JP2002265605A - テトラアルコキシシラン縮合物及びその製造方法 - Google Patents

テトラアルコキシシラン縮合物及びその製造方法

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JP2002265605A JP2001062829A JP2001062829A JP2002265605A JP 2002265605 A JP2002265605 A JP 2002265605A JP 2001062829 A JP2001062829 A JP 2001062829A JP 2001062829 A JP2001062829 A JP 2001062829A JP 2002265605 A JP2002265605 A JP 2002265605A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高分子の構造が制御されていて、モノマー残
存量が少なく、安定かつ高分子量であるテトラアルコキ
シシラン縮合物、その製造方法、及び硬化物を提供する
こと。 【解決手段】 40℃以上の状態で露点5℃以下の不活
性気体で内部の気体を置換した装置に、露点5℃以下の
不活性気体を流しながら液温を10℃以下に保持して、
Si(OR24(式中、R2は、炭素数1〜4のアルキ
ル基を示す。)で示されるテトラアルコキシシランと、
有機溶媒と、酸触媒と、水とを、テトラアルコキシシラ
ン1モルに対して有機溶媒を1.5〜2.5モル、酸触
媒を0.08〜0.12モル、水を1.6〜1.8モル
の各比率に含有する反応混合物を形成させ、次に露点5
℃以下の不活性気体を流しながら該反応混合物の液温を
60〜130℃に加熱して得られることを特徴とする、
テトラアルコキシシラン縮合物、その製造方法、及びそ
の硬化物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、テトラアルコキシシラ
ン縮合物及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、各種アルコキシシランを原料
とするゾル-ゲル法により、加水分解及び重縮合反応を
利用したアルコキシシラン縮合物を合成する検討がなさ
れている。これらのアルコキシシラン縮合物は、プラス
チック材料やセラミック材料のハードコート剤、液晶表
示素子の保護膜、半導体の電気絶縁材料、塗料の硬化剤
などに利用されている。
【0003】例えば、特開平9―110985号公報で
は、メチルトリメトキシシランのような3官能有機トリ
アルコキシシランを原料に用いた有機トリアルコキシシ
ラン縮合物の製造方法が記載されている。また、テトラ
アルコキシシランの縮合物としては、メチルシリケート
51やエチルシリケート40等が販売されている。その
他に、例えば特開平10―147750号公報や特開平
7―48454号公報にて、アルキルシリケートの加水
分解及び重縮合反応を行わせたあと、残存モノマーを留
去する方法が報告されている。
【0004】しかし、従来の合成方法では、ゲル化を防
止するため、水の量をケイ素1モルあたり1.25モル
を超えて導入するのは難しい。その結果、大きくても数
平均分子量が1200程度であったり、モノマーが残存
して安定性が悪くなったり、安定化するのにモノマーの
沸点以上の温度にして残存モノマーを留去したり、アル
カリを用いて処理しなければならない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高分子の構
造が制御されていて、モノマー残存量が少なく、安定か
つ高分子量であるテトラアルコキシシラン縮合物、その
製造方法、及び硬化物を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決するために検討を行った結果、テトラアルコキシシ
ラン縮合物を得るに際し、まず40℃以上の状態で露点
5℃以下の不活性気体で内部の気体を置換し、その後テ
トラアルコキシシラン1モルに対して、1.6〜1.8
モル比と比較的多量の水を用いてテトラアルコキシシラ
ンを液温10℃以下で露点5℃以下の不活性気体を流し
ながら加水分解及び重縮合反応させ、次に液温60〜1
30℃で露点5℃以下の不活性気体を流しながらさらに
加水分解及び重縮合反応を行わせることにより、高分子
構造を制御することができて、安定でかつ高分子量であ
るテトラアルコキシシラン縮合物の合成が可能となる。
以下に本発明の技術内容について詳しく説明する。
【0007】本発明においてテトラアルコキシシラン縮
合物の高分子構造をQ0が1%以下、Q3が50〜60
%、Q4が15〜25%に制御することが、安定でかつ
高分子量であるテトラアルコキシシラン縮合物を得るた
めの要件である。
【0008】上記縮合物の組成において、Q0はテトラ
アルコキシシランモノマーの他に、分解により生成した
