁とを少なくとも有する光学素
子の製造方法であって、光照射によりインクに対する親
和性が増加或いは発現する感光性化合物を含有する樹脂
組成物からなる隔壁パターンを形成する工程と、上記隔
壁パターンの側面を露光して該側面の親インク性を増加
或いは発現させ、上面が撥インク性で側面が親インク性
を示す隔壁を形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域
にインクを付与し、硬化して画素を形成する工程と、を
少なくとも有することを特徴とする光学素子の製造方法
である。
構成を好ましい態様として含むものである。上記感光性
化合物がTiO2、SnO2、ZnO、WO3、SrTi
O3、BiO3、Fe2O3から選択される少なくとも一種
である。上記隔壁パターンの露光工程において、フォト
マスクを用いて該隔壁パターン上面を遮光する。上記樹
脂組成物が黒色樹脂組成物であり、上記隔壁パターンの
露光工程において、基板裏面より全面露光する。上記樹
脂組成物がポジ型の感光性樹脂組成物であり、該樹脂組
成物からなる層をパターン露光して隔壁パターンを形成
する。上記樹脂組成物が非感光性樹脂組成物であり、該
樹脂組成物からなる層の上にレジストパターンを形成
し、該レジストパターンをマスクとして該樹脂組成物層
をエッチングして隔壁パターンを形成する。上記インク
を付与する手段がインクジェット方式である。
囲む隔壁とを少なくとも有し、上記本発明の光学素子の
製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子で
ある。
素が着色部であり、複数色の着色部を有するカラーフィ
ルタであること、隔壁が遮光層であること、着色部上に
保護膜を有すること、を好ましい態様として含むもので
ある。
持してなり、一方の基板が上記本発明の光学素子を用い
て構成されたことを特徴とする液晶素子である。
し、該隔壁で囲まれた領域、即ち隔壁の開口部にインク
を付与して画素を形成する工程において、光照射により
インクに対する親和性を増加或いは発現する感光性化合
物を含有する樹脂組成物を用いて隔壁パターンを形成
し、該隔壁パターンの側面を露光することにより、該側
面のインクに対する親和性を増加或いは発現させること
に特徴を有する。これにより、本発明にかかる隔壁は上
面が撥インク性を、側面が親インク性を示し、上面にお
いては付与されたインクがはじかれて速やかに開口部内
に引き込まれ、該開口部内においては、隔壁側面の親イ
ンク性によってインクと隔壁側面とが良好に接触し、開
口部内でインクが比較的均一に広がり、均一な膜厚の画
素が得られる。
と該画素を囲む隔壁からなる構成を一組以上有し、基板
上に形成した隔壁の開口部にインクを付与して画素を形
成しうるものであれば、本発明の範疇にあるが、具体的
には、画素が着色部であり、複数色の着色部を有し、上
記隔壁が隣接する着色部間を隔てているカラーフィルタ
や、画素が発光層であり、上記隔壁が隣接する発光層間
を隔てている有機エレクトロルミネッセンス素子(有機
EL素子)等の発光素子、画素がレンズであるマイクロ
レンズなどが挙げられる。本発明は特に、インクジェッ
ト方式によりインクを付与し、着色部を形成するカラー
フィルタの製造方法に好適であり、以下、カラーフィル
タを製造する実施形態を挙げて説明する。
りカラーフィルタを製造する一実施形態の工程を示す断
面模式図である。図中、1は透明基板、2は樹脂組成物
層、3、3’はフォトマスク、4は隔壁パターン、4’
は隔壁、5はインク、6は着色部、7は保護膜である。
尚、図1の(a)〜(g)は以下の工程(a)〜(g)
にそれぞれ対応する断面模式図である。
を形成する。透明基板1としては、一般にはガラス基板
が用いられるが、液晶素子を構成する目的においては、
所望の透明性、機械的強度等の必要特性を有するもので
あれば、プラスチック基板なども用いることができる。
より後述するインク5に対する親和性が増加或いは発現
する感光性化合物を含む樹脂組成物で形成される。この
ような感光性化合物としては、例えば、TiO2、Sn
O2、ZnO、WO3、SrTiO3、BiO3、Fe2O3
が挙げられ、これらのうちの一種を単独で、或いは二種
以上を混合して用いることができる。このような感光性
化合物を含む樹脂組成物層2に光を照射すると、該光照
射によって励起生成した電子と正孔が感光性化合物表面
の吸着酸素や水と反応して活性酸素を生成し、光照射領
域の樹脂組成物層2表面が親インク化する。一方、上記
したような金属酸化物等感光性化合物は、元来撥水性、
撥油性を有するため、光照射していない領域の樹脂組成
物層2表面では親インク性を発現せず、撥インク性を示
す。従って、樹脂組成物層2をパターニングした後の隔
壁パターン4の所望の領域のみ光を照射すれば、光照射
した領域のみ選択的に親インク化し、その他の領域は撥
