JP2002243931A - ブラックマトリクス基板、カラーフィルタ及びその製造方法、液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーフィルタの表示品質や耐久性を向上さ
せる、ブラックマトリクス基板、カラーフィルタ及びそ
の製造方法、を提供し、さらには該カラーフィルタを用
いた液晶素子をも提供する。 【解決手段】 透明基板上に、カラーフィルタに使用す
るインクとの濡れ性の異なる複数の樹脂組成物を積層し
た多層構造を有するブラックマトリクスを形成し、前記
多層構造の各層のうち、前記透明基板と接する層である
接触層の前記インクによる濡れ性が、前記透明基板から
最も離れた表面側の層である表面層の前記インクによる
濡れ性よりも良く、前記表面層と前記インクとの接触角
Ｘが５０°以上であり、且つ前記透明基板と前記インク
との接触角Ｙとの関係が、（Ｘ−Ｙ）≧３０°であるこ
とを特徴とするブラックマトリクス基板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラー表示装置等に
用いられるブラックマトリクス基板、カラーフィルタ及
びその製造方法に関し、さらに該カラーフィルタを用い
た液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ、特に携
帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶ディス
プレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加
している。しかしながら、さらなる普及のために大幅な
コストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の重い
カラーフィルタ基板のコストダウンが求められている。

【０００３】カラーフィルタ基板の低コストな製造方法
として、ガラス基板上に先ず遮光性樹脂パターンとして
ブラックマトリクスを形成し、インクジェット方式によ
り該ブラックマトリクスの開口部にインクを充填してカ
ラーフィルタを形成する方法が提案されている。

【０００４】この方法に関して、それぞれの画素に対応
するブラックマトリクスの開口部にうまくインクが収ま
るようにするため、ブラックマトリクスの材料として、
該インクに濡れにくく、はじき易いものが検討されてい
る。

【０００５】例えば、特開平７−３５９１７号公報に
は、インクに対し２０°以上の接触角を有する材料を用
いてブラックマトリクスを形成し、その開口部にインク
を充填する方法が提案されている。また、特開平７−３
３５９１５号公報には、ブラックマトリクス材料として
水に対して４０°以上の接触角を有する材料が提案され
ている。さらに、特開平６−３４７６３７号公報には、
それぞれの材料の臨界表面張力を、基板面＞インク＞ブ
ラックマトリクス面とし、ブラックマトリクス面＜３５
０μＮ／ｃｍ、基板面≧３６０μＮ／ｃｍ、インクは両
者から５０μＮ／ｃｍ以上の差を有するように、それぞ
れ設定することが提案されている。これらの提案ではい
ずれもブラックマトリクスの材料として、撥インク性を
持たせるために、フッ素化合物やけい素化合物を含むこ
とが提案されている。また、特開平４−１２１７０２号
公報には、基板と逆の濡れ性を有する堤を形成し、その
間にインクを注入する方法が提案されているが、材料に
ついての詳しい記載はない。

【０００６】これらの例のように、ブラックマトリクス
に撥インク性を持たせることにより、ブラックマトリク
ス上に飛散したインクをブラックマトリクスの開口部に
引き込ませることが可能となり、各画素に対応するブラ
ックマトリクスの開口部にインクがうまく収まらないと
いう問題は改善された。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなインクに濡れにくく、インクをはじき易い性質を
持つブラックマトリクスはインクと相反する親和性を有
することにより、ブラックマトリクスが形成する壁面と
インクとの境界部分において、膜厚が薄くなってしま
う。その様子を図６に示す。図中、１は透明基板、４は
ブラックマトリクス、５はインクが乾燥して形成された
着色部であり、着色部５がブラックマトリクス４と接す
る境界部分において膜厚が薄くなっている。その結果、
着色部とブラックマトリクスの境界部分で白抜けが発生
し易いという問題を生じる。

【０００８】本発明は上記のような問題を解決すること
のできるブラックマトリクス基板、カラーフィルタ及び
その製造方法、を提供し、さらには該カラーフィルタを
用いた液晶素子をも提供することを目的とするものであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の請求項１に記載の発明は、透明基板上に遮光性樹脂パ
ターンとして形成されたブラックマトリクスを有し、該
ブラックマトリクスの開口部にインクを充填してカラー
フィルタを構成するためのブラックマトリクス基板にお
いて、前記ブラックマトリクスは、前記インクとの濡れ
性の異なる複数の樹脂組成物を積層した多層構造を有
し、前記多層構造の各層のうち、前記透明基板と接する
層である接触層の前記インクによる濡れ性が、前記透明
基板から最も離れた表面側の層である表面層の前記イン
クによる濡れ性よりも良く、前記表面層と前記インクと
の接触角Ｘが５０°以上であり、且つ前記透明基板と前
記インクとの接触角Ｙとの関係が、（Ｘ−Ｙ）≧３０°
であることを特徴とする。

【００１０】このような構成によれば、ブラックマトリ
ックス間にインクが充填された際に、ブラックマトリク
スの接触層とインクとがはじきあうことがなく、インク
が透明基板付近では均一に広がり、インクの膜厚が従来
よりも均一となり、さらにインクが透明基板に対しても
良好に付着する。また、ブラックマトリクスを多層と
し、露光する樹脂組成物層の膜厚を小さくすることによ
り、各層の露光量の低減も可能となり、パターン精度の
向上に繋がる。

【００１１】なお、ブラックマトリクスとして利用する
ための遮光性を前記多層構造に付与するためには、すべ
ての層を遮光性の材料で形成する必要はなく、多層構造
を構成する各層のうちの少なくとも１つを遮光性の材料
で形成すればよい。

【００１２】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
のブラックマトリクス基板において、前記表面層は、樹
脂組成物に撥インク材の微粒子を分散させた材料からな
ることを好ましい態様として含むものである。

【００１３】このような構成によれば、表面層に撥イン
ク性を与えることが容易となり、請求項１に記載の発明
の実施が低い製造コストで可能となる。

【００１４】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載のブラックマトリクス基板において、前記積層す
る各層のパターンの線幅を、前記接触層のパターンの線
幅から順次単純減少させて形成し、且つ少なくとも前記
接触層は遮光性の樹脂組成物からなることを好ましい態
様として含むものである。

