TWI525499B - 觸控顯示面板 - Google Patents

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TWI525499B
TWI525499B TW103126101A TW103126101A TWI525499B TW I525499 B TWI525499 B TW I525499B TW 103126101 A TW103126101 A TW 103126101A TW 103126101 A TW103126101 A TW 103126101A TW I525499 B TWI525499 B TW I525499B
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蒲志明
雲花
張煥煜
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宸鴻科技（廈門）有限公司
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Description

觸控顯示面板
本發明係關於一種觸控顯示面板。
隨著科技的進步，各種資訊設備不斷地推陳出新，例如手機、平板電腦、超輕薄筆電、及衛星導航等。除了一般以鍵盤或滑鼠輸入或操控之外，利用觸控式技術來操控資訊設備是一種相當直覺且受歡迎的操控方式。其中，觸控顯示面板具有人性化及直覺化的輸入操作介面，使得任何年齡層的使用者都可直接以手指或觸控筆選取或操控資訊設備，因此也愈來愈受市場所喜愛。
習知的觸控顯示面板結構，大致可分為觸控面板及顯示面板。觸控面板具有保護基板及感應基板，其分別形成有感應電極層。在製作上，保護基板須先貼合於感應基板，以形成觸控面板，接著再將觸控面板貼合於顯示面板上，而完成觸控顯示面板的製作。
由於上述製作過程需經過二道貼合手續，在感應電極層的對位上容易因公差而提高產品不良率產生的風險。此外，上述感應電極層是分別形成在二個基板上，使得觸控顯示面板整體具有一定的厚度，而與現今的資訊設備所追求的輕薄背道而馳。
因此，如何提供一種結構簡單且輕薄的觸控顯示面板，已成為重要課題之一。
有鑑於上述課題，本發明的目的為提供一種結構簡單且輕薄的觸控顯示面板。
為達上述目的，依據本發明的一種觸控顯示面板包括一偏光片、一顯示模組以及一觸控電極結構。顯示模組與偏光片相對設置。顯示 模組具有一透明基板。觸控電極結構設置於偏光片與透明基板之間。
在一實施例中，觸控電極結構可設置於偏光片上。觸控電極結構與透明基板之間可設置有一第一光學膠層。
在一實施例中，觸控顯示面板可更包括一第二光學膠層，其設置於觸控電極結構與偏光片之間。
在一實施例中，觸控電極結構可包括一薄膜層與一觸控感應層，而觸控感應層形成於薄膜層上。
在一實施例中，薄膜層可設置於觸控感應層與第一光學膠層之間，而觸控感應層位於第二光學膠層與薄膜層之間。
在一實施例中，薄膜層可位於第二光學膠層與觸控感應層之間，第二光學膠層可位於偏光片與薄膜層之間。
在一實施例中，觸控電極結構可設置於透明基板上。觸控電極結構與偏光片之間可設置有一第一光學膠層。
在一實施例中，觸控顯示面板可更包括一第二光學膠層，其設置於觸控電極結構與透明基板之間。
在一實施例中，觸控電極結構可包括一薄膜層與一觸控感應層，而觸控感應層形成於薄膜層上。
在一實施例中，薄膜層可設置於觸控感應層與第一光學膠層之間，而觸控感應層位於第二光學膠層與薄膜層之間。
在一實施例中，薄膜層可位於第二光學膠層與觸控感應層之間，而第二光學膠層位於透明基板與薄膜層之間。
在一實施例中，觸控電極結構可更包括一緩衝層，其設置於觸控感應層與薄膜層之間。
在一實施例中，緩衝層的熱膨脹係數可介於觸控電極結構的熱膨脹係數與薄膜層的熱膨脹係數之間。
在一實施例中，觸控感應層可包括金屬奈米導線、透明導電膜或金屬網格(metal mesh)。
在一實施例中，觸控顯示面板可更包括一保護基板，其設置於偏光片相對於觸控電極結構的另一側。
在一實施例中，保護基板上可設置有至少一遮蔽層，且遮蔽層位於保護基板的周邊區域。
