JP2002232130A - 電子部品実装基板および電子部品の基板への実装方法 - Google Patents

電子部品実装基板および電子部品の基板への実装方法

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JP2002232130A JP2001027869A JP2001027869A JP2002232130A JP 2002232130 A JP2002232130 A JP 2002232130A JP 2001027869 A JP2001027869 A JP 2001027869A JP 2001027869 A JP2001027869 A JP 2001027869A JP 2002232130 A JP2002232130 A JP 2002232130A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板上に内部にコイルを有する熱容量の大き
い電子部品を実装してリフロー半田を行うと、端子部の
熱がコイルに吸収されて端子部の温度上昇が遅く、半田
付け不良が生じやすい。 【解決手段】 基板1に通気孔1aを形成し、この上に
内部にコイルを有する熱容量の大きな電子部品2を装着
する。基板1をリフロー炉に入れて基板1の上部方向お
よび下部方向から熱風加熱すると、前記通気孔1aを通
じて電子部品1の底面2B側が加熱され、熱容量の大き
な電子部品2全体が短時間で加熱される。よって端子部
2aの熱が電子部品内に逃げにくくなって、端子部2a
の温度低下を防止でき、半田を確実に溶融させることが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品が取り付
けられる実装基板に係わり、特に電子部品の端子と実装
基板上のパターンとの半田付け不良を未然に防止し、電
子部品の取り付けを確実に行えるようにした電子部品実
装基板および電子部品の基板への実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子部品を実装基板に取り付ける方法と
しては、ペースト状のクリーム半田を用いるリフロー方
式によるものがある。
【0003】前記リフロー方式は、基板表面に形成され
た導電性の配線パターン上にマスキングが施され、ペー
スト状のクリーム半田が配線パターンの所定のランド部
に塗布される。前記リフロー方式で実装される電子部品
は、導電性の端子部が側方に突出したもの、または電子
部品の底部に前記端子部が現れているものであり、前記
電子部品は、自動機によって前記基板表面に供給され、
前記端子部が前記クリーム半田の粘着力によって前記ラ
ンド部に接着される。
【0004】電子部品が実装された基板は、ベルトコン
ベアなどの搬送手段によりリフロー装置内に搬送され
る。リフロー装置には加熱用の炉(リフロー炉)が設け
られており、前記基板が前記炉内の加熱雰囲気内で加熱
され、前記クリーム半田の半田成分が溶融する。その後
に、冷却されて前記半田が硬化させられ、前記端子部と
前記ランド部とが固着される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記リフロー方式で
は、炉内の空気温度を加熱することで、クリーム半田を
溶融している。ここで、前記ランド部は金属箔または薄
膜で形成されているために熱容量が小さく、よってクリ
ーム半田が加熱されているときに、クリーム半田から前
記ランド部に逃げる熱量はきわめて小さい。一方、電子
部品はその構造によって端子部を介して伝達される熱の
容量が相違する。
【0006】例えば、抵抗器やコンデンサなどのチップ
部品または電界コンデンサを含む部品などは、その底部
に金属端子が小さい面積で現れているだけで、内部に熱
容量の大きな部分を有していない。よってクリーム半田
から端子部へ逃げる熱量はわずかである。しかし、コン
デンサ、チョークコイルその他のインダクティブ型の電
子部品では、その内部に前記端子部に導通するコイルが
設けられているが、このコイルはある程度の熱容量を有
しているため、端子部から電子部品の内部に伝導する熱
量が多くなる。同様に、パワートランジスタなどの半導
体部品には、放熱用のヒートシンクを有しているものが
あり、このような半導体部品も、クリーム半田から前記
