JP2002231886A - Esd保護回路および半導体集積回路装置 - Google Patents

Esd保護回路および半導体集積回路装置

Info

Publication number
JP2002231886A
JP2002231886A JP2001023443A JP2001023443A JP2002231886A JP 2002231886 A JP2002231886 A JP 2002231886A JP 2001023443 A JP2001023443 A JP 2001023443A JP 2001023443 A JP2001023443 A JP 2001023443A JP 2002231886 A JP2002231886 A JP 2002231886A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
channel mos
supply line
mos transistor
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001023443A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuya Arai
勝也 荒井
Toshihiro Kagami
歳浩 甲上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001023443A priority Critical patent/JP2002231886A/ja
Publication of JP2002231886A publication Critical patent/JP2002231886A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 不要な電流を抑制できるESD保護回路を提
供する。 【解決手段】 PチャネルMOSトランジスタPT1
は、電源線L1と電源線L2との間に接続される。Pチ
ャネルMOSトランジスタPT2は、電源線L1とPチ
ャネルMOSトランジスタPT1のゲートとの間に接続
され、電源線L2の電圧をゲートに受ける。Pチャネル
MOSトランジスタPT3は、PチャネルMOSトラン
ジスタPT1のゲートと電源線L2との間に接続され、
電源線L1の電圧をゲートに受ける。PチャネルMOS
トランジスタPT1−PT3の基板は、PチャネルMO
SトランジスタPT1のゲートに接続される。このES
D保護回路ではいずれの場合にも電源線L1と電源線L
2との間の電流経路がすべて遮断される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ESD(ele
ctrostatic discharge)保護回路
およびこれを備えた半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プロセスの微細化による高集積化
・高速化に伴ってLSIの消費電力が増大している。高
集積化・高速化されたLSIでは、消費電力の増大を抑
えるために電源電圧が低く設定される。この一方で、電
源電圧が高いLSIも依然として数多く存在している。
電源電圧が低いLSIと電源電圧が高いLSIとのイン
ターフェースを実現するためには、電源電圧が低いLS
Iの入出力回路を動作させるための電源電圧と電源電圧
が高いLSIの電源電圧とを同じレベルにする必要があ
る。したがって、高集積化・高速化されたLSIには、
消費電力を低減するために内部回路の電源電圧を低くし
かつ電源電圧の高いLSIとのインターフェースを実現
するために入出力回路の電源電圧を高くしているものが
ある。このようなLSIでは、大きさの異なる2つの電
源電圧が外部から供給されることになる。
【0003】通常、LSI内部にはESD保護回路(ま
たは素子)が設けられている。ESD保護回路(または
素子)とは、静電放電による破壊を防止するための回路
(または素子)である。上述したような2つの電源電圧
が外部から供給されるLSIでは、図5に示すようにE
SD保護トランジスタ50−52が設けられる。図5に
示すLSIには、第1の電源電圧VDD1(例えば1.
8V)、第1の電源電圧よりも大きい第2の電源電圧V
DD2(例えば3.3V)、および接地電圧VSSが外
部から供給される。第1の電源電圧VDD1、第2の電
源電圧VDD2、および接地電圧VSSは、それぞれ端
子T51,T52,T53に供給される。電源線L5
1,L52および接地線L53は、それぞれ端子T51
−T53に供給された電圧を受ける。ESD保護トラン
ジスタ50−52はそれぞれ電源線L51と電源線L5
2との間・電源線L51と接地線L53との間・電源線
L52と接地線L53との間に設けられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図5に示したLSIに
対して第1の電源電圧VDD1(1.8V)および第2
の電源電圧VDD2(3.3V)がともに与えられてい
るときESD保護トランジスタ50−52は遮断状態と
なる。
【0005】ところが、第1の電源電圧VDD1(1.