【００１５】このような構成によれば、ブラックマトリ
クスを構成する撥インク性が比較的高い表面層とインク
とがはじきあい、その結果、インクと表面層との境界部
分にインクの充填されない空隙が生じても、空隙部分の
少なくとも一部は表面層よりも幅が広く、遮光性を有す
る接触層に隠され、この部分の白抜けを軽減することが
可能となる。

【００１６】ここで、接触層のパターンの線幅から順次
単純減少させて形成するとは、接触層の次に形成する層
の線幅は接触層の線幅よりも狭く形成し、その次の層は
更に線幅を狭く形成するというように、直前に形成した
層よりも小さな線幅で次の層を形成するという意味であ
る。

【００１７】請求項４に記載の発明は、請求項１から３
のうちのいずれか１項に記載のブラックマトリクス基板
において、多層構造を有する前記ブラックマトリクス
は、遮光性の感光性樹脂組成物を積層してなることを好
ましい態様として含むものである。

【００１８】このような構成のブラックマトリクスはパ
ターニングが容易で、製造コストを低く抑えることがで
きる。

【００１９】請求項５に記載の発明は、請求項１から４
のうちのいずれか１項に記載のブラックマトリクス基板
において、多層構造を有する前記ブラックマトリクス
は、遮光性の非感光性樹脂組成物を積層してなることを
好ましい態様として含むものである。

【００２０】このような構成によれば、使用する樹脂を
感光性のものに限らないため、材料選択の自由度が増
し、製造コスト低減や、性能向上のための材料選択によ
る改良等が容易となる。

【００２１】上記課題を解決するための請求項６に記載
の発明は、請求項１から５のうちのいずれか１項に記載
のブラックマトリクス基板の前記ブラックマトリクスの
開口部に前記インクを充填する工程を含むことを特徴と
するカラーフィルタの製造方法である。

【００２２】このように、本発明のブラックマトリクス
基板を利用してカラーフィルタを製造すれば、欠陥やむ
ら、混色がなく、高コントラストのカラーフィルタを製
造することができる。

【００２３】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
のカラーフィルタの製造方法において、前記インクが、
熱又は光硬化性樹脂組成物を含有することを好ましい態
様として含むものである。

【００２４】このような方法によれば、ブラックマトリ
クスの開口部に充填されたインクを確実に定着させるこ
とができ、安定した品質のカラーフィルタを製造するこ
とができる。

【００２５】請求項８に記載の発明は、請求項６又は７
に記載のカラーフィルタの製造方法において、前記イン
クの充填をインクジェット方式により行うことを好まし
い態様として含むものである。

【００２６】このような方法によれば、ブラックマトリ
クスの開口部にインクを充填することが容易となり、製
造コスト低減が可能となる。

【００２７】上記課題を解決するための請求項９に記載
の発明は、請求項６から８のうちのいずれか１項に記載
の製造方法で製造されたことを特徴とするカラーフィル
タである。

【００２８】上記課題を解決するための請求項１０に記
載の発明は、一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶素
子であって、該一対の基板の一方を請求項９に記載のカ
ラーフィルタを用いて構成したことを特徴とする液晶素
子である。

【００２９】

【発明の実施の形態】（ブラックマトリクス基板）図７
は本発明の多層構造を有するブラックマトリクスを用い
て形成したカラーフィルタの一実施形態の部分断面図で
ある。図７において１は透明基板、４Ａ、４Ｂは樹脂組
成物層、５はインクが乾燥して形成された着色部であ
る。４Ａが接触層に、４Ｂが表面層に対応するので、図
７及びその他の図面においても、樹脂組成物層４Ａのイ
ンクによる濡れ性が、樹脂組成物層４Ｂのインクによる
濡れ性よりも良く、表面層とインクとの接触角Ｘが５０
°以上であり、且つ透明基板とインクとの接触角Ｙとの
関係が、（Ｘ−Ｙ）≧３０°である。

【００３０】図７に示すように、本発明の多層構造のブ
ラックマトリクスは、表面層４Ｂよりも接触層４Ａの方
がインクとの濡れ性が良いため、従来のように混色を防
ぐためにブラックマトリクス全体をインクとの濡れ性の
悪い材料で形成していた方法と比べて、透明基板１から
のブラックマトリクスの立ち上がり部分の隅にまでイン
クが入り込みやすくなり、着色部５の膜厚が従来よりも
均一となり、さらに着色部５が透明基板１に対しても良
好に付着する。その上、表面層４Ｂには濡れ性の悪い樹
脂組成物を使用することで、従来と同様に隣接する着色
部間での混色を防ぐ効果もそのまま残すことができる。

【００３１】本発明において用いられる着色インクとし
ては、最終的にカラーフィルタとなるためには、熱又は
光で硬化するバインダー成分が含まれることが好まし
い。このようなバインダー成分としては、例えばアクリ
レート誘導体やメタクリレート誘導体を挙げることがで
きる。

【００３２】また、本発明にかかる着色インクは染料
系、顔料系のいずれでも良く、溶媒は純水（イオン交換
水）を主成分として、親水性の有機溶剤等を含んでいて
も良い。使用できる染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ア
シッドレッド１１８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２５４、
Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５、Ｃ．Ｉ．アシッドブル
ー１１３、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１８５、Ｃ．Ｉ．ア
シッドブルー７が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。

【００３３】また、使用できる顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント
レッド５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２０
９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６等が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。

【００３４】インクジェット方式に用いられる着色イン
クに含有される上記染料或いは顔料は、インク中に０．
１〜２０重量％を占める割合で使用するのが好ましい
が、この限りではない。

