JP2017529260A

JP2017529260A - ディスプレイ装置用基板

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Publication number: JP2017529260A
Application number: JP2017512687A
Authority: JP
Inventors: ジンスアン、; ミンソクキム、
Original assignee: Corning Precision Materials Co Ltd
Current assignee: Corning Precision Materials Co Ltd
Priority date: 2014-09-05
Filing date: 2015-09-03
Publication date: 2017-10-05
Anticipated expiration: 2035-09-03
Also published as: EP3189963B1; JP6432089B2; TW201614266A; KR101606172B1; EP3189963A1; WO2016036152A1; CN106687894A; KR20160029409A; US10401992B2; US20170255290A1; CN106687894B; EP3189963A4; TWI585641B

Abstract

本発明は、ディスプレイ装置用基板に係り、より詳しくは、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト（ｃｏｌｏｒｓｈｉｆｔ）の発生が最小化できるディスプレイ装置用基板に関する。このために、本発明は、基材；前記基材上に形成され、ＡｌＯＮからなるハードコート膜；前記基材と前記ハードコート膜との間に形成され、第１屈折率を有するコーティング膜と第２屈折率を有するコーティング膜が順次繰り返し積層されてなる多層膜を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板を提供する。

Description

本発明は、ディスプレイ装置用基板に係り、より詳しくは、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト（ｃｏｌｏｒｓｈｉｆｔ）の発生が最小化できるディスプレイ装置用基板に関する。

現代社会が高度情報化していくにつれ、顕著に進歩したイメージディスプレイ（ｉｍａｇｅｄｉｓｐｌａｙ）関連部品や機器が普及されつつある。その中でも、画像を表示するディスプレイ装置は、テレビ装置用、パーソナルコンピュータのモニタ装置用等としてその普及が顕著になっている。これに伴い、表示装置に代表されていた陰極線管（ｃａｔｈｏｄｅｒａｙｔｕｂｅ：ＣＲＴ）は、液晶ディスプレイ装置（ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ装置（ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）、電界放出表示装置（ｆｉｅｌｄｅｍｉｓｓｉｏｎｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）、有機発光ディスプレイ装置（ｏｒｇａｎｉｃｌｉｇｈｔｅｍｉｔｔｉｎｇｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）等のようなフラットパネルディスプレイ装置（ｆｌａｔｐａｎｅｌｄｉｓｐｌａｙ：ＦＰＤ）に急速に代替されてきている。

一方、近年に入り、スマートフォンの登場によって、モバイルディスプレイ装置を中心にタッチパネルの使用が急速に拡大されてきている。タッチパネルは、ディスプレイ装置の前面に配設され、ユーザがディスプレイ装置を見ながら指先またはスタイラス（ｓｔｙｌｕｓ）等の入力装置でこれをタッチすれば信号が出力できるようにした装置である。このとき、この種のタッチパネルを介して直接的に圧力を受けるカバー基板は、その機能上、高い透光性を満たすと共に、数百万回の接触に耐えられる必要があることから高い機械的耐久性を必要とする。このため、より優れた耐久性や光学特性を同時に実現可能なカバー基板を作製するための努力が続いている。

韓国公開特許第１０−２０１１−０１３５６１２号公報

本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト（ｃｏｌｏｒｓｈｉｆｔ）の発生を最小化できるディスプレイ装置用基板を提供することである。

このために、本発明は、基材；前記基材上に形成され、ＡｌＯＮからなるハードコート膜；前記基材と前記ハードコート膜との間に形成され、第１屈折率を有するコーティング膜と第２屈折率を有するコーティング膜とが順次繰り返し積層されてなる多層膜を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板を提供する。