端子部を経てヒートシンクに熱が逃げやすくなってい
る。
【0007】前記のインダクティブ型などの熱容量の大
きい電子部品が、他のチップ部品などとともに基板に実
装されていると、チップ部品などの端子部が接するクリ
ーム半田が十分に溶融しているのにもかかわらず、熱容
量の大きい電子部品では、クリーム半田が接している端
子部の熱量が電子部品の内部に多く逃げるため、端子部
の温度が十分に高くならず、クリーム半田が十分に溶融
せずに半田不良が生じやすい。
【0008】図6は、実装基板にトランスとそれ以外の
部品としてチップ部品を実装し、リフロー炉内で加熱し
たときの、各部の温度上昇を測定したものであり、横軸
が時間で、縦軸が温度である。
【0009】リフロー方式の半田付けでは、基板表面の
温度がT1になるまで温度を上昇させた後に、前記上昇
後の時刻t1からt2までの間でプリヒート(予備加
熱)を行い、その後に基板表面の温度がT2に達すると
本加熱が開始される。この本加熱を行う時間がt4−t
3である。
【0010】図6に示すように、チップ部品などの他の
部品の端子部の温度は、基板表面の温度とほぼ同等に上
昇していくが、トランスの端子部の温度は、本加熱完了
時にT2以下となっている。よって、図6のような温度
条件でリフロー半田付け作業を行うと、他の部品の端子
部が接するクリーム半田は十分に溶融するが、トランス
の端子部が接するクリーム半田は十分に溶融できなくな
る。
【0011】前記においてトランスの端子部が接するク
リーム半田を十分に溶融させるためには、図6において
プリヒート時間(t2−t1)を長くすればトランスの
端子部の温度をさらに上昇させて、クリーム半田を十分
に溶融させることができる。しかし、前記プリヒート時
間は、電子部品に与えるダメージに大きく影響するもの
であり、一般に、実装基板のリフロー工程では、電子部
品の安全性を前記プリヒート時間(t2−t1)を管理
することによって行っている。よって、プリヒート時間
を長くすることは、トランス以外の電子部品へダメージ
を与える危険性を高くすることになる。
【0012】また熱容量の差異により各部品のピーク温
度が設定されており、本加熱時に炉内の温度が前記各部
品ごとのピーク温度を越えないようにする必要がある。
このため、各実装基板ごとに幾つかのパターン化設定条
件を用意して管理する必要があり、管理工数が複雑化す
るという問題がある。
【0013】本発明は上記従来の問題を解決するための
ものであり、電子部品の端子部とランド部との間の半田
を十分に溶融できるようにして、半田付け不良を防止で
きるようにした電子部品実装基板および電子部品の基板
への実装方法を提供することを目的としている。
【0014】また本発明は、熱容量が異なる電子部品が
同じ基板に実装されているときに、熱容量の大きな電子
部品の半田付け不良と熱容量の小さな電子部品の破損防
止とができるようにした電子部品実装基板および電子部
品の基板への実装方法を提供することを目的としてい
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、表面に導電性
パターンのランド部が形成された基板に、導電性の端子
部を有する電子部品が実装され、前記ランド部と前記端
子部とが半田を介して固着されている電子部品実装基板
において、前記半田は、前記基板および前記電子部品と
共に加熱されることによって溶融した後に硬化したもの
であり、前記基板には、前記電子部品が実装された領域
に通気部が貫通して形成されていることを特徴とするも
のである。
【0016】上記手段では、通気部を介して、電子部品
が温められるため、半田の熱が端子部から電子部品に逃
げにくくなり、半田を十分に溶融させることができる。
【0017】また本発明は、前記電子部品実装基板に
は、熱容量の相違する部品が実装されており、熱容量の
大きい部品が実装された領域に前記通気部が形成されて
いるものとして構成することが有効である。
【0018】このようにすると、熱容量の大きな電子部
品の端子部が接する半田が十分に溶融し、熱容量の小さ
な電子部品が過剰に加熱されて熱ダメージを受けるのを
防止できる。
【0019】例えば、前記通気部の部分に実装される電
子部品は、内部にコイルが収納され、前記端子部が前記
コイルに導通されているものであり、または前記通気部