【００３５】着色インクに用いられる親水性の有機溶剤
としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等の炭素数１〜４のアルキルアルコール類；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ア
セトン、ジアセトンアルコール類等のケトン又はケトア
ルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等のポリアルキレングリコール類；エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、
チオジグリコール、ジエチレングリコール等のアルキレ
ン基が２〜６個の炭素原子を含むアルキレングリコール
類；グリセリン；エチレングリコールモノメチル（又は
エチル）エーテル；ジエチレングリコールモノメチル
（又はエチル）エーテル、トリエチレングリコールモノ
メチル（又はエチル）エーテル等の多価アルコールの低
級アルキルエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジ
ノン等が挙げられるが、これに限定されるものではな
い。

【００３６】表面層、接触層に用いられる材料としては
次のようなものが挙げられる。

【００３７】表面層には界面エネルギーの低い、ケイ
素、フッ素等の原子を含む樹脂が好適に用いられる。例
えば、主鎖または側鎖に有機シリコーンを有するもの
で、鎖状構造もしくは環状構造を有するシロキサン成分
を含むシリコーン樹脂やシリコーンゴム、この他にはフ
ッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレン等
や、これらの共重合体、もしくは四フッ化エチレンや他
の重合体との共重合体などのフッ素樹脂等も好適に用い
られるが、これらに限定されるものではない。

【００３８】接触層にはインクに対して撥油または撥水
作用を示さないエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ
イミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリビニル系樹脂、ゼラチン等が好適に用いられるが、
これらに限定されるものではない。

【００３９】また、これに限らず、撥インク性の低い樹
脂組成物であっても、ポリテトラフルオロエチレン等の
撥インク材の微粒子を分散させておくことで、容易に本
発明の要件を満たす表面層を構成することができる。

【００４０】さらには、表面層の撥インク性に起因して
表面層とインクとの間に空隙を生じてしまうような場合
には、図８に示すように積層する各層のパターンの線幅
を、接触層のパターンの線幅から順次単純減少させて形
成し、且つ接触層は遮光性の樹脂組成物で構成する。図
８においては、２層のみからなる構成を示しており、表
面層４Ｂのパターンの線幅を、接触層４Ａのパターンの
線幅よりも狭く形成し、接触層４Ａは遮光性の樹脂組成
物で構成する。このように構成することで、空隙部分の
少なくとも一部は、表面層４Ｂよりも幅が広く遮光性を
有する接触層４Ａに隠され、この部分の白抜けを軽減す
ることが可能となる。

【００４１】このような多層構造を形成するためには、
感光性の樹脂組成物を積層しても良いし、非感光性の樹
脂組成物を積層しても良い。感光性の樹脂組成物を用い
れば、パターニングが容易となり、製造コストを低く抑
えることができる。また、非感光性の樹脂組成物を用い
れば、使用する樹脂を感光性のものに限らないため、材
料選択の自由度が増し、製造コスト低減や、性能向上を
材料選択によって行うことが容易になる。

【００４２】また、本発明に用いられる透明基板として
は、一般的なガラス基板のほか、液晶用カラーフィルタ
としての透明性、機械的強度等の必要特性を有するもの
であればガラス基板に限定されるものではなく、プラス
チックなどの基板を採用することもできる。

【００４３】（製造方法１）図１に本発明のブラックマ
トリクス基板の製造方法の一例の断面工程図を示す。本
実施形態はブラックマトリクスを遮光性の感光性樹脂組
成物を用いて形成する場合である。なお、図１におい
て、１は透明基板、２Ａ及び２Ｂは感光性樹脂組成物層
Ａ及びＢ、３はフォトマスク、４Ａ及び４Ｂは樹脂組成
物層Ａ及びＢである。

【００４４】工程（ａ） 先ず、透明基板１上に遮光性の感光性樹脂組成物を塗布
し、感光性樹脂組成物層２Ａを形成し、塗布された感光
性樹脂組成物層２Ａを例えばホットプレート等を用いて
仮硬化する（図１（ａ））。

【００４５】工程（ｂ） 感光性樹脂組成物層２Ａの感度に合致した波長を有する
露光装置と、所定のパターンを有するフォトマスク３を
用い、露光する（図１（ｂ））。

【００４６】工程（ｃ） 次に現像を行うことにより、感光性樹脂組成物層２Ａが
ネガ型であれば露光時にフォトマスク３で遮光された部
分が現像液で溶出し、透明基板１表面が露出し、露光さ
れた部分が樹脂組成物層４Ａとして残る。その後、現像
液を洗い流すためにリンスを行い、必要に応じて樹脂組
成物層４Ａを本硬化させるため加熱乾燥処理（ポストベ
ーク）を行い、撥インク性の低い接触層となる樹脂組成
物層４Ａを形成する（図１（ｃ））。

【００４７】工程（ｄ）〜（ｆ） 次いで２層目以降も下層のパターン上に同一又は異なる
成分を持つ樹脂であり、硬化処理により硬化可能な遮光
性の樹脂組成物層を配し、１層目と同様にパターニング
を行う。図１においては２層のみの構造となっている
（図１（ｄ）〜（ｆ））。こうして所望の数だけ樹脂組
成物を積層し、最後の表面層を形成する際には、撥イン
ク性の高い、接触層よりもインクに対する濡れ性の悪い
材料を用いる。図１では、これが感光性樹脂組成物層２
Ｂの材料に相当する。

【００４８】その結果、表面層に相当する樹脂組成物層
４Ｂよりも接触層に相当する樹脂組成物層４Ａの方がイ
ンクとの濡れ性が良いという本発明に特徴的な構成のブ
ラックマトリクスが得られる。

【００４９】（製造方法２）図２を用いて別の製造方法
の例を説明する。図中の符号は図１と同様である。３’
はフォトマスク３よりも開口パターンの線幅の狭い露光
用のフォトマスクである。

【００５０】工程（ａ）〜（ｃ） 製造方法１と同様（図２（ａ）〜（ｃ））。

【００５１】工程（ｄ）〜（ｆ） これらも製造方法１と同様であるが、２層目以降の樹脂
組成物層の形成の際には、直前に形成した樹脂組成物層
のパターンの線幅よりも狭い線幅で形成するということ
が、本製造方法の特徴である。図２においては、２層の
みの構造となっており、フォトマスク３よりも開口パタ
ーンの線幅の狭い露光用のフォトマスク３’によって、
表面層に対応する樹脂組成物層４Ｂのパターンの線幅
を、接触層に対応する樹脂組成物層４Ａのパターンの線
幅よりも狭く形成する（図２（ｄ）〜（ｆ））。実際に
は樹脂組成物層は所望の数だけ形成して構わない。