8V)だけが与えられているとき(VDD2=0V)に
は、端子T51からESD保護トランジスタ50のドレ
イン−基板間のPN接合を通じて電源線L52へ不要な
電流が流れ込み、アルミ配線のエレクトロマイグレーシ
ョン等の信頼性問題を引き起こす。
【0006】このため、図5に示すLSIに対して電源
電圧を与えるときには、第2の電源電圧VDD2を先に
与えてから第1の電源電圧VDD1を与えるというよう
な電源投入シーケンスを守らなければならない。
【0007】この発明は上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、その目的は、不要な電流を抑
制することができるESD保護回路を提供することであ
る。
【0008】この発明のもう1つの目的は、電源投入シ
ーケンスを考慮する必要がない半導体集積回路装置を提
供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明の1つの局面に
従うと、ESD保護回路は、第1のPチャネルMOSト
ランジスタと、第2のPチャネルMOSトランジスタ
と、第3のPチャネルMOSトランジスタとを備える。
第1のPチャネルMOSトランジスタは、第1の電源線
と第2の電源線との間に接続される。第1の電源線には
第1の電源電圧が供給される。第2の電源線には第2の
電源電圧が供給される。第2のPチャネルMOSトラン
ジスタは、第1の電源線と第1のPチャネルMOSトラ
ンジスタのゲートとの間に接続され、第2の電源線の電
圧をゲートに受ける。第3のPチャネルMOSトランジ
スタは、第1のPチャネルMOSトランジスタのゲート
と第2の電源線との間に接続され、第1の電源線の電圧
をゲートに受ける。第1のPチャネルMOSトランジス
タの基板、第2のPチャネルMOSトランジスタの基
板、および第3のPチャネルMOSトランジスタの基板
は、第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートに接
続される。
【0010】好ましくは、上記第1の電源電圧は、上記
第2の電源電圧よりも小さい。
【0011】上記ESD保護回路では、第1の電源線に
第1の電源電圧が供給されかつ第2の電源線に第2の電
源電圧が供給されないとき、第2のPチャネルMOSト
ランジスタは導通状態となる。これにより、第1のPチ
ャネルMOSトランジスタのゲートには第1の電源電圧
が与えられ、第1のPチャネルMOSトランジスタは遮
断状態となる。また、第3のPチャネルMOSトランジ
スタのゲートには第1の電源電圧が与えられ、第3のP
チャネルMOSトランジスタは遮断状態となる。このよ
うに、第1および第3のPチャネルMOSトランジスタ
が遮断状態となるため、第1の電源線から第2の電源線
への電流経路はすべて遮断される。
【0012】また、第2の電源線に第2の電源電圧が供
給されかつ第1の電源線に第1の電源電圧が供給されな
いとき、第2のPチャネルMOSトランジスタは遮断状
態となる。一方、第3のPチャネルMOSトランジスタ
は導通状態となる。これにより、第1のPチャネルMO
Sトランジスタのゲートに第2の電源電圧が与えられ、
第1のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態とな
る。このように、第1および第2のPチャネルMOSト
ランジスタが遮断状態となるため、第2の電源線から第
1の電源線への電流経路はすべて遮断される。
【0013】また、第1の電源線に第1の電源電圧が供
給されかつ第2の電源線に第2の電源電圧が供給される
とき、第2のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態
となる。第3のPチャネルMOSトランジスタのゲート
には第1の電源電圧が与えられ、第3のPチャネルMO
Sトランジスタは導通状態となる。これにより、第1の
PチャネルMOSトランジスタのゲートに第2の電源電
圧が与えられ、第1のPチャネルMOSトランジスタは
遮断状態となる。このように、第1および第2のPチャ
ネルMOSトランジスタが遮断状態となるため、第2の
電源線から第1の電源線への電流経路はすべて遮断され
る。
【0014】以上のように、上記ESD保護回路では、
上述したいずれの場合にも第1の電源線と第2の電源線
との間の電流経路が遮断される。したがって、第1の電
源線と第2の電源線との間を流れる不要な電流を抑制す
ることができる。
【0015】好ましくは、上記ESD保護回路はさらに
第4のPチャネルMOSトランジスタを備える。第4の
PチャネルMOSトランジスタは、第1のPチャネルM
OSトランジスタのゲートと第1の電源線との間に接続
され、第2の電源線の電圧をゲートに受ける。第4のP
チャネルMOSトランジスタの基板は第1のPチャネル
MOSトランジスタのゲートに接続される。
【0016】上記ESD保護回路では、第1の電源電圧
のほうが第2の電源電圧よりも小さい場合において第1
の電源線に第1の電源電圧が供給されかつ第2の電源線
に第2の電源電圧が供給されないとき、第2のPチャネ
ルMOSトランジスタは導通状態となる。これにより、
第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートに第1の
電源電圧が与えられ、第1のPチャネルMOSトランジ
スタは遮断状態となる。また、第3のPチャネルMOS
トランジスタのゲートには第1の電源電圧が与えられ、
第3のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態とな
る。また、第4のPチャネルMOSトランジスタは導通
状態となる。このように、第1および第3のPチャネル
MOSトランジスタが遮断状態となるため、第1の電源
線から第2の電源線への電流経路はすべて遮断される。
【0017】また、第1の電源電圧のほうが第2の電源
電圧よりも小さい場合において第2の電源線に第2の電
源電圧が与えられかつ第1の電源線に第1の電源電圧が
与えられないとき、第2のPチャネルMOSトランジス
タのゲートに第2の電源電圧が与えられ、第2のPチャ
ネルMOSトランジスタは遮断状態となる。また、第3