承上所述，本發明的觸控顯示面板藉由觸控電極結構設置於偏光片與透明基板之間，可使觸控電極結構與顯示面板共用同一基板，節省基板的數量，同時亦減少觸控顯示面板的重量及厚度。
1、2‧‧‧觸控顯示面板
11、21‧‧‧顯示模組
111、211‧‧‧透明基板
112、212‧‧‧液晶層
113、213‧‧‧薄膜電晶體基板
12、22‧‧‧觸控電極結構
121、221‧‧‧觸控感應層
13、23‧‧‧偏光片
14、24‧‧‧保護基板
141、241‧‧‧遮蔽層
A‧‧‧光學膠層
A1‧‧‧第一光學膠層
A2‧‧‧第二光學膠層
B‧‧‧緩衝層
F‧‧‧薄膜層
圖1A為本發明第一實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖1B為本發明第二實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖1C為本發明第三實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖1D為本發明第四實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖2A為本發明第五實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖2B為本發明第六實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖2C為本發明第七實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
圖2D為本發明第八實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。
以下將參照相關圖式，說明依本發明較佳實施例之一種觸控顯示面板，其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。以下實施例的內容中所稱的方位「上」及「下」僅是用來表示相對的位置關係。再者，一第一元件形成於一第二元件「上」、「之上」、「下」或「之下」可包含實施例中的該第一元件與該第二元件直接接觸，或也可包含該第一元件與第二元件之間更有其他額外元件使該第一元件與第二元件無直接接觸。
圖1A為本發明第一實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。請參照圖1A，觸控顯示面板1包括一顯示模組11、一觸控電極結構12以及一偏光片13。觸控顯示面板1可例如但不限於應用在一觸控系統、一互動廣告系統、一賣場優惠訂購系統、一門禁識別系統、一資訊查詢系統、一提款系統或一可攜式行動裝置等。
在本實施例中，顯示模組11為液晶顯示模組(Liquid Crystal Display Module,LCM)，其可包括一透明基板111、一液晶層112及一薄膜電晶體(Thin Film Transistor,TFT)基板113。透明基板111與薄膜電晶體基板113相對設置，而液晶層112設置於透明基板111與薄膜電晶體基板113之間。不過，在其他實施態樣中，顯示模組11也可例如為發光二極體顯示模組或有機發光二極體(OLED)顯示模組，其內部結構與組成可分別包括發光二極體層或有機發光二極體層，以置換液晶層112，在此不作限制。
透明基板111可為玻璃或塑膠等透光材料。在本實施例中，透明基板111為彩色濾光(Color Filter,CF)基板，其具有RGB彩色光阻。
顯示模組11與偏光片13相對設置。進一步來說，偏光片13是設置於顯示模組11的透明基板111上方，也就是相對於液晶層112的另一側。
觸控電極結構12設置於偏光片13與透明基板111之間。在本實施例中，觸控電極結構12具體為一觸控感應層121設置在偏光片13上。具體而言，觸控電極結構12的形成步驟可例如但不限於：提供承載基板(圖未示)；設置偏光片13於承載基板上；形成觸控感應層121於偏光片13上；以及移除承載基板。如此，觸控感應層121可形成於偏光片13上。或者直接將觸控感應層121利用濺鍍及光刻等製程形成於偏光片13上，無需承載基板。此外，上述觸控電極結構12的形成方式僅是舉例，實際上可根據製程需求調整製作方式，本發明並不限制觸控電極結構12形成於偏光片13的方式。