シラノール基を含む物、あるいはアルコキシ基が溶媒と
置換した物も含まれる。Q1は、Q2、Q3、Q4を含む縮
合体の末端基、及びQ1同士の二量体を示す物である。
2、Q3、Q4はいずれも分子鎖中のユニットを示すも
のであるが、Q2が線状構造を形成するのに対し、Q3
4は3次元構造の分岐を表すものである。
【0009】
【化4】
【0010】(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル
基または水素原子を示す。) 本発明では、原料を仕込む前及び加水分解反応時に、外
部からの水の進入を避ける必要がある。原料を仕込む前
の乾燥方法としては種々あるが、簡単な方法としては、
露点5℃以上の不活性気体を流しながら40℃以上に加
熱する方法があげられる。
【0011】ここで本発明においては、各反応装置内部
の気体を、40℃以上の状態で露点5℃以下の不活性気
体で置換する。置換の時期は、反応容器への原料の仕込
み以前であれば特に限定されないが、乾燥した装置への
水の進入を防ぐために、加熱乾燥した装置にあっては加
熱乾燥後の冷却中から、既に乾燥した状態にある装置に
あっては使用する前から露点5℃以下の不活性気体で装
置内を置換するのがよい。
【0012】かかる不活性気体としては、露点が5℃以
下、好ましくは−5℃以下の気体が、装置内の気体を置
換した場合に特に効果がある。この乾燥気体での装置内
部の気体との置換は、40℃以上の状態で行うことが本
発明の要件である。ここで用いられる乾燥気体として
は、空気等の気体を一旦5℃以下に冷却して凝縮した水
滴を除去した物や、アルミナゲル、シリカゲル、塩化カ
ルシウム等の吸湿剤を充填した充填層を通過させ除湿し
たもの等が特に制限なく使用できる。これらの不活性気
体の中でも、安全性の点から酸素等の支燃性のガスを含
まない窒素、アルゴン、ネオンが好ましい。
【0013】本発明では、反応条件に悪影響をおよぼす
外気の進入を防ぐ目的及びテトラアルコキシシラン縮合
物の構造を制御することを目的として、製造が終了する
まで常時乾燥不活性気体を流しておく。なお該乾燥不活
性気体は、最終仕込み原料容積1m3当たり60〜90
0m3/hであることが好ましい。
【0014】本発明に使用されるテトラアルコキシシラ
ンとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン
などがあげられる。
【0015】テトラアルコキシシラン縮合物の製造に際
し、通常、テトラアルコキシシラン及び水の双方を溶解
する希釈剤として、有機溶媒を用いる。これらの有機溶
媒の沸点があまり高いと、加水分解及び重縮合反応後に
溶媒留去するとき及び成形時に有機溶媒が残存しやすく
なる。成形体に有機溶媒が多く残存した場合、成形体の
強度や耐溶剤性を低下させる。これを防ぐために有機溶
媒の沸点は130℃以下であることがが好ましい。
【0016】このため、有機溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの
アルコール類、アセトン等のケトン類、THF、ジオキ
サン、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類などが好適に用いられる。使用する溶媒の量
は、テトラアルコキシシラン1モルに対して1.5〜
2.5モル比が好ましい。溶媒量が少なすぎると加水分
解及び重縮合反応時にゲルが生じやすく、多すぎると反
応時間が長くなるためである。
【0017】本発明では、加水分解を促進するために酸
触媒を使用する。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、
燐酸などの無機酸または蟻酸、酢酸などの有機酸が使用
される。
【0018】使用する触媒の量は、テトラアルコキシシ
ラン1モルに対して0.08〜0.12モル比で使用す
る。加水分解に使う水の量はテトラアルコキシシラン1
モルに対して1.6〜1.8モル比で使用する。また、
使用する有機溶媒に水分が含まれている場合には、その
水の量も含めて計算する。
【0019】使用する水の量が、テトラアルコキシシラ
ン1モルに対し、1.6モル未満の場合は、Q0構造が
1%以上となったり、Q3構造が50%以下、Q4構造が
15%以下となり、高分子量で安定なアルコキシシラン
縮合物は得られない。また、テトラアルコキシシラン1
モルに対して1.9モル以上の水を用いるとQ3構造が
60%以上、Q4構造が25%以上となり、ゲルを生じ
る。
【0020】液温10℃以下での加水分解及び重縮合反
応の時間は、モノマーの種類にもよるが、通常5〜60
分、好ましくは10〜40分である。
【0021】次に60〜130℃で、露点5℃以下の不
活性気体を流しながらさらに加水分解及び重縮合反応を
行わせ、加水分解反応で生じたアルコール、重縮合反応
で生じた水を留去する。なお、この際も、該不活性気体
