JP2002237407A

JP2002237407A - 希土類系焼結磁石

Info

Publication number: JP2002237407A
Application number: JP2001358260A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Yoshimura; 吉村　　公志; Takeshi Nishiuchi; 武司西内; Fumiaki Kikui; 文秋菊井
Original assignee: Sumitomo Special Metals Co Ltd
Current assignee: Hitachi Metals Ltd
Priority date: 1999-01-27
Filing date: 2001-11-22
Publication date: 2002-08-23
Anticipated expiration: 2020-01-11
Also published as: JP3519069B2

Abstract

(57)【要約】【課題】樹脂やカップリング剤などの第三の成分を用
いることなく、磁石表面全体に均一にしかも強固に導電
層を形成することにより、めっき被膜などの耐食性被膜
の形成を高い膜厚寸法精度で行うことができる希土類系
焼結磁石を提供すること。【解決手段】磁石表面を構成する金属上に実質的に金
属微粉のみからなる被着層を有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、めっき被膜などの
耐食性被膜の形成を高い膜厚寸法精度で行うことができ
る希土類系焼結磁石に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石などの希土類系永久磁石は、Ｓ
ｍ−Ｃｏ系永久磁石に比べて、資源的に豊富で安価な材
料が用いられ、かつ、高い磁気特性を有している。従っ
て、特に、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、今日様々な分野
で使用されている。しかし、希土類系永久磁石は、大気
中で酸化腐食されやすいＲを含む。それ故、表面処理を
行わずに使用した場合には、わずかな酸やアルカリや水
分などの影響によって表面から腐食が進行して錆が発生
し、それに伴って、磁気特性の劣化やばらつきを招くこ
とになる。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路などの
装置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染す
る恐れがある。この問題点を解消すべく、例えば、電気
めっき処理によって、希土類焼結磁石表面に耐食性被膜
としてめっき被膜を形成する方法が実用に供せられてい
る。磁石表面に優れた耐食性などを有するめっき被膜を
形成するためには磁石表面全体に導電性が付与されてい
ることが肝要である。希土類系焼結磁石の表面は基本的
に導電性があるので、なんらの方法を講じなくてもその
表面にめっき被膜を形成することができるが、磁石表面
全体に均一にしかも強固に導電層を形成する方法は有用
性が高く、そのような方法の出現が望まれている。

【０００３】ところで、ボンド磁石表面全体に導電性を
付与して電気めっき処理を行う方法が各種提案されてい
る。これらの方法は焼結磁石に対しても応用可能な方法
である。例えば、特開平５−３０２１７６号公報には、
ボンド磁石と少なくとも部分的に未硬化の状態にある樹
脂と導電性粉体とスチールボールなどの被膜形成媒体を
容器内に入れ、それらに振動または攪拌を加えることに
より、導電性粉体を含む樹脂被膜を磁石表面に形成し、
その表面にめっき被膜を形成する方法が記載されてい
る。特開平７−１６１５１６号公報には、ボンド磁石表
面の全体または一部に未硬化樹脂層を形成した後、振動
ボールミルのメディアである銅製ボールを用いてその表
面に金属粉体からなる導電層を形成し、さらにその導電
層表面にめっき被膜を形成する方法が記載されている。
特開平１１−３８１１号公報には、金属粉末を添加した
カップリング剤の溶液中にボンド磁石を浸漬し、磁石表
面に金属粉末を付着させた後、さらにステンレスボール
などのブラストメディアの打撃力で磁石表面に金属粉末
を充填・被覆し、その後、その表面にめっき被膜を形成
する方法が記載されている。また、特開平８−１８６０
１６号公報には、ボンド磁石表面に樹脂と導電性材料粉
末との混合物を塗装して導電性被膜層を形成した後、表
面平滑処理を行い、その表面にめっき被膜を形成する方
法が記載されている。

【０００４】ボンド磁石表面にめっき被膜以外の耐食性
被膜を形成する方法としては、以下のような方法が提案
されている。例えば、特開平７−３０２７０５号公報に
は、ボンド磁石の表面を未硬化樹脂で被覆した後、これ
を金属粉末とアルミナ製ボールなどの被覆形成媒体とと
もに容器内に入れ、容器を振動および／または攪拌する
ことにより未硬化樹脂表面に金属粉末を付着させ、その
表面にクロメート被膜を形成する方法が記載されてい
る。特開平１０−２２６８９０号公報には、金属粉末を
添加したカップリング剤の溶液中にボンド磁石を浸漬し
た後、その表面に予め金属粉末を付着させた状態で、ス
テンレスボールなどのブラストメディアによる金属粉末
の付着工程を行い、その表面に樹脂被膜を形成する方法
が記載されている。また、特開平９−２０５０１３号公
報には、ボンド磁石表面の空隙部にスチールボールなど
のブラストメディアの攻撃力によって金属粉末を充填
し、その表面に樹脂被膜を形成する方法が記載されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開平５−３０２１７
６号公報などに記載の方法は、基本的に金属粉末を用い
てボンド磁石表面全体に導電性を付与するものである。
また、特開平７−３０２７０５号公報と特開平１０−２
２６８９０号公報に記載の方法によっても、ボンド磁石
表面全体に導電性を付与することができる。しかし、い
ずれの方法も樹脂やカップリング剤などの第三の成分の
粘着性を利用して金属粉末を磁石表面に付着させるもの
である。このような方法では、第三の成分を必要とする
ことから、コストの上昇を招く他、導電層を磁石表面全
体に均一に形成することが困難になるので、結果的に高
い寸法精度での表面処理が困難になる。また、未硬化樹
脂の硬化工程などが必要となるので製造工程が煩雑にな
る。さらに、金属粉末の付着手段として、スチールボー
ル、銅製ボール、ステンレスボール、アルミナ製ボール
などの媒体を用いた場合、ボンド磁石の割れや欠けを招
いてしまう恐れがある。特開平９−２０５０１３号公報
に記載の方法によれば、樹脂やカップリング剤などの第
三の成分を用いずに磁石表面の空隙部に金属粉末を充填
することが可能となる。しかし、この方法は、本来的に
磁石表面を構成する磁性粉上に金属粉末を付着させよう
とするものではない。従って、磁性粉上に金属粉末が付
着しても、その付着力は必然的に弱いものなので、磁性
粉上に金属粉末を強固に付着させることはできない。ま
た、この方法では、磁性粉上に弱く付着した過剰の金属
粉末を洗浄により除去する工程が必要になるので、製造
工程の煩雑化を招く。そこで本発明は、樹脂やカップリ
ング剤などの第三の成分を用いることなく、磁石表面全
体に均一にしかも強固に導電層を形成することにより、
めっき被膜などの耐食性被膜の形成を高い膜厚寸法精度
で行うことができる希土類系焼結磁石を提供することを
目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、酸化など
がされていない無垢な金属表面（新鮮表面）が引き起こ
す特異な表面化学反応であるメカノケミカル（ｍｅｃｈ
ａｎｏｃｈｅｍｉｃａｌ）反応に着目し、種々の検討を
行った結果、希土類系永久磁石と金属微粉生成物質を処
理容器内に入れ、処理容器内にて、両者に振動を加え、
および／または両者を攪拌すると、金属微粉生成物質か
ら新鮮表面を有する金属微粉が生成し、磁石表面を構成
する金属上に、金属微粉からなる被着層が強固にかつ高
密度に形成されることを知見した。

【０００７】本発明は、かかる知見に基づき成されたも
ので、本発明の希土類系焼結磁石は、請求項１記載の通
り、磁石表面を構成する金属上に実質的に金属微粉のみ
からなる被着層を有することを特徴とする。また、請求
項２記載の希土類系焼結磁石は、請求項１記載の希土類
系焼結磁石において、金属微粉がＣｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃ
ｏ、Ｃｒから選ばれる少なくとも一種の金属成分を含ん
でなることを特徴とする。また、請求項３記載の希土類
系焼結磁石は、請求項１記載の希土類系焼結磁石におい
て、金属微粉がＣｕ微粉であることを特徴とする。ま
た、請求項４記載の希土類系焼結磁石は、請求項１記載
の希土類系焼結磁石において、金属微粉のヴィッカース
硬度値が６０以下であることを特徴とする。また、請求
項５記載の希土類系焼結磁石は、請求項１記載の希土類
系焼結磁石において、金属微粉がＳｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌから選ばれる少なくとも一
種の金属成分を含んでなることを特徴とする。また、請
求項６記載の希土類系焼結磁石は、請求項１記載の希土
類系焼結磁石において、金属微粉がＡｌ微粉であること
を特徴とする。また、請求項７記載の希土類系焼結磁石
は、請求項１記載の希土類系焼結磁石において、希土類
系焼結磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石であることを特徴
とする。また、請求項８記載の希土類系焼結磁石は、請
求項２記載の希土類系焼結磁石において、被着層の膜厚
が０．００１μｍ〜０．２μｍであることを特徴とす
る。また、請求項９記載の希土類系焼結磁石は、請求項
４記載の希土類系焼結磁石において、被着層の膜厚が
０．００１μｍ〜１００μｍであることを特徴とする。
また、請求項１０記載の希土類系焼結磁石は、請求項１
記載の希土類系焼結磁石において、金属微粉の長径が
０．００１μｍ〜５μｍであることを特徴とする。ま
た、本発明の希土類系焼結磁石は、請求項１１記載の通
り、請求項１記載の希土類系焼結磁石の実質的に金属微
粉のみからなる被着層の表面にめっき被膜を有すること
を特徴とする。また、本発明の希土類系焼結磁石は、請
求項１２記載の通り、請求項１記載の希土類系焼結磁石
の実質的に金属微粉のみからなる被着層の表面に金属酸
化物被膜を有することを特徴とする。また、本発明の希
土類系焼結磁石は、請求項１３記載の通り、請求項１記
載の希土類系焼結磁石の実質的に金属微粉のみからなる
被着層の表面に化成処理被膜を有することを特徴とす
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明は、磁性粉を所要のバイン
ダーによって結合成形したボンド磁石、磁性粉を焼結さ
せた焼結磁石など、種々の構成からなる希土類系永久磁
石を対象とすることができるが、本発明は焼結磁石を対
象とする。