の部分に実装される電子部品は、放熱部を有しているも
のである。
【0020】また本発明の電子部品の基板への実装方法
は、表面に導電性パターンのランド部が形成され、前記
ランド部上に設置される電子部品の実装領域に基板を貫
通する通気部が形成された基板を用い、前記ランド部に
半田を塗布する工程と、前記電子部品の導電性の端子部
を前記ランド部に設置して前記基板上に電子部品を実装
する工程と、前記基板と前記電子部品とを一緒に加熱
し、このとき前記通気部を介して前記電子部品を加熱し
ながら、前記半田を溶融させる工程と、を有することを
特徴とするものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
して説明する。
【0022】図1は、本発明の電子部品実装基板の一実
施の形態を示す斜視図、図2は電子部品が実装基板上に
固定されている状態を示す図1のII−II線の断面図
である。
【0023】図1に示す基板1の表面1Aには、電子部
品2の端子と電気的な接続を行うための複数の配線パタ
ーン3が設けられており、その先端にランド部3aがそ
れぞれ形成されている。前記基板1は、絶縁性樹脂、ガ
ラスエポキシ、ガラス、紙エポキシ、紙フェノール、セ
ラミックおよびアルミや銅板ベースのメタル基板などで
形成されている。前記基板1の表面1Aに形成されてい
る銅箔などの薄い金属膜をエッチングすることにより前
記配線パターン3が形成されている。
【0024】前記基板1の表面1Aには、熱容量の大き
な電子部品2が実装されている。この電子部品2は、ト
ランス、コイルなどのインダクティブ型であり、ケース
の内部でコイル11が磁性コア12に巻き付けられてい
る。前記電子部品2のケースの両端には、両側方向に延
びる複数の端子部2aが突出して設けられている。この
端子部2aに、前記コイル11(一次コイル、二次コイ
ルなど)の導線が巻き付けられるなどして接続されてい
る。
【0025】また基板1の表面1Aには、前記電子部品
2よりも熱容量の小さい他の電子部品15が一緒に実装
されている。この他の電子部品15は、図1に示すよう
なチップ部品、ディスクリュート部品、パッケージ部品
などであり、図1に示すように、その少なくとも底面に
端子部16,16が現れている。これら他の電子部品の
うち、電界コンデンサ、または半導体を含む部品は、熱
容量が小さくしかも熱によるダメージを受けやすいもの
である。
【0026】なお、熱容量の大きい前記電子部品2は、
トランス、コイルなどのインダクティブ型に限られず、
例えばヒートシンクなどの放熱部を有するパワートラン
ジスタなどの半導体部品であってもよい。
【0027】前記電子部品2は、基板1上に点線で示す
取付け領域4に実装される。前記取付け領域4の中心に
は、基板1を板厚方向に貫通した通気部としての通気孔
1aが穿設されている。前記通気孔1aは少なくとも1
つ形成されていればよく、その他前記取付け領域4の内
部に点線で示すように電子部品2の熱容量の大きさに応
じて2つ以上形成してもよい。また通気孔1aの径の寸
法についても、電子部品2の熱容量に応じ、適切な径寸
法を設定することが好ましい。また、前記通気部として
基板1の縁部から前記領域4まで凹状に形成された切欠
部を用いてもよい。
【0028】また、前記他の電子部品15も、基板1の
表面1Aに形成されたランド部3a,3a上に実装され
るが、この電子部品15が実装される領域には、前記通
気部が形成されていない。
【0029】次に、前記基板1に前記電子部品2および
電子部品15などを実装する方法について図3のフロー
チャートを用いて説明する。
【0030】第1の工程では、基板1の表面1Aに形成
された配線パターン3の前記ランド部3a上にクリーム
半田5が塗布される(図1参照)。この工程では、基板
1の表面1Aにランド部3a以外の領域を覆うマスクが
設置され、マスク上からクリーム半田5(ペースト半田
またはリフロー半田と呼ぶこともある)が塗布され、前
記ランド部3aの表面にのみクリーム半田5が塗布され
る。
【0031】第2の工程では、基板1の表面1Aに各電
子部品が実装される。このとき電子部品2の端子部2a
および、他の電子部品15の端子部16が、前記クリー
ム半田5の粘着力によってランド部3aの表面に仮り止
めされる。なお、このとき、基板1の表面1Aと各電子
