TWM473531U - 觸控結構 - Google Patents

Description

觸控結構

本創作係有關一種觸控結構，尤指一種將複數光學折射層應用於觸控結構，以提升穿透率。

在現今各式消費性電子產品的市場中，個人數位助理(PDA)、行動電話(mobile Phone)、筆記型電腦(notebook)及平板電腦(tablet PC)等可攜式電子產品皆已廣泛的使用觸控式面板(touch panel)作為其資料溝通的界面工具。此外，由於目前電子產品的設計皆以輕、薄、短、小為方向，因此在產品上無足夠空間容納如鍵盤、滑鼠等傳統輸入裝置，尤其在講求人性化設計的平板電腦需求的帶動下，觸控式面板已經一躍成為關鍵的零組件之一。而且觸控式面板除了符合可作多層次選單設計要求外，亦能同時擁有鍵盤、滑鼠等的功能及手寫輸入等人性化的操作方式，尤其將輸入與輸出整合在同一介面(螢幕)的特質，更是其他傳統輸入裝置所不及之處。

目前觸控面板製造過程中，圖案化製程可分為乾式製程與濕式製程。觸控面板上的透明導電層主要是由銦錫氧化物(indium tin oxide,ITO)所組成，由於導電層的鍍膜方式基本上為整個平面，因此，若要在已濺鍍完成的基板上形成圖案，需將導電層進行蝕刻。目前蝕刻的方式有兩種，分別為濕式蝕刻與乾式蝕刻，其中濕式蝕刻之圖案化是由光罩所形成，係採用兩道蝕刻製程，其為金屬層蝕刻以及導電層蝕刻。在製作透明感應電極圖案 化過程中，利用上光阻→曝光→顯影→蝕刻→去光阻…等步驟，將透明導電層圖案化形成透明感應電極於透明基材之表面。然而因為透明基材與透明導電層兩者材料的光學折射率不同，容易產生視覺可見的透明導電圖形痕跡或蝕刻痕跡而影響觸控面板的外觀，目前此一課題尚未有良好的解決之道。

有鑑於此，本創作係在提供一種可據以改善或降低電極圖形痕跡或蝕刻痕跡的觸控結構，為其主要目的者。

為達上揭目的，本創作之觸控結構包含：顯示單元、偏光板以及觸控感測結構，偏光板設置於顯示單元之上，具有至少一光學折射層，以及觸控感測結構設置於光學折射層之下，觸控感測結構更具有複數感測串列和複數周邊線路分別電性連接。

為達上述目的，所述觸控結構，其中光學折射層更包括：至少一高折射層和至少一低折射層，高折射層設置於偏光板之一下表面，低折射層設置於高折射層之下。

為達上述目的，所述觸控結構，其中光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，觸控感測結構位於偏光板之一上表面，低折射層設置於觸控感測結構之上，高折射層設置於低折射層之上。

本創作並提供另種觸控結構，其包含：顯示單元、偏光板以及觸控感測結構，偏光板設置於顯示單元之上，具有至少一光學折射層，以及觸控感測結構設置於光學折射層之上，觸控感測結構更具有複數感測串列和複數周邊線路分別電性連接。

為達上述目的，所述觸控結構，其中光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，每一高折射層和每一低折射層相互交錯堆疊。