【００５２】（製造方法３）図３を用いて別の製造方法
の例を説明する。図中の符号は図１と同様である。ｄ、
ｄ’はプロキシミティギャップの大きさを示しており、
ｄ＞ｄ’である。

【００５３】工程（ａ） 製造方法１と同様（図３（ａ））。

【００５４】工程（ｂ） プロキシミティギャップｄでフォトマスク３による露光
を行う（図３（ｂ））。

【００５５】工程（ｃ） 製造方法１と同様（図３（ｃ））。

【００５６】工程（ｄ）〜（ｆ） これらも製造方法１と同様であるが、２層目以降の樹脂
組成物層の形成の際には、プロキシミティギャップの大
きさを、直前に形成した樹脂組成物層のパターニングの
際の大きさよりも小さくして形成するということが、本
製造方法の特徴である。図３においては、２層のみの構
造となっており、工程（ｂ）でのプロキシミティギャッ
プｄよりも工程（ｅ）でのプロキシミティギャップｄ’
を小さく取っている。こうすることによって、全ての工
程で同じフォトマスク３を用いても、積層する各樹脂組
成物層のパターンの線幅を、接触層のパターンの線幅か
ら順次単純減少させて形成する事ができる（図２（ｄ）
〜（ｆ））。このため、本発明の実施のためにパターン
の線幅の異なるフォトマスクを複数用意する必要がなく
なり、製造コストを抑えることができる。

【００５７】また、実際には樹脂組成物層は所望の数だ
け形成して構わない。

【００５８】（製造方法４）図４、図５の（ａ）〜
（ｊ）を用いて別の製造方法の例を説明する。図中の符
号は図１と同様である。１４はネガ型レジストであり、
１５Ａ及び１５Ｂは非感光性樹脂組成物層Ａ及びＢであ
る。

【００５９】工程（ａ） 先ず、透明基板１上に遮光性の非感光性樹脂組成物を塗
布し、非感光性樹脂組成物層１５Ａを形成し、塗布され
た非感光性樹脂組成物層１５Ａを例えばホットプレート
等を用いて仮硬化する（図４（ａ））。

【００６０】工程（ｂ） ネガ型レジスト１４の層を形成し乾燥させる。

【００６１】工程（ｃ）〜（ｅ） 次いで、１層目のフォトマスク３を介して露光し（図４
（ｃ））、現像処理（図４（ｄ））及びエッチングを行
った後、熱処理を行ってパターニングされた非感光性樹
脂組成物を硬化させ、１層目の撥インク性の低い接触層
として樹脂組成物層４Ａを形成する（図４（ｅ））。

【００６２】工程（ｆ） 次いで、１層目の樹脂組成物層４Ａを有するガラス基板
上に非感光性樹脂組成物にポリテトラフルオロエチレン
の微粒子を分散させたものを塗布し、プリベークを行っ
て２層目の非感光性樹脂組成物層１５Ｂを形成する（図
４（ｆ））。

【００６３】工程（ｇ） この後、ネガ型レジストを塗布後、乾燥した（図４
（ｇ））。

【００６４】工程（ｈ）〜（ｊ） 次いで、露光部分が１層目より幅の狭いフォトマスクを
介して露光し（図４（ｈ））、現像処理（図４（ｉ））
及びエッチングを行った後、熱処理を行ってパターニン
グさせた撥インク性の高い表面層として樹脂組成物層４
Ｂを形成する（図４（ｊ））。

【００６５】以上、具体的に製造方法の例を説明した
が、本発明のブラックマトリクスの製造方法はこれらの
方法に限られるものではなく、ブラックマトリクスがイ
ンクとの濡れ性の異なる複数の樹脂組成物を積層した多
層構造を有し、上記の接触角の条件を満たすものが得ら
れる方法であればいかなる製造方法を採っても良い。

【００６６】（カラーフィルタ）上記のようなブラック
マトリクス基板のブラックマトリクスの開口部にインク
を充填し、適宜乾燥させることでカラーフィルタを製造
することができる。

【００６７】こうして、欠陥やむら、混色がなく、高コ
ントラストのカラーフィルタを製造することができる。

【００６８】好ましくは、インクが熱又は光硬化性樹脂
組成物を含有することであり、さらに好ましくは、イン
クの充填をインクジェット方式により行うことである。

【００６９】インクが熱又は光硬化性樹脂組成物を含有
していれば、インクの充填後に熱や光による硬化処理を
行うことで、ブラックマトリクスの開口部に充填された
インクを確実に定着させることができ、安定した品質の
カラーフィルタを製造することができる。

【００７０】また、インクの充填をインクジェット方式
によって行うことにより、充填を容易に行うことができ
る。また、それぞれの色のインクを同時に充填できるた
め、各色を別々の工程で着色する方法に比べて工程数が
減少し、製造コストの低減が可能となる。

【００７１】図９は本発明のカラーフィルタの製造方法
の模式的な断面工程図である。図中の符号は図１と同様
である。１６はインクジェット装置であり、１７はイン
クである。

【００７２】図９に示すように、樹脂組成物層４Ａ、４
Ｂから構成されるブラックマトリクスの開口部にインク
ジェット装置１６を用いて、例えば赤、緑、青などのイ
ンクをそれぞれ別の領域に所定のパターンで配置してい
く。インクの充填量は、隣接する異なる色のインクと混
色を起こさない程度に適宜調節すればよい。

【００７３】（液晶素子）図１０に、本発明のカラーフ
ィルタ基板を組み込んだ液晶素子の一実施例として、Ｔ
ＦＴカラー液晶素子の断面図を示す。本実施例の液晶素
子は、一般的にカラーフィルタ基板と対向基板を合わせ
込み、液晶化合物を封入することにより形成される。図
１０において、１は透明基板、４Ａ及び４Ｂは本発明に
特徴的な構成を有するブラックマトリクスを構成する樹
脂組成物層Ａ及びＢ、５は着色部、６は保護膜、７は共
通電極、８は配向膜、９は液晶化合物、１０は配向膜、
１１は画素電極、１２は透明基板、１３は偏光板であ
る。