部品とが接着剤で固定されることもある。
【0032】第3の工程では、電子部品2が実装された
基板1がリフロー炉に搬送され、リフロー炉内にてプリ
ヒート(予備加熱)および本加熱の2段階の加熱処理が
行なわれる。プリヒートおよび本加熱においては、リフ
ロー炉内の上方から基板1の表面1Aに対し熱風が与え
られるとともに、下方から基板1の裏面1Bに対しても
熱風が与えられる。
【0033】このとき、熱容量の大きい電子部品2が実
装されている領域4では、図2に示すように、基板1の
表面1Aと裏面1Bから与えられる熱により基板1が加
熱され、特に表面1A側の熱により基板1の表面1Aの
温度が上昇する。このとき主に表面1A側の熱により、
ランド部3a、クリーム半田5および端子部2aが加熱
され、クリーム半田5の温度が上昇する。
【0034】しかし、前記電子部品2は、前記端子部2
aに接続されたコイル11が内蔵され、コイル11は銅
線などの熱伝導率の高い材料で形成されているために、
電子部品2全体の熱容量が大きい。したがってリフロー
炉内の熱風によって、基板表面1Aに位置する端子部2
aの温度が上昇したときに、その熱が端子部2aからコ
イル11へ伝導し、端子部2aの温度が十分に高くなら
ず、クリーム半田5の熱が端子部2aを介して電子部品
2の内部に奪われやすくなっている。
【0035】しかし、この実施の形態では、領域4に通
気孔1aが形成されているため、基板1の裏面1B側の
熱風は、通気孔1aを経て電子部品2の裏面2Bに与え
られる。よって、基板1の表面1A側の熱風によって電
子部品2の表面2A側が加熱され、且つ前記通気孔1a
を経た熱風によって電子部品2の裏面2Bも加熱され、
電子部品2の全体が効果的に加熱される。したがって、
電子部品2内のコイル11などの温度が急速に上がるこ
とになり、端子部2aの熱がコイル11に奪われにくく
なって、端子部2aの温度が高い状態に維持される。し
たがって、クリーム半田5が十分に溶融でき、ランド部
3aと端子部2aとを確実に半田付けできる。
【0036】よって、プリヒート時間を過剰に長くしな
くても、電子部品2の端子部2aを確実に半田付けでき
るため、熱容量の小さい他の部品15が電界コンデンサ
などのような熱に弱いものであっても、熱によるダメー
ジを小さくできる。
【0037】図4は、基板上に、熱容量の大きい電子部
品としてトランス、チョークコイルを実装し、熱容量の
小さい電子部品として電解コンデンサを実装し、リフロ
ー炉で加熱したときの各部の温度の上昇状態を測定した
結果を示している。この実施例は、トランスおよびコイ
ルが実装される領域において基板にそれぞれ1個ずつ通
気孔を形成している。
【0038】図4では、温度の測定箇所が、基板表面の
ランド部(a)、トランスの端子(b)、コイル端子
(c)、電解コンデンサ(d)および基板裏面に実装し
たタクトスイッチの端子(e)である。
【0039】図5は、基板上に熱容量の大きい電子部品
としてトランスとコイルを実装し、基板では、トランス
とコイルの実装領域にそれぞれ5箇所ずつ通気孔を形成
し、リフロー炉で加熱したときの各部の温度上昇を測定
したものである。
【0040】温度の測定箇所は、トランス表面(f)、
トランスの1番端子(g)、トランスの3番端子
(h)、コイル表面(上面)(i)、コイル端子(j)
である。
【0041】図4では、プリヒート時間taと本加熱の
時間tb、および基板表面の上昇温度を、図6に示した
従来例の各時間および温度と同じに設定した。図5では
プリヒート時間tcを図4のプリヒート時間taよりも
短くし、図5では本加熱の時間tbを図4と同じに設定
している。
【0042】図4では、プリヒート時間と本加熱時間が
図6の従来例と同じであるが、トランスの端子(b)と
コイル端子(c)の温度がT2を越えている。また図5
ではプリヒート時間tcを短くしても、トランスの1番
端子(g)、トランスの3番端子(h)、およびコイル
端子(j)の温度がT2を越えている。
【0043】以上から、電子部品の実装領域において基
板に通気孔を形成することにより、端子部の温度を効果
的に高くできることが解る。
【0044】また図4と図5では、プリヒート時間を図
6よりも長くする必要がないため、電解コンデンサにダ
メージを与えることがない。