【０００９】希土類系焼結磁石としては、Ｎｄ−Ｆｅ−
Ｂ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石、Ｓ
ｍ−Ｆｅ−Ｎ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｎ系焼
結磁石などが挙げられる。焼結磁石の原料となる磁性粉
は、例えば、従来から採用されている溶解粉砕法、直接
還元拡散法などによって得ることができる。このような
方法の他では、特に、特許第２６６５５９０号公報に記
載されている、溶湯急冷法によって板厚方向に成長させ
た柱状結晶組織を有する合金薄板を粉砕することで得ら
れる磁性粉を用いることによって、高磁気特性の焼結磁
石を得ることができる。焼結磁石の原料となる磁性粉の
組成は、以下に述べる範囲から選定することができる。
なお、焼結磁石は、公知の粉末冶金法を採用することで
容易に得ることができる。異方性の付与は、磁気的異方
性を有する磁性粉を磁界中配向成形することで実現する
ことができる。これらの焼結磁石においては、原料とな
る磁性粉の組成や異方性の有無によって本発明の効果が
異なるものではなく、目的とする効果を得ることができ
る。

【００１０】希土類系焼結磁石を構成する磁性粉は、希
土類系永久磁石合金を溶解し、鋳造後に粉砕する溶解粉
砕法、一度焼結磁石を作成した後、これを粉砕する焼結
体粉砕法、Ｃａ還元にて直接磁性粉を得る直接還元拡散
法、溶解ジェットキャスターで希土類系永久磁石合金の
リボン箔を得、これを粉砕・焼純する急冷合金法、希土
類系永久磁石合金を溶解し、これをアトマイズで粉末化
して熱処理するアトマイズ法、原料金属を粉末化した
後、メカニカルアロイングにて微粉末化して熱処理する
メカニカルアロイ法などの方法で得ることができる。ま
た、Ｒ−Ｆｅ−Ｎ系焼結磁石を構成する磁性粉は、希土
類系永久磁石合金を粉砕し、これを窒素ガス中またはア
ンモニアガス中で窒化した後、微粉末化するガス窒化法
などの方法でも得ることができる。以下、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系焼結磁石用の磁性粉の製造を例にとって各方法の概略
を説明する。

【００１１】（溶解粉砕法）原料を溶解して鋳造後に機
械的粉砕する工程による製造法である。例えば、出発原
料として、電解鉄、Ｂを含有し残部はＦｅおよびＡｌ、
Ｓｉ、Ｃなどの不純物からなるフェロボロン合金、希土
類金属、あるいはさらに、電解Ｃｏを配合した原料粉
を、高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳造し、水素吸
蔵粉砕するか、スタンプミルなどの通常の機械的な粉砕
により粗粉砕する。次の微粉砕のプロセスとしては、ボ
ールミル、ジェットミルなどの乾式粉砕ならびに種々の
溶媒を用いる湿式粉砕などが採用できる。本方法によ
り、主相が正方晶で、実質的に単結晶ないし数個の結晶
粒からなる平均粒度１μｍ〜５００μｍの微粉末を得る
ことができる。また、所要組成の３μｍ以下の微粉砕粉
を、磁界中配向成形した後、解砕し、さらに８００℃〜
１１００℃で熱処理した後、解砕することにより、高保
磁力を有した磁性粉を得ることができる。

【００１２】（焼結体粉砕法）所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合
金を焼結し、再度粉砕して磁性粉を得る方法である。例
えば、出発原料として、電解鉄、Ｂを含有し残部はＦｅ
およびＡｌ、Ｓｉ、Ｃなどの不純物からなるフェロボロ
ン合金、希土類金属、あるいはさらに、電解Ｃｏを配合
した原料粉を、不活性ガス雰囲気下、高周波溶解などで
合金化し、スタンプミルなどを用いて粗粉砕、さらに、
ボールミルなどにより微粉砕する。得られた微粉末を磁
界下または磁界をかけずに加圧成形し、非酸化性雰囲気
である真空中や不活性ガス中で焼結し、再度粉砕して、
平均粒度０．３μｍ〜１００μｍの微粉末を得る。この
後、保磁力を高めるために、５００℃〜１０００℃で、
熱処理を施してもよい。

【００１３】（直接還元拡散法）フェロボロン粉、フェ
ロニッケル粉、コバルト粉、鉄粉、希土類酸化物粉など
からなる少なくとも１種の金属粉および／または酸化物
粉からなる原料粉を所望する原料合金粉末の組成に応じ
て選定し、上記原料粉に、金属ＣａあるいはＣａＨ_２を
上記希土類酸化物粉の還元に要する化学量論的必要量の
１．１倍〜４．０倍（重量比）混合し、不活性ガス雰囲
気中で９００℃〜１２００℃に加熱し、得られた反応生
成物を水中に投入して反応副生成物を除去することによ
り、粗粉砕が不要な１０μｍ〜２００μｍの平均粒度を
有する粉末を得る。得られた粉末は、さらに、ボールミ
ル、ジェットミルなどの乾式粉砕を行い微粉砕するのも
よい。また、所要組成の３μｍ以下の微粉砕粉を、磁界
中配向成形した後、解砕し、さらに８００℃〜１１００
℃で熱処理した後、解砕することにより、高保磁力を有
した磁性粉を得ることができる。

【００１４】（急冷合金法）所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金
を溶解し、ジェットキャスターでメルトスピンさせて２
０μｍ厚み程度のリボン箔を得てこれを粉砕した後、焼
鈍熱処理し、０．５μｍ以下の微細結晶粒を有する粉末
となす。また、上記のリボン箔から得た微細結晶粒を有
する粉末をホットプレス・温間据え込み加工して、異方
性を付与したバルク磁石を得、これを微粉砕するのもよ
い。

【００１５】（アトマイズ法）所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合
金を溶解し、細いノズルより溶湯を落下させ、高速の不
活性ガスまたは液体でアトマイズし、これを篩分けまた
は粉砕後、乾燥または焼鈍熱処理して磁性粉を得る方法
である。また、上記の微細結晶粒を有する粉末をホット
プレス・温間据え込み加工して、異方性を付与したバル
ク磁石を得、これを微粉砕するのもよい。

【００１６】（メカニカルアロイ法）所要の原料粉末
を、ボールミル、振動ミル、乾式アトライターなどによ
り、不活性ガス中で、原子レベルで混合、非晶質化し、
その後、焼鈍熱処理して磁性粉を得る方法である。ま
た、上記の微細結晶粒を有する粉末をホットプレス・温
間据え込み加工して、異方性を付与したバルク磁石を
得、これを微粉砕するのもよい。

【００１７】また、バルクや磁性粉に対して磁気的異方
性を付与する方法として、急冷合金法によって得られた
合金粉をホットプレスなどにより低温で焼結し、さらに
温間据え込み加工によって磁気的異方性を付与したバル
ク状磁石体を粉砕する温間加工・粉砕法（特公平４−２
０２４２号公報参照）、急冷合金法によって得られた合
金粉をそのまま金属製容器に充填封入し、温間圧延など
の塑性加工によって磁気的異方性を付与するパック圧延
法（特許第２５９６８３５号公報参照）、合金鋳塊を熱
間で塑性加工し、その後に粉砕して磁気的異方性を有す
る磁性粉を得るインゴット熱間加工・粉砕法（特公平７
−６６８９２号公報参照）、希土類系永久磁石合金を水
素中で加熱して水素を吸蔵させた後、脱水素処理し、次
いで冷却することによって磁性粉を得るＨＤＤＲ法（特
公平６−８２５７５号公報参照）などを採用することが
できる。なお、磁気的異方性の付与は、上記の原料合金
と異方化手段の組合せに限られるものではなく、適宜組
み合わせることができる。

【００１８】上記の方法により得られる磁性粉の組成と
しては、例えば、Ｒ：８原子％〜３０原子％（但しＲは
Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種、望ましくはＮ
ｄ、Ｐｒなどの軽希土類を主体として、あるいはＮｄ、
Ｐｒなどとの混合物を用いる）、Ｂ：２原子％〜２８原
子％（Ｂの一部をＣで置換することもできる）、Ｆｅ：
６５原子％〜８４原子％（Ｆｅの一部を、Ｆｅの５０％
以下のＣｏ、Ｆｅの８％以下のＮｉ、のうち少なくとも
１種で置換したものを含む）が挙げられる。