在本實施例中，觸控電極結構12與透明基板111之間設置有一第一光學膠層A1。換句話說，形成有觸控電極結構12的偏光片13是透過第一光學膠層A1貼合於顯示模組11的透明基板111上，以將觸控電極結構12設置於偏光片13與透明基板111之間。於此，觸控電極結構12便可與顯示模組11共用同一基板，以節省基板的數量，同時可減少觸控顯示面板的重量及厚度。
請參考圖1B所示，其為本發明第二實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。在本實施例中，觸控顯示面板1可更包括一第二光學膠層A2，第二光學膠層A2設置於觸控電極結構12與偏光片13之間，也即觸 控電極結構12是透過第二光學膠層A2貼合於偏光片13上。
此外，觸控電極結構12包括一薄膜層F與一觸控感應層121。觸控感應層121形成於薄膜層F上。具體的，在本實施例中，薄膜層F可設置於觸控感應層121與第一光學膠層A1之間，而觸控感應層121位於第二光學膠層A2與薄膜層F之間。在本實施例中，形成觸控電極結構12的步驟也可如下所述：提供一承載基板(圖未示)；形成薄膜層F於承載基板上，再在薄膜層F上形成觸控感應層121，此時薄膜層F位於承載基板與觸控感應層121之間；移除承載基板；將觸控感應層121連同薄膜層F藉由第二光學膠層A2貼合於偏光片13上。如此一來，觸控電極結構12即形成於偏光片13上。需要說明的是，在本實施例中，觸控感應層121連同薄膜層F貼合於偏光片13上，是以觸控感應層121一側貼合偏光片13，使得觸控感應層121位於薄膜層F與第二光學膠層A2之間。在其他實施例中，也可以薄膜層F一側貼合偏光片13，使得薄膜層F位於觸控感應層121與第二光學膠層A2之間。
此外，形成觸控電極結構12的步驟也可如下所述：提供一承載基板(圖未示)；形成薄膜層F於承載基板上，再在薄膜層F上形成觸控感應層121，此時薄膜層F位於承載基板與觸控感應層121之間；將承載基板、薄膜層F連同觸控感應層121一起貼合於偏光片13上，此時，薄膜層F及觸控感應層121位於承載基板與偏光片13之間，然後再移除承載基板。如此一來，觸控電極結構12同樣可形成於偏光片13上。
進一步地，觸控電極結構12更可包括一緩衝層(圖1B未示)，設置於觸控感應層121與薄膜層F之間。在觸控電極結構12形成於偏光片13上之後，由於觸控感應層121是設置於偏光片13與薄膜層F之間，因此偏光片13連同觸控感應層121是以薄膜層F一側藉由第一光學膠層A1貼合於透明基板111上。
請參考圖1C所示，其為本發明第三實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。在本實施例中，觸控電極結構12包括一薄膜層F與一觸控感應層121。觸控感應層121形成於薄膜層F上。具體的，在本實施例中，薄膜層F可設置於觸控感應層121與第二光學膠層A2之間，而觸控感應層 121位於第一光學膠層A1與薄膜層F之間。更進一步地，觸控電極結構12還包括一緩衝層B，設置於薄膜層F與觸控感應層121之間。依序設置的薄膜層F、緩衝層B、觸控感應層121是位於偏光片13與第一光學膠A1之間。
具體而言，觸控電極結構12的形成步驟可例如但不限於：提供一承載基板(圖未示)；形成薄膜層F於承載基板上，再在薄膜層F上形成緩衝層B，再在緩衝層B上形成觸控感應層121，此時，薄膜層F位於承載基板與緩衝層B之間，且緩衝層B位於薄膜層F與觸控感應層121之間；形成一暫時黏著膠層於觸控感應層121上；移除承載基板；將薄膜層F、緩衝層B、觸控感應層121連同暫時黏著膠層藉由第二光學膠層A2貼合於偏光片13上，此時，薄膜層F、緩衝層B及觸控感應層121位於第二光學膠層A2與暫時黏著膠層之間；移除暫時性黏著膠層。如此一來，觸控電極結構12即形成於偏光片13上。
進一步地，在觸控電極結構12形成於偏光片13之後，偏光片13連同觸控電極結構12是以觸控感應層121一側藉由第一光學膠層A1貼合於透明基板111上。