上述高折射層之折射率為1.6至2.4，低折射層之折射率為1.2至1.6。

為達上述目的，所述觸控結構，其中高折射層材質可為ITO、TiO₂ 或Nb₂ O₅ ，低折射層材質可為MgF₂ 、SiO₂ 或MgO。

110,210,310,410,510,610,710‧‧‧偏光板

140‧‧‧複數光學折射層

220,320,420,520,620,720‧‧‧高折射層

230,330,430,530,630,730‧‧‧低折射層

111,211,311,411,511,611,711‧‧‧觸控感測結構

112,212,312,412,512‧‧‧顯示單元

613,713‧‧‧透明導電層

614,714‧‧‧金屬層

118,218,318,418,518,618,718‧‧‧複數感測串列

118,219,319,419,519,619,719‧‧‧複數周邊線路

115,215‧‧‧黏著層

216‧‧‧硬質透明基板

第1圖所示為本創作中觸控結構之第一實施例示意圖。

第2圖所示為本創作中觸控結構之第二實施例示意圖。

第3圖所示為本創作中觸控結構之第三實施例示意圖。

第4圖所示為本創作中觸控結構之第四實施例示意圖。

第5圖所示為本創作中觸控結構之第五實施例示意圖。

請參閱第1圖所示為本創作第一實施例之觸控結構示意圖。首先，本創作之觸控結構包括顯示單元112、偏光板110以及觸控感測結構111；其中顯示單元112例如可為液晶顯示器(liquid crystal display,LCD)、有機發光二極體顯示器(organic light emitting diode display,OLED display)、電泳顯示器(electrophoretic display,EPD)、等離子顯示器(Plasma Display Panel)或電子紙顯示器(E-paper Display)等，然並不以此為限。

偏光板110設置於顯示單元112之上，藉由偏光板110極化偏光可控制顯示效果，其中偏光板110之主要結構例如可為PET保護膜、PSA感壓性黏著劑、TAC三醋酸纖維素、PVA聚乙烯醇與PET離型膜等，然並不以此為限。偏光板110並具有至少一光學折射層140。

觸控感測結構111設置於至少一光學層140之下，其中觸控感測結構可以為電容式觸控結構，然並不以此為限。於本 實施例中觸控感測結構更具有複數感測串列118和複數周邊線路119，複數感測串列118分別與複數周邊線119路電性連接(圖未示)。複數感測串列118係由複數感測墊和複數橋接線串接所構成(圖未示)。

偏光板110與顯示單元112之間更包括黏著層115，黏著偏光板110與顯示單元112。其中黏著層115之材質可為光學膠或水膠。其中，藉由至少一光學折射層140產生不同的光學特性，可使觸控感測結構之複數感測串列118和複數周邊線路119所形成之圖形痕跡或蝕刻痕跡淡化，進而增加整體觸控結構之穿透率。

請參閱第2圖所示為本創作第二實施例之觸控結構示意圖。其觸控結構同樣包括有顯示單元212、偏光板210以及觸控感測結構211；其中，光學折射層更包括至少一高折射層220和至少一低折射層230相互交錯堆疊，於本實施例中具有一高折射層220，其折射率為1.6至2.4，材質例如可為ITO、TiO₂ 或Nb₂ O₅ 等物質，但並不設限於此，以及具有一低折射層230，其折射率為1.2至1.6，材質例如可為MgF₂ 、SiO₂ 或MgO等物質，但並不設限於此；其中，高折射層220設置於偏光板210之一下表面，低折射層230設置於高折射層220之下。觸控感測結構211位於低折射層230之下，由於觸控感測結構211具有複數感測串列218由透明導電材料所形成，其折射率為1.8~2.4，折射率較高，再搭配高折射層220和低折射層230的排列，形成高折射率/低折射率/高折射率之搭配，可使穿透度提升，並且使短波長穿透度提升，將有效改善觸控面板之光學性質與外觀。

並有一硬質透明基板216設置於偏光板210之上，硬質透明基板216之材質例如可為玻璃、強化玻璃、PC、PMMA或 PC與PMMA的複合材，作為液晶面板外層之保護層(cover lens)，其中，硬質透明基板216與偏光板210之間更包括以黏著層215相互黏貼，黏著層215之材質可為光學膠或水膠。

請參閱第3圖所示為本創作第三實施例之觸控結構示意圖。其觸控結構同樣包括有顯示單元312、偏光板310以及觸控感測結構311；其中，光學折射層更包括至少一高折射層320和至少一低折射層330，而觸控感測結構311位於偏光板310之一上表面，低折射層330設置於觸控感測結構311之上，高折射層320設置於低折射層330之上。高折射層320與低折射層330之搭配不以此為限。由於觸控感測結構211具有複數感測串列318由透明導電材料所形成，其折射率為1.8~2.4，折射率較高，再搭配高折射層320和低折射層330的排列，形成高折射率/低折射率/高折射率之搭配，可使穿透度提升，並且使短波長穿透度提升，將有效改善觸控面板之光學性質與外觀。