【００１９】また、得られる焼結磁石の高保磁力化、耐
食性向上のために、原料粉末に、Ｃｕ：３．５原子％以
下、Ｓ：２．５原子％以下、Ｔｉ：４．５原子％以下、
Ｓｉ：１５原子％以下、Ｖ：９．５原子％以下、Ｎｂ：
１２．５原子％以下、Ｔａ：１０．５原子％以下、Ｃ
ｒ：８．５原子％以下、Ｍｏ：９．５原子％以下、Ｗ：
９．５原子％以下、Ｍｎ：３．５原子％以下、Ａｌ：
９．５原子％以下、Ｓｂ：２．５原子％以下、Ｇｅ：７
原子％以下、Ｓｎ：３．５原子％以下、Ｚｒ：５．５原
子％以下、Ｈｆ：５．５原子％以下、Ｃａ：８．５原子
％以下、Ｍｇ：８．５原子％以下、Ｓｒ：７原子％以
下、Ｂａ：７原子％以下、Ｂｅ：７原子％以下、Ｇａ：
１０原子％以下、のうち少なくとも１種を添加含有させ
ることができる。

【００２０】本発明において、磁石表面を構成する金属
とは、焼結磁石表面に位置する磁性結晶相などを意味す
る。即ち、磁石表面を構成する金属は、メカノケミカル
反応によって金属微粉を強固に被着させることができる
ものであれば、その形態や材質に特段の制限や限定はな
く、得られる効果が大きく異なるものでもない。本発明
は、磁石表面での酸化腐食による発錆の要因となる金属
のすべてを対象とするものであるので、磁石の製造方法
などによって磁石表面を構成する金属の存在形態や配置
形態が異なっていても、メカノケミカル反応によって金
属微粉を強固に被着させることができるものであればよ
く、後述する実施例によって制限や限定を受けるもので
もない。

【００２１】金属微粉としては、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃ
ｏ、Ｃｒなどの金属成分からなるもの、展延性が大き
な、例えば、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ａｌなどの金属成分からなるヴィッカース硬度値が
６０以下のものが挙げられる。なお、ヴィッカース硬度
は、材料の硬さを示す指標の一つであり、その測定試験
は、例えば、ヴィッカース硬度試験器（ＪＩＳＢ７７２
５）を用いたヴィッカース硬度試験方法（ＪＩＳＺ２２
４４）に基づいて行うことができる。

【００２２】金属微粉は、上記の各々単一の金属成分か
らなるものであっても、二種以上の金属成分を含有する
合金からなるものであってもよい。また、これらの金属
成分を主成分とし、他の金属成分を含有する合金からな
るものであってもよい。このような合金を用いる場合、
要求される展延性などに応じて適切な金属成分の組み合
わせを選定することが望ましい。なお、金属微粉は、工
業的生産上不可避な不純物を含有するものであっても差
し支えない。

【００２３】本発明では、金属の新鮮表面が引き起こす
特異な表面化学反応であるメカノケミカル反応を利用し
て、希土類系焼結磁石表面を構成する金属上に、金属微
粉からなる被着層を効率よく形成させる。メカノケミカ
ル反応によって形成された被着層は、磁石表面を構成す
る金属上に強固にかつ高密度に形成されているので、手
で表面を擦った程度では除去することができない。従っ
て、被着層形成後の洗浄工程など、電気めっき処理を完
了するまでの種々の取り扱い時に被着層が脱落すること
はない。よって、樹脂やカップリング剤などの第三の成
分を用いなくても、磁石表面全体に均一にしかも強固に
導電層を形成できるので、密着強度の高いめっき被膜を
高い膜厚寸法精度で形成することができる。

【００２４】なお、磁石表面を構成する金属上に形成さ
れた被着層は、金属微粉生成物質から生成した直後の形
状を保持した金属微粉、磁石表面を構成する金属上に被
着した金属微粉が処理容器内の内容物（その多くは金属
微粉生成物質である）との衝突によって変形（例えば展
延）した金属微粉、金属微粉上に被着した後に変形した
金属微粉、金属微粉の集合体、該集合体の変形物（例え
ば展延されて鱗片状になったもの）、該集合体の積層物
などから構成されている。よって、本発明における金属
微粉からなる被着層は、金属微粉生成物質から生成した
金属微粉を形成源として形成された被着層を意味するも
のとする。

【００２５】メカノケミカル反応は、上述のように金属
の新鮮表面が引き起こす反応であるので、いかに金属の
新鮮表面を生じさせるのかが重要となる。本発明におい
ては、希土類系焼結磁石と金属微粉生成物質を処理容器
内に入れ、処理容器内にて、両者に振動を加え、および
／または両者を攪拌することでこの目的を達成すること
ができる。そのメカニズムとしては、希土類系焼結磁石
と金属微粉生成物質に対する、振動および／または攪拌
により、まず、金属微粉生成物質から金属微粉が生成す
る。この生成直後の金属微粉は、酸化されておらず、新
鮮表面を有していることが挙げられる。さらに、上記の
操作は、磁石表面を構成する金属や、磁石表面を構成す
る金属上に被着した金属微粉などに対しても、処理容器
内の内容物との衝突によって新鮮表面を生じさせること
が挙げられる。その結果として、メカノケミカル反応を
連続的に引き起こすのに非常に都合がよいと考えられ
る。

【００２６】ちなみに、本発明者らの検討において、金
属微粉生成物質の代わりに市販の金属微粉を容器内に入
れて同様の操作を行っても、磁石表面を構成する金属上
に金属微粉を被着させることはできないことが判明して
いる。これは、市販の金属微粉は、通常、その表面が酸
化されており、新鮮表面を持たないことに加え、鋭利な
端部を有していないことから、金属微粉と磁石表面を構
成する金属との衝突では、磁石表面を構成する金属に対
して効率よく新鮮表面を生じさせることができず、ま
た、金属微粉自体も互いの衝突や磁石表面を構成する金
属との衝突によっては新鮮表面が生じないからであると
考えられる。

【００２７】新鮮表面を有する金属微粉の生成源となる
金属微粉生成物質としては、所望する金属のみからなる
金属片、異種金属からなる芯材に所望する金属を被覆し
た複合金属片などが用いられる。これらの金属片は、針
状（ワイヤー状）、円柱状、塊状など様々な形状を有す
るが、金属微粉を効率よく生成させるためや、磁石表面
を構成する金属に対して新鮮表面を効率よく生じさせる
ためなどの観点からは、末端が鋭利な針状や円柱状のも
のを用いることが望ましい。このような望ましい形状
は、公知のワイヤーカット技術を採用することで容易に
得ることができる。

【００２８】金属微粉生成物質の大きさ（長径）は、金
属微粉を効率よく生成させること、磁石表面を構成する
金属に対して効果的に新鮮表面を生じさせることなどの
観点から、０．０５ｍｍ〜１０ｍｍが望ましい。より望
ましくは０．３ｍｍ〜５ｍｍであり、さらに望ましくは
０．５ｍｍ〜３ｍｍである。金属微粉生成物質は、同一
形状・同一寸法のものを用いてもよく、異形状・異寸法
のものを混合して用いてもよい。

【００２９】市販の金属微粉のみでは、磁石表面を構成
する金属上に金属微粉を被着させることができないこと
は上述の通りであるが、市販の金属微粉を、上述の金属
微粉生成物質とともに処理容器内に入れれば、金属微粉
生成物質などとの衝突によって、金属微粉にも新鮮表面
を生じさせることができるので、該金属微粉も被着層の
形成に寄与することが期待される。

【００３０】本発明において使用しうる処理容器は、該
処理容器内にて、希土類系焼結磁石と金属微粉生成物質
に振動を加え、および／または両者を攪拌することがで
きるものであれば特段限定されるものではない。具体的
な処理容器としては、例えば、被処理物の表面を加工す
るために用いられるバレル装置の処理槽、被処理物を粉
砕するために用いられるボールミル装置の処理槽などが
挙げられる。バレル装置は、回転式をはじめ、振動式
や、遠心式など、公知の装置を用いることができる。回
転式の場合、その回転数は２０ｒｐｍ〜５０ｒｐｍとす
ることが望ましい。振動式の場合、その振動数は５０Ｈ
ｚ〜１００Ｈｚ、振動振幅は０．３ｍｍ〜１０ｍｍとす
ることが望ましい。遠心式の場合、その回転数は７０ｒ
ｐｍ〜２００ｒｐｍとすることが望ましい。

【００３１】希土類系焼結磁石と金属微粉生成物質に対
する、振動および／または攪拌は、両者が酸化腐食され
やすいことを考慮して乾式的に行うことが望ましい。処
理容器内に投入する希土類系焼結磁石と金属微粉生成物
質の量は、処理容器内容積の２０ｖｏｌ％〜９０ｖｏｌ
％が望ましい。２０ｖｏｌ％未満では、処理量が少なす
ぎて実用的でなく、９０ｖｏｌ％を越えると、磁石への
金属微粉の被着が効率よく起こらなくなる恐れがあるか
らである。また、容器内に投入する希土類系焼結磁石と
金属微粉生成物質との比率は、容積比率（磁石／金属微
粉生成物質）にして３以下が望ましい。容積比率が３を
越えると、金属微粉の被着に時間を要して実用的でない
ことに加え、磁石同士の衝突が頻繁に起こり、磁石の割
れや、磁石表面からの磁性粉の脱粒などを引き起こす恐
れがあるからである。また、処理時間は、処理量にも依
存するが、一般的には１時間程度〜１０時間程度であ
る。