【００７４】保護膜６によって保護されたカラーフィル
タ基板の内側には共通電極７が形成され、対向基板側に
は透明基板１２の内側にＴＦＴ（図示なし）と透明画素
電極１１がカラーフィルタの各着色部に対応するように
マトリクス状に形成されている。さらに、液晶化合物９
と接する両基板の界面には配向膜１３がそれぞれ形成さ
れており、この配向膜をラビング処理することにより液
晶分子を一定方向に配列させることができる。

【００７５】上記基板を封止材（図示なし）を用いて貼
りあわせ、その間隙（２〜５μｍ程度）に液晶化合物９
を注入し、液晶素子が構成される。それぞれの基板１、
１２の外側にはさらに偏光板１３が接着される。また、
バックライトとしては蛍光灯（図示なし）と散乱板（図
示なし）の組み合わせが一般的に用いられており、液晶
化合物をバックライト光の透過率を変化させる光シャッ
ターとして機能させることにより表示を行う。

【００７６】

【実施例】（実施例１）図１の工程図に示した手順に従
って本発明のブラックマトリクス基板を製造した。

【００７７】工程（ａ） 表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍｍ角、厚さ
１．１ｍｍ）上に新日鉄化学社製の黒色レジスト「Ｖ２
５９ＢＫ７３９Ｐ」を膜厚０．５μｍとなるようにスピ
ンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って黒色
レジスト層を形成した（図１（ａ））。

【００７８】工程（ｂ）〜（ｃ） 次いで、１層目のフォトマスクを介して露光し（図１
（ｂ））、現像処理を行った後、２００℃で３０分間の
熱処理を行ってパターニングされた黒色レジストを硬化
させ、１層目の撥インク性の低い接触層として黒色レジ
スト層を形成した（図１（ｃ））。

【００７９】工程（ｄ） 次いで、１層目の黒色レジスト層を有するガラス基板上
に前記黒色レジストと同じレジストにポリテトラフルオ
ロエチレンの微粒子を分散させた黒色レジストをガラス
基板上に塗布された部分が膜厚０．８μｍとなるように
スピンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って
２層目の黒色レジスト層を形成した（図１（ｄ））。

【００８０】工程（ｅ）〜（ｆ） 次いで、１層目と同様のフォトマスクを介して露光し
（図１（ｅ））、現像処理を行った後、２００℃で３０
分間の熱処理を行ってパターニングさせた撥インク性の
高い表面層として黒色レジスト層を形成した（図１
（ｆ））。

【００８１】そのようにして、ブラックマトリクスパタ
ーンがインクとの親和性の異なる二種類以上の樹脂組成
物層を持つブラックマトリクス基板が形成された。この
ときの樹脂組成物層４Ｂ上の着色インクに対する接触角
は７０°であり、透明基板の着色インクとの接触角との
差は３０°以上であった。

【００８２】こうして作成したブラックマトリクス基板
を光学顕微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題
無く、精度の高いブラックマトリクス基板が得られた。
最終的にはブラックマトリクスパターンの膜厚は１．２
０μｍであった。

【００８３】次に、インクジェット装置を用い、赤、
緑、青、それぞれの染料系インクをブラックマトリクス
の開口部に充填して着色した。このインクは、染料
（Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１８、Ｃ．Ｉ．アシッドグ
リーン２５、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１１３）を樹脂
（アクリル−シリコーングラフトポリマーを主成分とす
る自己架橋熱硬化型樹脂）に分散させ、溶剤（エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、イオン交換水）で
溶解したものであり、表面エネルギーは４００μＮ／ｃ
ｍである。

【００８４】ブラックマトリクスの開口部に充填された
インクは、透明基板の露出部分表面を均一に覆い、にじ
みやはみ出し、隣接する開口部に充填された異なる色の
インクとの混色及び白抜けなどの不良は認められなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、保護
膜および透明導電膜を成膜しても、密着性に優れ、何ら
不都合は生じなかった。このようにして製造されたカラ
ーフィルタ基板を用いて、液晶素子を構成したところ、
欠陥のない、色特性の優れたカラー表示を行うことがで
きた。

【００８５】（実施例２）図２の工程図に示した手順に
従って本発明のブラックマトリクス基板を製造した。

【００８６】工程（ａ） 表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍｍ角、厚さ
１．１ｍｍ）上に実施例１で用いたものと同じ黒色レジ
ストを膜厚０．５μｍとなるようにスピンコートし、９
０℃で２０分のプリベークを行って黒色レジスト層を形
成した（図２（ａ））。

【００８７】工程（ｂ）〜（ｃ） 次いで、１層目のフォトマスクを介して露光し（図２
（ｂ））、現像処理を行った後、２００℃で３０分間の
熱処理を行ってパターニングされた黒色レジストを硬化
させ、１層目の撥インク性の低い接触層として黒色レジ
スト層を形成した（図２（ｃ））。

【００８８】工程（ｄ） 次いで、１層目の黒色レジスト層を有するガラス基板上
に前記黒色レジストと同じレジストにポリテトラフルオ
ロエチレンの微粒子を分散させた黒色レジストをガラス
基板上に塗布された部分が膜厚０．８μｍとなるように
スピンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って
２層目の黒色レジスト層を形成した（図２（ｄ））。

【００８９】工程（ｅ）〜（ｆ） 次いで、露光部分が１層目より１０μｍ幅の狭いフォト
マスクを介して露光し（図２（ｅ））、現像処理を行っ
た後、２００℃で３０分間の熱処理を行ってパターニン
グさせた撥インク性の高い表面層として黒色レジストを
形成した（図２（ｆ））。