【0045】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、リフロー
半田工程において、基板上の電子部品の温度を上昇さ
せ、端子部の温度を急速に上昇させることができ、端子
部とランド部とを確実に半田付けできる。またプリヒー
トなどの時間を短縮でき、リフロー半田の工程時間を短
縮できる。
【0046】また本加熱時に炉内の温度が各部品ごとの
ピーク温度を越えないようにするためのパターン化設定
条件を用意して管理する必要がなくなる。よって、管理
工数を削減することが可能となる。
【0047】また熱容量の小さい他の電子部品が一緒に
実装されているときに、この他の電子部品の温度を過剰
に上昇させることがないため、電界コンデンサなどにダ
メージを与えることもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子部品の実装基板を示す斜視図、
【図2】電子部品が基板上に固定されている状態を示
す、図1のII−II線の断面図、
【図3】電子部品を基板に実装する方法の工程を示すフ
ローチャート、
【図4】リフロー装置内での基板上の各部の温度変化を
示すグラフ、
【図5】リフロー装置内での基板上の各部の温度変化を
示すグラフ、
【図6】従来の実装基板を使用した場合のリフロー装置
内での各部の温度変化を示すグラフ、
【符号の説明】
1 基板 1A 基板の表面 1B 基板の裏面 2 熱容量の大きい電子部品 2a 端子部 2A 電子部品の上面 2B 電子部品の下面 3 配線パターン 3a ランド部 4 取付け領域 5 クリーム半田 11 コイル 15 熱容量の小さい他の電子部品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B23K 101:42 B23K 101:42

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に導電性パターンのランド部が形成
    された基板に、導電性の端子部を有する電子部品が実装
    され、前記ランド部と前記端子部とが半田を介して固着
    されている電子部品実装基板において、 前記半田は、前記基板および前記電子部品と共に加熱さ
    れることによって溶融した後に硬化したものであり、 前記基板には、前記電子部品が実装された領域に通気部
    が貫通して形成されていることを特徴とする電子部品実
    装基板。
  2. 【請求項2】 前記電子部品実装基板には、熱容量の相
    違する部品が実装されており、熱容量の大きい部品が実
    装された領域に前記通気部が形成されている請求項1記
    載の電子部品実装基板。
  3. 【請求項3】 前記通気部の部分に実装される電子部品
    は、内部にコイルが収納され、前記端子部が前記コイル
    に導通されているものである請求項1または2記載の電
    子部品実装基板。
  4. 【請求項4】 前記通気部の部分に実装される電子部品
    は、放熱部を有しているものである請求項1または2記
    載の電子部品実装基板。
  5. 【請求項5】 表面に導電性パターンのランド部が形成
    され、前記ランド部上に設置される電子部品の実装領域
    に基板を貫通する通気部が形成された基板を用い、 前記ランド部に半田を塗布する工程と、 前記電子部品の導電性の端子部を前記ランド部に設置し
    て前記基板上に電子部品を実装する工程と、 前記基板と前記電子部品とを一緒に加熱し、このとき前
    記通気部を介して前記電子部品を加熱しながら、前記半
    田を溶融させる工程と、を有することを特徴とする電子
    部品の基板への実装方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013239552A (ja) * 2012-05-15 2013-11-28 Mitsubishi Electric Corp 電子部品モジュール、電子部品モジュールの製造方法
WO2015151433A1 (ja) * 2014-04-01 2015-10-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 部品実装基板

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