JP2002229029A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置およびその製造方法

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幸治 谷口
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 視角依存性の問題、および表示部において基
板間距離が不均一になることを防止して、表示状態が良
好でより広視野角の液晶表示装置を得る。 【解決手段】 少なくとも２方向以上の傾斜面を有する
所定の凸部を設けた第１絶縁膜３を形成し、その上にそ
の形状を維持するように画素電極４を形成して、基板表
面付近の電気力線に２方向以上の傾きを持たせる。負の
誘電率異方性を有する液晶１０中の液晶分子がほぼ水平
となる所定電圧よりも低い電圧を印加した場合に、液晶
分子の配向方向が２方向以上に規制される。また、画素
電極４上に形成した第２絶縁膜５によって、基板表面が
平坦化される。この第２絶縁膜は垂直配向膜９と兼用し
てもよい。さらに、画素電極４の凸部の頂点を第２絶縁
膜５から露出させることにより、液晶分子の配向の境界
がより明確に規制される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、垂直配向モードに
おいて配向分割を利用して視野角を拡大することができ
る液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピューター等のＯ
Ａ（Ｏｆｆｉｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器のボー
タブル化が進み、表示装置の低コスト化が重要な課題と
なってきている。この表示装置は、電気光学特性を有す
る表示媒体を挟んで各々電極が形成された一対の基板が
設けられ、その電極間に電圧を印加することによって表
示を行う構成を有している。このような表示媒体として
は、液晶、エレクトロルミネッセンス、プラズマ、エレ
クトロクロミック等が使用されている。特に、液晶を用
いた液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄ
ｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）は、低消費電力で表示が可能で
あるために、最も実用化が進んでいる。
【０００３】この液晶表示装置の表示モードおよび駆動
方法について考えると、超捩れネマティック（Ｓｕｐｅ
ｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ：ＳＴＮ）を初め
とする単純マトリクス方式は、最も低コスト化を実現で
きる部類に属する。しかし、今後、情報のマルチメディ
ア化が進むにつれて、ディスプレイの高解像度化、高コ
ントラスト化、多階調（マルチカラー、フルカラー）化
および広視野角化が要求されるようになるので、単純マ
トリクス方式では対応が困難であると考えられる。
【０００４】そこで、個々の画素にスイッチング素子
（アクティブ素子）を設けて駆動可能な走査電極の本数
を増加させるアクティブマトリクス方式が提案され、こ
の技術によりディスプレイの高解像度化、高コントラス
ト化、多階調化および広視野角化が達成されつつある。
このアクティブマトリクス方式の液晶表示装置において
は、マトリクス状に設けられた画素電極と、その近傍を
通る走査線がアクティブ素子を介して電気的に接続され
た構成となっている。このアクティブ素子としては、２
端子の非線形素子または３端子の非線形素子があり、現
在採用されているアクティブ素子の代表格としては、３
端子非線形素子である薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆ
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）が挙げられ
る。
【０００５】以下に、従来の液晶表示装置の構成につい
て説明する。ここでは、液晶として負の誘電率異方性を
有するネマチック液晶を用い、配向膜として垂直配向膜
を用いた電圧制御複屈折方式の液晶表示装置（以下、垂
直配向方式の液晶表示装置と称する）について説明す
る。この方式は、液晶分子長軸と短軸との屈折率差（複
屈折）を利用して透過率を制御する方式の１つである。
【０００６】この垂直配向方式の液晶表示装置におい
て、液晶層を挟んで設けられた電極間に電圧を印加して
