CN203455796U - 触控结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的触控结构包含:显示单元、偏光板以及触控感测结构,偏光板设置于显示单元之上,具有至少一光学折射层,以及触控感测结构设置于光学折射层的一侧(可设置于其之下或其之上),触控感测结构更具有复数感测串列和复数周边线路分别电性连接。
Description
技术领域
本实用新型有关一种触控结构,尤指一种将复数光学折射层应用于触控结构,以提升穿透率。
背景技术
在现今各式消费性电子产品的市场中,个人数字助理(PDA)、行动电话(mobile Phone)、笔记型电脑(notebook)及平板电脑(tablet PC)等可携式电子产品皆已广泛的使用触控式面板(touch panel)作为其资料沟通的界面工具。此外,由于目前电子产品的设计皆以轻、薄、短、小为方向,因此在产品上无足够空间容纳如键盘、鼠标等传统输入装置,尤其在讲求人性化设计的平板电脑需求的带动下,触控式面板已经一跃成为关键的零组件之一。而且触控式面板除了符合可作多层次选单设计要求外,亦能同时拥有键盘、鼠标等的功能及手写输入等人性化的操作方式,尤其将输入与输出整合在同一介面(荧幕)的特质,更是其它传统输入装置所不及之处。
目前触控面板制造过程中,图案化制程可分为干式制程与湿式制程。触控面板上的透明导电层主要是由铟锡氧化物(indium tin oxide, ITO)所组成,由于导电层的镀膜方式基本上为整个平面,因此,若要在已溅镀完成的基板上形成图案,需将导电层进行蚀刻。目前蚀刻的方式有两种,分别为湿式蚀刻与干式蚀刻,其中湿式蚀刻的图案化是由光罩所形成,采用两道蚀刻制程,其为金属层蚀刻以及导电层蚀刻。在制作透明感应电极图案化过程中,利用上光阻→曝光→显影→蚀刻→去光阻…等步骤,将透明导电层图案化形成透明感应电极于透明基材的表面。然而因为透明基材与透明导电层两者材料的光学折射率不同,容易产生视觉可见的透明导电图形痕迹或蚀刻痕迹而影响触控面板的外观,目前此一课题尚未有良好的解决之道。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题即在提供一种可据以改善或降低电极图形痕迹或蚀刻痕迹的触控结构。
本实用新型所采用的技术手段如下所述。
为达上揭目的,本实用新型的触控结构包含:显示单元、偏光板以及触控感测结构,偏光板设置于显示单元之上,具有至少一光学折射层,以及触控感测结构设置于光学折射层之下,触控感测结构更具有复数感测串列和复数周边线路分别电性连接。
为达上述目的,所述触控结构,其中光学折射层更包括:至少一高折射层和至少一低折射层,高折射层设置于偏光板的一下表面,低折射层设置于高折射层之下。
为达上述目的,所述触控结构,其中光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,触控感测结构位于偏光板的一上表面,低折射层设置于触控感测结构之上,高折射层设置于低折射层之上。
本实用新型并提供另种触控结构,其包含:显示单元、偏光板以及触控感测结构,偏光板设置于显示单元之上,具有至少一光学折射层,以及触控感测结构设置于光学折射层之上,触控感测结构更具有复数感测串列和复数周边线路分别电性连接。
为达上述目的,所述触控结构,其中光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,每一高折射层和每一低折射层相互交错堆栈。
上述高折射层的折射率为1.6至2.4,低折射层的折射率为1.2至1.6。
为达上述目的,所述触控结构,其中高折射层材质可为ITO、TiO2或Nb2O5,低折射层材质可为MgF2、SiO2或MgO。
本实用新型所产生的有益效果为:改善或降低电极图形痕迹或蚀刻痕迹。
附图说明
图1所示为本实用新型中触控结构的第一实施例示意图。
图2所示为本实用新型中触控结构的第二实施例示意图。
图3所示为本实用新型中触控结构的第三实施例示意图。
图4所示为本实用新型中触控结构的第四实施例示意图。
图5所示为本实用新型中触控结构的第五实施例示意图。
图号说明:
偏光板110,210,310,410,510,610,710
复数光学折射层140
高折射层220,320,420,520,620,720
低折射层230,330,430,530,630,730
触控感测结构111,211,311,411,511,611,711
显示单元112,212,312,412,512
透明导电层613,713
金属层614,714
复数感测串列118,218,318,418,518,618,718
复数周边线路118,219,319,419,519,619,719
黏着层115,215
硬质透明基板216。
具体实施方式
请参阅图1所示为本实用新型第一实施例的触控结构示意图。首先,本实用新型的触控结构包括显示单元112、偏光板110以及触控感测结构111;其中显示单元112例如可为液晶显示器(liquid crystal display,LCD)、有机发光二极管显示器(organic light emitting diode display,OLED display)、电泳显示器(electrophoretic display,EPD)、等离子显示器(Plasma Display Panel)或电子纸显示器(E-paper Display)等,然并不以此为限。
偏光板110设置于显示单元112之上,藉由偏光板110极化偏光可控制显示效果,其中偏光板110的主要结构例如可为PET保护膜、PSA感压性黏着剂、TAC三醋酸纤维素、PVA聚乙烯醇与PET离型膜等,然并不以此为限。偏光板110并具有至少一光学折射层140。
触控感测结构111设置于至少一光学层140之下,其中触控感测结构可以为电容式触控结构,然并不以此为限。于本实施例中触控感测结构更具有复数感测串列118和复数周边线路119,复数感测串列118分别与复数周边线119路电性连接(图未示)。复数感测串列118由复数感测垫和复数桥接线串接所构成(图未示)。
