JP2002277608A - 反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置 - Google Patents
反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外部光の反射率を充分小さくすることができ
ると共に、安定にかつ高速に製造を行うことができる構
成の反射防止膜及びこの反射防止膜を備えた画像表示装
置を提供する。 【解決手段】 表面側から低屈折率層１、高屈折率層
２、低屈折率層３、高屈折率層４の順に積層されて成
り、表面側から第２層目の高屈折率層２がＴｉＯ2 から
成り、この第２層目の高屈折率層２の厚さが１５ｎｍ〜
２６ｎｍの範囲内である反射防止膜１０及び表示画面上
にこの反射防止膜１０を備えた画像表示装置を構成す
る。
ると共に、安定にかつ高速に製造を行うことができる構
成の反射防止膜及びこの反射防止膜を備えた画像表示装
置を提供する。 【解決手段】 表面側から低屈折率層１、高屈折率層
２、低屈折率層３、高屈折率層４の順に積層されて成
り、表面側から第２層目の高屈折率層２がＴｉＯ2 から
成り、この第２層目の高屈折率層２の厚さが１５ｎｍ〜
２６ｎｍの範囲内である反射防止膜１０及び表示画面上
にこの反射防止膜１０を備えた画像表示装置を構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴ（陰極線
管）やＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等の画像表示装置の
前面に設けて、これら画像表示装置の表面における反射
を抑制するための反射防止膜及びこの反射防止膜を備え
た画像表示装置に係わる。
管）やＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等の画像表示装置の
前面に設けて、これら画像表示装置の表面における反射
を抑制するための反射防止膜及びこの反射防止膜を備え
た画像表示装置に係わる。
【０００２】
【従来の技術】ＣＲＴ（陰極線管）・ＬＣＤ（液晶ディ
スプレイ）・ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のディ
スプレイ（画像表示装置）は、様々な分野で活用され目
覚しい発展を遂げている。これらディスプレイには、ガ
ラスやプラスチックの透明基板が用いられており、この
透明基板を通して文字・図形といった視覚情報を得るこ
とになる。
スプレイ）・ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のディ
スプレイ（画像表示装置）は、様々な分野で活用され目
覚しい発展を遂げている。これらディスプレイには、ガ
ラスやプラスチックの透明基板が用いられており、この
透明基板を通して文字・図形といった視覚情報を得るこ
とになる。
【０００３】このようなディスプレイにおいて、透明基
板の表面で外部光が反射して視覚情報が見えにくくなる
という問題があった。このように太陽光や蛍光灯といっ
た外部光のディスプレイへの映り込みを防止することは
重要な技術である。
板の表面で外部光が反射して視覚情報が見えにくくなる
という問題があった。このように太陽光や蛍光灯といっ
た外部光のディスプレイへの映り込みを防止することは
重要な技術である。
【０００４】そこで、反射防止のために、ディスプレイ
表面に、高屈折率材料と低屈折率材料を最も表面側が低
屈折率材料となるように交互に２層以上積層した反射防
止膜を形成する方法が開発された。これにより、広い波
長帯域で反射防止効果が得られる。このような構成の反
射防止膜に用いられる高屈折率材料としては、ＴｉＯ2
やＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等が挙げられる。ま
た、低屈折率材料としては、ＳｉＯ2 やＭｇＦ等が挙げ
られる。
表面に、高屈折率材料と低屈折率材料を最も表面側が低
屈折率材料となるように交互に２層以上積層した反射防
止膜を形成する方法が開発された。これにより、広い波
長帯域で反射防止効果が得られる。このような構成の反
射防止膜に用いられる高屈折率材料としては、ＴｉＯ2
やＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等が挙げられる。ま
た、低屈折率材料としては、ＳｉＯ2 やＭｇＦ等が挙げ
られる。
【０００５】４層構造で反射防止膜を作成する場合の各
層の膜厚の設計の指針として、例えば以下のような２つ
の関係式が知られている（「光・薄膜技術マニュアル
増補改訂版」２７６〜２７９頁、平成４年（１９９
２）、株式会社オプトロニクス社発行）。 ｎ1 2・ｎ4 2＝ｎ3 2・ｎ0 ・ｎs （１） ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ／２＝ｎ3 ｄ3 ＝ｎ4 ｄ4 ＝λ0 ／４ （２） ただし、ｎは材料の屈折率を、ｄは各層の厚さを、添え
字１〜４は最表面から数えた層の順番を示す。また、ｎ
0 は入射媒体の、ｎs は出射媒体の屈折率を示す。入射
媒体は通常空気であり、その屈折率は１．０である。出
射媒体はガラス等ディスプレイの透明基板である。尚、
λ0 は入射光線の基準波長５５０ｎｍである。式（１）
は振幅条件と呼ばれ、式（２）は位相条件と呼ばれる。
層の膜厚の設計の指針として、例えば以下のような２つ
の関係式が知られている（「光・薄膜技術マニュアル
増補改訂版」２７６〜２７９頁、平成４年（１９９
２）、株式会社オプトロニクス社発行）。 ｎ1 2・ｎ4 2＝ｎ3 2・ｎ0 ・ｎs （１） ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ／２＝ｎ3 ｄ3 ＝ｎ4 ｄ4 ＝λ0 ／４ （２） ただし、ｎは材料の屈折率を、ｄは各層の厚さを、添え
字１〜４は最表面から数えた層の順番を示す。また、ｎ
0 は入射媒体の、ｎs は出射媒体の屈折率を示す。入射