此外，在圖1C所示的實施例中，觸控電極結構12是以薄膜層F一側貼合於偏光片13上，由於薄膜層F較為平整，故可提高貼合平整度。另外，觸控感應層121是位於薄膜層F鄰近偏光片13的另一側，有利於提高觸控感應層121與軟性電路板(圖未示)接合的可靠性，減少因軟性電路板導致第二光學膠層A2的不平整及軟性電路板易脫落的情形。另外，在觸控電極結構12的製作過程中引入承載基板與暫時黏著膠層，雖然承載基板與暫時黏著膠層不構成最終產品觸控顯示面板的一部分，但其在觸控電極結構12的形成過程中起到了很大的作用。借由承載基板的支撐作用將觸控電極結構12形成於薄膜層F上，並後續移除承載基板，再藉由暫時黏著膠層的轉載作用，將薄膜層F及其上形成的觸控電極結構12貼附於偏光片13上，如此，形成的觸控顯示面板更加輕、薄，製作成本較低。
以上圖1B及圖1C實施例中，薄膜層F可使用塗佈或其他適當方法形成，其厚度相對普通的玻璃基板很薄，可為約0.1μm至約15μm， 較佳約為2μm至5μm。此外，薄膜層F的材料可包括聚醯亞胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯(PTFE)、環烯烴共聚物(COP、Arton)或前述之組合。
此外，緩衝層B可由透明絕緣材料形成，其可包括二氧化鈦(TiO2)、二氧化矽(SiO2)、二氧化鋯(ZrO2)或前述之組合，或二氧化鈦(TiO2)、二氧化矽(SiO2)與有機材料形成的化合物，或二氧化鋯(ZrO2)二氧化矽(SiO2)與有機材料形成的化合物。進一步地，緩衝層B的熱膨脹係數介於觸控電極結構12的熱膨脹係數與薄膜層F的熱膨脹係數之間。緩衝層B的設置可減少形成觸控電極結構12的過程中對薄膜層F的侵蝕，可減小移除承載基板時應力對薄膜層F及觸控電極結構12的損傷。
另外，觸控感應層121可為單軸向的觸控電極(例如是梳狀電極)或雙軸向的觸控電極(例如是二軸向彼此交錯排列)，觸控感應層121可以包含單層的觸控電極，也可以包含雙層或多層的觸控電極。另一方面，觸控感應層121可包括金屬奈米導線、透明導電膜或金屬網格(metal mesh)等形式來呈現。金屬奈米導線可例如為奈米銀線(silver nanowire，SNW)或奈米碳管(carbon nanotubes，CNT)，而透明導電膜可例如為銦錫氧化物(indium tin oxide，ITO)、銦鋅氧化物(indium zinc oxide，IZO)、摻氟氧化錫(fluorine doped tin oxide，FTO)、摻鋁氧化鋅(aluminium doped zinc oxide，AZO)或摻鎵氧化鋅(gallium doped zinc oxide，GZO)。此外，可於觸控感應層121上設置一保護層(圖未示)，其為絕緣材質，並可避免觸控電極結構12的金屬氧化。
進一步地，觸控感應層121通常為先濺鍍一整層的導電層，再蝕刻該導電層以形成一圖案化的觸控電極，因此，觸控感應層121包含有鏤空部分與觸控電極部分，鏤空部分與觸控電極部分會因對光線反射不同導致觸控電極圖形可見，影響觸控顯示面板視覺效果。本發明之觸控顯示面板的觸控顯示面為偏光片13相對觸控電極結構12的另一側，從觸控顯示面來看，觸控感應層121位於偏光片13之下，由於偏光片13的透光 率較普通透明基板低，其可減少鏤空部分與觸控電極部分對光線反射的差異，改善觸控電極圖形可見的問題，從而提高觸控顯示面板視覺效果。或者，當觸控感應層121中存在一些不透光或高反射的元件時，例如金屬橋接結構、採用金屬奈米導線或金屬網格等材料形成觸控電極結構12時，偏光片12還可以降低該些部件的可見度，從而提高觸控顯示面板視覺效果。
圖1D為本發明第四實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。請參照圖1D所示，觸控顯示面板1可更包括一保護基板14，其設置於偏光片13相對於觸控電極結構12的另一側。保護基板14可為玻璃或塑膠等透光材料，並可透過另一光學膠層A外貼於偏光片13上。