偏光板110与显示单元112之间更包括黏着层115,黏着偏光板110与显示单元112。其中黏着层115的材质可为光学胶或水胶。其中,藉由至少一光学折射层140产生不同的光学特性,可使触控感测结构的复数感测串列118和复数周边线路119所形成的图形痕迹或蚀刻痕迹淡化,进而增加整体触控结构的穿透率。
请参阅图2所示为本实用新型第二实施例的触控结构示意图。其触控结构同样包括有显示单元212、偏光板210以及触控感测结构211;其中,光学折射层更包括至少一高折射层220和至少一低折射层230相互交错堆栈,于本实施例中具有一高折射层220,其折射率为1.6至2.4,材质例如可为ITO、TiO2或Nb2O5等物质,但并不设限于此,以及具有一低折射层230,其折射率为1.2至1.6,材质例如可为MgF2、SiO2或MgO等物质,但并不设限于此;其中,高折射层220设置于偏光板210的一下表面,低折射层230设置于高折射层220之下。触控感测结构211位于低折射层230之下,由于触控感测结构211具有复数感测串列218由透明导电材料所形成,其折射率为1.8~2.4,折射率较高,再搭配高折射层220和低折射层230的排列,形成高折射率/低折射率/高折射率的搭配,可使穿透度提升,并且使短波长穿透度提升,将有效改善触控面板的光学性质与外观。
并有一硬质透明基板216设置于偏光板210之上,硬质透明基板216的材质例如可为玻璃、强化玻璃、PC、PMMA或PC与PMMA的复合材,作为液晶面板外层的保护层(cover lens),其中,硬质透明基板216与偏光板210之间更包括以黏着层215相互黏贴,黏着层215的材质可为光学胶或水胶。
请参阅图3所示为本实用新型第三实施例的触控结构示意图。其触控结构同样包括有显示单元312、偏光板310以及触控感测结构311;其中,光学折射层更包括至少一高折射层320和至少一低折射层330,而触控感测结构311位于偏光板310的一上表面,低折射层330设置于触控感测结构311之上,高折射层320设置于低折射层330之上。高折射层320与低折射层330的搭配不以此为限。由于触控感测结构211具有复数感测串列318由透明导电材料所形成,其折射率为1.8~2.4,折射率较高,再搭配高折射层320和低折射层330的排列,形成高折射率/低折射率/高折射率的搭配,可使穿透度提升,并且使短波长穿透度提升,将有效改善触控面板的光学性质与外观。
请参阅图4所示为本实用新型的第四实施例的触控结构示意图。本实用新型的触控结构同样包括显示单元412、偏光板410以及触控感测结构411;其中,触控感测结构411设置于光学折射层440之上;如图所示的实施例中,光学折射层包括至少一高折射层420和至少一低折射层430,高折射层420设置于偏光板410的一上表面,低折射层430设置于高折射层420之上。由于触控感测结构211具有复数感测串列318由透明导电材料所形成,其折射率为1.8~2.4,折射率较高,再搭配高折射层320和低折射层330的排列,形成高折射率/低折射率/高折射率的搭配,可使穿透度提升,并且使短波长穿透度提升,将有效改善触控面板的光学性质与外观。
请参阅图5所示为本实用新型的第五实施例的触控结构示意图。本实用新型的触控结构同样包括显示单元512、偏光板510以及触控感测结构511;其中,光学折射层包括至少一高折射层520和至少一低折射层530,触控感测结构511位于偏光板510的一下表面,低折射层530设置于触控感测结构511之下,高折射层520设置于低折射层530之下。由于触控感测结构211具有复数感测串列318由透明导电材料所形成,其折射率为1.8~2.4,折射率较高,再搭配高折射层320和低折射层330的排列,形成高折射率/低折射率/高折射率的搭配,可使穿透度提升,并且使短波长穿透度提升,将有效改善触控面板的光学性质与外观。
本实用新型提供一种可据以改善或降低电极图形痕迹或蚀刻痕迹的技术手段。在偏光板表面先形成复数迭层组合的光学折射层,利用光学折射层的材料和厚度而产生不同的光学特性,使偏光板表面的透明导电图形痕迹或蚀刻痕迹淡化,进而增加整体触控结构的穿透率,并可提升整体触控面板的视觉外观。
Claims (9)
1.一种触控结构,其特征在于,包含:
一显示单元;
一偏光板,设置于该显示单元之上,具有至少一光学折射层;以及
一触控感测结构,设置于该光学折射层之下。
2.一种触控结构,其特征在于,包含:
一显示单元;
一偏光板,设置于该显示单元之上,具有至少一光学折射层;以及
一触控感测结构,设置于该光学折射层之上。
3.如权利要求1或2所述的触控结构,其特征在于,该光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层相互交错堆栈。
4.如权利要求1或2所述的触控结构,其特征在于,该高折射层的折射率为1.6至2.4,该低折射层的折射率为1.2至1.6。
5.如权利要求1所述的触控结构,其特征在于,该光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,该高折射层设置于该偏光板的一下表面,该低折射层设置于该些高折射层之下。
6.如权利要求1所述的触控结构,其特征在于,该光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,该触控感测结构位于该偏光板的一上表面,该低折射层设置于该触控感测结构之上,该高折射层设置于该低折射层之上。
7.如权利要求2所述的触控结构,其特征在于,该光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,该高折射层设置于该偏光板的一上表面,该低折射层设置于该些高折射层之上。
8.如权利要求2所述的触控结构,其特征在于,该光学折射层更包括至少一高折射层和至少一低折射层,该触控感测结构位于该偏光板的一下表面,该低折射层设置于该触控感测结构之下,该高折射层设置于该低折射层之下。
9.如权利要求5至8其中任一所述的触控结构,其特征在于,该高折射层材质为ITO、TiO2或Nb2O5,该低折射层材质可为MgF2、SiO2或MgO。
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