媒体は通常空気であり、その屈折率は１．０である。出
射媒体はガラス等ディスプレイの透明基板である。尚、
λ0 は入射光線の基準波長５５０ｎｍである。式（１）
は振幅条件と呼ばれ、式（２）は位相条件と呼ばれる。
【０００６】また、上述した４層構造の反射防止膜をポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような透明フィ
ルム上に構成して、これをディスプレイ表面に貼り合わ
せる構成も可能であり、この場合の出射媒体はＰＥＴ等
の透明フィルムとなる。
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような透明フィ
ルム上に構成して、これをディスプレイ表面に貼り合わ
せる構成も可能であり、この場合の出射媒体はＰＥＴ等
の透明フィルムとなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ＴｉＯ2 は屈折率が
２．３〜２．７と他の材料より高く、高屈折率材料とし
て特に適した材料である。このＴｉＯ2 を上述の反射防
止膜の２層目（屈折率ｎ2 、膜厚ｄ2 ）に採用すると、
式（３）より膜厚ｄ2 の適切な値が約１００ｎｍ〜１２
０ｎｍとなる。このＴｉＯ2 膜の成膜は、マグネトロン
スパッタ法により行う。
２．３〜２．７と他の材料より高く、高屈折率材料とし
て特に適した材料である。このＴｉＯ2 を上述の反射防
止膜の２層目（屈折率ｎ2 、膜厚ｄ2 ）に採用すると、
式（３）より膜厚ｄ2 の適切な値が約１００ｎｍ〜１２
０ｎｍとなる。このＴｉＯ2 膜の成膜は、マグネトロン
スパッタ法により行う。
【０００８】しかしながら、このマグネトロンスパッタ
法によるＴｉＯ2 の成膜レートが５〜６ｎｍ×ｍ／分と
低いため、上述の１００ｎｍ〜１２０ｎｍの膜厚のＴｉ
Ｏ2を成膜するのに長い時間がかかるという問題点があ
る。
法によるＴｉＯ2 の成膜レートが５〜６ｎｍ×ｍ／分と
低いため、上述の１００ｎｍ〜１２０ｎｍの膜厚のＴｉ
Ｏ2を成膜するのに長い時間がかかるという問題点があ
る。
【０００９】特に低屈折率材料としてＳｉＯ2 （屈折率
ｎ＝１．４〜１．５）を用いる場合には、ＳｉＯ2 の成
膜レートが１０〜２５ｎｍ×ｍ／分と高いため、ＴｉＯ
2 との成膜レートの差が２〜４倍に及ぶ。このため、２
層目の高屈折率材料の成膜に必要な時間が律速となり、
高速に反射防止膜を製造することができなかった。
ｎ＝１．４〜１．５）を用いる場合には、ＳｉＯ2 の成
膜レートが１０〜２５ｎｍ×ｍ／分と高いため、ＴｉＯ
2 との成膜レートの差が２〜４倍に及ぶ。このため、２
層目の高屈折率材料の成膜に必要な時間が律速となり、
高速に反射防止膜を製造することができなかった。
【００１０】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、外部光の反射率を充分小さくすることができる
と共に、安定にかつ高速に製造を行うことができる構成
の反射防止膜及びこの反射防止膜を備えた画像表示装置
を提供するものである。
いては、外部光の反射率を充分小さくすることができる
と共に、安定にかつ高速に製造を行うことができる構成
の反射防止膜及びこの反射防止膜を備えた画像表示装置
を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止膜は、
表面側から低屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈
折率層の順に積層されて成り、表面側から第２層目の高
屈折率層がＴｉＯ2 から成り、この第２層目の高屈折率
層の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内であるものであ
る。
表面側から低屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈
折率層の順に積層されて成り、表面側から第２層目の高
屈折率層がＴｉＯ2 から成り、この第２層目の高屈折率
層の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内であるものであ
る。
【００１２】本発明の画像表示装置は、表面側から低屈
折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積
層されて成り、表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉ
Ｏ2から成り、この第２層目の高屈折率層の厚さが１５
ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内である反射防止膜を表示画面上
に備えたものである。
折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積
層されて成り、表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉ
Ｏ2から成り、この第２層目の高屈折率層の厚さが１５
ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内である反射防止膜を表示画面上
に備えたものである。
【００１３】上述の本発明の反射防止膜の構成によれ
ば、第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2から成り、かつそ
の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内であることから、
反射防止膜の視感反射率が充分低くなると共に、成膜レ
ートが低いＴｉＯ2 膜の厚さが比較的薄くなり、このＴ
ｉＯ2 膜から成る第２層目の高屈折率層の成膜に要する
時間を低減して、４層が積層されて成る反射防止膜の製
造に要する時間を低減することができる。
ば、第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2から成り、かつそ