いないときには、垂直配向膜によって、液晶分子の長軸
方向が基板表面に対して垂直配向になるように液晶分子
が配列する。このため、直交配置された偏光板の一方を
等価した入射偏光光は、複屈折により楕円偏光に変換さ
れることなくそのまま液晶層を通り過ぎ、他方の偏光板
から出射されない。この場合には、液晶表示装置の表示
は黒表示となる。また、液晶層を挟んで設けられた電極
間に電圧を印加したときには、電圧に応じて、液晶分子
の長軸方向が基板表面に対して傾く。このため、直交配
置された偏光板の一方を透過した入射直線偏光は、液晶
層において複屈折により楕円偏光とされ、液晶層の電界
強度に従って液晶の常光成分と異常光成分の位相速度差
（リターデーション量）を制御することにより、他方の
偏光板から所望の透過率で出射させることができる。こ
の場合、電圧無印加状態から印加電圧を上昇させること
により、表示が黒から白へと変化していく。
【０００７】図１３は、従来の液晶表示装置の概略構成
を示す断面図である。この液晶表示装置において、３端
子非線形素子側基板５４は、ガラス基板４１の上にＴＦ
Ｔ等の３端子非線形素子４２が形成され、そのドレイン
電極と接続されてＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘ
ｉｄｅ）等からなる画素電極４４が形成されている。対
向基板５３は、ガラス基板４６上にカラーフィルタ４７
およびＩＴＯ等からなる対向電極４８が形成されてい
る。両基板５３、５４は、内側表面に液晶を配向させる
ための垂直配向膜４９が形成されて貼り合わせられ、そ
の間隙に負の誘電率異方性を有する液晶層５０が挟持さ
れている。また、各基板の外側には偏光板５１、５２が
配置されている。
【０００８】この液晶表示装置において、電圧無印加時
には、図１４（ａ）に示すように液晶分子５５の配向が
基板に対してほぼ垂直になる。また、図示していない
が、所定の電圧を印加したときには液晶分子５５の配向
が基板に対してほぼ水平になる。さらに、所定の電圧よ
りも低い電圧を印加したときには、図１４（ｂ）に示す
ように液晶分子５５の配向が基板に対して斜めになる。
このように、所望の電圧を印加することにより、液晶層
中での光の旋回または複屈折を制御することにより、目
的とする透過率を得ることができ、表示画像を作成する
ことができる。すなわち、液晶の配向を変化させてリタ
ーデーション量を制御することにより、透過光強度を調
整することができる。この場合、表面に垂直配向処理を
施した基板５３、５４間には、図１４（ｃ）に示すよう
に、基板面に対して垂直な電気力線５６が生じているこ
とになる。
【０００９】この方式の液晶表示装置においては、従
来、素子側基板や対向基板に凸形状を形成して液晶の配
向方向を規制するドメイン規制手段を設ける方法がいく
つか提案されている。
【００１０】例えば特開平２−１９１９１４号公報に
は、図１５〜図１７に示すような液晶電気光学素子が開
示されている。図１５および図１７は電圧印加時の液晶
分子の配向を説明するための図であり、図１６は一般的
な液晶表示装置における素子側基板の構成を示す平面図
である。この液晶電気光学素子は、図１５（ａ）に示す
ように、素子側基板１１４を構成するガラス基板１０１
上に同一方向（図中、右側）に傾いた傾斜パターン１０
３を形成し、その上に画素電極１０４を形成して同じ方
向（図中、右側）の傾きを持たせることにより、図１５
（ｃ）に示すように、素子側基板１１４表面付近の全て
の電気力線１１６に同じ方向の傾きを持たせている。こ
れにより、図１５（ｂ）に示すように、画素電極１０４
と対向基板１１３に設けた電極（図示せず）との間に、
液晶分子１１５が基板に対してほぼ水平となる所定の電
圧よりも低い電圧を印加したときに、液晶層１１０中の
液晶分子１１５に同じ方向の傾きを持たせることができ
る。また、画素電極１０４上に設けたオーバーコート層
１０５によって表面を平坦化することができる。しか
し、この場合には、液晶分子が全て同じ方向に傾くこと
により、観察者が画面を見る角度によっては視角に依存
して相対的にリターデーション量が変化する。このた
め、視角が変化することにより透過光強度または色相が
変化してしまうと言う、いわゆる視角依存性の問題が残
る。
【００１１】さらに、この液晶電気光学素子において
は、図１６に示すように、画素電極１０４の近傍にはソ
ース配線１１７やゲート配線１１８等のバスライン（電
極配線）が形成されている。このため、それらのバスラ
イン１１７、１１８と画素電極１０４間の電界の影響が
生じ、図１６のＧ−Ｇ’部分の断面図である図１７