ここで、前記第１屈折率を有するコーティング膜と前記第２屈折率を有するコーティング膜とは、少なくとも２回順次繰り返し積層されていてよい。

このとき、前記第１屈折率は２．０〜２．５で、前記第２屈折率は１．３５〜１．６であってよい。

また、前記多層膜は、前記基材上に形成され、前記第１屈折率を有する第１コーティング膜、前記第１コーティング膜上に形成され、前記第１屈折率よりも屈折率が低い第２屈折率を有する第２コーティング膜、前記第２コーティング膜上に形成され、前記第１コーティング膜をなす物質と同一の物質からなる第３コーティング膜、及び前記第３コーティング膜上に形成され、前記第２コーティング膜をなす物質と同一の物質からなる第４コーティング膜を含んでいてよい。

このとき、前記第１コーティング膜及び前記第３コーティング膜は、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_３Ｏ_５、及びＺｒＯ_２を含む屈折率が２．０〜２．５の金属酸化物から選択されたいずれか一種の金属酸化物からなるものであってよい。

また、前記第１コーティング膜及び前記第３コーティング膜は、前記第２コーティング膜及び前記第４コーティング膜よりも相対的に薄い膜厚で形成されていてよい。

そして、前記第１コーティング膜、前記第３コーティング膜、及び前記ハードコート膜のうち前記第１コーティング膜が相対的に最も薄い膜厚で形成され、前記ハードコート膜が相対的に最も厚い膜厚で形成されていてよい。

さらに、前記ハードコート膜は、前記多層膜の膜厚さよりも少なくとも１０倍以上の厚い膜厚で形成されていてよい。

このとき、前記ハードコート膜は、１,０００〜３,０００ｎｍの膜厚で形成されていてよい。

また、前記ハードコート膜上に形成され、前記ハードコート膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第５コーティング膜を更に含んでいてよい。

このとき、前記第５コーティング膜は、前記第２コーティング膜及び前記第４コーティング膜をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。

本発明によれば、ＡｌＯＮからなるハードコート膜の下部に該ハードコート膜と屈折率が同等かそれよりも高屈折のコーティング膜及びそれよりも低屈折のコーティング膜が順次繰り返し積層されてなる多層膜構造を備えることにより、耐久性を向上することができ、且つディスプレイ装置への適用の際に、カラーシフトの発生を最小化できる。

特に、本発明によれば、ディスプレイ装置に使用されるタッチパネルのカバー基板への適用の際、優れた耐久性により、数百万回の接触に耐えられ、且つ、カラーシフトの発生の最小化によって、要求される優れた光学的特性をも同時に満足させることができる。

本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板を概略的に示す断面模式図である。本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の波長による透過率及び反射率の変化を示すグラフである。本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の波長による透過率及び反射率の変化を示すグラフである。本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の光学特性に対するシミュレーション結果を示す図である。本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の光学特性に対するシミュレーション結果を示す図である。本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の光学特性に対するシミュレーション結果を示す図である。

以下、添付の図面を参照して本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板について詳しく説明する。

なお、本発明を説明するにあたって、関連公知機能あるいは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にし得ると判断された場合、その詳細な説明を省略することにする。

図１に示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板１００は、各種のディスプレイ装置のカバー基板やディスプレイ装置の前面に配設されるタッチパネルのカバー基板への適用が可能な基板である。この種のディスプレイ装置用基板１００は、基材１１０、ハードコート膜１２０、及び多層膜１３０を含んでなる。

基材１１０は、ハードコート膜１２０及び多層膜１３０を支持する役割をする。このような基材１１０は、ディスプレイ装置への適用のために、高透明性や耐熱性を有する物質からなることが好ましい。このとき、基材１１０の透明性に関しては、可視光線透過率が８０％以上であることが好ましく、また、耐熱性に関しては、ガラス転移温度が５０℃以上であることが好ましい。さらに、基材１１０は、無機化合物成形物と有機高分子成形物からなるものであってよい。このとき、無機化合物成形物としては、反強化ガラス、石英等が挙げられる。また、有機高分子成形物としては、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、アクリル（ａｃｒｙｌ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ウレタンアクリレート（ｕｒｅｔｈａｎｅａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、エポキシアクリレート（ｅｐｏｘｙａｃｒｙｌａｔｅ）、臭素化アクリレート（ｂｒｏｍｉｎａｔｅａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリ塩化ビニル（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＰＶＣ）等が挙げられる。