【００９０】このようにして、接触層の線幅よりも表面
層の線幅の方が狭く、ブラックマトリックス上部が撥イ
ンク性の高いブラックマトリクス基板が形成できた。こ
のときの樹脂組成物層４Ｂ上とのインクの接触角は７０
°であり、透明基板上とのインクの接触角との差は３０
°以上であった。

【００９１】こうして作成したブラックマトリクス基板
を光学顕微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題
無く、精度の高いブラックマトリクス基板が得られた。
最終的にはブラックマトリクスパターンの最大膜厚は
１．２０μｍ、最小膜厚は０．７４μｍとなった。

【００９２】次に、インクジェット装置を用い、赤、
緑、青、それぞれの染料系インクをブラックマトリクス
の開口部に充填して着色した。このインクは、顔料
（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメン
トグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２０９）を
エチルセロソルブで溶かしたアクリル系共重合体（メチ
ルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、トリフェニルスルホニ
ルヘキサフルオロアンチモネート）に分散させ、必要に
応じて溶剤（エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、イオン交換水等）を添加してインクジェット適性等
を向上させたものであり、表面エネルギーは４００μＮ
／ｃｍである。

【００９３】ブラックマトリクスの開口部に充填された
インクは、透明基板の露出部分表面を均一に覆い、にじ
みやはみ出し、隣接する開口部に充填された異なる色の
インクとの混色及び白抜けなどの不良は認められなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、保護
膜および透明導電膜を成膜しても、密着性に優れ、何ら
不都合は生じなかった。このようにして製造されたカラ
ーフィルタ基板を用いて、液晶素子を構成したところ、
欠陥のない、色特性の優れたカラー表示を行うことがで
きた。

【００９４】（実施例３）図３の工程図に示した手順に
従って本発明のブラックマトリクス基板を製造した。な
お、図３において、１は基板、２は光硬化型遮光性樹脂
組成物、３はフォトマスクである。

【００９５】工程（ａ） 表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍｍ角、厚さ
１．１ｍｍ）上に実施例１で用いたものと同じ黒色レジ
ストを膜厚０．５μｍとなるようにスピンコートし、９
０℃で２０分のプリベークを行って黒色レジスト層を形
成した（図３（ａ））。

【００９６】工程（ｂ）〜（ｃ） 次いで、１層目のフォトマスクを介して露光し（プロキ
シミティギャップｄ＝６０μｍ）（図３（ｂ））、現像
処理を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行って
パターニングされた黒色レジストを硬化させ、１層目の
撥インク性の低い接触層として黒色レジスト層を形成し
た（図３（ｃ））。

【００９７】工程（ｄ） 次いで、１層目の黒色レジスト層を有するガラス基板上
に前記黒色レジストと同じレジストにポリテトラフルオ
ロエチレンの微粒子を分散させた黒色レジストをガラス
基板上に塗布された部分が膜厚０．８μｍとなるように
スピンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って
２層目の黒色レジスト層を形成した（図３（ｄ））。

【００９８】工程（ｅ）〜（ｆ） 次いで、１層目と同様のフォトマスクを介して露光し
（プロキシミティギャップｄ’＝３０μｍ）（（図３
（ｅ））、現像処理を行った後、２００℃で３０分間の
熱処理を行ってパターニングさせた撥インク性の高い表
面層として黒色レジストを形成した（図３（ｆ））。

【００９９】このようにして、接触層の線幅よりも表面
層の線幅の方が狭く、ブラックマトリックス上部が撥イ
ンク性の高いブラックマトリクス基板が形成された。

【０１００】このときの樹脂組成物層４Ｂ上とのインク
の接触角は７０°であり、透明基板上とのインクの接触
角との差は３０°以上であった。こうして作成したブラ
ックマトリクス基板を光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、エッジ形状は問題無く、精度の高いブラックマトリ
クス基板が得られた。最終的にはブラックマトリクスパ
ターンの最大膜厚は１．２２μｍ、最小膜厚は０．７２
μｍとなった。

【０１０１】次に、インクジェット装置を用い、赤、
緑、青、それぞれの染料系インクをブラックマトリクス
の開口部に充填して着色した。このインクは、実施例１
で用いたものと同じであり、表面エネルギーは４００μ
Ｎ／ｃｍである。

【０１０２】ブラックマトリクスの開口部に充填された
インクは、透明基板の露出部分表面を均一に覆い、にじ
みやはみ出し、隣接する開口部に充填された異なる色の
インクとの混色及び白抜けなどの不良は認められなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、保護
膜および透明導電膜を成膜しても、密着性に優れ、何ら
不都合は生じなかった。このようにして製造されたカラ
ーフィルタ基板を用いて、液晶素子を構成したところ、
欠陥のない、色特性の優れたカラー表示を行うことがで
きた。

【０１０３】（実施例４）図４の工程図に示した手順に
従って本発明のブラックマトリクス基板を製造した。

【０１０４】工程（ａ） 表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍｍ角、厚さ
１．１ｍｍ）上に東レ社製のアニオン重合系ポリマー
（ＳＰ９１２）１０重量部に対して、カーボンブラック
５重量部を添加し、Ｎ−メチル−２ピロリドン（ＮＭ
Ｐ）又は／及び、アルコール系溶剤、トルエン、メチル
エチルケトン等の有機溶剤等を用いてボールミル（三本
ロール）にて混練分散させて得られた、非感光性遮光性
樹脂組成物を膜厚０．５μｍとなるようにスピンコート
し、９０℃で２０分のプリベークを行って黒色非感光性
遮光性樹脂組成物層を形成した（図４（ａ））。

【０１０５】工程（ｂ） この後、ネガ型レジストをスピナーで塗布後、９０℃で
２０分乾燥した（図４（ｂ））。

【０１０６】工程（ｃ）〜（ｅ） 次いで、１層目のフォトマスクを介して露光し（図４
（ｃ））、現像処理（図４（ｄ））及びエッチングを行
った後、２００℃で３０分間の熱処理を行ってパターニ
ングされた黒色非感光性遮光性樹脂組成物を硬化させ、
１層目の撥インク性の低い接触層として黒色非感光性遮
光性樹脂組成物層を形成した（図４（ｅ））。