インク性とすることができる。
中への添加量としては、10〜40重量%が好ましい。
成物の基材としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹
脂、ポリアミドイミドを含むポリイミド系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニル系樹脂など
の感光性または非感光性の樹脂材料を用いることができ
るが、250℃以上の耐熱性を有することが好ましく、
その点から、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂が好ましく用いられる。尚、感光性の基材を
用いる場合には、パターン露光の際に露光した領域の親
インク性が増加或いは発現してしまうため、ポジ型を用
いる必要がある。また、隔壁4を遮光層(ブラックマト
リクス、ブラックストライプ)とする場合には、上記樹
脂組成物中に、カーボンブラック等遮光剤を分散せしめ
た黒色樹脂組成物を用いて樹脂組成物層2を形成する。
このような黒色樹脂組成物としては、市販の黒色レジス
トなども用いることができる。尚、本実施形態において
は、樹脂組成物層2をポジ型の感光性樹脂組成物を用い
て形成した例を示す。
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコー
ト、或いは印刷法等の方法により形成することができ
る。またその膜厚は、隔壁作用、及び遮光層とした場
合、その遮光作用を考慮すると0.5μm以上が好まし
い。
ク3を用いてパターン露光する。
光領域の樹脂組成物を除去し、必要に応じて加熱乾燥処
理(ポストベーク)を行い、撥インク性の隔壁パターン
4を得る。
ターン4に含まれる感光性化合物によって該側面の親イ
ンク性を増加或いは発現させ、上面は撥インク性、側面
は親インク性の隔壁4’を形成する。パターン露光に際
しては、隔壁パターン4の上面を露光しないようにフォ
トマスク3’を用いればよいが、隔壁パターン4を黒色
樹脂組成物で形成した場合には、図2に示すように、透
明基板1の裏面より全面露光することにより、側面のみ
を親インク化することができる。
ェットヘッドより所定の着色パターンに従ってインク5
を付与する。通常、カラーフィルタはR(赤)、G
(緑)、B(青)の3色の着色部を有するため、R、
G、Bの各色のインクを用いる。また、インクジェット
としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用
いたバブルジェット(登録商標)タイプ、或いは圧電素
子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能である。
尚、本発明においては、インク5を付与する手段として
はインクジェット方式以外の印刷法でも適用することが
可能であるが、複数色のインクを同時に付与しうるイン
クジェット方式が本発明においては特に好ましい。
の場合には硬化後にR、G、Bの着色部6を形成するよ
うに各色の着色剤と硬化成分と溶剤からなるものが好ま
しい。以下、各成分について説明する。
及び顔料系共に使用可能であるが、顔料を使用する場合
には、インク中で均一に分散させるために別途分散剤の
添加が必要となり、全固形分中の着色剤比率が低くなっ
てしまうことから、染料系の着色剤が好ましく用いられ
る。また、着色剤の添加量としては、後述する硬化成分
と同量以下であることが好ましい。
合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤
を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリ
マー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程
における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物
を用いることが好ましい。具体的には、例えば基材樹脂
として、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミ
ド基等の官能基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹
脂;またはヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース等のセルロース誘導体或いはそれらの変性
物;またはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアセタール等のビニル系ポリマーが挙げ
られる。さらに、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱
処理により硬化させるための架橋剤、光開始剤を用いる
ことが可能である。具体的には、架橋剤としては、メチ
ロール化メラミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤
としては重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系
開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用
可能である。また、これらの光開始剤を複数種混合し
て、或いは他の増感剤と組み合わせて使用することもで
きる。
性有機溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水として
は種々のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交
換水(脱イオン水)を使用することが好ましい。
ル、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−
ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール等の炭
素数1〜4のアルキルアルコール類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;アセトン、
ジアセトンアルコール等のケトン類またはケトアルコー
ル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコール類;エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリ
エチレングリコール、チオジグリコール、へキシレング
リコール、ジエチレングリコール等のアルキレン基が2
〜4個の炭素を含有するアルキレングリコール類;グリ
セリン類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル等の多価アルコールの低級ア
ルキルエーテル類;N−メチル−2−ピロリドン、2−
ピロリドン等の中から選択することが好ましい。
の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる2種
類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消
泡剤、防腐剤等を添加しても良い。
成分を除去して硬化させることにより、着色部6を形成
する。
カラーフィルタを得る。この場合の保護膜7としては、
光硬化タイプ、熱硬化タイプ、或いは光熱併用硬化タイ
プの樹脂材料、或いは、蒸着、スパッタ等によって形成
された無機膜等を用いることができ、カラーフィルタと
した場合の透明性を有し、その後の透明導電膜形成プロ
セス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれば使
用可能である。
物を用いて隔壁パターン4を形成したが、隔壁パターン
4を形成する樹脂組成物が非感光性の場合には、レジス
トを用いてエッチングによりパターニングすればよい。
図3を用いてその一例を説明する。図3中、1は透明基
板、32は樹脂組成物層、33はフォトレジスト層、3
3’はレジストパターン、34はフォトマスクである。
尚、図3(a)〜(d)は下記工程(a)〜(d)にそ
れぞれ対応する断面模式図である。
その上に全面にフォトレジスト層33を形成する。樹脂
組成物層32を形成する樹脂組成物としては、先の実施
形態の工程(a)で説明した樹脂組成物のうち非感光性
のものを用いる。また、フォトレジストは市販のものを
用いれば良く、その感光性はネガ型でもポジ型でも良
く、本例はネガ型の場合を示す。
光、現像し、レジストパターン33’を形成する。
2をエッチングした後、レジストパターン33’を除去
して隔壁パターン4を得る。
により、隔壁パターン4をパターン露光し、インクを付
与して着色部を形成すればよい。
るカラーフィルタの製造方法について説明したが、本発
明の光学素子としては、発光素子、マイクロレンズが挙
げられる。これらの構成を図5、図7に模式的に示す。
図5(a)は発光素子の一例の断面模式図であり、図中
51は基板、52は電極、53は隔壁、54は発光層
(画素)であり、矢印方向に光が放射される。また、図
5(b)はマイクロレンズの一例の断面模式図であり、
図中、56は透明基板、57は隔壁、58はレンズ(画
素)であり、矢印方向に光が入射、出射される。
L素子の断面模式図であり、図中71は駆動基板、72
は隔壁、73は発光層(画素)、74は透明電極、76
は金属電極である。駆動基板71には、TFT(不図
示)、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されている。