此外，保護基板14上可設置有至少一遮蔽層141。在本實施例中，遮蔽層141可為油墨、光阻或油墨和光阻的組合，其設置於部分的保護基板14相對於偏光片13的一側而形成非可視區，而保護基板14未設置遮蔽層141的部分形成可視區。遮蔽層141可遮蔽觸控電極結構12外部的導線(圖未示)或其他不適於被使用者看見的電路元件，使觸控顯示面板具有美觀的效果。值得注意的是，由於觸控感應層121是設置於偏光片13一側，相較於觸控感應層121直接設置於保護基板14且至少覆蓋部分遮蔽層141的結構相比，本實施例的觸控感應層121無需跨越遮蔽層141與保護基板14之間的段差，減少了觸控感應層121發生斷裂的風險。且，由於無需考慮前述觸控感應層121跨越遮蔽層141與保護基板14之間的段差的問題，遮蔽層141的厚度或範圍可依需求調整，例如增加遮蔽層141的厚度或減少遮蔽層141的面積，遮蔽層141也可適用各種顏色的油墨或光阻，並對應設計遮蔽層141的厚度或範圍。
圖2A為本發明第五實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。請參照圖2A，觸控顯示面板2包括一顯示模組21、一觸控電極結構22以及一偏光片23。在本實施例中，顯示模組21同樣為液晶顯示模組，其包括透明基板211、液晶層212及薄膜電晶體基板213，其中透明基板211可為彩色濾光基板。不過，在其他實施態樣中，顯示模組11也可例如為發光二極體顯示模組或有機發光二極體(OLED)顯示模組，其內部結構與組成可分別包括發光二極體層或有機發光二極體層，以置換液晶層212，在此不作 限制。
本實施例與上述實施例大致相同，其不同之處在於，觸控電極結構22具體為一觸控感應層221設置於透明基板211上，而觸控感應層221與偏光片23之間設置有第一光學膠層A1。
具體而言，觸控電極結構22的形成步驟可例如但不限於：提供透明基板211；以及形成觸控感應層221於透明基板211上。如此，觸控電極結構22便可形成於透明基板211上。實施上，在提供透明基板211的步驟中，可僅提供單一透明基板211，或是提供具有透明基板211並已封裝完成的顯示模組21，本發明在此不限。此外，上述觸控電極結構22的形成方式僅是舉例，實際上可根據製程需求調整製作方式，本發明並不限制觸控電極結構22形成於透明基板211的方式。
在本實施例中，觸控電極結構22與偏光片23之間設置有一第一光學膠層A1。換句話說，偏光片23是透過第一光學膠層A1貼合於形成有觸控電極結構22的透明基板211上，以將觸控電極結構22設置於偏光片23與透明基板211之間。於此，觸控電極結構22便可與顯示模組21共用同一基板，以節省基板的數量，同時可減少觸控顯示面板的重量及厚度。
請參考圖2B所示，其為本發明第六實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。在本實施例中，觸控顯示面板2可更包括第二光學膠層A2，第二光學膠層A2設置於觸控電極結構22與透明基板211之間，也即觸控電極結構22是透過第二光學膠層A2貼合於透明基板211上。
此外，觸控電極結構22包括一薄膜層F與一觸控感應層221。觸控感應層221形成於薄膜層F上。具體的，在本實施例中，薄膜層F可設置於觸控感應層221與第一光學膠層A1之間，而觸控感應層221位於第二光學膠層A2與薄膜層F之間。形成觸控電極結構22的步驟也可如下所述：提供一承載基板(圖未示)；形成一薄膜層F於承載基板上；以及形成觸控感應層221於薄膜層F上。此時薄膜層F位於承載基板與觸控感應層221之間；移除承載基板；將觸控感應層221連同薄膜層F藉由第二光學膠層A2貼合於透明基板211上。如此一來，觸控電極結構22即形成 於透明基板211上。需要說明的是，在本實施例中，觸控感應層221連同薄膜層F貼合於透明基板211上，是以觸控感應層221一側貼合透明基板211，使得觸控感應層221位於薄膜層F與透明基板211之間。在其他實施例中，也可以薄膜層F一側貼合透明基板211，使得薄膜層F位於觸控感應層221與透明基板211之間。