ハードコート膜１２０は、基材１１０上に形成されるが、より詳しくは、基材１１０上に形成される多層膜１３０上に形成される。本発明の実施例において、このようなハードコート膜１２０はＡｌＯＮからなる。ここで、ＡｌＯＮは硬く且つ透過率に優れる材料と評価される。しかし、角度による光学特性の変化が大きいため、言い換えれば、角度によるカラーシフトの発生によってディスプレイ装置のカバー基板材料への使用には不向きであると認識されてきた。これに対し、本発明の実施例では、ＡｌＯＮからなるハードコート膜１２０の下部に屈折率が異なるコーティング膜を積層してなる多層膜１３０を備えることにより、ＡｌＯＮによるカラーシフトの発生問題を解決したが、これについては後述することにする。

一方、ＡｌＯＮからなるハードコート膜１２０は、ディスプレイ装置用基板１００の表面強度を強化させる層であるため、多層膜１３０をなす複数のコーティング膜１３１〜１３４よりも相対的に厚い厚膜で形成される。このとき、ハードコート膜１２０をなすＡｌＯＮは、屈折率が１．８〜２．３で、多層膜１３０をなす第１コーティング膜１３１と第３コーティング膜１３３とともに高屈折層としての役割をする。このようなハードコート膜１２０は、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３よりも厚い膜厚で形成されることに加え、多層膜１３０の全体の膜厚よりも少なくとも１０倍以上の厚い膜厚で形成されてよい。本発明の実施例において、ハードコート膜１６０は、１,０００〜３,０００ｎｍの膜厚、好ましくは、２,０００ｎｍの膜厚で形成されてよい。

多層膜１３０は、基材１１０とハードコート膜１２０との間に形成される。また、多層膜１３０は、屈折率が異なる、すなわち、第１屈折率を有するコーティング膜と第２屈折率を有するコーティング膜とが順次繰り返し積層されてなる。このとき、第１屈折率を有するコーティング膜と第２屈折率を有するコーティング膜とは、少なくとも２回順次繰り返し積層されていてよい。本発明の実施例において、第１屈折率を有するコーティング膜は、高屈折層であって屈折率が２．０〜２．５であり、第２屈折率を有するコーティング膜は、低屈折層であって屈折率が１．３５〜１．６である。

本発明の実施例に係る多層膜１３０は、順に積層されている第１コーティング膜１３１、第２コーティング膜１３２、第３コーティング膜１３３、及び第４コーティング膜１３４を含んでなるものであってよいが、これは、一例に過ぎず、より多くのコーティング膜を積層してなるものであってもよい。

一方、第１コーティング膜１３１は基材１１０上に形成される。本発明の実施例において、第１コーティング膜１３１は、第１屈折率を有する高屈折層をなす。すなわち、第１コーティング膜１３１は、第２コーティング膜１３２及び第４コーティング膜１３４よりも屈折率が相対的に高い物質からなるものであってよい。また、第１コーティング膜１３１は、第３コーティング膜１３３をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。そして、第１コーティング膜１３１は、ハードコート膜１２０をなすＡｌＯＮと同等またはそれ以上の屈折率を有する物質からなるものであってよい。このように、第１コーティング膜１３１が高屈折率を有する物質からなると、膜厚を減少させることができ、これにより、ディスプレイ装置用基板１００の構造の単純化が可能になり、且つ、低屈折層をなす第２コーティング膜１３２との屈折率の差が大きくなることから、光学特性をも高い水準に満足させることができる。本発明の実施例において、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１は、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_３Ｏ_５、及びＺｒＯ_２を含む屈折率が２．０〜２．５の金属酸化物から選択されたいずれか一種の金属酸化物からなるものであってよい。