機EL素子を製造する場合には、図1の工程において、
透明基板1の代わりに透明電極74を形成した駆動基板
71を用い、図7の如く当該基板側から光を観察する場
合には、駆動基板71にガラス基板などの透明基板を用
い、画素である発光層73形成後に金属電極76を形成
すればよい。尚、インク5としては、発光層73を形成
すべく、発光材料と結着剤とを少なくとも含有する組成
物で構成される。
誘導体、アントラセン及びその誘導体、ペリレン及びそ
の誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、
シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリン及び
その誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニル
シクロペンタジエン及びその誘導体、テトラフェニルブ
タジエン及びその誘導体等の低分子有機化合物や、ポリ
フェニレンビニレン、ポリアリレン、ポリアルキルチオ
フェン、ポリアルキルフルオレン等高分子化合物を用い
ることができる。
ることにより、カラー表示の有機EL素子とすることも
できる。
り選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート
樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニル
アセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。これらは
単独または共重合体ポリマーとして1種または2種以上
混合して用いても良い。
分散させる溶媒としては、前記した、図1を用いたカラ
ーフィルタの製造工程の説明において挙げた、インク5
に用いられる好ましい溶媒が本形態でも好ましく用いら
れる。
上記部材以外にも、発光層73と透明電極74或いは金
属電極76との間に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注
入層、電子輸送層等を適宜設けることができる。
態の断面模式図を示す。本実施形態は、図1の工程によ
り得られた本発明の光学素子の一実施形態であるカラー
フィルタを用いて、TFT型カラー液晶素子を構成した
例である。図中、42は共通電極、43、48は配向
膜、44は液晶、46は対向基板、47は画素電極であ
り、図1と同じ部材には同じ符号を付して説明を省略す
る。
タ側の基板1と対向基板46とを合わせ込み、液晶44
を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基
板46の内側に、TFT(不図示)と画素電極47がマ
トリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ側
の基板1の内側には、画素電極47に対向する位置に、
R、G、Bが配列するように、カラーフィルタの着色部
6が形成され、その上に透明な共通電極42が形成され
る。ブラックマトリクスは通常カラーフィルタ側に形成
されるため、本発明では隔壁4’がこれを兼ねることが
できるが、BMオンアレイタイプの液晶素子等ではブラ
ックマトリクスを対向基板46側に形成する場合もあ
る。さらに、両基板の面内には配向膜43、48が形成
されており、液晶分子を一定方向に配列させている。こ
れらの基板は、スペーサー(不図示)を介して対向配置
され、シール材(不図示)によって貼り合わされ、その
間隙に液晶44が充填される。
46及び画素電極47を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合
には、基板46或いは画素電極47を反射機能を備えた
素材で形成するか、或いは、基板46上に反射層を設
け、透明基板1の外側に偏光板を設け、カラーフィルタ
側から入射した光を反射して表示を行う。
明の光学素子であるカラーフィルタを用いて構成されて
いれば、他の部材については従来の技術をそのまま用い
ることができることは言うまでもない。
(200mm角、厚さ1.1mm)上に、TiO2を3
重量%含有させたポジ型レジスト(シプレイ・ファーイ
ースト社製「MICRO POSIT」SRC−10
0)にカーボンブラック(日本触媒社製「CX−GLF
−50」)を15重量%添加した黒色レジストを膜厚
1.0μmとなるようにスピンコートし、90℃で20
分間のプリベークを行って、黒色レジスト層を形成し
た。
ジスト層をパターン露光し、露光した部分の黒色レジス
トを現像処理により除去した後、200℃で30分間の
熱処理を行い、パターニングされた黒色レジスト層を硬
化させ、撥インク性を有するブラックマトリクスパター
ンを形成した。
ンと同じパターンのフォトマスクを介してパターン露光