此外，形成觸控電極結構22的步驟也可如下所述：提供一承載基板(圖未示)；形成薄膜層F於承載基板上，再在薄膜層F上形成觸控感應層221，此時薄膜層F位於承載基板與觸控感應層221之間；將承載基板、薄膜層F連同觸控感應層221一起貼合於透明基板211上，此時，薄膜層F及觸控感應層221位於承載基板與透明基板211之間，然後再移除承載基板。如此一來，觸控電極結構22同樣可形成於透明基板211上。
進一步地，觸控電極結構22更可包括一緩衝層(圖2B未示)，設置於觸控感應層221與薄膜層F之間。在觸控電極結構22形成於透明基板211之後，由於觸控感應層221是設置於透明基板211與薄膜層F之間，因此偏光片23是以第二光學膠層A2貼合於薄膜層F上。
請參考圖2C所示，其為本發明第七實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。在另一實施例中，觸控電極結構22包括一薄膜層F與一觸控感應層221。觸控感應層221形成於薄膜層F上。具體的，在本實施例中，薄膜層F可設置於觸控感應層221與第二光學膠層A2之間，而觸控感應層221位於第一光學膠層A1與薄膜層F之間。更進一步地，觸控電極結構22還包括一緩衝層B，設置於薄膜層F與觸控感應層221之間。依序設置的觸控感應層221、緩衝層B、薄膜層F是位於透明基板211與第一光學膠A1之間。
具體而言，觸控電極結構22的形成步驟可例如但不限於：提供一承載基板(圖未示)；形成薄膜層F於承載基板上，再在薄膜層F上形成緩衝層B，再在緩衝層B上形成觸控感應層221，此時，薄膜層F位於承載基板與緩衝層B之間，且緩衝層B位於薄膜層F與觸控感應層221之間；形成一暫時黏著膠層於觸控感應層221上；移除承載基板；將薄膜層F、緩衝層B、觸控感應層221連同暫時黏著膠層藉由第二光學膠層A2貼合於 透明基板211上，此時，薄膜層F、緩衝層B及觸控感應層221位於第二光學膠層A2與暫時黏著膠層之間；移除暫時性黏著膠層。如此一來，觸控電極結構22即形成於透明基板211上。
進一步地，在觸控電極結構22形成於透明基板211之後，偏光片23是藉由第一光學膠層A1貼合於觸控感應層221上。
此外，在圖2C所示的實施例中，觸控電極結構22是以薄膜層F一側貼合於透明基板211上，由於薄膜層F較為平整，故可提高貼合平整度。另外，觸控感應層221是位於薄膜層F鄰近透明基板211的另一側，有利於提高觸控感應層221與軟性電路板(圖未示)接合的可靠性，減少因軟性電路板導致第二光學膠層A2的不平整及軟性電路板易脫落的情形。
此外，薄膜層F與緩衝層B的敘述已詳述於上，於此不再贅述。同樣地，觸控感應層221可為單軸向的觸控電極(例如是梳狀電極)或雙軸向的觸控電極(例如是二軸向彼此交錯排列)，觸控感應層221可以包含單層的觸控電極，也可以包含雙層或多層的觸控電極。另一方面，觸控感應層221可包括金屬奈米導線、透明導電膜或金屬網格(metal mesh)等形式來呈現，其敘述可參照上述實施例所述，不再贅述。當然，觸控感應層221上也可設置一保護層(圖未示)，在此不作限制。
圖2D為本發明第八實施例的一種觸控顯示面板的示意圖。請參照圖2D所示，觸控顯示面板2可更包括一保護基板24，其設置於偏光片23相對於觸控電極結構22的另一側。保護基板24可為玻璃或塑膠等透光材料，並可透過另一光學膠層A外貼於偏光片23上。
此外，保護基板24上可設置有至少一遮蔽層241。在本實施例中，遮蔽層241可為油墨、光阻或油墨和光阻的組合，其設置於部分的保護基板24相對於偏光片23的一側而形成非可視區，且位於保護基板24的周邊區域，而保護基板24未設置遮蔽層241的部分形成可視區。遮蔽層241可遮蔽觸控電極結構22外部的導線(圖未示)，使用者便不易看見導線而具有美觀的效果。值得注意的是，遮蔽層241的厚度或範圍可依需求調整，例如增加遮蔽層241的厚度或減少遮蔽層241的面積，其並不影 響光學膠層A的貼合能力，因此遮蔽層241可適用各種顏色的油墨或光阻，並對應設計遮蔽層241的厚度或範圍。