一方、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１、第３コーティング膜１３３、及びハードコート膜１２０のうち第１コーティング膜１３１は、相対的に最も薄い膜厚で形成されてよい。本発明の実施例において、第１コーティング膜１３１は、８ｎｍの膜厚で形成されるが、これは一例に過ぎず、他の高屈折層の形成膜厚に応じて、第１コーティング膜１３１の形成膜厚は変化され得る。

第２コーティング膜１３２は、第１コーティング膜１３１上に形成される。本発明の実施例において、第２コーティング膜１３２は、第２屈折率を有する低屈折層をなす。すなわち、第２コーティング膜１３２は、第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３よりも屈折率が相対的に低い物質からなるものであってよい。これにより、第１コーティング膜１３１と第２コーティング膜１３２は、高屈折層と低屈折層の積層構造をなす。このとき、第２コーティング膜１３２は、第４コーティング膜１３４をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。

本発明の実施例では、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１は屈折率が２．０〜２．５の金属酸化物からなり、低屈折層をなす第２コーティング膜１３２は屈折率がそれよりも低い、例えば、屈折率が１．３５〜１．６のＳｉＯ_２やＭｇＦ_２からなるものであってよい。しかし、本発明の実施例において、第２コーティング膜１３２をなす物質をＳｉＯ_２やＭｇＦ_２のみに限定するものではない。

一方、本発明の実施例において、第２コーティング膜１３２は、４８ｎｍの膜厚で形成されていてよいが、これは、一例に過ぎず、残りの他のコーティング膜の形成膜厚に応じて、第２コーティング膜１３２の形成膜厚は変化され得る。

第３コーティング膜１３３は、第２コーティング膜１３２上に形成される。このような第３コーティング膜１３３は、第２コーティング膜１３２よりも屈折率が相対的に高い物質からなり、高屈折層をなす。すなわち、第３コーティング膜１３３は、第１コーティング膜１３１をなす第１屈折率を有する物質、例えば、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_３Ｏ_５、及びＺｒＯ_２を含む屈折率が２．０〜２．５の金属酸化物から選択されたいずれか一種の金属酸化物からなるものであってよい。これにより、第１コーティング膜１３１、第２コーティング膜１３２、及び第３コーティング膜１３３は、高屈折層、低屈折層、及び高屈折層の積層構造をなす。

一方、本発明の実施例において、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１、第３コーティング膜１３３、及びハードコート膜１２０のうち、第３コーティング膜１３３は、第１コーティング膜１３１よりは厚い膜厚で形成され、ハードコート膜１２０よりは薄い膜厚で形成される。本発明の実施例では、第１コーティング膜１３１が８ｎｍの膜厚で形成されるため、第３コーティング膜１３３は、これよりも厚い１８ｎｍの膜厚で形成されていてよい。

第４コーティング膜１３４は、第３コーティング膜１３３上に形成される。本発明の実施例において、第４コーティング膜１３４は、第２コーティング膜１３２をなす物質と同一の物質からなり、第２屈折率を有する低屈折層をなす。すなわち、第４コーティング膜１３４は、第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３よりも屈折率が相対的に低い物質からなる。本発明の実施例において、第２コーティング膜１３２が、ＳｉＯ_２やＭｇＦ_２のように屈折率が１．３５〜１．６の物質からなるため、第４コーティング膜１３４もまた、これと同一の物質からなるものであってよい。これにより、第１コーティング膜１３１、第２コーティング膜１３２、第３コーティング膜１３３、及び第４コーティング膜１３４は、高屈折層、低屈折層、高屈折層、及び高屈折層のように高屈折層と低屈折層とが順次繰り返し積層されてなる積層構造をなすようになり、このように、ディスプレイ装置から発せられた光が外部へ放出される経路に、屈折率差を有する、すなわち、高屈折層、低屈折層、高屈折層、及び高屈折層のように高屈折層と低屈折層とが順次繰り返し積層されてなる多層膜１３０が配設されると、ディスプレイ装置の光学特性はより一層向上することができる。