のPチャネルMOSトランジスタは導通状態となる。こ
れにより、第1のPチャネルMOSトランジスタのゲー
トに第2の電源電圧が与えられ、第1のPチャネルMO
Sトランジスタは遮断状態となる。また、第4のPチャ
ネルMOSトランジスタのゲートには第2の電源電圧が
与えられ、第4のPチャネルMOSトランジスタは遮断
状態となる。このように、第1および第2のPチャネル
MOSトランジスタが遮断状態となるため、第2の電源
線から第1の電源線への電流経路はすべて遮断される。
【0018】また、第1の電源電圧のほうが第2の電源
電圧よりも小さい場合において第1の電源線に第1の電
源電圧が与えられかつ第2の電源線に第2の電源電圧が
与えられるとき、第2のPチャネルMOSトランジスタ
のゲートに第2の電源電圧が与えられ、第2のPチャネ
ルMOSトランジスタは遮断状態となる。また、第3の
PチャネルMOSトランジスタのゲートには第1の電源
電圧が与えられ、第3のPチャネルMOSトランジスタ
は導通状態となる。これにより、第1のPチャネルMO
Sトランジスタのゲートに第2の電源電圧が与えられ、
第1のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態とな
る。また、第4のPチャネルMOSトランジスタのゲー
トには第2の電源電圧が与えられ、第4のPチャネルM
OSトランジスタは遮断状態となる。このように、第1
および第2のPチャネルMOSトランジスタが遮断状態
となるため、第2の電源線から第1の電源線への電流経
路はすべて遮断される。
【0019】また、第1の電源電圧のほうが第2の電源
電圧よりも大きい場合において第1の電源線に第1の電
源電圧が与えられかつ第2の電源線に第2の電源電圧が
与えられないとき、第2のPチャネルMOSトランジス
タは導通状態となる。これにより第1のPチャネルMO
Sトランジスタのゲートに第1の電源電圧が与えられ、
第1のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態とな
る。また、第3のPチャネルMOSトランジスタのゲー
トには第1の電源電圧が与えられ、第3のPチャネルM
OSトランジスタは遮断状態となる。また、第4のPチ
ャネルMOSトランジスタは導通状態となる。このよう
に、第1および第3のPチャネルMOSトランジスタが
遮断状態となるため、第1の電源線から第2の電源線へ
の電流経路はすべて遮断される。
【0020】また、第1の電源電圧のほうが第2の電源
電圧よりも大きい場合において第2の電源線に第2の電
源電圧が与えられかつ第1の電源線に第1の電源電圧が
与えられないとき、第2のPチャネルMOSトランジス
タのゲートに第2の電源電圧が与えられ、第2のPチャ
ネルMOSトランジスタは遮断状態となる。また、第3
のPチャネルMOSトランジスタは導通状態となる。こ
れにより第1のPチャネルMOSトランジスタのゲート
に第2の電源電圧が与えられ、第1のPチャネルMOS
トランジスタは遮断状態となる。また、第4のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲートに第2の電源電圧が与え
られ、第4のPチャネルMOSトランジスタは遮断状態
となる。このように、第1および第2のPチャネルMO
Sトランジスタが遮断状態となるため、第2の電源線か
ら第1の電源線への電流経路はすべて遮断される。
【0021】また、第1の電源電圧のほうが第2の電源
電圧よりも大きい場合において第1の電源線に第1の電
源電圧が与えられかつ第2の電源線に第2の電源電圧が
与えられるとき、第2のPチャネルMOSトランジスタ
のゲートに第2の電源電圧が与えられ、第2のPチャネ
ルMOSトランジスタは導通状態となる。また、第3の
PチャネルMOSトランジスタのゲートには第1の電源
電圧が与えられ、第3のPチャネルMOSトランジスタ
は遮断状態となる。第4のPチャネルMOSトランジス
タのゲートには第2の電源電圧が与えられ、第4のPチ
ャネルMOSトランジスタは導通状態となる。これによ
り第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートには第
1の電源電圧が与えられ、第1のPチャネルMOSトラ
ンジスタは遮断状態となる。このように、第1および第
3のPチャネルMOSトランジスタが遮断状態となるた
め、第1の電源線から第2の電源線への電流経路はすべ
て遮断される。
【0022】以上のように、上記ESD保護回路では、
第1の電源電圧のほうが第2の電源電圧よりも小さい場
合および第1の電源電圧のほうが第2の電源電圧よりも
大きい場合のいずれの場合にも第1の電源線と第2の電
源線との間の電流経路が遮断される。したがって、第1
および第2の電源電圧の大小関係に関わらず第1の電源
線と第2の電源線との間を流れる不要な電流を抑制する
ことができる。
【0023】この発明のもう1つの局面に従うと、半導
体集積回路装置は、第1の電源線と、第2の電源線と、
ESD保護回路とを備える。第1の電源線には第1の電
源電圧が供給される。第2の電源線には第2の電源電圧
が供給される。ESD保護回路は、第1の電源線と第2
の電源線との間に接続される。ESD保護回路は、第1
のPチャネルMOSトランジスタと、第2のPチャネル
MOSトランジスタと、第3のPチャネルMOSトラン
ジスタとを含む。第1のPチャネルMOSトランジスタ
は、第1の電源線と第2の電源線との間に接続される。
第2のPチャネルMOSトランジスタは、第1の電源線
と第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートとの間
に接続され、第2の電源線の電圧をゲートに受ける。第
3のPチャネルMOSトランジスタは、第1のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲートと第2の電源線との間に
接続され、第1の電源線の電圧をゲートに受ける。第1
のPチャネルMOSトランジスタの基板、第2のPチャ
ネルMOSトランジスタの基板、および第3のPチャネ
ルMOSトランジスタの基板は、第1のPチャネルMO
Sトランジスタのゲートに接続される。