（ａ）に示すように、電気力線１１６が所定の一方向に
傾かない。その結果、図１７（ｂ）に示すように、画素
電極１０４表面の液晶分子１１５の配向が所定の方向に
均一に並ばず、特に、画素電極１０４の端部において配
向の乱れが生じてしまうことが容易に推測される。
【００１２】また、図１８（ａ）に示すように、素子側
基板６４上に凸部６７を形成して、その上に垂直配向膜
を塗布し、素子側基板６４の凸部６７表面の液晶分子６
５を凸部６７の傾斜面を利用して所定の方向に傾けるこ
とにより、液晶層６０中の液晶分子６５の配向方向を規
制する方法も提案されている。しかし、この場合には、
表示部において電極間に液晶層６０が挟持される部分
（画素）において素子側基板６４と対向基板６３の基板
間距離が不均一になるという問題がある。
【００１３】また、特開平１１−２４２２２５号公報や
特開平７−１９９１９３号公報には、図１８（ｂ）に示
すように、素子側基板７４および対向基板７３の上に凸
部７７、７８を互い違いに形成し、素子側基板７４の凸
部７７表面の液晶分子７５および対向基板７３の凸部７
８表面の液晶分子７５を凸部７７および凸部７８の傾斜
面を利用して所定の方向に傾けることにより、液晶層７
０中の液晶分子７５の配向方向を強く規制する方法が提
案されている。しかし、この場合には、対向基板７３と
素子側基板７４の貼り合わせの際に凸部７７、７８が等
間隔で互い違いに配置されるように貼り合わせるため
に、高い貼り合わせ精度が要求されるという問題があ
る。
【００１４】さらに、特開平６−１９４６５６号公報に
は、図１８（ｃ）に示すように、素子側基板９４および
対向基板９３の上に形成される画素電極８４と対向電極
８８に溝８９、９０を互い違いに形成し、素子側基板９
４および対向基板９３の表面の溝８９、９０付近の電気
力線８６を所定の方向に曲げることにより、液晶層８０
中の液晶分子８５の配向方向を規制する方法が提案され
ている。しかし、この場合にも、表示部の液晶挟持部に
おいて基板間距離が不均一になるという問題や、貼り合
わせの際に高い貼り合わせ精度が要求されるという問題
が生じる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、液晶
表示装置においては電極が形成された一対の基板間に挟
持された液晶に所望の電圧を印加して、液晶層中での光
の旋回または複屈折を制御することにより、目的の透過
率を得て表示画像を作成する。すなわち、液晶の配向を
変化させてリターデーション量を制御することにより、
透過光強度を調整することができる。
【００１６】このリターデーション量は液晶分子の長軸
と電界方向とのなす角度に依存している。よって、特開
平２−１９１９１４号公報に開示されているように、電
界強度を調整することで電界と液晶分子の長軸とのなす
角度を１次元的に制御しても、観察者が画面を見る角度
（視角）に依存して相対的にリターデーション量が変化
し、視角が変化すると透過光強度または色相も変化して
しまい、いわゆる視角依存性の問題が生じる。また、こ
の場合、画素電極表面の液晶分子の配向が所定の方向に
均一に並ばず、特に、画素電極の端部において配向の乱
れが生じてしまうという問題もある。
【００１７】上記図１８（ａ）〜図１８（ｃ）に示した
方法によれば、このような視角依存性の問題を解決する
ことはできるが、この場合には、表示部の液晶挟持部
（画素）において基板間距離が不均一になるという問題
や、貼り合わせの際に高い貼り合わせ精度が要求される
という問題が生じる。
【００１８】さらに、上記図１８（ａ）および図１８
（ｂ）に示した方法によれば、液晶層と基板との界面
（電極上の配向膜表面）が凹凸形状を有している。この
ため、垂直配向方式の液晶表示装置において、電圧無印
加時には、基板との界面近傍に存在する液晶分子が凹凸
形状の配向膜に対して垂直に配向する。その結果、基板
正面（基板面に対して垂直方向）に対して、液晶分子が
凹凸形状の有する傾斜角度と同じだけ傾斜することにな
り、基板正面に対して良好な黒表示が得られず、表示画
像におけるコントラストが著しく低下してしまう。
【００１９】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、視角依存性が生じず、画
素電極の端部における配向乱れを防ぐことができ、表示
部の液晶挟持部において基板間距離が不均一になった
り、貼り合わせの際に高い貼り合わせ精度が要求される
という問題を防ぐことができ、さらに、基板正面に対し
ても良好な黒表示が得られる液晶表示装置およびその製