【００３２】金属微粉生成物質から生成する金属微粉の
大きさや形状は様々であるが、概して、超微粉（長径
０．００１μｍ〜０．１μｍの微粉）はメカノケミカル
反応を引き起こすのに都合がよいようである。Ｃｕ、Ｆ
ｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒなどの金属成分からなる微粉は、
磁石表面を構成する金属上に、膜厚が０．００１μｍ〜
０．２μｍの、強固でかつ高密度な被着層を形成する。
展延性が大きな、例えば、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉ
ｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌなどの金属成分からなるヴィッカ
ース硬度値が６０以下の微粉は、その集合体が積層する
ようにして強固でかつ高密度な被着層を形成する。従っ
て、処理時間を延長すれば、１００μｍ程度の膜厚を有
する被着層を形成することも可能である。しかし、磁石
表面に十分な導電性を付与し、かつ磁石の小型化の要請
に応えるためには、被着層の膜厚は０．００１μｍ〜１
μｍであることが望ましい。

【００３３】このようにして磁石表面全体に導電性が付
与された希土類系焼結磁石に対しては、公知の電気めっ
き処理などを行うことが可能である。しかも、樹脂やカ
ップリング剤などの第三の成分を含んだ導電層を形成す
ることが不要となるので、磁石表面上に高い膜厚寸法精
度でめっき被膜を形成させることができる。従って、本
発明の構成を採用することによって、めっき被膜形成後
の磁石寸法精度の向上を図ることが可能となる。

【００３４】このようにして得られるめっき被膜を有す
るリング状焼結磁石をモータに利用した場合、磁石自体
の磁気特性を最大限に活用でき、エネルギー効率の向上
を図ることが可能となる。また、モータの小型化を図る
ことも可能となる。なお、いずれの金属微粉からなる被
着層であっても、その表面にめっき被膜を形成すること
は可能であるが、電気Ｎｉめっき処理の容易性やコスト
の点においては、Ｃｕ微粉を用いて形成された被着層が
望ましい。

【００３５】また、メカノケミカル反応によって形成さ
れた金属微粉からなる被着層は、磁石表面を構成する金
属上に強固にかつ高密度に形成されているので、被着層
自体が磁石の発錆を防ぐ効果を有する。勿論、高い耐食
性を付与するためには、電気めっき処理などを行う必要
がある。しかし、樹脂埋め込み型モータ用磁石などのよ
うに、部品の製造完了時までの耐食性が保証されていれ
ばよいような磁石に対しては、金属微粉からなる被着層
自体が、磁石の防錆層としての効果によって十分な工業
的価値を有する。Ａｌ微粉からなる被着層は、その表面
に酸化被膜を形成し、防錆作用も優れているので、上記
のような簡易的防錆の点においてＡｌ微粉は望ましいも
のである。

【００３６】磁石表面上にめっき被膜を形成するための
代表的な電気めっき処理法としては、例えば、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｓｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｐｔ
などから選ばれた少なくとも１つの金属または金属の合
金（Ｂ、Ｓ、Ｐを含有していてもよい）を用いためっき
法などが挙げられる。また、用途に応じて、上記の金属
とともに他の金属を含有する合金を用いためっき法を採
用することも可能である。めっき厚は、５０μｍ以下、
望ましくは１０μｍ〜３０μｍである。

【００３７】電気Ｎｉめっき処理を行う場合、洗浄、電
解Ｎｉめっき、洗浄、乾燥の工程で行うことが望まし
い。めっき浴槽は磁石の形状に応じて種々の浴槽が使用
でき、例えば、リング形状の焼結磁石の場合には、ひっ
かけめっき処理用浴槽やバレルめっき処理用浴槽を用い
ることが望ましい。めっき浴としては、ワット浴、スル
ファミン酸浴、ウッド浴などの公知のめっき浴を用いれ
ばよい。陽極には電解Ｎｉ板を用いるが、Ｎｉの溶出を
安定させるために、電解Ｎｉ板としてＳを含有したエス
トランドニッケルチップを使用することが望ましい。

【００３８】電気Ｃｕめっき処理を行う場合、洗浄、電
解Ｃｕめっき、洗浄、乾燥の工程で行うことが望まし
い。めっき浴槽は磁石の形状に応じて種々の浴槽が使用
でき、例えば、リング形状の焼結磁石の場合には、ひっ
かけめっき処理用浴槽やバレルめっき処理用浴槽を用い
ることが望ましい。めっき浴としては、硫酸銅浴、ピロ
リン酸胴浴などの公知のめっき浴を用いればよい。

【００３９】なお、Ａｌの微粉からなる被着層上に電気
めっき処理を施す場合、電気めっき処理時におけるＡｌ
の溶解流出を防止するために亜鉛置換処理を行うことが
望ましい。亜鉛置換処理は公知の方法に準じて行えばよ
く、例えば、水酸化ナトリウム、酸化亜鉛、塩化第二
鉄、ロッシェル塩、硝酸ナトリウムを含む亜鉛置換液を
用いて、浴温１０℃〜２５℃にて、１０秒〜１２０秒浸
漬すればよい。

【００４０】また、金属微粉からなる被着層上には、め
っき被膜の他にも種々の耐食性被膜、例えば、金属酸化
物被膜や化成処理被膜を形成することができる。該被着
層は、磁石表面全体に均一にしかも強固に形成されてい
るので、高い膜厚寸法精度での被膜形成が可能となる。

【００４１】金属酸化物被膜を形成する方法としては、
ＣＶＤ法、スパッタリング法、塗布熱分解法、ゾルゲル
成膜法など公知の方法を用いることができる。しかし、
金属酸化物被膜の構成源となる金属化合物の、加水分解
反応や重合反応などによって得られたゾル液を、磁石表
面に塗布した後、熱処理することによって被膜形成を行
うゾルゲル成膜法を用いることが望ましい。ゾルゲル成
膜法に使用されるゾル液は比較的安定であり、被膜形成
を比較的低温で行えるので、高温による磁石自体の磁気
特性への影響を回避できることなどの利点がある。金属
酸化物被膜は、単一の金属酸化物成分からなる被膜であ
ってもよいし、複数の金属酸化物成分からなる複合被膜
であってもよい。金属酸化物被膜は、膜厚が０．０１μ
ｍ以上であれば優れた耐食性を発揮する。膜厚の上限は
特段限定されるものではないが、磁石自体の小型化に基
づく要請から、１０μｍ以下、望ましくは５μｍ以下が
実用面において適した膜厚である。被着層を形成する金
属成分と同一の金属成分を含む金属酸化物被膜を被着層
上に形成した場合（例えば、Ａｌ微粉からなる被着層上
へのＡｌを含む金属酸化物被膜の形成）、両者の界面で
の密着性がより強固なものになる点において都合がよ
い。

【００４２】ゾル液は、金属アルコキシド（アルコキシ
ル基の一部をアルキル基などで置換したものであっても
よい）などの金属化合物、硝酸や塩酸などの触媒、所望
する場合はβ−ジケトンなどの安定化剤、水などを有機
溶媒中で調整し、金属化合物の加水分解反応や重合反応
などにより得られるコロイドが分散した溶液を用いる。
また、ゾル液には無機質微粒子などを分散させてもよ
い。ゾル液の塗布方法としては、ディップコーティング
法、スプレー法、スピンコーティング法などが挙げられ
る。ゾル液塗布後の熱処理は、ゾル液中の有機溶媒の沸
点や磁石の耐熱性などを考慮して８０℃〜２００℃で行
うことが望ましい。なお、通常、熱処理時間は１分〜１
時間である。所望する膜厚を有する被膜を得るために、
塗布と熱処理を繰り返して行ってもよいことは言うまで
もない。

【００４３】化成処理被膜を形成する方法としては、ク
ロメート処理、リン酸処理、リン酸亜鉛処理、リン酸マ
ンガン処理、リン酸カルシウム処理、リン酸亜鉛カルシ
ウム処理、チタン−リン酸系化成処理、ジルコニウム−
リン酸系化成処理などの公知の方法を用いることができ
る。Ａｌ微粉からなる被着層の耐食性を向上させる場合
には、クロメート処理、チタン−リン酸系化成処理、ジ
ルコニウム−リン酸系化成処理などが望ましく、とりわ
け、処理液や被膜の環境への負荷が小さい、チタン−リ
ン酸系化成処理、ジルコニウム−リン酸系化成処理が望
ましい。

【００４４】チタン−リン酸系化成処理を行う際の処理
液は、フルオロチタン酸などのチタン化合物、リン酸や
縮合リン酸、上記のフルオロチタン酸やフッ化水素酸な
どのフッ素化合物などを水に溶解して調整する。磁石表
面への処理液の塗布方法としては、ディップコーティン
グ法、スプレー法、スピンコーティング法などが挙げら
れる。処理液を塗布する際の処理液温度は２０℃〜８０
℃、処理時間は１０秒〜１０分が望ましい。処理液塗布
後の乾燥温度は、５０℃〜２００℃、乾燥時間は５秒〜
１時間である。ジルコニウム−リン酸系化成処理を行う
場合、チタン−リン酸系化成処理の方法に準じればよ
い。形成される被膜中には、チタンやジルコニウムが磁
石表面１ｍ^２上に形成される被膜あたり０．１ｍｇ〜１
００ｍｇ含有されていることが望ましい。

【００４５】

【実施例】以下、本発明の詳細を具体的実施例に基づい
て説明する。なお、以下の実施例において、金属微粉か
らなる被着層の膜厚の測定には電子線マイクロアナライ
ザー（ＥＰＭＡ）（ＥＰＭ−８１０：島津製作所社製）
を用いた。めっき被膜の膜厚の測定には蛍光Ｘ線膜厚計
（ＳＦＴ−７１００：セイコー電子社製）を用いた。化
成処理被膜中の金属含量の測定には蛍光Ｘ線強度測定装
置（ＲＩＸ−３０００：理学電機社製）を用いた。