【0024】好ましくは、上記第1の電源電圧は、上記
第2の電源電圧よりも小さい。
【0025】上記半導体集積回路装置では、ESD保護
回路を設けたため、上述したいずれの場合にも第1の電
源線と第2の電源線との間の電流経路が遮断される。こ
れにより、第1の電源線と第2の電源線との間を流れる
不要な電流を抑制することができる。したがって、「第
1の電源電圧を供給してから第2の電源電圧を供給す
る」または「第2の電源電圧を供給してから第1の電源
電圧を供給する」というような電源投入シーケンスを考
慮する必要がない。
【0026】好ましくは、上記ESD保護回路はさら
に、第4のPチャネルMOSトランジスタを含む。第4
のPチャネルMOSトランジスタは、第1のPチャネル
MOSトランジスタのゲートと第1の電源線との間に接
続され、第2の電源線の電圧をゲートに受ける。第4の
PチャネルMOSトランジスタの基板は第1のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲートに接続される。
【0027】上記半導体集積回路装置では、第4のPチ
ャネルMOSトランジスタを設けたため、第1の電源電
圧のほうが第2の電源電圧よりも小さい場合および第1
の電源電圧のほうが第2の電源電圧よりも大きい場合の
いずれの場合にも第1の電源線と第2の電源線との間の
電流経路が遮断される。したがって、第1および第2の
電源電圧の大小関係に関わらず第1の電源線と第2の電
源線との間を流れる不要な電流を抑制することができ
る。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一または相
当部分には同一符号を付し、その説明は繰り返さない。
【0029】(第1の実施形態) <半導体集積回路装置の構成>図1は、この発明の第1
の実施形態による半導体集積回路装置の構成を示すブロ
ック図である。図1に示す半導体集積回路装置は、端子
T1−T4と、電源線L1,L2と、接地線L3と、E
SD(electrostatic discharg
e:静電放電)保護回路1と、ESD保護トランジスタ
2,3と、入出力回路4と、内部回路5とを備える。
【0030】端子T1には電源電圧VDD1(例えば
1.8V)が供給される。端子T2には電源電圧VDD
2(例えば3.3V)が供給される。ここでは電源電圧
VDD2は電源電圧VDD1よりも大きいものとする。
端子T3には接地電圧VSSが供給される。端子T4
は、外部と情報の入出力を行うための端子である。電源
線L1は、端子T1に供給される電圧を受ける。電源線
L2は、端子T2に供給される電圧を受ける。接地線L
3は、端子T3に供給される接地電圧VSS(例えば0
V)を受ける。
【0031】ESD保護回路1は、電源線L1と電源線
L2との間に設けられる。ESD保護回路1は、端子T
1(または端子T2)に印加されたESDパルスを自身
を介して端子T2(または端子T1)に導き外部へ放電
する。ESD保護トランジスタ2は、電源線L2と接地
線L3との間にダイオード接続されたNチャネルMOS
トランジスタである。ESD保護トランジスタ2は、端
子T2(または端子T3)に印加されたESDパルスを
自身を介して端子T3(または端子T2)に導き外部へ
放電する。ESD保護トランジスタ3は、電源線L1と
接地線L3との間にダイオード接続されたNチャネルM
OSトランジスタである。ESD保護トランジスタ3
は、端子T1(または端子T3)に印加されたESDパ
ルスを自身を介して端子T3(または端子T1)へ導き
外部へ放電する。入出力回路4は、電源線L1からの電
源電圧VDD1および電源線L2からの電源電圧VDD
2を受けて動作し、端子T4からの情報を内部回路5
へ、内部回路5からの情報を端子T4へ出力する。内部
回路5は、電源線L1からの電源電圧VDD1を受けて
動作し、入出力回路4からの情報に対する処理・処理結
果の入出力回路4への出力などの処理を行う。
【0032】<ESD保護回路の構成>図2は、図1に
示したESD保護回路1の構成を示す回路図である。図
2を参照して、ESD保護回路1は、PチャネルMOS
トランジスタPT1−PT3を含む。PチャネルMOS
トランジスタPT1は、電源線L1と電源線L2との間
に接続される。PチャネルMOSトランジスタPT2
は、電源線L1とPチャネルMOSトランジスタPT1
のゲートとの間に接続され、電源線L2の電圧をゲート
に受ける。PチャネルMOSトランジスタPT3は、P
チャネルMOSトランジスタPT1のゲートと電源線L
2との間に接続され、電源線L1の電圧をゲートに受け
る。PチャネルMOSトランジスタPT1−PT3の基
板は、PチャネルMOSトランジスタPT1のゲートに
接続される。
【0033】<ESD保護回路の動作>図1に示した半
導体集積回路装置には、大きさの異なる2つの電源電圧
VDD1,VDD2が外部から供給される。電源電圧V
DD1、VDD2は互いに独立に供給される。したがっ
て、(1)端子T1に電源電圧VDD1が与えられ、端
子T2には電源電圧VDD2が与えられないとき、
(2)端子T2に電源電圧VDD2が与えられ、端子T
1には電源電圧VDD1が与えられないとき、(3)端
子T1に電源電圧VDD1が与えられ、端子T2に電源
電圧VDD2が与えられるときが存在する。以下、それ
ぞれの場合におけるESD保護回路1の動作について図
2を参照しつつ説明する。
【0034】(1)端子T1に電源電圧VDD1が与え
られ、端子T2には電源電圧VDD2が与えられないと
き このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば1.8
V)となり、電源線L2の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のゲートには電源
線L2の電圧(0V)が与えられ、PチャネルMOSト
ランジスタPT2は導通状態となる。これにより、Pチ
ャネルMOSトランジスタPT1のゲートに電源線L1
の電圧(1.8V)が与えられる。一方、PチャネルM
OSトランジスタPT1のソースには電源線L2の電圧
(0V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT1は遮断状態となる。また、PチャネルM