の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内であることから、
反射防止膜の視感反射率が充分低くなると共に、成膜レ
ートが低いＴｉＯ2 膜の厚さが比較的薄くなり、このＴ
ｉＯ2 膜から成る第２層目の高屈折率層の成膜に要する
時間を低減して、４層が積層されて成る反射防止膜の製
造に要する時間を低減することができる。
【００１４】上述の本発明の画像表示装置の構成によれ
ば、上記本発明の反射防止膜を表示画面上に備えたこと
により、反射防止膜の視感反射率が充分小さくなってい
るので、表示画面における外部光の反射が充分に低減さ
れる。また、反射防止膜の製造に要する時間も低減され
ているため、画像表示装置の製造に要する時間も低減さ
れる。
ば、上記本発明の反射防止膜を表示画面上に備えたこと
により、反射防止膜の視感反射率が充分小さくなってい
るので、表示画面における外部光の反射が充分に低減さ
れる。また、反射防止膜の製造に要する時間も低減され
ているため、画像表示装置の製造に要する時間も低減さ
れる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明は、表面側から低屈折率
層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積層さ
れて成り、表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2
から成り、この第２層目の高屈折率層の厚さが１５ｎｍ
〜２６ｎｍの範囲内である反射防止膜である。
層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積層さ
れて成り、表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2
から成り、この第２層目の高屈折率層の厚さが１５ｎｍ
〜２６ｎｍの範囲内である反射防止膜である。
【００１６】また本発明は、上記反射防止膜において、
表面側から第４層目の高屈折率層に対して、表面側とは
反対側に透明基板が接続された構成とする。
表面側から第４層目の高屈折率層に対して、表面側とは
反対側に透明基板が接続された構成とする。
【００１７】本発明は、表面側から低屈折率層、高屈折
率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積層されて成り、
表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2 から成り、
この第２層目の高屈折率層の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍ
の範囲内である反射防止膜を表示画面上に備えた画像表
示装置である。
率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積層されて成り、
表面側から第２層目の高屈折率層がＴｉＯ2 から成り、
この第２層目の高屈折率層の厚さが１５ｎｍ〜２６ｎｍ
の範囲内である反射防止膜を表示画面上に備えた画像表
示装置である。
【００１８】図１は、本発明の一実施の形態として、反
射防止膜の積層構造を示す概略断面図である。本実施の
形態は、４層構造の広帯域反射防止膜をＰＥＴ上に成膜
した場合である。この反射防止膜１０は、光線の入射側
となる表面側から順に、第１の低屈折率層１、第１の高
屈折率層２、第２の低屈折率層３、第２の高屈折率層４
が積層された構造となっており、最も下層の第２の高屈
折率層４がＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）から
成る透明基板１１上に配置された構造を有している。
射防止膜の積層構造を示す概略断面図である。本実施の
形態は、４層構造の広帯域反射防止膜をＰＥＴ上に成膜
した場合である。この反射防止膜１０は、光線の入射側
となる表面側から順に、第１の低屈折率層１、第１の高
屈折率層２、第２の低屈折率層３、第２の高屈折率層４
が積層された構造となっており、最も下層の第２の高屈
折率層４がＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）から
成る透明基板１１上に配置された構造を有している。
【００１９】第１及び第２の低屈折率層１及び３には、
ＳｉＯ2 やＭｇＦ2 （ｎ＝１．３８），ＬｉＦ（ｎ＝
１．４），ＡｌＦ3 （ｎ＝１．４），Ｎａ3 ＡｌＦ
6 （ｎ＝１．３３）等の低屈折率材料が用いられる。
ＳｉＯ2 やＭｇＦ2 （ｎ＝１．３８），ＬｉＦ（ｎ＝
１．４），ＡｌＦ3 （ｎ＝１．４），Ｎａ3 ＡｌＦ
6 （ｎ＝１．３３）等の低屈折率材料が用いられる。
【００２０】第２の高屈折率層４には、ＴｉＯ2 やＩＴ
Ｏ（ｎ＝１．９５〜２．１），ＺｎＯ（ｎ＝１．９），
ＣｅＯ2 （ｎ＝１．９５），ＳｎＯ2 （ｎ＝１．９
５），Ａｌ2 Ｏ3 （ｎ＝１．６３），Ｌａ2 Ｏ3 （ｎ＝
１．９５），ＺｒＯ2 （ｎ＝２．０５），Ｙ2 Ｏ3 （ｎ
＝１．８７）等の高屈折率材料を用いることが可能であ
る。
Ｏ（ｎ＝１．９５〜２．１），ＺｎＯ（ｎ＝１．９），
ＣｅＯ2 （ｎ＝１．９５），ＳｎＯ2 （ｎ＝１．９
５），Ａｌ2 Ｏ3 （ｎ＝１．６３），Ｌａ2 Ｏ3 （ｎ＝
１．９５），ＺｒＯ2 （ｎ＝２．０５），Ｙ2 Ｏ3 （ｎ
＝１．８７）等の高屈折率材料を用いることが可能であ
る。
【００２１】尚、ＰＥＴから成る透明基板１１上に、図
示しないハードコート層と接着層を設け、その上に第２
の高屈折率層４を接続して４層膜を積層する構成とする
こともできる。この場合のハードコート層と接着層は、
反射防止の効果を有しないため、特に材料や膜厚等は限
定されない。
示しないハードコート層と接着層を設け、その上に第２
の高屈折率層４を接続して４層膜を積層する構成とする
こともできる。この場合のハードコート層と接着層は、
反射防止の効果を有しないため、特に材料や膜厚等は限
定されない。
【００２２】本実施の形態では、特に表面側から第２層