は最終仕込み原料容積1m3当たり60〜900m3/h
で流しておく。液温が60℃より低いと、溶媒が残存し
たり、重縮合反応が十分に進まず、目的とするテトラア
ルコキシシラン縮合物は得られない。また、130℃よ
り高くすると、ゲルを生じることがある。加熱の時間
は、30分〜10時間、好ましくは2時間〜7時間程度
である。
【0022】本発明により得られた、テトラアルコキシ
シラン縮合物は、アルコール等の溶媒で希釈して、その
ままコーティング剤として使用できることはもちろんで
あるが、所望に応じて反応では使用しなかったアルコキ
シシランモノマーやその縮合物を変性剤として使用して
も良い。好ましい変性剤の例としては、γ―アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリエト
キシシラン、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ―メタクリロキシプロピルトリエトキシシラ
ンなどが挙げられる。これらの変性剤は、基板上の塗膜
を硬化させるための温度を低下させることができ、そし
て膜の硬度、密着性を向上させる。
【0023】上記シロキサン溶液は、通常の方法、例え
ばディップ法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコ
ート法、フレキソ印刷法などで基板上に塗布することが
できる。
【0024】基板上に形成された塗膜は、そのまま熱硬
化させても良いが、これに先立ち室温から80℃、好ま
しくは50〜80℃で乾燥させた後、80〜600℃、
好ましくは80〜400℃で加熱される。この加熱時間
としては5〜60分程度で充分である。この加熱が80
℃より低いと、得られた被膜の硬度、耐薬品性が不足し
やすい。これらの加熱は、通常の方法、例えばホットプ
レート、オーブン、ベルト炉等が使用できる。
【0025】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実
施例に制約されるものではない。
【0026】なお、テトラアルコキシシラン縮合物の数
平均分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー)によって求めた。測定は下記の条件により行
った。
【0027】装置:SHIMADZU製 高速液体クロ
マトグラフィー(送液ポンプ:LC−6AD、検出器:
RI−10A)、 カラム:Polymer Science製PLgel
5μ MIXED−D2本、 検出部セル温調温度:40℃、カラム温度:25℃、注
入口温度:25℃、溶媒:テトラヒドロフラン(TH
F)、 流速:1mL/min、試料:THFで1wt%に希釈
し、20μL注入、 標準物質:Polymer Laboratories
製単分散ポリスチレン(670000、422000、
107000、43000、19200、4800、2
030、1350) 実施例1 攪拌機、温度計、気体導入管及び蒸留用のコンデンサー
を付けた200mL4つ口フラスコを、オイルバスを用
いて50℃に加熱しながら、気体導入管より、シリカゲ
ルを充填した乾燥管を通した窒素ガス(以下乾燥窒素ガ
スと略す)をフラスコ内に流し、装置内を乾燥させた。
その後、オイルバスをはずし、室温まで冷却した。な
お、器具の乾燥、仕込み、及び反応の際は、気体導入管
より最終仕込み原料容積1m3当たり322m3/hとな
る、最終原料仕込み容積67mLに対して21.6L/
hで乾燥窒素ガスを流しながら、実験を行った。
【0028】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴を用いて液温0〜5℃で攪拌した。
【0029】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.60モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて、液温
0〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温1
0℃以下で10分間攪拌した。
【0030】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌下に加熱して、エタノールを水冷下コンデンサー
部分から蒸留した。なお、この際、攪拌速度150rp
m、乾燥窒素ガスを21.6L/hで流しながら、7時
間反応を行い、無色透明の粘性液体(L―1)を得た。
このテトラエトキシシラン縮合物のポリスチレン換算の
数平均分子量は1530であった。
【0031】実施例2 攪拌機、温度計、気体導入管及び蒸留用のコンデンサー
を付けた200mL4つ口フラスコを、オイルバスを用
いて内部温度50℃に加熱しながら、気体導入管より、
乾燥窒素ガスをフラスコ内に流し、装置内を乾燥させ
た。その後、オイルバスをはずし、室温まで冷却した。