【００４６】実施例１：（工程Ａ）例えば、米国特許４７７０７２３号公報に記
載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粉砕
し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行うこ
とによって１７Ｎｄ−１Ｐｒ−７５Ｆｅ−７Ｂ組成の縦
２３ｍｍ×横１０ｍｍ×高さ６ｍｍ寸法の焼結磁石を作
製した。この磁石を、８０℃、相対湿度９０％の条件下
に放置したところ、６時間で点錆が発生した（表面状況
についての３０倍の顕微鏡観察による）。

【００４７】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石３０個
（見かけ容積０．１ｌ、重量３２０ｇ）と見かけ容積２
ｌの直径０．８ｍｍ、長さ１ｍｍの短円柱状Ａｌ微粉生
成物質（ワイヤーをカットしたもの）を容積３．５ｌの
振動バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は処理槽
内容積の６０ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動振幅
１．５ｍｍの条件にて乾式的に処理を５時間行った。こ
の操作により生成したＡｌ微粉は、長径が０．１μｍ以
下の超微粉から最も大きいもので長径が５μｍ程度であ
った。上記の処理によって得られた磁石について、標準
試料を用いてＡｌＫα線強度測定を行ったところ、磁石
表面には膜厚０．６μｍのＡｌ微粉からなる被着層が形
成されていることがわかった。この磁石表面全体にＡｌ
微粉からなる被着層を有する磁石を、８０℃、相対湿度
９０％の条件下に放置しても、２４時間までは発錆を招
くことはなかった（表面状況についての３０倍の顕微鏡
観察による）。

【００４８】参考例１：（工程Ａ）急冷合金法で作製した、Ｎｄ１２原子％、Ｆ
ｅ７７原子％、Ｂ６原子％、Ｃｏ５原子％の組成からな
る平均粒径１５０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂を２ｗ
ｔ％加えて混練し、６８６Ｎ／ｍｍ^２の圧力で圧縮成形
した後、１７０℃で１時間キュアし、外径２２ｍｍ×内
径２０ｍｍ×高さ３ｍｍのリング状ボンド磁石を作製し
た。得られたリング状ボンド磁石（素材上がり）の特性
を表１に示す。

【００４９】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石５０個
（見かけ容積０．１５ｌ、重量７１ｇ）と直径１ｍｍ、
長さ１ｍｍの短円柱状Ｃｕ微粉生成物質（ワイヤーをカ
ットしたもの）１０ｋｇ（見かけ容積２ｌ）を容積３．
５ｌの振動バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は
処理槽内容積の６１ｖｏｌ％）、振動数７０Ｈｚ、振動
振幅３ｍｍの条件にて乾式的に処理を３時間行った。こ
の操作により生成したＣｕ微粉は、長径が０．１μｍ以
下の超微粉から最も大きいもので長径が５μｍ程度であ
った。上記の処理によって得られた磁石について、標準
試料を用いてＣｕＫα線強度測定を行ったところ、磁石
表面の磁性粉上には膜厚０．１μｍのＣｕ微粉からなる
被着層が形成されていることがわかった。さらに、磁石
表面の樹脂部分は、Ｃｕ微粉からなる被着層で被覆され
ていることがわかった。

【００５０】参考例２：参考例１で得られた磁石表面全
体にＣｕ微粉からなる被着層を有する磁石を洗浄した
後、ひっかけめっき方式で電気Ｎｉめっき処理を行っ
た。該処理は、電流密度２Ａ／ｄｍ^２、めっき時間６０
分、ｐＨ４．２、浴温５５℃、めっき液組成（硫酸ニッ
ケル２４０ｇ／ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｌ、炭酸ニッ
ケル適量（ｐＨ調整）、ほう酸３０ｇ／ｌ）の条件にて
行った。得られためっき被膜は、外径側膜厚が２２μ
ｍ、内径側膜厚が２０μｍであった。このめっき被膜を
有する磁石について、８０℃、相対湿度９０％、５００
時間の条件にて環境試験（耐湿試験）を行い、耐湿試験
後の表面状況観察（３０倍の顕微鏡観察）と磁気特性劣
化率測定を行った。また、内径側膜厚の寸法精度を測定
した（ｎ＝５０）。その結果を表２および表３に示す。
表２および表３から明らかなように、このめっき被膜を
有する磁石は優れた耐食性を示すとともに、高い膜厚寸
法精度にて成膜されていた。この結果は、参考例１で用
いた短円柱状Ｃｕ微粉生成物質の末端が鋭利であるの
で、処理容器内の内容物との衝突により新鮮表面を有す
るＣｕ微粉を効率よく生成させたことや、磁石表面の磁
性粉に対しても新鮮表面を効率よく生じさせたことなど
により、メカノケミカル反応が非常に都合がよく引き起
こされ、強固でかつ高密度なＣｕ微粉からなる被着層を
形成できたことに起因するものと思われる。また、磁石
表面の樹脂部分もＣｕ微粉からなる被着層で被覆するこ
とができたことから、磁石表面全体に均一にしかも強固
に導電層を形成できたことに起因するものと思われる。

【００５１】参考例３：（工程Ａ）急冷合金法で作製した、Ｎｄ１３原子％、Ｆ
ｅ７６原子％、Ｂ６原子％、Ｃｏ５原子％の組成からな
る平均粒径１５０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂を２ｗ
ｔ％加えて混練し、６８６Ｎ／ｍｍ^２の圧力で圧縮成形
した後、１８０℃で２時間キュアし、外径２１ｍｍ×内
径１８ｍｍ×高さ４ｍｍのリング状ボンド磁石を作製し
た。得られたリング状ボンド磁石（素材上がり）の特性
を表１に示す。

【００５２】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石５０個
（見かけ容積０．１５ｌ、重量１３２ｇ）と見かけ容積
２ｌの直径１ｍｍ、長さ０．８ｍｍの短円柱状Ｆｅ微粉
生成物質（ワイヤーをカットしたもの）を容積３．０ｌ
の振動バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は処理
槽内容積の７２ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動振幅
２ｍｍの条件にて乾式的に処理を２時間行った。この操
作により生成したＦｅ微粉は、最も大きいもので長径が
５μｍ程度であった。上記の処理によって得られた磁石
について、標準試料を用いてＦｅＫα線強度測定を行っ
たところ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．１μｍのＦ
ｅ微粉からなる被着層が形成されていることがわかっ
た。さらに、磁石表面の樹脂部分は、Ｆｅ微粉からなる
被着層で被覆されていることがわかった。

【００５３】参考例４：参考例３で得られた磁石表面全
体にＦｅ微粉からなる被着層を有する磁石を洗浄した
後、ひっかけめっき方式で電気Ｎｉめっき処理を行っ
た。該処理は、電流密度２．２Ａ／ｄｍ^２、めっき時間
６０分、ｐＨ４．２、浴温５０℃、めっき液組成（硫酸
ニッケル２４０ｇ／ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｌ、炭酸
ニッケル適量（ｐＨ調整）、ほう酸３０ｇ／ｌ）の条件
にて行った。得られためっき被膜は、外径側膜厚が２１
μｍ、内径側膜厚が１８μｍであった。このめっき被膜
を有する磁石について、参考例２と同様にして、耐湿試
験後の表面状況観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚
の寸法精度測定を行った。その結果、表２および表３か
ら明らかなように、このめっき被膜を有する磁石は、優
れた耐食性を示すとともに、高い膜厚寸法精度にて成膜
されていた。

【００５４】参考例５：参考例３の工程Ａと同様の方法
で作製されたリング状ボンド磁石（特性を表１に示す）
を用い、工程Ｂの短円柱状Ｆｅ微粉生成物質を同じ大き
さの短円柱状Ｎｉ微粉生成物質に代えたこと以外は参考
例３の工程Ｂと同様にして処理を行った。この操作によ
り生成したＮｉ微粉は、最も大きいもので長径が５μｍ
程度であった。上記の処理によって得られた磁石につい
て、標準試料を用いてＮｉＫα線強度測定を行ったとこ
ろ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．１μｍのＮｉ微粉
からなる被着層が形成されていることがわかった。さら
に、磁石表面の樹脂部分は、Ｎｉ微粉からなる被着層で
被覆されていることがわかった。

【００５５】参考例６：参考例５で得られた磁石表面全
体にＮｉ微粉からなる被着層を有する磁石に対し、参考
例４と同一の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行った。得
られためっき被膜は、外径側膜厚が２１μｍ、内径側膜
厚が１８μｍであった。このめっき被膜を有する磁石に
ついて、参考例２と同様にして、耐湿試験後の表面状況
観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚の寸法精度測定
を行った。その結果、表２および表３から明らかなよう
に、このめっき被膜を有する磁石は、優れた耐食性を示
すとともに、高い膜厚寸法精度にて成膜されていた。

【００５６】参考例７：参考例３の工程Ａと同様の方法
で作製されたリング状ボンド磁石（特性を表１に示す）
を用い、工程Ｂの短円柱状Ｆｅ微粉生成物質を同じ大き
さの短円柱状Ｃｏ微粉生成物質に代えたこと以外は参考
例３の工程Ｂと同様にして処理を行った。この操作によ
り生成したＣｏ微粉は、最も大きいもので長径が５μｍ
程度であった。上記の処理によって得られた磁石につい
て、標準試料を用いてＣｏＫα線強度測定を行ったとこ
ろ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．１μｍのＣｏ微粉
からなる被着層が形成されていることがわかった。さら
に、磁石表面の樹脂部分は、Ｃｏ微粉からなる被着層で
被覆されていることがわかった。