目の第１の高屈折率層２に、最も屈折率の高いＴｉＯ2
を用いる。また、このＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率
層２の厚さを１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内とする。
目の第１の高屈折率層２に、最も屈折率の高いＴｉＯ2
を用いる。また、このＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率
層２の厚さを１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内とする。
【００２３】このように反射防止膜１０を構成すること
により、反射防止膜１０における外部光の反射率を低減
すると共に、ＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率層２の厚
さを薄くして、第１の高屈折率層２の成膜に要する時間
を短縮することができる。
により、反射防止膜１０における外部光の反射率を低減
すると共に、ＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率層２の厚
さを薄くして、第１の高屈折率層２の成膜に要する時間
を短縮することができる。
【００２４】この本実施の形態の反射防止膜１０の作用
効果について、さらに以下に詳しく説明する。ここで、
反射防止膜１０の視感反射率を求める方法を説明する。
波長λに対する照明光の強度の分布Ｐ（λ）の一例を図
７Ａに示し、反射防止膜１０の波長λに対する反射率の
分布Ｒ（λ）の一例を図７Ｂに示し、波長λに対する等
色関数ｙ（λ）の一例を図７Ｃに示す。このうち等色関
数ｙ（λ）は、等エネルギースペクトルの単色成分の三
刺激値を波長λの関数として表したものである。
効果について、さらに以下に詳しく説明する。ここで、
反射防止膜１０の視感反射率を求める方法を説明する。
波長λに対する照明光の強度の分布Ｐ（λ）の一例を図
７Ａに示し、反射防止膜１０の波長λに対する反射率の
分布Ｒ（λ）の一例を図７Ｂに示し、波長λに対する等
色関数ｙ（λ）の一例を図７Ｃに示す。このうち等色関
数ｙ（λ）は、等エネルギースペクトルの単色成分の三
刺激値を波長λの関数として表したものである。
【００２５】これら波長λに対する照明光の強度Ｐ
（λ）、反射率Ｒ（λ）、等色関数ｙ（λ）の各分布か
ら、下記数式（４）により視感反射率を求めることがで
きる。 ただし、積分の範囲は視感領域即ちλ＝３８０〜７８０
ｎｍとする。
（λ）、反射率Ｒ（λ）、等色関数ｙ（λ）の各分布か
ら、下記数式（４）により視感反射率を求めることがで
きる。 ただし、積分の範囲は視感領域即ちλ＝３８０〜７８０
ｎｍとする。
【００２６】本実施の形態のように４層の積層から成る
反射防止膜１０では、反射防止膜１０の視感反射率が充
分小さくなるようにすればよく、この視感反射率を０．
６％以下にすることが好ましい。このように視感反射率
を０．６％以下とすれば、外部光の反射の影響をほとん
ど気にならない程度に少なくすることができる。
反射防止膜１０では、反射防止膜１０の視感反射率が充
分小さくなるようにすればよく、この視感反射率を０．
６％以下にすることが好ましい。このように視感反射率
を０．６％以下とすれば、外部光の反射の影響をほとん
ど気にならない程度に少なくすることができる。
【００２７】次に、反射防止膜１０の各層の膜厚の設計
にあたっては、前述した振幅条件の式（１）及び位相条
件の式（２）に基づいて行うが、図１に示す反射防止膜
１０の構成では、屈折率の関係が式（１）の振幅条件を
満たさないため、式（２）の位相条件をそのまま適用す
ることはできない。そこで、位相条件の式（２）の前半
の ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ／２＝λ0 ／４ （３） の関係を維持した上で、さらに３層目（第２の低屈折率
層３）及び４層目（第２の高屈折率層４）の膜厚を視感
反射率が小さくなるように調整する。
にあたっては、前述した振幅条件の式（１）及び位相条
件の式（２）に基づいて行うが、図１に示す反射防止膜
１０の構成では、屈折率の関係が式（１）の振幅条件を
満たさないため、式（２）の位相条件をそのまま適用す
ることはできない。そこで、位相条件の式（２）の前半
の ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ／２＝λ0 ／４ （３） の関係を維持した上で、さらに３層目（第２の低屈折率
層３）及び４層目（第２の高屈折率層４）の膜厚を視感
反射率が小さくなるように調整する。
【００２８】すると、例えば１層目（第１の低屈折率層
１）ｎ1 ｄ1 ＝λ0 ／４（ｄ1 ＝９４ｎｍ）、２層目
（第１の高屈折率層２）ｎ2 ｄ2 ＝λ0 ／２（ｄ2 ＝１
０４ｎｍ）、３層目（第２の低屈折率層３）ｎ3 ｄ3 ＝
λ0 ／８（ｄ3 ＝４７ｎｍ）、４層目（第２の高屈折率
層４）ｎ4 ｄ4 ＝λ0 ／１６（ｄ4 ＝１３ｎｍ）のよう
な構成が得られる。この膜構成の反射防止膜における反
射率の波長分散を図１０に示す。図１０より、この場合
の反射防止膜の性能の指標となる視感反射率は２．１４
％であり、まだ充分低い視感反射率とはなっていない。
１）ｎ1 ｄ1 ＝λ0 ／４（ｄ1 ＝９４ｎｍ）、２層目
（第１の高屈折率層２）ｎ2 ｄ2 ＝λ0 ／２（ｄ2 ＝１
０４ｎｍ）、３層目（第２の低屈折率層３）ｎ3 ｄ3 ＝
λ0 ／８（ｄ3 ＝４７ｎｍ）、４層目（第２の高屈折率
層４）ｎ4 ｄ4 ＝λ0 ／１６（ｄ4 ＝１３ｎｍ）のよう
な構成が得られる。この膜構成の反射防止膜における反
射率の波長分散を図１０に示す。図１０より、この場合
の反射防止膜の性能の指標となる視感反射率は２．１４
％であり、まだ充分低い視感反射率とはなっていない。
【００２９】そこで、さらに低い視感反射率を達成する
ために、膜厚をチューニングする。これにより、１層目
（第１の低屈折率層１）ｄ1 ＝９１ｎｍ、２層目（第１