なお、器具の乾燥、仕込み、及び反応の際は、気体導入
管より21.6L/hで乾燥窒素ガスを流しながら、実
験を行った。
【0032】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴を用いて液温0〜5℃で攪拌した。
【0033】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.70モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて液温0
〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温10
℃以下で10分間攪拌した。
【0034】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌下に加熱して、エタノールを水冷下コンデンサー
部分から蒸留した。なお、この際、攪拌速度150rp
m、乾燥窒素ガスを21.6L/hで流しながら、7時
間反応を行わせ、無色透明の粘性液体(L―2)を得
た。このテトラエトキシシラン縮合物のポリスチレン換
算の数平均分子量は2370であった。
【0035】実施例3 攪拌機、温度計、気体導入管及び蒸留用のコンデンサー
を付けた200mL4つ口フラスコを、オイルバスを用
いて50℃に加熱しながら、気体導入管より、乾燥窒素
ガスをフラスコ内に流し、装置内を乾燥させた。その
後、オイルバスをはずし、室温まで冷却した。なお、器
具の乾燥、仕込み、及び反応の際は、気体導入管より乾
燥窒素ガスを21.6L/hで流しながら、実験を行っ
た。
【0036】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴を用いて液温0〜5℃で攪拌した。
【0037】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.80モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて液温0
〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温10
℃以下で10分間攪拌した。
【0038】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌下に加熱して、エタノールを水冷下コンデンサー
部分から蒸留した。なお、この際、攪拌速度150rp
m、乾燥窒素ガスは21.6L/hで流しながら、4時
間反応を行わせ、無色透明の粘性液体(L―3)を得
た。このテトラエトキシシラン縮合物のポリスチレン換
算の数平均分子量は3070であった。
【0039】比較例1 攪拌機、温度計、気体導入管及び蒸留用のコンデンサー
を付けた200mL4つ口フラスコを、オイルバスを用
いて50℃に加熱しながら、気体導入管より、乾燥窒素
ガスをフラスコ内に流し、装置内を乾燥させた。その
後、オイルバスをはずし、室温まで冷却した。なお、器
具の乾燥、仕込み、及び反応の際は、気体導入管より乾
燥窒素ガスを21.6L/hで流しながら、実験を行っ
た。
【0040】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴中0〜5℃で攪拌した。
【0041】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.50モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて液温0
〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温10
℃以下で10分間攪拌した。
【0042】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌下に加熱して、エタノールを水冷下コンデンサー
部分から蒸留した。なお、この際、攪拌速度150rp
m、乾燥窒素ガスは21.6L/hで流しながら、7時
間反応を行い、無色透明の粘性液体(L―4)を得た。
このテトラエトキシシラン縮合物のポリスチレン換算の
数平均分子量は1360であった。
【0043】比較例2 攪拌機、温度計、気体導入管及び蒸留用のコンデンサー
を付けた200mL4つ口フラスコを、オイルバスを用
いて50℃に加熱しながら、気体導入管より、乾燥窒素
ガスをフラスコ内に流し、装置内を乾燥させた。その
後、オイルバスをはずし、室温まで冷却した。なお、器
具の乾燥、仕込み、反応の際は、気体導入管より乾燥窒
素ガスを21.6L/hで流しながら、実験を行った。
【0044】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴を用いて液温0〜5℃で攪拌した。