【０１０７】工程（ｆ） 次いで、１層目の黒色レジスト層を有するガラス基板上
に前記黒色レジストと同じレジストにポリテトラフルオ
ロエチレンの微粒子を分散させた黒色レジストをガラス
基板上に塗布された部分が膜厚０．８μｍとなるように
スピンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って
２層目の黒色非感光性遮光性樹脂組成物層を形成した
（図４（ｆ））。

【０１０８】工程（ｇ） この後、ネガ型レジストをスピナーで塗布後、９０℃、
２０分で乾燥した（図４（ｇ））。

【０１０９】工程（ｈ）〜（ｊ） 次いで、露光部分が１層目より１０μｍ幅の狭いフォト
マスクを介して露光し（図４（ｈ））、現像処理（図４
（ｉ））及びエッチングを行った後、２００℃で３０分
間の熱処理を行ってパターニングさせた撥インク性の高
い表面層として黒色非感光性遮光性樹脂組成物層を形成
した（図４（ｊ））。

【０１１０】そのようにして、断面形状に段差のあるブ
ラックマトリクスパターンを持つブラックマトリクス基
板が形成された。このときの非感光性遮光性樹脂組成物
層上の着色インクに対する接触角は７１°であり、透明
基板の着色インクでの接触角との差は３０°以上であっ
た。こうして作成したブラックマトリクス基板を光学顕
微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題無く、精
度の高いブラックマトリクス基板が得られた。最終的に
はブラックマトリクスパターンの最大膜厚は１．２２μ
ｍ、最小膜厚は０．７６μｍとなった。

【０１１１】次に、インクジェット装置を用い、赤、
緑、青、それぞれの染料系インクをブラックマトリクス
の開口部に充填して着色した。このインクは、顔料
（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメン
トグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２０９）を
エチルセロソルブで溶かしたアクリル系共重合体（メチ
ルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、トリフェニルスルホニ
ルヘキサフルオロアンチモネート）に分散させ、必要に
応じて溶剤（エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、イオン交換水等）を添加してインクジェット適性等
を向上させたものであり、表面エネルギーは４００μＮ
／ｃｍである。

【０１１２】ブラックマトリクスの開口部に充填された
インクは、該開口部内の基板表面を均一に覆い、にじみ
やはみ出し、隣接する開口部に充填された異なる色のイ
ンクとの混色及び白抜けなどの不良は認められなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、保護
膜および透明導伝電膜を成膜しても、密着性に優れ、何
ら不都合は生じなかった。このようにして製造されたカ
ラーフィルタ基板を用いて、液晶素子を構成したとこ
ろ、欠陥のない、色特性の優れたカラー表示を行うこと
ができた。

【０１１３】（比較例１）ガラス基板上に、実施例１で
用いたものと同じ新日鉄化学社製のネガ型の黒色レジス
ト「Ｖ２５９ＢＫ７３９Ｐ」を膜厚１μｍとなるように
スピンコートし、９０℃で２０分のプリベークを行って
黒色レジスト層を形成した。次いで、ブラックマトリク
ス用のフォトマスクを介して露光し、現像処理を行った
後、２００℃で３０分間の熱処理を行って、パターニン
グした黒色レジストを硬化させ、ブラックマトリクスを
形成した。

【０１１４】以上により、膜厚が実施例１〜４で得られ
たブラックマトリクスの最大膜厚とほぼ同等でありかつ
面積が同じであって、またその断面形状が矩形であるブ
ラックマトリクス基板を持つブラックマトリクス基板を
形成した。このときの感光性樹脂組成物層上の着色イン
クに対する接触角は３５°であり、透明基板の着色イン
クでの接触角との差は３０°以下であった。

【０１１５】次に、そのブラックマトリクス基板を用い
て実施例１〜４と同様の方法でインクジェット法により
カラーフィルタを作製した。使用したインクは実施例１
で用いたものと同じである。この時、にじみやはみ出し
が生じ、隣接する着色部間で混色が起きた。

【０１１６】（比較例２）ガラス基板上に、比較例１と
同じネガ型の黒色レジストにポリテトラフルオロエチレ
ンの微粒子を分散させた黒色レジストを膜厚１μｍとな
るようにスピンコートし、９０℃で２０分のプリベーク
を行って黒色レジスト層を形成した。次いで、ブラック
マトリクス用のフォトマスクを介して露光し、現像処理
を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行って、パ
ターニングした黒色レジストを硬化させ、ブラックマト
リクスを形成した。

【０１１７】以上により、膜厚が実施例１〜４で得られ
たブラックマトリクスの最大膜厚とほぼ同等でありかつ
面積が同じであって、またその断面形状が矩形であるブ
ラックマトリクス基板を持つブラックマトリクス基板を
形成した。このときの感光性樹脂組成物層上の着色イン
クに対する接触角は７０°であり、透明基板の着色イン
クでの接触角との差は３０°以上であった。

【０１１８】次に、そのブラックマトリクス基板を用い
て実施例１〜４と同様の方法でインクジェット法により
カラーフィルタを作製した。使用したインクは実施例２
で用いたものと同じである。このようにして作製したカ
ラーフィルタの断面形状は図６のようになっていた。こ
の時、にじみやはみ出し、隣接するカラーフィルタ間で
の混色は見つからなかったが、着色部とブラックマトリ
クスとの境界で白抜けが発生していた。

【０１１９】（比較例３）ガラス基板上に、実施例４で
用いたものと同じ非感光性遮光性樹脂組成物にポリテト
ラフルオロエチレンの微粒子を分散させた黒色レジスト
を膜厚１μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で２
０分のプリベークを行って黒色の非感光性遮光性樹脂組
成物層を形成した。この後、ポジ型レジストをスピナー
で塗布後、９０℃、２０分で乾燥した。次いで、ブラッ
クマトリックス用のフォトマスクを介して露光し、現像
処理及びエッチングを行った後、２００℃で３０分間の
熱処理を行ってパターニングした黒色非感光性遮光性樹
脂組成物を硬化させ、ブラックマトリックスを形成し
た。