の高屈折率層２）ｄ2 ＝１０３ｎｍ、３層目（第２の低
屈折率層３）ｄ3 ＝４０ｎｍ、４層目（第２の高屈折率
層４）ｄ4 ＝８ｎｍという組み合わせを見つけることが
できる。この膜構成の反射防止膜における透過率の波長
分散を図８Ａに示し、吸収率の波長分散を図８Ｂに示
し、反射率の波長分散を図９に示す。図９より、視感反
射率は０．１６％と充分低くなっており、優れた反射防
止性を示している。
ために、膜厚をチューニングする。これにより、１層目
（第１の低屈折率層１）ｄ1 ＝９１ｎｍ、２層目（第１
の高屈折率層２）ｄ2 ＝１０３ｎｍ、３層目（第２の低
屈折率層３）ｄ3 ＝４０ｎｍ、４層目（第２の高屈折率
層４）ｄ4 ＝８ｎｍという組み合わせを見つけることが
できる。この膜構成の反射防止膜における透過率の波長
分散を図８Ａに示し、吸収率の波長分散を図８Ｂに示
し、反射率の波長分散を図９に示す。図９より、視感反
射率は０．１６％と充分低くなっており、優れた反射防
止性を示している。
【００３０】ここで、第１及び第２の低屈折率層１及び
３に例えばＳｉＯ2 を用いた場合には、マグネトロンス
パッタ法による成膜レートは前述した１０〜２５ｎｍ×
ｍ／分となる。一方、第１の高屈折率層２に用いられる
ＴｉＯ2 は、マグネトロンスパッタ法による成膜レート
は５〜６ｎｍ×ｍ／分程度である。
３に例えばＳｉＯ2 を用いた場合には、マグネトロンス
パッタ法による成膜レートは前述した１０〜２５ｎｍ×
ｍ／分となる。一方、第１の高屈折率層２に用いられる
ＴｉＯ2 は、マグネトロンスパッタ法による成膜レート
は５〜６ｎｍ×ｍ／分程度である。
【００３１】図９に反射率の波長分布を示した上述の膜
厚の組み合わせでは、成膜レートの遅いＴｉＯ2 膜から
成る第１の高屈折率層２の厚さｄ2 が１０３ｎｍと他の
層と比較して厚くなっている。即ち実際の製造上におい
ては、最も膜厚の厚い膜の成膜レートが最も遅いことに
なり、高速な生産には不向きとなってしまう。
厚の組み合わせでは、成膜レートの遅いＴｉＯ2 膜から
成る第１の高屈折率層２の厚さｄ2 が１０３ｎｍと他の
層と比較して厚くなっている。即ち実際の製造上におい
ては、最も膜厚の厚い膜の成膜レートが最も遅いことに
なり、高速な生産には不向きとなってしまう。
【００３２】成膜レートの差を鑑みると、ＴｉＯ2 の膜
厚は薄いほど有利である。そこで、ＴｉＯ2 から成る２
層目（第１の高屈折率層１）の膜厚が薄くなることを条
件に再度膜厚をチューニングすることによって、１層目
（第１の低屈折率層１）ｄ1 ＝１１０ｎｍ、２層目（第
１の高屈折率層２）ｄ2 ＝２０ｎｍ、３層目（第２の低
屈折率層３）ｄ3 ＝５３ｎｍ、４層目（第２の高屈折率
層４）ｄ4＝９ｎｍという膜厚の組み合わせを得た。こ
の場合の透過率の波長分散を図２Ａに示し、吸収率の波
長分散を図２Ｂに示し、反射率の波長分散を図３に示
す。このとき、図９の反射率には及ばないものの、視感
反射率を０．２６％と低くすることができ、実用上充分
な性能が得られることがわかった。このような膜厚構成
は、一般に知られている設計指針からは見出すことがで
きない。
厚は薄いほど有利である。そこで、ＴｉＯ2 から成る２
層目（第１の高屈折率層１）の膜厚が薄くなることを条
件に再度膜厚をチューニングすることによって、１層目
（第１の低屈折率層１）ｄ1 ＝１１０ｎｍ、２層目（第
１の高屈折率層２）ｄ2 ＝２０ｎｍ、３層目（第２の低
屈折率層３）ｄ3 ＝５３ｎｍ、４層目（第２の高屈折率
層４）ｄ4＝９ｎｍという膜厚の組み合わせを得た。こ
の場合の透過率の波長分散を図２Ａに示し、吸収率の波
長分散を図２Ｂに示し、反射率の波長分散を図３に示
す。このとき、図９の反射率には及ばないものの、視感
反射率を０．２６％と低くすることができ、実用上充分
な性能が得られることがわかった。このような膜厚構成
は、一般に知られている設計指針からは見出すことがで
きない。
【００３３】このようにすれば、２層目のＴｉＯ2 の膜
厚が２０ｎｍと比較的薄いため、２層目の成膜に要する
時間を低減することができ、反射防止膜１０全体の製造
に要する時間を低減することができる。
厚が２０ｎｍと比較的薄いため、２層目の成膜に要する
時間を低減することができ、反射防止膜１０全体の製造
に要する時間を低減することができる。
【００３４】さらに、他の１層目、３層目、４層目の膜
厚を一定にして、２層目のＴｉＯ2膜から成る第１の高
屈折率層２の膜厚を変化させた場合の視感反射率の変化
を調べた。他の層の膜厚は、それぞれ１層目（第１の低
屈折率層１）ｄ1 ＝１１０ｎｍ、３層目（第２の低屈折
率層３）ｄ3 ＝５３ｎｍ、４層目（第２の高屈折率層
４）ｄ4 ＝９ｎｍとして、２層目の第２の高屈折率層２
の膜厚を０〜１００ｎｍの範囲で変化させて、それぞれ
反射防止膜１０の視感反射率を求めた。結果を図４に示
す。
厚を一定にして、２層目のＴｉＯ2膜から成る第１の高
屈折率層２の膜厚を変化させた場合の視感反射率の変化
を調べた。他の層の膜厚は、それぞれ１層目（第１の低
屈折率層１）ｄ1 ＝１１０ｎｍ、３層目（第２の低屈折
率層３）ｄ3 ＝５３ｎｍ、４層目（第２の高屈折率層
４）ｄ4 ＝９ｎｍとして、２層目の第２の高屈折率層２
の膜厚を０〜１００ｎｍの範囲で変化させて、それぞれ
反射防止膜１０の視感反射率を求めた。結果を図４に示
す。
【００３５】図４より、視感反射率がサインカーブのよ
うに変化して、最も視感反射率が小さくなるのは２０ｎ
ｍ付近であることがわかる。また、図４より、２層目の
第１の高屈折率層２の膜厚を１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲
内とすれば、視感反射率が前述した０．６％以下となる
ことが読み取れる。そして、この範囲内であれば、２層
目のＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率層２の成膜に要す
る時間を短くすることが可能であるため、反射防止膜１
０全体の製造に要する時間を低減することができる。
うに変化して、最も視感反射率が小さくなるのは２０ｎ