【００５７】参考例８：参考例７で得られた磁石表面全
体にＣｏ微粉からなる被着層を有する磁石に対し、参考
例４と同一の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行った。得
られためっき被膜は、外径側膜厚が２１μｍ、内径側膜
厚が１８μｍであった。このめっき被膜を有する磁石に
ついて、参考例２と同様にして、耐湿試験後の表面状況
観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚の寸法精度測定
を行った。その結果、表２および表３から明らかなよう
に、このめっき被膜を有する磁石は、優れた耐食性を示
すとともに、高い膜厚寸法精度にて成膜されていた。

【００５８】参考例９：参考例３の工程Ａと同様の方法
で作製されたリング状ボンド磁石（特性を表１に示す）
を用い、工程Ｂの短円柱状Ｆｅ微粉生成物質を同じ大き
さの短円柱状Ｃｒ微粉生成物質に代えたこと以外は参考
例３の工程Ｂと同様にして処理を行った。この操作によ
り生成したＣｒ微粉は、最も大きいもので長径が５μｍ
程度であった。上記の処理によって得られた磁石につい
て、標準試料を用いてＣｒＫα線強度測定を行ったとこ
ろ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．１μｍのＣｒ微粉
からなる被着層が形成されていることがわかった。さら
に、磁石表面の樹脂部分は、Ｃｒ微粉からなる被着層で
被覆されていることがわかった。

【００５９】参考例１０：参考例９で得られた磁石表面
全体にＣｒ微粉からなる被着層を有する磁石に対し、参
考例４と同一の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行った。
得られためっき被膜は、外径側膜厚が２１μｍ、内径側
膜厚が１８μｍであった。このめっき被膜を有する磁石
について、参考例２と同様にして、耐湿試験後の表面状
況観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚の寸法精度測
定を行った。その結果、表２および表３から明らかなよ
うに、このめっき被膜を有する磁石は、優れた耐食性を
示すとともに、高い膜厚寸法精度にて成膜されていた。

【００６０】比較例１：（工程Ａ）参考例１の工程Ａと同様の方法で作製された
外径２２ｍｍ×内径２０ｍｍ×高さ３ｍｍのリング状ボ
ンド磁石を洗浄後、浸漬法にて、未硬化のフェノール樹
脂層を磁石上に形成した後、市販のＡｇ粉（長径０．７
μｍ以下）を樹脂表面に付着させた。得られた５０個の
リング状ボンド磁石（見かけ容積０．１５ｌ、重量７１
ｇ）を容積３．５ｌの振動バレル装置の処理槽に投入
し、２．５ｍｍ径のスチールボール（見かけ容積２ｌ）
をメディアとして３時間処理した後（合計投入量は処理
槽内容積の６１ｖｏｌ％）、１５０℃で２時間キュア
し、磁石表面上に７μｍの導電被覆層を形成した。

【００６１】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石に対し、
参考例２と同一の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行っ
た。このめっき被膜を有する磁石について、参考例２と
同様にして、耐湿試験後の表面状況観察、内径側膜厚の
寸法精度測定を行った。その結果、表２から明らかなよ
うに、このめっき被膜を有する磁石は耐湿試験によって
発錆を招き、また膜厚寸法精度も低いものであった。

【００６２】比較例２：（工程Ａ）参考例１の工程Ａと同様の方法で作製された
外径２２ｍｍ×内径２０ｍｍ×高さ３ｍｍのリング状ボ
ンド磁石を洗浄後、エポキシ系接着剤の１０ｗｔ％メチ
ルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液に５分間含浸させ、その
後、十分に液切りしてからＭＥＫを乾燥させた。このよ
うにして作製された、表面に未硬化のエポキシ系接着剤
層を有するリング状ボンド磁石５０個（見かけ容積０．
１５ｌ、重量７１ｇ）と直径１ｍｍのＣｕボール１０ｋ
ｇ（見かけ容積２ｌ）と長径０．８μｍの市販のＣｕ粉
末２５ｇを容積３．５ｌの振動バレル装置の処理槽に投
入し（合計投入量は処理槽内容積の６１ｖｏｌ％）、３
時間処理した。その後、１５０℃で２時間キュアしてか
ら洗浄し、過剰のＣｕ粉末を除去し、磁石表面上に１８
μｍの導電被覆層を形成した。

【００６３】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石に対し、
参考例２と同一の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行っ
た。このめっき被膜を有する磁石について、参考例２と
同様にして、耐湿試験後の表面状況観察、内径側膜厚の
寸法精度測定を行った。その結果、表２から明らかなよ
うに、このめっき被膜を有する磁石は耐湿試験によって
発錆を招き、また膜厚寸法精度も低いものであった。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【表２】

【００６６】

【表３】

【００６７】参考例１１：（工程Ａ）急冷合金法で作製した、Ｎｄ１３原子％、Ｆ
ｅ７６原子％、Ｂ６原子％、Ｃｏ５原子％の組成からな
る平均粒径１５０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂を２ｗ
ｔ％加えて混練し、６８６Ｎ／ｍｍ^２の圧力で圧縮成形
した後、１８０℃で２時間キュアし、外径２５ｍｍ×内
径２３ｍｍ×高さ３ｍｍのリング状ボンド磁石を作製し
た。得られたリング状ボンド磁石（素材上がり）の特性
を表４に示す。

【００６８】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石５０個
（見かけ容積０．１５ｌ、重量８３ｇ）と見かけ容積２
ｌの直径２ｍｍ、長さ１ｍｍの短円柱状Ｓｎ微粉生成物
質（ワイヤーをカットしたもの）を容積３．０ｌの振動
バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は処理槽内容
積の７２ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動振幅２ｍｍ
の条件にて乾式的に処理を２時間行った。この操作によ
り生成したＳｎ微粉は、長径が０．１μｍ以下の超微粉
から最も大きいもので長径が５μｍ程度であった。上記
の処理によって得られた磁石について、標準試料を用い
てＳｎＫα線強度測定を行ったところ、磁石表面の磁性
粉上には膜厚０．５μｍのＳｎ微粉からなる被着層が形
成されていることがわかった。さらに、磁石表面の樹脂
部分は、Ｓｎ微粉からなる被着層で被覆されていること
がわかった。

【００６９】参考例１２：参考例１１で得られた磁石表
面全体にＳｎ微粉からなる被着層を有する磁石を洗浄し
た後、ひっかけめっき方式で電気Ｃｕめっき処理を行っ
た。該処理は、電流密度２．３Ａ／ｄｍ^２、めっき時間
６分、ｐＨ１０．５、浴温４５℃、めっき液組成（銅２
０ｇ／ｌ、遊離シアン１０ｇ／ｌ）の条件にて行った。
続いて、ひっかけめっき方式で電気Ｎｉめっき処理を行
った。該処理は、電流密度２．２Ａ／ｄｍ^２、めっき時
間６０分、ｐＨ４．２、浴温５０℃、めっき液組成（硫
酸ニッケル２４０ｇ／ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｌ、炭
酸ニッケル適量（ｐＨ調整）、ほう酸３０ｇ／ｌ）の条
件にて行った。得られためっき被膜は、外径側膜厚が２
４μｍ、内径側膜厚が２２μｍであった。このめっき被
膜を有する磁石について、参考例２と同様にして、耐湿
試験後の表面状況観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜
厚の寸法精度測定を行った。その結果、表５および表６
から明らかなように、このめっき被膜を有する磁石は、
優れた耐食性を示すとともに、高い膜厚寸法精度にて成
膜されていた。

【００７０】参考例１３：参考例１１の工程Ａと同様の
方法で作製されたリング状ボンド磁石（特性を表４に示
す）を用い、工程Ｂの短円柱状Ｓｎ微粉生成物質を同じ
大きさの短円柱状Ｚｎ微粉生成物質に代えたこと以外は
参考例１１の工程Ｂと同様にして処理を行った。この操
作により生成したＺｎ微粉は、最も大きいもので長径が
５μｍ程度であった。上記の処理によって得られた磁石
について、標準試料を用いてＺｎＫα線強度測定を行っ
たところ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．３μｍのＺ
ｎ微粉からなる被着層が形成されていることがわかっ
た。さらに、磁石表面の樹脂部分は、Ｚｎ微粉からなる
被着層で被覆されていることがわかった。

【００７１】参考例１４：参考例１３で得られた磁石表
面全体にＺｎ微粉からなる被着層を有する磁石に対し、
参考例１２と同一の条件にて電気Ｃｕめっき処理と電気
Ｎｉめっき処理を行った。得られためっき被膜は、外径
側膜厚が２４μｍ、内径側膜厚が２２μｍであった。こ
のめっき被膜を有する磁石について、参考例２と同様に
して、耐湿試験後の表面状況観察と磁気特性劣化率測
定、内径側膜厚の寸法精度測定を行った。その結果、表
５および表６から明らかなように、このめっき被膜を有
する磁石は、優れた耐食性を示すとともに、高い膜厚寸
法精度にて成膜されていた。