OSトランジスタPT3のゲートには電源線L1の電圧
(1.8V)が与えられ、ソースには電源線L2の電圧
(0V)が与えられる。PチャネルMOSトランジスタ
PT2が導通状態となるため、PチャネルMOSトラン
ジスタPT3のドレインは1.8Vとなる。したがっ
て、PチャネルMOSトランジスタPT3は遮断状態と
なる。
【0035】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT3が遮断状態となるため、電源線L1か
ら電源線L2への電流経路はすべて遮断される。
【0036】(2)端子T2に電源電圧VDD2が与え
られ、端子T1には電源電圧VDD1が与えられないと
き このとき、電源線L2の電圧はVDD2(例えば3.3
V)となり、電源線L1の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のドレインには電
源線L1の電圧(0V)が与えられ、ゲートには電源線
L2の電圧(3.3V)が与えられる。したがって、P
チャネルMOSトランジスタPT2は遮断状態となる。
PチャネルMOSトランジスタPT3のゲートには電源
線L1の電圧(0V)が与えられ、ソースには電源線L
2の電圧(3.3V)が与えられる。よって、Pチャネ
ルMOSトランジスタPT3は導通状態となる。これに
より、PチャネルMOSトランジスタPT1のゲートに
電源線L2の電圧(3.3V)が与えられる。よって、
PチャネルMOSトランジスタPT1は遮断状態とな
る。
【0037】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0038】(3)端子T1に電源電圧VDD1が与え
られ、端子T2に電源電圧VDD2が与えられるとき このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば1.8
V)となり、電源線L2の電圧はVDD2(例えば3.
3V)となる。そして、PチャネルMOSトランジスタ
PT2のドレインには電源線L1の電圧(1.8V)が
与えられ、ゲートには電源線L2の電圧(3.3V)が
与えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタP
T2は遮断状態となる。PチャネルMOSトランジスタ
PT3のゲートには電源線L1の電圧(1.8V)が与
えられ、ソースには電源線L2の電圧(3.3V)が与
えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタPT
3は導通状態となる。これによりPチャネルMOSトラ
ンジスタPT1のゲートには電源線L2の電圧(3.3
V)が与えられ、PチャネルMOSトランジスタPT1
は遮断状態となる。
【0039】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0040】以上のように、図2に示したESD保護回
路では、上述した(1)−(3)のいずれの場合にも電
源線L1と電源線L2との間の電流経路がすべて遮断さ
れる。したがって、電源線L1と電源線L2との間を流
れる不要な電流を抑制することができる。
【0041】<効果>この発明の第1の実施形態による
半導体集積回路装置では、図2に示したようなESD保
護回路を設けたため、電源線L1と電源線L2との間を
流れる不要な電流を抑制することができる。したがっ
て、「電源電圧VDD1を供給してから電源電圧VDD
2を供給する」または「電源電圧VDD2を供給してか
ら電源電圧VDD1を供給する」というような電源投入
シーケンスを考慮する必要がない。
【0042】<なお書き>なお、ここでは端子T1,T
2およびESD保護回路1をそれぞれ1つとしたが、こ
れらを複数としてもよい。
【0043】また、ESD保護トランジスタ2,3のゲ
ートは接地線L3に直接接続したが、抵抗またはMOS
トランジスタを介して接地線L3に接続してもよい。
【0044】また、ESD保護トランジスタ2,3はN
チャネルMOSトランジスタであるとしたが、これに代
えて、図3に示すように電源線と接地線との間にダイオ
ード接続されたPチャネルMOSトランジスタ41とし
てもよい。
【0045】(第2の実施形態) <ESD保護回路の構成>この発明の第2の実施形態に
よる半導体集積回路装置は、図2に示したESD保護回
路に代えて、図4に示すESD保護回路を備える。図4
に示すESD保護回路は、図2に示したESD保護回路
に加えてさらにPチャネルMOSトランジスタPT4を
含む。PチャネルMOSトランジスタPT4は、Pチャ
ネルMOSトランジスタPT1のゲートと電源線L1と
の間に接続され、電源線L2の電圧をゲートに受ける。
PチャネルMOSトランジスタPT4の基板は、Pチャ
ネルMOSトランジスタPT1のゲートに接続される。
【0046】<ESD保護回路の動作>第1の実施形態
では電源電圧VDD1のほうが電源電圧VDD2よりも
小さいとした。しかし、第2の実施形態では電源電圧V
DD1,VDD2の大小関係は特定しない。以下、それ
ぞれの場合におけるESD保護回路の動作について図4
を参照しつつ説明する。
【0047】A.電源電圧VDD1のほうが電源電圧V
DD2よりも低い場合 (1)端子T1に電源電圧VDD1が与えられ、端子T
2には電源電圧VDD2が与えられないとき このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば1.8
V)となり、電源線L2の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のゲートには電源
線L2の電圧(0V)が与えられ、PチャネルMOSト
ランジスタPT2は導通状態となる。PチャネルMOS
トランジスタPT1のゲートには電源線L1の電圧
(1.8V)が与えられ、ソースには電源線L2の電圧
(0V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT1は遮断状態となる。PチャネルMOSト
ランジスタPT3のゲートには電源線L1の電圧(1.