請參閱第4圖所示為本創作之第四實施例之觸控結構示意圖。本創作之觸控結構同樣包括顯示單元412、偏光板410以及觸控感測結構411：其中，觸控感測結構411係設置於光學折射層440之上；如圖所示之實施例中，光學折射層包括至少一高折射層420和至少一低折射層430，高折射層420設置於偏光板410之一上表面，低折射層430設置於高折射層420之上。由於觸控感測結構211具有複數感測串列318由透明導電材料所形成，其折射率為1.8~2.4，折射率較高，再搭配高折射層320和低折射層330的排列，形成高折射率/低折射率/高折射率之搭配，可使穿透度提升，並且使短波長穿透度提升，將有效改善觸控面板之光學性質與外觀。

請參閱第5圖所示為本創作之第五實施例之觸控結 構示意圖。本創作之觸控結構同樣包括顯示單元512、偏光板510以及觸控感測結構511；其中，光學折射層包括至少一高折射層520和至少一低折射層530，觸控感測結構511位於偏光板510之一下表面，低折射層530設置於觸控感測結構511之下，高折射層520設置於低折射層530之下。由於觸控感測結構211具有複數感測串列318由透明導電材料所形成，其折射率為1.8~2.4，折射率較高，再搭配高折射層320和低折射層330的排列，形成高折射率/低折射率/高折射率之搭配，可使穿透度提升，並且使短波長穿透度提升，將有效改善觸控面板之光學性質與外觀。

本創作提供一種可據以改善或降低電極圖形痕跡或蝕刻痕跡的技術手段。在偏光板表面先形成複數疊層組合的光學折射層，利用光學折射層的材料和厚度而產生不同的光學特性，使偏光板表面的透明導電圖形痕跡或蝕刻痕跡淡化，進而增加整體觸控結構之穿透率，並可提升整體觸控面板的視覺外觀。

綜上所述，本創作提供一較佳可行之觸控結構，爰依法提呈新型專利之申請；本創作之技術內容及技術特點巳揭示如上，然而熟悉本項技術之人士仍可能基於本創作之揭示而作各種不背離本案創作精神之替換及修飾。因此，本創作之保護範圍應不限於實施例所揭示者，而應包括各種不背離本創作之替換及修飾，並為以下之申請專利範圍所涵蓋。

210‧‧‧偏光板

220‧‧‧高折射層

230‧‧‧低折射層

211‧‧‧觸控感測結構

212‧‧‧顯示單元

218‧‧‧複數感測串列

219‧‧‧複數周邊線路

215‧‧‧黏著層

216‧‧‧硬質透明基板

Claims (9)

1. 一種觸控結構，其包含：一顯示單元；一偏光板，係設置於該顯示單元之上，具有至少一光學折射層；以及一觸控感測結構，係設置於該光學折射層之下。
2. 一種觸控結構，其包含：一顯示單元；一偏光板，係設置於該顯示單元之上，具有至少一光學折射層；以及一觸控感測結構，係設置於該光學折射層之上。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之觸控結構，其中該光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層相互交錯堆疊。
4. 如申請專利範圍第1或2項所述之觸控結構，其中該高折射層之折射率為1.6至2.4，該低折射層之折射率為1.2至1.6。
5. 如申請專利範圍第1項所述之觸控結構，其中該光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，該高折射層設置於該偏光板之一下表面，該低折射層設置於該些高折射層之下。
6. 如申請專利範圍第1項所述之觸控結構，其中該光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，該觸控感測結構位於該 偏光板之一上表面，該低折射層設置於該觸控感測結構之上，該高折射層設置於該低折射層之上。
7. 如申請專利範圍第2項所述之觸控結構，其中該光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，該高折射層設置於該偏光板之一上表面，該低折射層設置於該些高折射層之上。
8. 如申請專利範圍第2項所述之觸控結構，其中該光學折射層更包括至少一高折射層和至少一低折射層，該觸控感測結構位於該偏光板之一下表面，該低折射層設置於該觸控感測結構之下，該高折射層設置於該低折射層之下。
9. 如申請專利範圍第5項至第8項其中任一項所述之觸控結構，其中該高折射層材質可為ITO、TiO₂ 或Nb₂ O₅ ，該低折射層材質可為MgF₂ 、SiO₂ 或MgO。