【００７２】参考例１５：参考例１１の工程Ａと同様の
方法で作製されたリング状ボンド磁石（特性を表４に示
す）を用い、工程Ｂの短円柱状Ｓｎ微粉生成物質を同じ
大きさの短円柱状Ｐｂ微粉生成物質に代えたこと以外は
参考例１１の工程Ｂと同様にして処理を行った。この操
作により生成したＰｂ微粉は、最も大きいもので長径が
５μｍ程度であった。上記の処理によって得られた磁石
について、標準試料を用いてＰｂＫα線強度測定を行っ
たところ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．７μｍのＰ
ｂ微粉からなる被着層が形成されていることがわかっ
た。さらに、磁石表面の樹脂部分は、Ｐｂ微粉からなる
被着層で被覆されていることがわかった。

【００７３】参考例１６：参考例１５で得られた磁石表
面全体にＰｂ微粉からなる被着層を有する磁石に対し、
参考例１２と同一の条件にて電気Ｃｕめっき処理と電気
Ｎｉめっき処理を行った。得られためっき被膜は、外径
側膜厚が２４μｍ、内径側膜厚が２２μｍであった。こ
のめっき被膜を有する磁石について、参考例２と同様に
して、耐湿試験後の表面状況観察と磁気特性劣化率測
定、内径側膜厚の寸法精度測定を行った。その結果、表
５および表６から明らかなように、このめっき被膜を有
する磁石は、優れた耐食性を示すとともに、高い膜厚寸
法精度にて成膜されていた。

【００７４】比較例３：（工程Ａ）参考例１１の工程Ａと同様の方法で作製され
た外径２５ｍｍ×内径２３ｍｍ×高さ３ｍｍのリング状
ボンド磁石（特性を表４に示す）を洗浄後、浸漬法に
て、未硬化のフェノール樹脂層を磁石上に形成した後、
市販のＡｇ粉（長径０．８μｍ以下）を樹脂表面に付着
させた。得られた５０個のリング状ボンド磁石（見かけ
容積０．１５ｌ、重量８３ｇ）を容積３．０ｌの振動バ
レル装置の処理槽に投入し、２．５ｍｍ径のスチールボ
ール（見かけ容積２ｌ）をメディアとして２時間処理し
た後（合計投入量は処理槽内容積の７２ｖｏｌ％）、１
５０℃で２時間キュアし、磁石表面上に８μｍの導電被
覆層を形成した。

【００７５】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石に対し、
参考例１２と同一の条件にて電気Ｃｕめっき処理と電気
Ｎｉめっき処理を行った。このめっき被膜を有する磁石
について、参考例２と同様にして、耐湿試験後の表面状
況観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚の寸法精度測
定を行った。その結果、表５および表６から明らかなよ
うに、このめっき被膜を有する磁石は、耐湿試験によっ
て発錆や磁気特性の劣化を招き、また膜厚寸法精度も低
いものであった。

【００７６】

【表４】

【００７７】

【表５】

【００７８】

【表６】

【００７９】参考例１７：（工程Ａ）急冷合金法で作製した、Ｎｄ１３原子％、Ｆ
ｅ７６原子％、Ｂ６原子％、Ｃｏ５原子％の組成からな
る平均粒径１５０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂を２ｗ
ｔ％加えて混練し、６８６Ｎ／ｍｍ^２の圧力で圧縮成形
した後、１８０℃で２時間キュアし、外径２０ｍｍ×内
径１７ｍｍ×高さ６ｍｍのリング状ボンド磁石を作製し
た。得られたリング状ボンド磁石（素材上がり）の特性
を表７に示す。

【００８０】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石５０個
（見かけ容積０．１５ｌ、重量１８８ｇ）と見かけ容積
２ｌの直径１．２ｍｍ、長さ１．５ｍｍの短円柱状Ａｌ
微粉生成物質（ワイヤーをカットしたもの）を容積３．
０ｌの振動バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は
処理槽内容積の７２ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動
振幅２ｍｍの条件にて乾式的に処理を２時間行った。こ
の操作により生成したＡｌ微粉は、最も大きいもので長
径が５μｍ程度であった。上記の処理によって得られた
磁石について、標準試料を用いてＡｌＫα線強度測定を
行ったところ、磁石表面の磁性粉上には膜厚０．４μｍ
のＡｌ微粉からなる被着層が形成されていることがわか
った。さらに、磁石表面の樹脂部分は、Ａｌ微粉からな
る被着層で被覆されていることがわかった。この磁石表
面全体にＡｌ微粉からなる被着層を有する磁石を、８０
℃、相対湿度９０％の条件下に放置しても、３６時間ま
では発錆を招くことはなかった（表面状況についての３
０倍の顕微鏡観察による）。

【００８１】参考例１８：参考例１７で得られた磁石表
面全体にＡｌ微粉からなる被着層を有する磁石を、浴温
２０℃の亜鉛置換液（液組成：水酸化ナトリウム５０ｇ
／ｌ、酸化亜鉛５ｇ／ｌ、塩化第二鉄２ｇ／ｌ、ロッシ
ェル塩５０ｇ／ｌ、硝酸ナトリウム１ｇ／ｌ）に１分間
浸漬して亜鉛置換処理を行った。磁石を洗浄した後、ひ
っかけめっき方式で電気Ｎｉめっき処理を行った。該処
理は、電流密度２．２Ａ／ｄｍ^２、めっき時間６０分、
ｐＨ４．２、浴温５０℃、めっき液組成（硫酸ニッケル
２４０ｇ／ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｌ、炭酸ニッケル
適量（ｐＨ調整）、ほう酸３０ｇ／ｌ）の条件にて行っ
た。得られためっき被膜は、外径側膜厚が２１μｍ、内
径側膜厚が１９μｍであった。このめっき被膜を有する
磁石について、参考例２と同様にして、耐湿試験後の表
面状況観察と磁気特性劣化率測定、内径側膜厚の寸法精
度測定を行った。その結果、表８および表９から明らか
なように、このめっき被膜を有する磁石は、優れた耐食
性を示すとともに、高い膜厚寸法精度にて成膜されてい
た。

【００８２】比較例４：（工程Ａ）参考例１７の工程Ａと同様の方法で作製され
た外径２０ｍｍ×内径１７ｍｍ×高さ６ｍｍのリング状
ボンド磁石（特性を表７に示す）を洗浄後、浸漬法に
て、未硬化のフェノール樹脂層を磁石上に形成した後、
市販のＡｇ粉（長径０．８μｍ以下）を樹脂表面に付着
させた。得られた５０個のリング状ボンド磁石（見かけ
容積０．１５ｌ、重量１８８ｇ）を容積３．０ｌの振動
バレル装置の処理槽に投入し、２．５ｍｍ径のスチール
ボール（見かけ容積２ｌ）をメディアとして２時間処理
した後（合計投入量は処理槽内容積の７２ｖｏｌ％）、
１５０℃で２時間キュアし、磁石表面上に７μｍの導電
被覆層を形成した。

【００８３】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石に対し、
参考例１８に記載の条件にて電気Ｎｉめっき処理を行っ
た。このめっき被膜を有する磁石について、参考例２と
同様にして、耐湿試験後の表面状況観察と磁気特性劣化
率測定、内径側膜厚の寸法精度測定を行った。その結
果、表８および表９から明らかなように、このめっき被
膜を有する磁石は、耐湿試験によって発錆や磁気特性の
劣化を招き、また膜厚寸法精度も低いものであった。

【００８４】

【表７】

【００８５】

【表８】

【００８６】

【表９】

【００８７】参考例１９：（工程Ａ）急冷合金法で作製した、Ｎｄ１２原子％、Ｆ
ｅ７７原子％、Ｂ６原子％、Ｃｏ５原子％の組成からな
る平均粒径１５０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂を２ｗ
ｔ％加えて混練し、６８６Ｎ／ｍｍ^２の圧力で圧縮成形
した後、１７０℃で１時間キュアし、縦３０ｍｍ×横２
０ｍｍ×高さ３ｍｍのボンド磁石を作製した。この磁石
を、８０℃、相対湿度９０％の条件下に放置したとこ
ろ、１２時間で微小な点錆が発生した（表面状況につい
ての３０倍の顕微鏡観察による）。

【００８８】（工程Ｂ）工程Ａで得られた磁石５０個
（見かけ容積０．１ｌ、重量６５０ｇ）と見かけ容積２
ｌの直径２ｍｍ、長さ１ｍｍの短円柱状Ｓｎ微粉生成物
質（ワイヤーをカットしたもの）を容積３．０ｌの振動
バレル装置の処理槽に投入し（合計投入量は処理槽内容
積の７２ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動振幅２ｍｍ
の条件にて乾式的に処理を２時間行った。この操作によ
り生成したＳｎ微粉は、長径が０．１μｍ以下の超微粉
から最も大きいもので長径が５μｍ程度であった。上記
の処理によって得られた磁石について、標準試料を用い
てＳｎＫα線強度測定を行ったところ、磁石表面の磁性
粉上には膜厚０．５μｍのＳｎ微粉からなる被着層が形
成されていることがわかった。さらに、磁石表面の樹脂
部分は、Ｓｎ微粉からなる被着層で被覆されていること
がわかった。