ｍ付近であることがわかる。また、図４より、２層目の
第１の高屈折率層２の膜厚を１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲
内とすれば、視感反射率が前述した０．６％以下となる
ことが読み取れる。そして、この範囲内であれば、２層
目のＴｉＯ2 から成る第１の高屈折率層２の成膜に要す
る時間を短くすることが可能であるため、反射防止膜１
０全体の製造に要する時間を低減することができる。
【００３６】尚、２層目以外の他の層の膜厚は、図２に
示した場合の膜厚の周辺で変化させれば、視感反射率の
上昇を招かず低い視感反射率が得られるので、上述した
膜厚の値に限定されない。
示した場合の膜厚の周辺で変化させれば、視感反射率の
上昇を招かず低い視感反射率が得られるので、上述した
膜厚の値に限定されない。
【００３７】また、反射防止膜１０に帯電防止機能も付
加したい場合、最も透明基板１１側の４層目の第２の高
屈折率層４の材料としてＩＴＯを用いる。この場合にも
２層目の高屈折率層のＴｉＯ2 の膜厚ｄ2 が１５ｎｍ〜
２６ｎｍである条件を満たすように設計することができ
る。
加したい場合、最も透明基板１１側の４層目の第２の高
屈折率層４の材料としてＩＴＯを用いる。この場合にも
２層目の高屈折率層のＴｉＯ2 の膜厚ｄ2 が１５ｎｍ〜
２６ｎｍである条件を満たすように設計することができ
る。
【００３８】例えば反射防止膜の各層の膜厚が、それぞ
れ１層目（第１の低屈折率層１）ｄ 1 ＝１０９ｎｍ、２
層目（第１の高屈折率層２）ｄ2 ＝２０ｎｍ、３層目
（第２の低屈折率層３）ｄ3 ＝４２ｎｍ、４層目（第２
の高屈折率層４）ｄ4 ＝２５ｎｍという組み合わせのと
き、視感反射率が０．２８％となる。この構成の透過率
の波長分散を図５Ａに示し、吸収率の波長分散を図５Ｂ
に示し、反射率の波長分散を図６に示す。ＩＴＯ膜の成
膜レートは約２０ｎｍ×ｍ／分と充分に高いために、こ
の構成とした場合も高速な製造が可能である。
れ１層目（第１の低屈折率層１）ｄ 1 ＝１０９ｎｍ、２
層目（第１の高屈折率層２）ｄ2 ＝２０ｎｍ、３層目
（第２の低屈折率層３）ｄ3 ＝４２ｎｍ、４層目（第２
の高屈折率層４）ｄ4 ＝２５ｎｍという組み合わせのと
き、視感反射率が０．２８％となる。この構成の透過率
の波長分散を図５Ａに示し、吸収率の波長分散を図５Ｂ
に示し、反射率の波長分散を図６に示す。ＩＴＯ膜の成
膜レートは約２０ｎｍ×ｍ／分と充分に高いために、こ
の構成とした場合も高速な製造が可能である。
【００３９】上述の本実施の形態によれば、第１の高屈
折率層２をＴｉＯ2 により形成し、この第１の高屈折率
層２の膜厚を１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内にすることに
より、反射防止膜１０の視感反射率を０．６％以下と充
分低くすることができ、外部光による反射を低減するこ
とができる。
折率層２をＴｉＯ2 により形成し、この第１の高屈折率
層２の膜厚を１５ｎｍ〜２６ｎｍの範囲内にすることに
より、反射防止膜１０の視感反射率を０．６％以下と充
分低くすることができ、外部光による反射を低減するこ
とができる。
【００４０】また本実施の形態によれば、成膜レートの
低いＴｉＯ2 膜の厚さが薄くなるためＴｉＯ2 膜の成膜
に要する時間を低減することができるために、反射防止
膜１０の製造に要する時間も低減することができる。こ
れにより、製造速度を２〜４倍程度向上させることが可
能になる。従って、大量生産による安価な反射防止膜１
０を供給することが可能になる。
低いＴｉＯ2 膜の厚さが薄くなるためＴｉＯ2 膜の成膜
に要する時間を低減することができるために、反射防止
膜１０の製造に要する時間も低減することができる。こ
れにより、製造速度を２〜４倍程度向上させることが可
能になる。従って、大量生産による安価な反射防止膜１
０を供給することが可能になる。
【００４１】尚、上述の実施の形態では、透明基板１１
にＰＥＴ（ｎ＝１．４２）を用いたが、ＰＥＴの代わり
にガラス（ｎ＝１．５２）等により透明基板１１を構成
してもよい。
にＰＥＴ（ｎ＝１．４２）を用いたが、ＰＥＴの代わり
にガラス（ｎ＝１．５２）等により透明基板１１を構成
してもよい。
【００４２】そして、上述の実施の形態の反射防止膜１
０を表示画面上に備えることにより、ＣＲＴ（陰極線
管）・ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）・ＰＤＰ（プラズマ
ディスプレイ）等の画像表示装置を構成することができ
る。この場合、上述の実施の形態の反射防止膜１０によ
り視感反射率が低減されているため、外部光の表示画面
における反射を低減することができる。また、成膜レー
トの低いＴｉＯ2 膜が薄くなっており反射防止膜の製造
に要する時間が低減されているため、反射防止膜１０を
表示画面上に備えた画像表示装置の製造に要する時間の
短縮を図ることができる。
０を表示画面上に備えることにより、ＣＲＴ（陰極線
管）・ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）・ＰＤＰ（プラズマ
ディスプレイ）等の画像表示装置を構成することができ
る。この場合、上述の実施の形態の反射防止膜１０によ
り視感反射率が低減されているため、外部光の表示画面
における反射を低減することができる。また、成膜レー
トの低いＴｉＯ2 膜が薄くなっており反射防止膜の製造
に要する時間が低減されているため、反射防止膜１０を
表示画面上に備えた画像表示装置の製造に要する時間の
短縮を図ることができる。
【００４３】反射防止膜の画像表示装置の表示画面上へ
の取付は、例えば接着剤を用いて接着することにより行
うことができる。このとき、例えば表示画面の透明材の
表面に反射防止膜を取り付けるが、透明材に４層目の第
２の低屈折率層を直接付ける構成と、ＰＥＴ等の透明基
板１１上に４層構造を形成した反射防止膜１０を透明材
に付ける構成とが考えられる。後者の方が、反射防止膜
の取付が容易であり、安定して製造を行うことができ