さらに、本発明の実施例において、第４コーティング膜１３４は、４８ｎｍの膜厚で形成される第２コーティング膜１３２よりも薄い２０ｎｍの膜厚で形成されていてよい。

一方、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板１００は、第５コーティング膜１４０を更に含んで形成されてよい。ここで、第５コーティング膜１４０は、ハードコート膜１２０上に形成され、ハードコート膜１２０よりも屈折率が相対的に低い物質からなるものであってよい。このとき、第５コーティング膜１４０は、第２コーティング膜１３２及び第４コーティング膜１３４をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。すなわち、第５コーティング膜１４０は、ＳｉＯ_２やＭｇＦ_２からなるものであってよい。本発明の実施例において、第５コーティング膜１４０は、１３ｎｍの膜厚で形成されていてよい。このような第５コーティング膜１４０は、ディスプレイ装置用基板１００の保護層としての役割をするようになる。

このように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板１００は、基材１１０上に順次繰り返し積層された第１コーティング膜１３１、第２コーティング膜１３２、第３コーティング膜１３３、及び第４コーティング膜１３４からなる多層膜１３０、ハードコート膜１２０及び第５コーティング膜１４０を含んでなる。これにより、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板１００は、ディスプレイ装置から発せられる光の放出経路に沿って高屈折／低屈折／高屈折／低屈折／高屈折／低屈折の積層構造をなし、このような屈折率差によって優れた光学特性を実現することができる。

ここで、ハードコート膜１２０とともに高屈折層をなす第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３を、ハードコート膜１２０をなすＡｌＯＮではない、それと屈折率が同等かまたはそれよりも屈折率が高い物質、例えば、Ｎｂ_２Ｏ_５で形成した理由は、屈折率が高いほどコーティング膜の膜厚を減少させることができるため、多層膜１３０の構造を単純化させることができ、また低屈折層をなす第２コーティング膜１３２及び第４コーティング膜１３４との屈折率差をＡｌＯＮよりも大きくすると、光学特性をより向上させることができるためである。また、第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３をＮｂ_２Ｏ_５で形成した理由は、ＡｌＯＮを多層で形成する場合、形成工程が複雑になり、これに伴い、設備もまた複雑になるのに対し、Ｎｂ_２Ｏ_５はＯ_２の微調整だけで安定した成膜が可能になるためである。そして、第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３をＮｂ_２Ｏ_５で形成した理由は、Ｎｂ_２Ｏ_５はＡｌＯＮと同様に優れた耐環境性を有するためである。すなわち、本発明の実施例では、ＡｌＯＮと同等またはそれ以上の光学特性及び耐久性を有し、且つ、ＡｌＯＮよりも成膜が容易なＮｂ_２Ｏ_５またはそれと均等な金属酸化物を、高屈折層をなす第１コーティング膜１３１及び第３コーティング膜１３３として選択したのである。

一方、図２及び図３は、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の波長による透過率及び反射率の変化を示すグラフであり、図２及び図３のグラフに示されるように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、波長による透過率の変化が大きくないことが確認でき、且つ、多様な角度からの波長による反射率の変化も大きくないことが確認できる。

また、図４乃至図６は、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の光学特性に関するシミュレーション結果を示す図であり、色ａ、ｂに対するシミュレーション結果を示している。シミュレーション結果をみると、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、色ａ、ｂに対する透過率及び反射率の偏差が有効範囲内に入ることが明らかになった。

前記の結果から分かるように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、高屈折層がＡｌＯＮとＮｂ_２Ｏ_５からなることで、優れた耐久性を有し、且つ多様な角度からの透過率及び反射率の偏差も大きくないことから、ディスプレイ装置への適用の際にカラーシフトの発生を最小化できる。特に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板がタッチパネルのカバー基板へ適用されると、優れた耐久性によって、数百万回の接触に耐えられ、且つカラーシフトの発生を最小化できることによって、要求される優れた光学的特性をも同時に満足させることができる。