8V)が与えられ、ソースには電源線L2の電圧(0
V)が与えられる。また、PチャネルMOSトランジス
タPT2が導通状態となるため、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT3のドレインには電源線L1の電圧(1.
8V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラン
ジスタPT3は遮断状態となる。PチャネルMOSトラ
ンジスタPT4のゲートに電源線L2の電圧(0V)が
与えられ、ソースには電源線L1の電圧(1.8V)が
与えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタP
T4は導通状態となる。これにより、PチャネルMOS
トランジスタTP1,PT2の基板に電源線L1の電圧
(1.8V)が与えられる。
【0048】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT3が遮断状態となるため、電源線L1か
ら電源線L2への電流経路はすべて遮断される。
【0049】(2)端子T2に電源電圧VDD2が与え
られ、端子T1には電源電圧VDD1が与えられないと
き このとき、電源線L2の電圧はVDD2(例えば3.3
V)となり、電源線L1の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のドレインには電
源線L1の電圧(0V)が与えられ、ゲートには電源線
L2の電圧(3.3V)が与えられる。よって、Pチャ
ネルMOSトランジスタPT2は遮断状態となる。Pチ
ャネルMOSトランジスタPT3のゲートには電源線L
1の電圧(0V)が与えられ、ソースには電源線L2の
電圧(3.3V)が与えられる。よって、PチャネルM
OSトランジスタPT3は導通状態となる。これにより
PチャネルMOSトランジスタPT1のゲートには電源
線L2の電圧(3.3V)が与えられ、PチャネルMO
SトランジスタPT1は遮断状態となる。PチャネルM
OSトランジスタPT4のゲートには電源線L2の電圧
(3.3V)が与えられ、ソースには電源線L1の電圧
(0V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT4は遮断状態となる。
【0050】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0051】(3)端子T1に電源電圧VDD1が与え
られ、端子T2に電源電圧VDD2が与えられるとき このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば1.8
V)となり、電源線L2の電圧はVDD2(例えば3.
3V)となる。そして、PチャネルMOSトランジスタ
PT2のドレインには電源線L1の電圧(1.8V)が
与えられ、ゲートには電源線L2の電圧(3.3V)が
与えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタP
T2は遮断状態となる。PチャネルMOSトランジスタ
PT3のゲートには電源線L1の電圧(1.8V)が与
えられ、ソースには電源線L2の電圧(3.3V)が与
えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタPT
3は導通状態となる。これにより、PチャネルMOSト
ランジスタPT1のゲートには電源線L2の電圧(3.
3V)が与えられ、PチャネルMOSトランジスタPT
1は遮断状態となる。PチャネルMOSトランジスタP
T4のゲートには電源線L2の電圧(3.3V)が与え
られ、ソースには電源線L1の電圧(1.8V)が与え
られる。よって、PチャネルMOSトランジスタPT4
は遮断状態となる。
【0052】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0053】B.電源電圧VDD1のほうが電源電圧V
DD2よりも高い場合 (1)端子T1に電源電圧VDD1が与えられ、端子T
2には電源電圧VDD2が与えられないとき このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば3.3
V)となり、電源線L2の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のゲートには電源
線L2の電圧(0V)が与えられ、PチャネルMOSト
ランジスタPT2は導通状態となる。これにより、Pチ
ャネルMOSトランジスタPT1のゲートには電源線L
1の電圧(3.3V)が与えられる。また、Pチャネル
MOSトランジスタPT1のソースには電源線L2の電
圧(0V)が与えられる。よって、PチャネルMOSト
ランジスタPT1は遮断状態となる。PチャネルMOS
トランジスタPT3のゲートには電源線L1の電圧
(3.3V)が与えられ、ソースには電源線L2の電圧
(0V)が与えられる。また、PチャネルMOSトラン
ジスタPT2が導通状態であるためPチャネルMOSト
ランジスタPT3のドレインには電源線L1の電圧
(3.3V)が与えられる。よって、PチャネルMOS
トランジスタPT3は遮断状態となる。PチャネルMO
SトランジスタPT4のゲートには電源線L2の電圧
(0V)が与えられる。また、PチャネルMOSトラン
ジスタPT2が導通状態であるためPチャネルMOSト
ランジスタPT4のソースには電源線L1の電圧(3.