る。
の取付は、例えば接着剤を用いて接着することにより行
うことができる。このとき、例えば表示画面の透明材の
表面に反射防止膜を取り付けるが、透明材に４層目の第
２の低屈折率層を直接付ける構成と、ＰＥＴ等の透明基
板１１上に４層構造を形成した反射防止膜１０を透明材
に付ける構成とが考えられる。後者の方が、反射防止膜
の取付が容易であり、安定して製造を行うことができ
る。
【００４４】本発明は、上述の実施の形態に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。
【００４５】
【発明の効果】上述の本発明によれば、反射防止膜の視
感反射率が充分低くなると共に、成膜レートが低いＴｉ
Ｏ2 膜の厚さが比較的薄くなり、ＴｉＯ2 膜から成る高
屈折率層の成膜に要する時間を低減して、反射防止膜全
体の製造に要する時間を低減することができるため、安
定して高速に製造することができる。従って、反射防止
膜が高い生産性を有し、大量生産により反射防止膜を安
価に市場に提供することができる。
感反射率が充分低くなると共に、成膜レートが低いＴｉ
Ｏ2 膜の厚さが比較的薄くなり、ＴｉＯ2 膜から成る高
屈折率層の成膜に要する時間を低減して、反射防止膜全
体の製造に要する時間を低減することができるため、安
定して高速に製造することができる。従って、反射防止
膜が高い生産性を有し、大量生産により反射防止膜を安
価に市場に提供することができる。
【００４６】また、本発明によれば、反射防止膜の視感
反射率が充分小さくなっているので、表示画面における
外部光の反射が充分に低減される。また、反射防止膜の
製造に要する時間も低減されているため、画像表示装置
の製造に要する時間も低減される。従って、本発明によ
り、表示画面上に反射防止膜を備えた画像表示装置の生
産性を向上することができる。
反射率が充分小さくなっているので、表示画面における
外部光の反射が充分に低減される。また、反射防止膜の
製造に要する時間も低減されているため、画像表示装置
の製造に要する時間も低減される。従って、本発明によ
り、表示画面上に反射防止膜を備えた画像表示装置の生
産性を向上することができる。
【図１】本発明の一実施の形態の反射防止膜の積層構造
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図２】Ａ 第１の高屈折率層の膜厚を薄くした構成に
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第１の高屈折率層の膜厚を薄くした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第１の高屈折率層の膜厚を薄くした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
【図３】第１の高屈折率層の膜厚を薄くした構成におけ
る反射率の波長分散を示す図である。
る反射率の波長分散を示す図である。
【図４】第１の高屈折率層の膜厚を変化させたときの視
感反射率の変化を示す図である。
感反射率の変化を示す図である。
【図５】Ａ 第２の高屈折率層をＩＴＯ膜とした構成に
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第２の高屈折率層をＩＴＯ膜とした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第２の高屈折率層をＩＴＯ膜とした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
【図６】第２の高屈折率層をＩＴＯ膜とした構成におけ
る反射率の波長分散を示す図である。
る反射率の波長分散を示す図である。
【図７】視感反射率の求め方を説明する図である。 Ａ 照明光強度の波長分布の一例を示す図である。 Ｂ 反射率の波長分布の一例を示す図である。 Ｃ 等色関数の波長分布の一例を示す図である。
【図８】Ａ 第１の高屈折率層の膜厚を厚くした構成に
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第１の高屈折率層の膜厚を厚くした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
おける透過率の波長分散を示す図である。 Ｂ 第１の高屈折率層の膜厚を厚くした構成における吸
収率の波長分散を示す図である。
【図９】第１の高屈折率層の膜厚を厚くした構成におけ
る反射率の波長分散を示す図である。
る反射率の波長分散を示す図である。
【図１０】位相条件の式により求めた膜厚構成の場合に
おける反射率の波長分散を示す図である。
おける反射率の波長分散を示す図である。
１ 第１の低屈折率層、２ 第１の高屈折率層、３ 第
２の低屈折率層、４ 第２の高屈折率層、１０ 反射防
止膜、１１ 透明基板
２の低屈折率層、４ 第２の高屈折率層、１０ 反射防
止膜、１１ 透明基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H091 FA37X FB06 FC02 FC26 FC29 FD06 FD23 LA11 2K009 AA07 BB24 CC03 DD04 4F100 AA20 AA21B AA33 AK42 AT00E BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D BA10E BA26 EH66 EH662 GB41 JN01E JN18 JN18A JN18B JN18C JN18D YY00B 5C058 DA01 5G435 AA02 AA17 BB12 CC09 FF03 HH03
Claims (3)
- 【請求項１】 表面側から低屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層、高屈折率層の順に積層されて成る反射防止膜
であって、 表面側から第２層目の上記高屈折率層がＴｉＯ2 から成
り、 上記第２層目の上記高屈折率層の厚さが、１５ｎｍ〜２