【００８９】参考例２０：ゾル液を、表１０に示すＳｉ
化合物、触媒、有機溶媒および水の各成分にて、表１１
に示す組成、粘度およびｐＨで調整した。参考例１９で
得られた磁石表面全体にＳｎ微粉からなる被着層を有す
る磁石に対し、ゾル液を、ディップコーティング法に
て、表１２に示す引き上げ速度で塗布し、熱処理を行っ
て、その表面に膜厚１．５μｍ（破面の電子顕微鏡観察
で測定）のＳｉ酸化物被膜（ＳｉＯ_ｘ被膜：０＜ｘ≦
２）を形成した。このゾルゲル成膜法によって得られた
Ｓｉ酸化物被膜を有する磁石を、８０℃、相対湿度９０
％の条件下に放置しても、２００時間までは発錆を招く
ことはなかった（表面状況についての３０倍の顕微鏡観
察による）。

【００９０】参考例２１：参考例１９の工程Ａと同様の
方法で作製されたボンド磁石を用い、工程Ｂの短円柱状
Ｓｎ微粉生成物質を同じ大きさの短円柱状Ｚｎ微粉生成
物質に代えたこと以外は参考例１９の工程Ｂと同様にし
て処理を行った。この操作により生成したＺｎ微粉は、
最も大きいもので長径が５μｍ程度であった。上記の処
理によって得られた磁石について、標準試料を用いてＺ
ｎＫα線強度測定を行ったところ、磁石表面の磁性粉上
には膜厚０．３μｍのＺｎ微粉からなる被着層が形成さ
れていることがわかった。さらに、磁石表面の樹脂部分
は、Ｚｎ微粉からなる被着層で被覆されていることがわ
かった。

【００９１】参考例２２：ゾル液を、表１０に示すＴｉ
化合物、触媒、安定化剤、有機溶媒および水の各成分に
て、表１１に示す組成、粘度およびｐＨで調整した。参
考例２１で得られた磁石表面全体にＺｎ微粉からなる被
着層を有する磁石に対し、ゾル液を、ディップコーティ
ング法にて、表１２に示す引き上げ速度で塗布し、熱処
理を行って、その表面に膜厚０．７μｍ（破面の電子顕
微鏡観察で測定）のＴｉ酸化物被膜（ＴｉＯ_ｘ被膜：０
＜ｘ≦２）を形成した。このゾルゲル成膜法によって得
られたＴｉ酸化物被膜を有する磁石を、８０℃、相対湿
度９０％の条件下に放置しても、２００時間までは発錆
を招くことはなかった（表面状況についての３０倍の顕
微鏡観察による）。

【００９２】参考例２３：参考例１９の工程Ａと同様の
方法で作製されたボンド磁石５０個（見かけ容積０．１
ｌ、重量６５０ｇ）と見かけ容積２ｌの直径１．２ｍ
ｍ、長さ１．５ｍｍの短円柱状Ａｌ微粉生成物質（ワイ
ヤーをカットしたもの）を容積３．０ｌの振動バレル装
置の処理槽に投入し（合計投入量は処理槽内容積の７２
ｖｏｌ％）、振動数６０Ｈｚ、振動振幅２ｍｍの条件に
て乾式的に処理を２時間行った。この操作により生成し
たＡｌ微粉は、長径が０．１μｍ以下の超微粉から最も
大きいもので長径が５μｍ程度であった。上記の処理に
よって得られた磁石について、標準試料を用いてＡｌＫ
α線強度測定を行ったところ、磁石表面の磁性粉上には
膜厚０．４μｍのＡｌ微粉からなる被着層が形成されて
いることがわかった。さらに、磁石表面の樹脂部分は、
Ａｌ微粉からなる被着層で被覆されていることがわかっ
た。

【００９３】参考例２４：ゾル液を、表１０に示すＳｉ
化合物、Ａｌ化合物、触媒、安定化剤、有機溶媒および
水の各成分にて、表１１に示す組成、粘度およびｐＨで
調整した。参考例２３で得られた磁石表面全体にＡｌ微
粉からなる被着層を有する磁石に対し、ゾル液を、ディ
ップコーティング法にて、表１２に示す引き上げ速度で
塗布し、熱処理を行って、その表面に膜厚０．５μｍ
（破面の電子顕微鏡観察で測定）のＳｉ−Ａｌ複合酸化
物被膜（ＳｉＯ_ｘ・Ａｌ_２Ｏ_ｙ被膜：０＜ｘ≦２・０＜
ｙ≦３）を形成した。このゾルゲル成膜法によって得ら
れたＳｉ−Ａｌ複合酸化物被膜を有する磁石を、８０
℃、相対湿度９０％の条件下に放置しても、２００時間
までは発錆を招くことはなかった（表面状況についての
３０倍の顕微鏡観察による）。

【００９４】

【表１０】

【００９５】

【表１１】

【００９６】

【表１２】

【００９７】参考例２５：パルコート３７５３（製品
名：日本パーカライジング社製のＴｉ−リン酸系化成処
理用液）３５ｇを水１ｌに溶解して調整した処理液（ｐ
Ｈ３．８）に、参考例１７で得られた磁石表面全体にＡ
ｌ微粉からなる被着層を有する磁石を、浴温４０℃で１
分間浸漬した後、１００℃で２０分間乾燥し、その表面
にＴｉ含有化成処理被膜を形成した。得られた被膜中の
Ｔｉ含有量は、磁石表面１ｍ^２上に形成された被膜あた
り１０ｍｇであった。この化成処理被膜を有する磁石
を、８０℃、相対湿度９０％の条件下に放置しても、２
００時間までは発錆を招くことはなかった（表面状況に
ついての３０倍の顕微鏡観察による）。

【００９８】参考例２６：パルコート３７５６ＭＡおよ
びパルコート３７５６ＭＢ（いずれも製品名：日本パー
カライジング社製のＺｒ−リン酸系化成処理用液）各１
０ｇを水１ｌに溶解して調整した処理液（ｐＨ３．２）
に、参考例１７で得られた磁石表面全体にＡｌ微粉から
なる被着層を有する磁石を、浴温５０℃で１分３０秒間
浸漬した後、１２０℃で２０分間乾燥し、その表面にＺ
ｒ含有化成処理被膜を形成した。得られた被膜中のＺｒ
含有量は、磁石表面１ｍ^２上に形成された被膜あたり１
６ｍｇであった。この化成処理被膜を有する磁石を、８
０℃、相対湿度９０％の条件下に放置しても、２００時
間までは発錆を招くことはなかった（表面状況について
の３０倍の顕微鏡観察による）。

【００９９】

【発明の効果】本発明の希土類系焼結磁石は、磁石表面
を構成する金属上に実質的に金属微粉のみからなる被着
層が強固にかつ高密度に形成されている。従って、電気
めっき処理などにより、耐食性に優れた被膜の形成を高
い膜厚寸法精度で行うことができ、磁石寸法精度の向上
を図ることが可能となる。また、金属微粉からなる被着
層自体に防錆効果があるので、それ自体が磁石の防錆層
としての役割を果たす。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ２３Ｃ 28/00 Ｃ２３Ｃ 28/00 ＢＣＨ０１Ｆ 41/02 Ｈ０１Ｆ 41/02 Ｇ // Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３Ｄ (72)発明者菊井文秋大阪府三島郡島本町江川２丁目15番17号住友特殊金属株式会社山崎製作所内Ｆターム(参考） 4K018 AA11 AA27 BA05 BA18 DA11 FA23 FA27 KA45 4K022 AA02 AA44 BA08 BA14 BA33 BA36 DA06 DB01 EA01 4K044 AA02 AB10 BA02 BA06 BA08 BA10 BA12 BA15 BA17 BB03 BB11 BC02 BC05 BC14 CA13 CA15 CA16 CA18 CA23 CA51 CA53 CA62 5E040 AA04 BC01 BD01 CA01 HB14 5E062 CD04 CG02 CG07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁石表面を構成する金属上に実質的に金
属微粉のみからなる被着層を有することを特徴とする希
土類系焼結磁石。
【請求項２】金属微粉がＣｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃ
ｒから選ばれる少なくとも一種の金属成分を含んでなる
ことを特徴とする請求項１記載の希土類系焼結磁石。
【請求項３】金属微粉がＣｕ微粉であることを特徴と
する請求項１記載の希土類系焼結磁石。
【請求項４】金属微粉のヴィッカース硬度値が６０以
下であることを特徴とする請求項１記載の希土類系焼結
磁石。
【請求項５】金属微粉がＳｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉ
ｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌから選ばれる少なくとも一種の金
属成分を含んでなることを特徴とする請求項１記載の希
土類系焼結磁石。
【請求項６】金属微粉がＡｌ微粉であることを特徴と
する請求項１記載の希土類系焼結磁石。
【請求項７】希土類系焼結磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結
磁石であることを特徴とする請求項１記載の希土類系焼
結磁石。
【請求項８】被着層の膜厚が０．００１μｍ〜０．２
μｍであることを特徴とする請求項２記載の希土類系焼
結磁石。
【請求項９】被着層の膜厚が０．００１μｍ〜１００
μｍであることを特徴とする請求項４記載の希土類系焼
結磁石。
【請求項１０】金属微粉の長径が０．００１μｍ〜５
μｍであることを特徴とする請求項１記載の希土類系焼
結磁石。
【請求項１１】請求項１記載の希土類系焼結磁石の実
質的に金属微粉のみからなる被着層の表面にめっき被膜
を有することを特徴とする希土類系焼結磁石。
【請求項１２】請求項１記載の希土類系焼結磁石の実
質的に金属微粉のみからなる被着層の表面に金属酸化物
被膜を有することを特徴とする希土類系焼結磁石。
【請求項１３】請求項１記載の希土類系焼結磁石の実
質的に金属微粉のみからなる被着層の表面に化成処理被
膜を有することを特徴とする希土類系焼結磁石。