【０１２０】以上により、膜厚が実施例１〜４で得られ
たブラックマトリクスの最大膜厚とほぼ同等であり且つ
面積が同じであって、またその断面形状が矩形であるブ
ラックマトリクス基板を持つブラックマトリクス基板を
形成した。このときの非感光性遮光性樹脂組成物層上の
インクに対する接触角は６８°であり、透明基板の着色
インクでの接触角との差は３０°以上であった。次に、
そのブラックマトリクス基板を用いて実施例１〜４と同
様の方法でインクジェット法によりカラーフィルタを作
製した。使用したインクは実施例１で用いたものと同じ
である。このようにして作製したカラーフィルタの断面
形状は図６のようになっていた。この時、にじみやはみ
出し、隣接するカラーフィルタ間での混色は見つからな
かったが、カラーフィルタとブラックマトリクスとの境
界で白抜けが発生していた。

【０１２１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ブラックマトリクスの開口部にインクを充填してカラー
フィルタを構成するためのブラックマトリクス基板にお
いて、ブラックマトリクスとの境界部分でインクのはじ
きによるカラーフィルタの白抜けを防止し、且つ基板と
着色部との密着性を改善し、これによって、欠陥やむ
ら、混色がなく、高コントラストで信頼性の高いカラー
フィルタを容易に製造することができるブラックマトリ
クス基板とカラーフィルタ及びその製造方法を提供し、
さらには該カラーフィルタを用いた高画質なカラー表示
が可能な液晶素子を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法の
一例を示す断面工程図である。

【図２】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法の
一例を示す断面工程図である。

【図３】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法の
一例を示す断面工程図である。

【図４】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法の
一例を示す断面工程図である。

【図５】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法の
一例を示す断面工程図である。

【図６】従来のカラーフィルタの部分断面図である。

【図７】本発明のカラーフィルタの一実施形態の部分断
面図である。

【図８】本発明のカラーフィルタの一実施形態の部分断
面図である。

【図９】本発明のカラーフィルタの製造方法の模式的な
断面工程図である。

【図１０】液晶素子の模式断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２Ａ 感光性樹脂組成物層Ａ ２Ｂ 感光性樹脂組成物層Ｂ ３，３’ フォトマスク ４ ブラックマトリクス ４Ａ 樹脂組成物層Ａ ４Ｂ 樹脂組成物層Ｂ ５ 着色部 ６ 保護膜 ７ 共通電極 ８ 配向膜 ９ 液晶化合物 １０ 配向膜 １１ 画素電極 １２ 透明基板 １３ 偏光板 １４ ネガ型レジスト １５Ａ 非感光性樹脂組成物層Ａ １５Ｂ 非感光性樹脂組成物層Ｂ １６ インクジェット装置 １７ インク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０３Ｆ 7/095 ４Ｊ０３９ Ｇ０３Ｆ 7/095 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ (72)発明者 藤池 弘 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FB01 FC01 FD20 2H025 AA02 AB13 AC01 AD01 BC13 BC42 CB51 CC11 DA11 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA02 BA11 BA64 BB02 BB14 BB15 BB22 BB37 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB03 FB04 FB12 FC10 FD04 FD05 FD06 LA30 4J039 AD10 BC07 BC10 BC11 BC12 BC13 BC14 BC16 BC36 BC50 BE01 BE02 BE12 GA24

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に遮光性樹脂パターンとして
   形成されたブラックマトリクスを有し、該ブラックマト
   リクスの開口部にインクを充填してカラーフィルタを構
   成するためのブラックマトリクス基板において、前記ブ
   ラックマトリクスは、前記インクとの濡れ性の異なる複
   数の樹脂組成物を積層した多層構造を有し、前記多層構
   造の各層のうち、前記透明基板と接する層である接触層
   の前記インクによる濡れ性が、前記透明基板から最も離
   れた表面側の層である表面層の前記インクによる濡れ性
   よりも良く、前記表面層と前記インクとの接触角Ｘが５
   ０°以上であり、且つ前記透明基板と前記インクとの接
   触角Ｙとの関係が、（Ｘ−Ｙ）≧３０°であることを特
   徴とするブラックマトリクス基板。
2. 【請求項２】 前記表面層は、樹脂組成物に撥インク材
   の微粒子を分散させた材料からなることを特徴とする請
   求項１に記載のブラックマトリクス基板。
3. 【請求項３】 前記積層する各層のパターンの線幅を、
   前記接触層のパターンの線幅から順次単純減少させて形
   成し、且つ少なくとも前記接触層は遮光性の樹脂組成物
   からなることを特徴とする請求項１又は２に記載のブラ
   ックマトリクス基板。
4. 【請求項４】 多層構造を有する前記ブラックマトリク
   スは、遮光性の感光性樹脂組成物を積層してなることを
   特徴とする請求項１から３のうちのいずれか１項に記載
   のブラックマトリクス基板。
5. 【請求項５】 多層構造を有する前記ブラックマトリク
   スは、遮光性の非感光性樹脂組成物を積層してなること
   を特徴とする請求項１から４のうちのいずれか１項に記
   載のブラックマトリクス基板。
6. 【請求項６】 請求項１から５のうちのいずれか１項に
   記載のブラックマトリクス基板の前記ブラックマトリク
   スの開口部に前記インクを充填する工程を含むことを特
   徴とするカラーフィルタの製造方法。
7. 【請求項７】 前記インクが、熱又は光硬化性樹脂組成
   物を含有することを特徴とする請求項６に記載のカラー
   フィルタの製造方法。
8. 【請求項８】 前記インクの充填をインクジェット方式
   により行うことを特徴とする請求項６又は７に記載のカ
   ラーフィルタの製造方法。
9. 【請求項９】 請求項６から８のうちのいずれか１項に
   記載の製造方法で製造されたことを特徴とするカラーフ
   ィルタ。
10. 【請求項１０】 一対の基板間に液晶を挟持してなる液
    晶素子であって、該一対の基板の一方を請求項９に記載
    のカラーフィルタを用いて構成したことを特徴とする液
    晶素子。