一方、本発明の実施例では、高屈折層と低屈折層とが順次繰り返し積層されてなる６層構造を例示した。このとき、本発明の実施例において、積層構造の層数を制限する訳ではないが、層数の増加に伴い構造が複雑化し、工程能力が低下するという不具合が発生する。そして、何よりもディスプレイ装置用基板を８層や１０層構造で形成しても、６層構造からなるディスプレイ装置用基板と同等または類似の光学的特性しか実現できないので、敢えて６層よりも多層でディスプレイ装置用基板を形成する理由がない。

したがって、本発明の実施例のように、ディスプレイ装置用基板は、６層構造で形成されることが工程的、費用的側面、耐久性及び光学的側面で最も好ましいといえる。

以上、本発明を限定された実施例や図面に基づいて説明してきたが、本発明は前記の実施例に限定されるものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であればこのような記載から種々の修正及び変形が可能である。

よって、本発明の範囲は説明された実施例に限定されて決められてはならず、後述する特許請求の範囲及び特許請求の範囲と均等なもの等によって決められるべきである。

１００：ディスプレイ装置用基板
１１０：基材
１２０：ハードコート膜
１３０：多層膜
１３１：第１コーティング膜
１３２：第２コーティング膜
１３３：第３コーティング膜
１３４：第４コーティング膜
１４０：第５コーティング膜

Claims

基材；
前記基材上に形成され、ＡｌＯＮからなるハードコート膜；
前記基材と前記ハードコート膜との間に形成され、第１屈折率を有するコーティング膜と第２屈折率を有するコーティング膜とが順次繰り返し積層されてなる多層膜；
を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板。
前記第１屈折率を有するコーティング膜と前記第２屈折率を有するコーティング膜とは、少なくとも２回順次繰り返し積層されていることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用基板。
前記第１屈折率は２．０〜２．５で、前記第２屈折率は１．３５〜１．６であることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ装置用基板。
前記多層膜は、
前記基材上に形成され、前記第１屈折率を有する第１コーティング膜、
前記第１コーティング膜上に形成され、前記第１屈折率よりも屈折率が低い第２屈折率を有する第２コーティング膜、
前記第２コーティング膜上に形成され、前記第１コーティング膜をなす物質と同一の物質からなる第３コーティング膜、及び
前記第３コーティング膜上に形成され、前記第２コーティング膜をなす物質と同一の物質からなる第４コーティング膜を含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用基板。
前記第１コーティング膜及び前記第３コーティング膜は、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_３Ｏ_５、及びＺｒＯ_２を含む屈折率が２．０〜２．５の金属酸化物から選択されたいずれか一種の金属酸化物からなることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ装置用基板。
前記第１コーティング膜及び前記第３コーティング膜は、前記第２コーティング膜及び前記第４コーティング膜よりも相対的に薄い膜厚で形成されることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ装置用基板。
前記第１コーティング膜、前記第３コーティング膜、及び前記ハードコート膜のうち前記第１コーティング膜が相対的に最も薄い膜厚で形成され、前記ハードコート膜が相対的に最も厚い膜厚で形成されることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ装置用基板。
前記ハードコート膜は、前記多層膜の膜厚さよりも少なくとも１０倍以上の厚い膜厚で形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用基板。
前記ハードコート膜は、１,０００〜３,０００ｎｍの膜厚で形成されることを特徴とする請求項８に記載のディスプレイ装置用基板。
前記ハードコート膜上に形成され、前記ハードコート膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第５コーティング膜を更に含むことを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ装置用基板。
前記第５コーティング膜は、前記第２コーティング膜及び前記第４コーティング膜をなす物質と同一の物質からなることを特徴とする請求項１０に記載のディスプレイ装置用基板。