3V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラン
ジスタPT4は導通状態となる。これにより、Pチャネ
ルMOSトランジスタPT1,PT2の基板に電源線L
1の電圧(3.3V)が与えられる。
【0054】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT3が遮断状態となるため、電源線L1か
ら電源線L2への電流経路はすべて遮断される。
【0055】(2)端子T2に電源電圧VDD2が与え
られ、端子T1には電源電圧VDD1が与えられないと
き このとき、電源線L2の電圧はVDD2(例えば1.8
V)となり、電源線L1の電圧は0Vとなる。そして、
PチャネルMOSトランジスタPT2のドレインには電
源線L1の電圧(0V)が与えられ、ゲートには電源線
L2の電圧(1.8V)が与えられる。よって、Pチャ
ネルMOSトランジスタPT2は遮断状態となる。Pチ
ャネルMOSトランジスタPT3のゲートには電源線L
1の電圧(0V)が与えられ、ソースには電源線L2の
電圧(1.8V)が与えられる。よって、PチャネルM
OSトランジスタPT3は導通状態となる。これにより
PチャネルMOSトランジスタPT1のゲートには電源
線L2の電圧(1.8V)が与えられ、PチャネルMO
SトランジスタPT1は遮断状態となる。PチャネルM
OSトランジスタPT4のゲートには電源線L2の電圧
(1.8V)が与えられ、ソースには電源線L1の電圧
(0V)が与えられる。よって、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT4は遮断状態となる。
【0056】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0057】(3)端子T1に電源電圧VDD1が与え
られ、端子T2に電源電圧VDD2が与えられるとき このとき、電源線L1の電圧はVDD1(例えば3.3
V)となり、電源線L2の電圧はVDD2(例えば1.
8V)となる。そして、PチャネルMOSトランジスタ
PT2のドレインには電源線L1の電圧(3.3V)が
与えられ、ゲートには電源線L2の電圧(1.8V)が
与えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタP
T2は遮断状態となる。PチャネルMOSトランジスタ
PT3のゲートには電源線L1の電圧(3.3V)が与
えられ、ソースには電源線L2の電圧(1.8V)が与
えられる。よって、PチャネルMOSトランジスタPT
3は遮断状態となる。PチャネルMOSトランジスタP
T4のゲートには電源線L2の電圧(1.8V)が与え
られ、ソースには電源線L1の電圧(3.3V)が与え
られる。よって、PチャネルMOSトランジスタPT4
は導通状態となる。これにより、PチャネルMOSトラ
ンジスタPT1のゲートには電源線L1の電圧(3.3
V)が与えられ、PチャネルMOSトランジスタPT1
は遮断状態となる。
【0058】このように、PチャネルMOSトランジス
タPT1,PT2が遮断状態となるため、電源線L2か
ら電源線L1への電流経路はすべて遮断される。
【0059】<効果>図4に示したESD保護回路で
は、電源電圧VDD1のほうが電源電圧VDD2よりも
小さい場合および電源電圧VDD1のほうが電源電圧V
DD2よりも大きい場合のいずれの場合においても電源
線L1と電源線L2との間の電流経路が遮断される。し
たがって、電源電圧VDD1,VDD2の大小関係に関
わらず電源線L1と電源線L2との間を流れる不要な電
流を抑制することができる。
【0060】
【発明の効果】この発明の1つの局面に従ったESD保
護回路は、第1のPチャネルMOSトランジスタと、第
2のPチャネルMOSトランジスタと、第3のPチャネ
ルMOSトランジスタとを設けたため、第1の電源線と
第2の電源線との間を流れる不要な電流を抑制すること
ができる。
【0061】また、第4のPチャネルMOSトランジス
タを設けたため、第1および第2の電源電圧の大小関係
に関わらず第1の電源線と第2の電源線との間を流れる
不要な電流を抑制することができる。
【0062】この発明のもう1つの局面に従った半導体
集積回路装置では、ESD保護回路を設けたため、「第
1の電源電圧を供給してから第2の電源電圧を供給す
る」または「第2の電源電圧を供給してから第1の電源
電圧を供給する」というような電源投入シーケンスを考
慮する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態による半導体集積回
路装置の構成を示すブロック図である。
【図2】図1に示したESD保護回路の構成を示す回路
図である。
【図3】ESD保護トランジスタの構成を示す回路図で
ある。
【図4】この発明の第2の実施形態によるESD保護回
路の構成を示す回路図である。
【図5】ESD保護回路を有する従来の半導体集積回路
装置の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】 1 ESD保護回路 L1,L2 電源線 PT1−PT4 PチャネルMOSトランジスタ VDD1,VDD2 電源電圧

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電源電圧が供給される第1の電源
    線と第2の電源電圧が供給される第2の電源線との間に
    接続された第1のPチャネルMOSトランジスタと、 前記第1の電源線と前記第1のPチャネルMOSトラン
    ジスタのゲートとの間に接続され、前記第2の電源線の
    電圧をゲートに受ける第2のPチャネルMOSトランジ
    スタと、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートと前
    記第2の電源線との間に接続され、前記第1の電源線の
    電圧をゲートに受ける第3のPチャネルMOSトランジ
    スタとを備え、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタの基板、前記
    第2のPチャネルMOSトランジスタの基板、および前
    記第3のPチャネルMOSトランジスタの基板は、前記
    第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートに接続さ
    れることを特徴とするESD保護回路。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のESD保護回路におい
    て、 前記第1の電源電圧は、前記第2の電源電圧よりも小さ
    いことを特徴とするESD保護回路。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のESD保護回路におい
    て、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートと前
    記第1の電源線との間に接続され、前記第2の電源線の
    電圧をゲートに受け、基板が前記第1のPチャネルMO
    Sトランジスタのゲートに接続される第4のPチャネル
    MOSトランジスタをさらに備えることを特徴とするE
    SD保護回路。
  4. 【請求項4】 第1の電源電圧が供給される第1の電源
    線と、 第2の電源電圧が供給される第2の電源線と、 前記第1の電源線と前記第2の電源線との間に接続され
    たESD保護回路とを備え、 前記ESD保護回路は、 前記第1の電源線と前記第2の電源線との間に接続され
    た第1のPチャネルMOSトランジスタと、 前記第1の電源線と前記第1のPチャネルMOSトラン
    ジスタのゲートとの間に接続され、前記第2の電源線の
    電圧をゲートに受ける第2のPチャネルMOSトランジ