し、上記ブラックマトリクスパターンの側面のみを露光
して、側面が親インク性、上面が撥インク性のブラック
マトリクスを得た。得られたブラックマトリクスを光学
顕微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題が無
く、精度の高いブラックマトリクスであった。
G、Bの各染料及びバインダー成分としてN−メチロー
ルアクリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエ
チルメタクリレートの3元共重合体〔共重合比(モル
比)30:20:50〕とを、溶剤で溶解したインクを
上記ブラックマトリクスの開口部に所定の着色パターン
に沿って付与し、90℃で10分間仮硬化後、230℃
で30分間加熱して硬化させ、着色部を形成した。用い
たインクの表面張力は40×10-3N/mであった。
たところ、開口部に付与されたインクは、該開口部内の
基板表面を均一に覆い、にじみやはみ出し、混色、白抜
けは見られなかった。また、該カラーフィルタ上に保護
膜〔二液型の熱硬化型感光性樹脂組成物(日本合成ゴム
社製「オプトマーSS−6688」)〕及びITOから
なる透明電極を成膜しても、密着性に優れ、何ら不都合
は生じなかった。さらに、本例のカラーフィルタを用い
て液晶素子を構成したところ、色特性に優れたカラー表
示を行うことができた。
の代わりにZnOを用い、ブラックマトリクスパターン
の親インク化のためのパターン露光の際に基板裏面より
全面露光する以外は実施例1と同様にしてカラーフィル
タを作製した。得られたカラーフィルタは、実施例1と
同様ににじみやはみ出し、混色、白抜けのない高品質な
ものであった。さらに、実施例1と同様に保護膜、透明
電極を形成し、液晶素子を構成したが、いずれも実施例
1と同様の良好な結果が得られた。
色樹脂組成物〔アクリル酸共重合アクリル樹脂(非感光
性樹脂)溶液にカーボンブラック(三菱化学社製「MA
−100」)を樹脂固形分に対して30重量%の割合で
添加した溶液を実施例1と同じガラス基板上に膜厚が
1.0μmとなるようにスピンコートし、90℃で20
分間のプリベークを行い、黒色樹脂組成物層を形成し
た。
ジスト(東京応化工業社製、「PMER N−HC4
0」)をスピンナーで塗布し、90℃で20分間乾燥さ
せた。該レジスト層をフォトマスクを介して露光し、現
像処理してレジストパターンを得、該レジストパターン
をマスクとして上記黒色樹脂組成物層をエッチングし
た。その後、レジストを除去し、200℃で30分間の
熱処理を行ってパターニングされた黒色樹脂組成物層を
硬化させ、撥インク性を有するブラックマトリクスパタ
ーンを形成した。
ックマトリクスパターンをフォトマスクを介してパター
ン露光し、上記ブラックマトリクスパターンの側面のみ
を露光して、側面が親インク性、上面が撥インク性のブ
ラックマトリクスを得た。得られたブラックマトリクス
を光学顕微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題
が無く、精度の高いブラックマトリクスであった。
クマトリクスの開口部にR、G、Bの各インクを付与し
て着色部を形成し、カラーフィルタを得た。得られたカ
ラーフィルタは実施例1と同様に高品質のものであっ
た。さらに、実施例1と同様に保護膜、透明電極を形成
し、液晶素子を構成したが、いずれも実施例1と同様の
良好な結果が得られた。
代わりにFe2O3を用い、ブラックマトリクスパターン
の親インク化のためのパターン露光の際に基板裏面より
全面露光する以外は実施例3と同様にしてカラーフィル
タを作製した。得られたカラーフィルタは、実施例3と
同様ににじみやはみ出し、混色、白抜けのない高品質な
ものであった。さらに、実施例1と同様に保護膜、透明
電極を形成し、液晶素子を構成したが、いずれも実施例
1と同様の良好な結果が得られた。
ジスト(シプレイ・ファーイースト社製「MICRO
POSIT」SRC−100)にカーボンブラック(日
本触媒社製「CX−GLF−50」)を15重量%添加
した黒色レジストを実施例1と同じガラス基板上に膜厚
1μmとなるようにスピンコートし、90℃で20分間
のプリベークを行って黒色レジスト層を形成した。次い
で、フォトマスクを介してパターン露光し、現像処理を
行い、200℃で30分間の熱処理を行い、パターニン
グした黒色レジスト層を硬化させてブラックマトリクス
を形成した。
施例1と同様にR、G、Bの各インクを付与し、カラー
フィルタを作製した。得られたカラーフィルタは、にじ
みやはみ出しが生じ、隣接する着色部間での混色が生じ
ていた。
隔壁の開口部に付与されたインクが隔壁と良好に接触
し、隔壁及び基板と密着性が良く、膜厚が均一な画素が
形成されるため、画素内で光学特性のムラのない光学素
子が得られる。よって、本発明により得られるカラーフ