綜上所述，本發明的觸控顯示面板藉由觸控電極結構設置於偏光片與透明基板之間，可使觸控電極結構與顯示面板共用同一基板，節省基板的數量，同時亦減少觸控顯示面板的重量及厚度。進一步地，可藉由偏光片的透光率來改善觸控電極結構中圖形可見和其它不透光或高反射元件可見的問題，從而提高觸控顯示面板視覺效果。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。
1‧‧‧觸控顯示面板
11‧‧‧顯示模組
111‧‧‧透明基板
112‧‧‧液晶層
113‧‧‧薄膜電晶體基板
12‧‧‧觸控電極結構
121‧‧‧觸控感應層
13‧‧‧偏光片
A1‧‧‧第一光學膠層

Claims (10)

  1. 一種觸控顯示面板，包括：一偏光片；一顯示模組，與該偏光片相對設置，該顯示模組具有一透明基板；以及一觸控電極結構，設置於該偏光片上，該觸控電極結構與該透明基板之間設置有一第一光學膠層，該觸控電極結構與該偏光片之間設置有一第二光學膠層，該觸控電極結構包括一薄膜層與一觸控感應層，該觸控感應層形成於該薄膜層上；其中該薄膜層設置於該觸控感應層與該第一光學膠層之間，該觸控感應層位於該第二光學膠層與該薄膜層之間。
  2. 一種觸控顯示面板，包括：一偏光片；一顯示模組，與該偏光片相對設置，該顯示模組具有一透明基板；以及一觸控電極結構，設置於該偏光片上，該觸控電極結構與該透明基板之間設置有一第一光學膠層，該觸控電極結構與該偏光片之間設置有一第二光學膠層，該觸控電極結構包括一薄膜層與一觸控感應層，該觸控感應層形成於該薄膜層上；其中該薄膜層位於該第二光學膠層與該觸控感應層之間，該第二光學膠層位於該偏光片與該薄膜層之間。
  3. 一種觸控顯示面板，包括：一偏光片；一顯示模組，與該偏光片相對設置，該顯示模組具有一透明基板；以及一觸控電極結構，設置於該偏光片上，該觸控電極結構與該透明基板之間設置有一第一光學膠層，該觸控電極結構與該偏光片之間設置有一第二光學膠層，該觸控電極結構包括一薄膜層與一觸控感應層，該觸控感應層形成於該薄膜層上；其中該觸控電極結構更包括一緩衝層，設置於該觸控感應層與該薄膜層之間。
  4. 一種觸控顯示面板，包括： 一偏光片；一顯示模組，與該偏光片相對設置，該顯示模組具有一透明基板；以及一觸控電極結構，設置於該透明基板上，該觸控電極結構與該偏光片之間設置有一第一光學膠層，該觸控電極結構與該透明基板之間設置有一第二光學膠層，該觸控電極結構包括一薄膜層與一觸控感應層，該觸控感應層形成於該薄膜層上；其中該薄膜層設置於該觸控感應層與該第一光學膠層之間，該觸控感應層位於該第二光學膠層與該薄膜層之間。
  5. 一種觸控顯示面板，包括：一偏光片；一顯示模組，與該偏光片相對設置，該顯示模組具有一透明基板；以及一觸控電極結構，設置於該透明基板上，該觸控電極結構與該偏光片之間設置有一第一光學膠層，該觸控電極結構與該透明基板之間設置有一第二光學膠層，該觸控電極結構包括一薄膜層與一觸控感應層，該觸控感應層形成於該薄膜層上；其中該薄膜層位於該第二光學膠層與該觸控感應層之間，該第二光學膠層位於該透明基板與該薄膜層之間。
  6. 如申請專利範圍第1、2、4或5項任一項所述的觸控顯示面板，其中該觸控電極結構更包括一緩衝層，設置於該觸控感應層與該薄膜層之間。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的觸控顯示面板，其中該緩衝層的熱膨脹係數介於該觸控電極結構的熱膨脹係數與該薄膜層的熱膨脹係數之間。
  8. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述的觸控顯示面板，其中該觸控感應層包括金屬奈米導線、透明導電膜或金屬網格(metal mesh)。
  9. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述的觸控顯示面板，更包括一保護基板，設置於該偏光片相對於該觸控電極結構的另一側。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的觸控顯示面板，其中該保護基板上設置有至少一遮蔽層，且該遮蔽層位於該保護基板的周邊區域。
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