【0045】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.90モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて液温0
〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温10
℃以下で10分間攪拌した。
【0046】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌下に加熱して、エタノールを水冷下コンデンサー
部分から蒸留した。なお、この際、攪拌速度150rp
m、乾燥窒素ガスは21.6L/hで流しながら、1時
間30分反応を行ったところで、ゲルが発生した。
【0047】比較例3 攪拌機、温度計、気体導入管、還流冷却器を付けた20
0mL4つ口フラスコを、オイルバスを用いて50℃に
加熱しながら、気体導入管より、乾燥窒素ガスをフラス
コ内に流し、装置内を乾燥させた。その後、オイルバス
をはずし、室温まで冷却した。なお、器具の乾燥、及び
仕込みの際は、気体導入管より乾燥窒素ガスを21.6
L/hで流しながら、実験を行ったが、その後は気体導
入管から乾燥窒素ガスは流さず、密閉した。
【0048】十分乾燥したフラスコにテトラエトキシシ
ラン34.8gとエタノール15.9gを加えて10分
間、氷浴中0〜5℃で攪拌した。
【0049】次に9規定の塩酸とイオン交換水を用い
て、テトラエトキシシラン1モルに対して0.105モ
ル比の塩化水素と1.70モル比の水となるように塩酸
と水を添加した。添加後、10分間氷浴を用いて液温0
〜5℃で攪拌したのち、氷浴をはずしてさらに液温10
℃以下で10分間攪拌した。
【0050】その後、80℃のオイルバス中でフラスコ
を攪拌速度150rpmで攪拌下に加熱して、エタノー
ルを水冷下コンデンサー部分から蒸留したところ、45
分後にゲルが発生した。
【0051】実施例4 上記(L―1)〜(L―4)の溶液の29Si−NMRス
ペクトルを測定し、組成分析を行い、Q0からQ4の構成
成分分析を行った。結果は、表−1に示す。なお、構成
比は、29Si−NMRのピーク面積比より算出した。Q
0:―88〜―90ppmに現れるピークの積分比値を
全体の積分比で除した値。Q1:―91〜―96ppm
に現れるピークの積分比値を全体の積分比で除した値。
2:―93〜―98ppmに現れるピークの積分比値
を全体の積分比で除した値。Q 3:―98〜―107p
pmに現れるピークの積分比値を全体の積分比で除した
値。Q4:―104〜―114ppmに現れるピークの
積分比値を全体の積分比で除した値。
【0052】29Si−NMRの測定は、下記の条件によ
り行った。
【0053】ロック溶媒:CDCl3、 積算回数:512、 90度パルス:6.9μs、 待ち時間:5.000sec、 ケミカルシフト基準:テトラメチルシラン(TMS)。
【0054】
【表1】
【0055】実施例5 得られたポリシロキサン縮合物(L―1)〜(L―3)
の一部をサンプル瓶に移し、原液、40wt%THF溶
液、40wt%エタノール溶液として密閉し、0℃、2
0℃で保存した。1ヶ月後、全てのサンプルでゲル化は
起こらず、目視で粘度の変化は見られなかった。
【0056】実施例6 上記縮合物(L―2)をSiO2固形分換算で6wt%
となるようにエタノールで希釈し、シリコン基板、IT
O付きガラス基板、ソーダライムガラス基板、石英基
板、トリアセチルセルロースフィルム、PETフィルム
上に塗布したところ、ムラやピンホールは認められず、
成膜性は良好であった。
【0057】また、ITO付きガラス基板上に塗布した
後、80℃で3分間乾燥し、さらに200℃で30分間
焼成した膜の透過率、鉛筆硬度を測定した。透過率、鉛
筆硬度の測定法は以下の通りである。
【0058】透過率:石英基板上に上記シロキサン溶液
を用いて膜厚0.1μmの被膜を形成し、(株)島津製
作所製の分光高度計UV3100PCを使用して、波長
800〜200nmの領域の透過率を測定した。
【0059】鉛筆硬度:JIS K 5400 に規定
の方法による。
【0060】測定の結果、透過率は90%以上であっ
た。また、鉛筆硬度は5Hであった。
【0061】
【発明の効果】本発明によれば、比較的多量の水を用
い、乾燥不活性ガスを流しながらか、テトラアルコキシ
シランの加水分解・重縮合反応を行うことにより、モノ
マー残存量が少なく、高分子量で、安定であり、構造の
制御されたテトラアルコキシシラン縮合物を合成するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J035 BA01 BA06 CA061 JB02 JB03 LB01 LB03

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テトラアルコキシシランの分解によって
    得られる、下記Q0〜Q4成分を含有するシロキサンであ