    スタと、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートと前
    記第2の電源線との間に接続され、前記第1の電源線の
    電圧をゲートに受ける第3のPチャネルMOSトランジ
    スタとを含み、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタの基板、前記
    第2のPチャネルMOSトランジスタの基板、および前
    記第3のPチャネルMOSトランジスタの基板は、前記
    第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートに接続さ
    れることを特徴とする半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の半導体集積回路装置に
    おいて、 前記第1の電源電圧は、前記第2の電源電圧よりも小さ
    いことを特徴とする半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】 請求項4に記載の半導体集積回路装置に
    おいて、 前記ESD保護回路はさらに、 前記第1のPチャネルMOSトランジスタのゲートと前
    記第1の電源線との間に接続され、前記第2の電源線の
    電圧をゲートに受け、基板が前記第1のPチャネルMO
    Sトランジスタのゲートに接続される第4のPチャネル
    MOSトランジスタを備えることを特徴とする半導体集
    積回路装置。
JP2001023443A 2001-01-31 2001-01-31 Esd保護回路および半導体集積回路装置 Pending JP2002231886A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001023443A JP2002231886A (ja) 2001-01-31 2001-01-31 Esd保護回路および半導体集積回路装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001023443A JP2002231886A (ja) 2001-01-31 2001-01-31 Esd保護回路および半導体集積回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002231886A true JP2002231886A (ja) 2002-08-16

Family

ID=18888729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001023443A Pending JP2002231886A (ja) 2001-01-31 2001-01-31 Esd保護回路および半導体集積回路装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002231886A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006128696A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Agere Systems Inc 半導体装置の静電気放電保護
JP2008192687A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置
US8283725B2 (en) 2007-08-22 2012-10-09 Seiko Instruments, Inc. Semiconductor device
US8907443B2 (en) 2007-08-22 2014-12-09 Seiko Instruments Inc. Semiconductor device
CN114421444A (zh) * 2022-01-04 2022-04-29 格兰菲智能科技有限公司 静电放电保护电路

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006128696A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Agere Systems Inc 半導体装置の静電気放電保護
JP2008192687A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置
US8283725B2 (en) 2007-08-22 2012-10-09 Seiko Instruments, Inc. Semiconductor device
US8907443B2 (en) 2007-08-22 2014-12-09 Seiko Instruments Inc. Semiconductor device
CN114421444A (zh) * 2022-01-04 2022-04-29 格兰菲智能科技有限公司 静电放电保护电路

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3258866B2 (ja) 集積回路
KR960003374B1 (ko) 반도체 집적 회로 장치
US7423472B2 (en) Power switching circuit
US7420789B2 (en) ESD protection system for multi-power domain circuitry
US7643258B2 (en) Methods and apparatus for electrostatic discharge protection in a semiconductor circuit
US6040729A (en) Digital output buffer for multiple voltage system
US7173472B2 (en) Input buffer structure with single gate oxide
US6741098B2 (en) High speed semiconductor circuit having low power consumption
KR20080076411A (ko) 정전기 보호 회로
US7417837B2 (en) ESD protection system for multi-power domain circuitry
US5705941A (en) Output driver for use in semiconductor integrated circuit
JP3526853B2 (ja) 半導体装置の静電気破壊防止回路
JP2002231886A (ja) Esd保護回路および半導体集積回路装置
US7965482B2 (en) ESD protection circuit and semiconductor device
US6236235B1 (en) Output circuit
JPH1154711A (ja) 半導体装置の静電保護回路
JP2565076B2 (ja) 半導体装置
JPH1168038A (ja) 半導体集積回路装置における静電破壊保護回路
JP2002270766A (ja) Esd保護回路
JP5166148B2 (ja) Esd保護回路および半導体装置
JP2786152B2 (ja) 半導体集積回路装置
KR20040001270A (ko) 누설전류를 감소시킬 수 있는 데이터 전송회로 및 방법
EP1550217B1 (en) Method and apparatus to actively sink current in an integrated circuit with a floating i/o supply voltage
JPH05327456A (ja) 半導体集積回路装置
JPH098638A (ja) Cmos入出力バッファ回路