ィルタは混色や白抜け、画素内での色ムラのない高品質
なカラーフィルタであり、該カラーフィルタを用いてカ
ラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供するこ
とができる。
程図である。
ターンの露光工程の他の形態を示す図である。
ターンの形成工程の他の形態を示す図である。
ある。
である。
ルタの着色部の断面模式図である。
式図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 基板上に画素と該画素を囲む隔壁とを少
なくとも有する光学素子の製造方法であって、光照射に
よりインクに対する親和性が増加或いは発現する感光性
化合物を含有する樹脂組成物からなる隔壁パターンを形
成する工程と、上記隔壁パターンの側面を露光して該側
面の親インク性を増加或いは発現させ、上面が撥インク
性で側面が親インク性を示す隔壁を形成する工程と、上
記隔壁で囲まれた領域にインクを付与し、硬化して画素
を形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とす
る光学素子の製造方法。 - 【請求項2】 上記感光性化合物がTiO2、SnO2、
ZnO、WO3、SrTiO3、BiO3、Fe2O3から
選択される少なくとも一種である請求項1に記載の光学
素子の製造方法。 - 【請求項3】 上記隔壁パターンの露光工程において、
フォトマスクを用いて該隔壁パターン上面を遮光する請
求項1または2に記載の光学素子の製造方法。 - 【請求項4】 上記樹脂組成物が黒色樹脂組成物であ
り、上記隔壁パターンの露光工程において、基板裏面よ
り全面露光する請求項1または2に記載の光学素子の製
造方法。 - 【請求項5】 上記樹脂組成物がポジ型の感光性樹脂組
成物であり、該樹脂組成物からなる層をパターン露光し
て隔壁パターンを形成する請求項1〜4のいずれかに記
載の光学素子の製造方法。 - 【請求項6】 上記樹脂組成物が非感光性樹脂組成物で
あり、該樹脂組成物からなる層の上にレジストパターン
を形成し、該レジストパターンをマスクとして該樹脂組
成物層をエッチングして隔壁パターンを形成する請求項
1〜4のいずれかに記載の光学素子の製造方法。 - 【請求項7】 上記インクを付与する手段がインクジェ
ット方式である請求項1〜6のいずれかに記載の光学素
子の製造方法。 - 【請求項8】 基板上に画素と該画素を囲む隔壁とを少
なくとも有し、請求項1〜7のいずれかに記載の光学素
子の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素
子。 - 【請求項9】 上記画素が着色部であり、複数色の着色
部を有するカラーフィルタである請求項8に記載の光学
素子。 - 【請求項10】 隔壁が遮光層である請求項9に記載の
光学素子。 - 【請求項11】 着色部上に保護膜を有する請求項9ま
たは10に記載の光学素子。 - 【請求項12】 一対の基板間に液晶を挟持してなり、
一方の基板が請求項9〜11のいずれかに記載の光学素
子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001077667A JP2002277623A (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 |
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JP2001077667A JP2002277623A (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002277623A true JP2002277623A (ja) | 2002-09-25 |
JP2002277623A5 JP2002277623A5 (ja) | 2008-05-01 |
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JP2001077667A Pending JP2002277623A (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 |
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JP (1) | JP2002277623A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2001-03-19 JP JP2001077667A patent/JP2002277623A/ja active Pending
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