    って、構成成分が29Si−NMRの積分比で、Q0が1
    %以下、Q3が50〜60%、Q4が15〜25%である
    テトラアルコキシシラン縮合物。 【化1】 (式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基または水素
    原子を示す。)
  2. 【請求項2】 ポリスチレン換算の数平均分子量が14
    00〜5000である、請求項1に記載のテトラアルコ
    キシシラン縮合物。
  3. 【請求項3】 40℃以上の状態で露点5℃以下の不活
    性気体で内部の気体を置換した装置に、露点5℃以下の
    不活性気体を流しながら液温を10℃以下に保持して、
    式(1) 【化2】 (式中、R2は、炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
    で示されるテトラアルコキシシランと、有機溶媒と、酸
    触媒と、水とを、テトラアルコキシシラン1モルに対し
    て有機溶媒を1.5〜2.5モル、酸触媒を0.08〜
    0.12モル、水を1.6〜1.8モルの各比率に含有
    する反応混合物を形成させ、次に露点5℃以下の不活性
    気体を流しながら該反応混合物の液温を60〜130℃
    に加熱して得られることを特徴とする、請求項1に記載
    のテトラアルコキシシラン縮合物。
  4. 【請求項4】 最終仕込み原料容積1m3当たり露点5
    ℃以下の不活性気体を60〜900m3/hに流すこと
    を特徴とする、請求項3に記載のテトラアルコキシシラ
    ン縮合物。
  5. 【請求項5】 テトラアルコキシシランがテトラエトキ
    シシランである請求項1、2,3,又は4に記載のテト
    ラアルコキシシラン縮合物。
  6. 【請求項6】 40℃以上の状態で露点5℃以下の不活
    性気体で内部の気体を置換した装置に、露点5℃以下の
    不活性気体を流しながら液温を10℃以下に保持して、
    式(1) 【化3】 (式中、R2は、炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
    で示されるテトラアルコキシシランと、有機溶媒と、酸
    触媒と、水とを、テトラアルコキシシラン1モルに対し
    て、有機溶媒を1.5〜2.5モル、酸触媒を0.08
    〜0.12モル、水を1.6〜1.8モルの各比率に含
    有する反応混合物を形成させ、次に露点5℃以下の不活
    性気体を流しながら該反応混合物の液温を60〜130
    ℃に加熱することを特徴とする、テトラアルコキシシラ
    ン縮合物の製造方法。
  7. 【請求項7】 最終仕込み原料容積1m3当たり露点5
    ℃以下の不活性気体を60〜900m3/hに流すこと
    を特徴とする、請求項6に記載のテトラアルコキシシラ
    ン縮合物の製造方法。
  8. 【請求項8】 アルコキシシランがテトラエトキシシラ
    ンである請求項6〜7に記載のテトラアルコキシシラン
    縮合物の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項6、7,又は8に記載の製造方法
    により得られたテトラアルコキシシラン縮合物を硬化し
    てなるテトラアルコキシシラン硬化物。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007031464A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Colcoat Kk アルキルシリケート縮合体の製造方法
JP2009149833A (ja) * 2007-11-28 2009-07-09 Shin Etsu Chem Co Ltd シリケートポリマー及びその製造方法、並びに該シリケートポリマーを含有するコーティング剤
JP2013151581A (ja) * 2012-01-24 2013-08-08 Asahi Kasei E-Materials Corp ポリシロキサン材料
JP2014501320A (ja) * 2011-01-03 2014-01-20 シルボンド・コーポレイション 安定したエチルシリケートポリマー
KR20180056109A (ko) * 2016-11-18 2018-05-28 주식회사 엘지화학 전가수분해된 알킬 폴리실리케이트의 합성방법
US10040907B2 (en) 2014-09-30 2018-08-07 Kaneka Corporation Method for producing siloxane resin
US10563088B2 (en) 2014-12-16 2020-02-18 Kaneka Corporation Photocurable and thermosetting resin composition, cured product, and laminate