６ｎｍの範囲内であることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 表面側から第４層目の上記高屈折率層に
対して、表面側とは反対側に透明基板が接続されて成る
ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 表面側から低屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層、高屈折率層の順に積層されて成り、表面側か
ら第２層目の上記高屈折率層がＴｉＯ2 から成り、該第
２層目の上記高屈折率層の厚さが、１５ｎｍ〜２６ｎｍ
の範囲内である反射防止膜を表示画面上に備えたことを
特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001083323A JP2002277608A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001083323A JP2002277608A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002277608A true JP2002277608A (ja) | 2002-09-25 |
Family
ID=18939157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001083323A Pending JP2002277608A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002277608A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005037535A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | ディスプレイ装置用フィルタ及びディスプレイ装置 |
| JP2005045038A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
| WO2005097484A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2007182024A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Kitagawa Ind Co Ltd | 防眩フィルム |
| JPWO2010016242A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2012-01-19 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
| JP2012128135A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| US8436965B2 (en) | 2006-06-02 | 2013-05-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| JP2015122060A (ja) * | 2013-11-21 | 2015-07-02 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル付き表示装置 |
| JP2017529260A (ja) * | 2014-09-05 | 2017-10-05 | コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. | ディスプレイ装置用基板 |
-
2001
- 2001-03-22 JP JP2001083323A patent/JP2002277608A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005037535A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | ディスプレイ装置用フィルタ及びディスプレイ装置 |
| JP2005045038A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
| WO2005097484A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2007182024A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Kitagawa Ind Co Ltd | 防眩フィルム |
| US8436965B2 (en) | 2006-06-02 | 2013-05-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| JPWO2010016242A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2012-01-19 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
| JP2012128135A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| JP2015122060A (ja) * | 2013-11-21 | 2015-07-02 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル付き表示装置 |
| JP2017529260A (ja) * | 2014-09-05 | 2017-10-05 | コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. | ディスプレイ装置用基板 |
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