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01230406A (ja) * 1988-03-11 1989-09-13 Koroido Res:Kk 金属アルコキシドからの粘性ゾルの製造方法
JPH0748454A (ja) * 1993-08-05 1995-02-21 Mitsubishi Chem Corp ポリシロキサンオリゴマー及びその製造方法
JPH09110985A (ja) * 1995-10-16 1997-04-28 Mitsubishi Chem Corp 有機トリアルコキシシラン縮合物の製造方法及び貯蔵方法、並びに有機トリアルコキシシラン硬化物の製造方法
JPH09316205A (ja) * 1996-03-25 1997-12-09 Mitsubishi Chem Corp シロキサン化合物及びこれを用いた液状組成物
JPH10147750A (ja) * 1996-11-20 1998-06-02 Colcoat Kk アルキルシリケート部分縮合体の製法
JPH10212354A (ja) * 1997-01-29 1998-08-11 Mitsubishi Chem Corp ポリアルコキシポリシロキサン及びその製造方法並びにこれを用いた硬化性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01230406A (ja) * 1988-03-11 1989-09-13 Koroido Res:Kk 金属アルコキシドからの粘性ゾルの製造方法
JPH0748454A (ja) * 1993-08-05 1995-02-21 Mitsubishi Chem Corp ポリシロキサンオリゴマー及びその製造方法
JPH09110985A (ja) * 1995-10-16 1997-04-28 Mitsubishi Chem Corp 有機トリアルコキシシラン縮合物の製造方法及び貯蔵方法、並びに有機トリアルコキシシラン硬化物の製造方法
JPH09316205A (ja) * 1996-03-25 1997-12-09 Mitsubishi Chem Corp シロキサン化合物及びこれを用いた液状組成物
JPH10147750A (ja) * 1996-11-20 1998-06-02 Colcoat Kk アルキルシリケート部分縮合体の製法
JPH10212354A (ja) * 1997-01-29 1998-08-11 Mitsubishi Chem Corp ポリアルコキシポリシロキサン及びその製造方法並びにこれを用いた硬化性組成物

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007031464A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Colcoat Kk アルキルシリケート縮合体の製造方法
JP2009149833A (ja) * 2007-11-28 2009-07-09 Shin Etsu Chem Co Ltd シリケートポリマー及びその製造方法、並びに該シリケートポリマーを含有するコーティング剤
JP2014501320A (ja) * 2011-01-03 2014-01-20 シルボンド・コーポレイション 安定したエチルシリケートポリマー
JP2013151581A (ja) * 2012-01-24 2013-08-08 Asahi Kasei E-Materials Corp ポリシロキサン材料
US10040907B2 (en) 2014-09-30 2018-08-07 Kaneka Corporation Method for producing siloxane resin
US10563088B2 (en) 2014-12-16 2020-02-18 Kaneka Corporation Photocurable and thermosetting resin composition, cured product, and laminate
KR20180056109A (ko) * 2016-11-18 2018-05-28 주식회사 엘지화학 전가수분해된 알킬 폴리실리케이트의 합성방법
KR101942474B1 (ko) * 2016-11-18 2019-01-25 주식회사 엘지화학 전가수분해된 알킬 폴리실리케이트의 합성방법
US10647820B2 (en) 2016-11-18 2020-05-12 Lg Chem, Ltd. Method for synthesizing pre-hydrolyzed alkyl polysilicate

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