造方法を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、表面に垂直配向処理を施した一対の基板の間隙に負
の誘電率異方性を有する液晶が挟持され、液晶層を挟ん
で各基板に設けられた電極の対向部分に画素が構成され
ており、各基板に設けられた電極間に電圧を印加してい
ないときには液晶分子が基板面に対してほぼ垂直に配向
し、所定の電圧を印加したときには液晶分子が基板面に
対してほぼ水平に配向し、該所定の電圧よりも低い電圧
を印加したときには液晶分子が基板面に対して斜めに配
向する液晶表示装置であって、該一対の基板の少なくと
も一方の基板に設けられた電極は、該液晶層側の表面
に、基板面に対してそれぞれ異なる方向に傾斜すると共
に、互いに隣接する第１傾斜面および第２傾斜面を少な
くとも有し、該電極の液晶層側に、該電極の傾斜面を覆
って基板面に対して表面を平坦化させるように、絶縁膜
が設けられており、そのことにより上記目的が達成され
る。
【００２１】前記電極の基板側に、前記液晶層側の表面
に少なくとも第１傾斜面および第２傾斜面を有する所定
の凸部、凹部または凹凸パターンを設けた他の絶縁膜が
設けられ、該他の絶縁膜の液晶層側に、該他の絶縁膜の
傾斜面を維持するように、該電極が設けられていてもよ
い。
【００２２】各画素内に前記電極の第１傾斜面および第
２傾斜面を有し、１つの画素内の液晶分子は、電圧印加
時に、該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部を境とし
て、基板面に対して互いに異なる方向に傾斜していても
よい。
【００２３】前記電極の第１傾斜面と第２傾斜面とが境
界部において液晶層側に凸となるように隣接すると共
に、該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部が、前記絶
縁膜から液晶層側に露出していてもよい。
【００２４】前記絶縁膜は、基板表面に垂直配向処理を
施すための配向膜としても機能するものであってもよ
い。
【００２５】前記電極は、さらに、該液晶層側の表面
に、基板面に対してそれぞれ前記第１傾斜面および前記
第２傾斜面とは異なる方向に傾斜すると共に、互いに隣
接する第３傾斜面および第４傾斜面を少なくとも有し、
該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部と、該第３傾斜
面と該第４傾斜面との境界部とが、基板面に平行な面内
でそれぞれ異なる方向に設けられていてもよい。
【００２６】本発明の液晶表示装置の製造方法は、表面
に垂直配向処理を施した一対の基板の間隙に負の誘電率
異方性を有する液晶が挟持され、液晶層を挟んで各基板
に設けられた電極の対向部分に画素が構成されており、
各基板に設けられた電極間に電圧を印加していないとき
には液晶分子が基板面に対してほぼ垂直に配向し、所定
の電圧を印加したときには液晶分子が基板面に対してほ
ぼ水平に配向し、該所定の電圧よりも低い電圧を印加し
たときには液晶分子が基板面に対して斜めに配向する液
晶表示装置であって、該一対の基板のうちの一方の基板
であるアクティブマトリクス基板の製造において、複数
のアクティブ素子と複数の電極配線とを形成した基板上
に、導電性膜を成膜し、該導電性膜をパターニングし
て、該液晶層側の表面に、基板面に対してそれぞれ異な
る方向に傾斜すると共に、互いに隣接する第１傾斜面お
よび第２傾斜面を少なくとも有し、該アクティブ素子の
電極と接続されるように、画素電極を形成する工程と、
該画素電極上に、該画素電極の傾斜面を覆って基板面に
対して表面を平坦化させるように、絶縁膜を形成する工
程とを含み、そのことにより上記目的が達成される。
【００２７】本発明の液晶表示装置の製造方法は、表面
に垂直配向処理を施した一対の基板の間隙に負の誘電率
異方性を有する液晶が挟持され、液晶層を挟んで各基板
に設けられた電極の対向部分に画素が構成されており、
各基板に設けられた電極間に電圧を印加していないとき
には液晶分子が基板面に対してほぼ垂直に配向し、所定
の電圧を印加したときには液晶分子が基板面に対してほ
ぼ水平に配向し、該所定の電圧よりも低い電圧を印加し
たときには液晶分子が基板面に対して斜めに配向する液
晶表示装置であって、該一対の基板のうちの一方の基板
であるアクティブマトリクス基板の製造において、複数
のアクティブ素子と複数の電極配線とを形成した基板上
に、第１絶縁膜を成膜し、該第１絶縁膜をパターニング
して、該液晶層側の表面に少なくとも第１傾斜面および
第２傾斜面を有する所定の凸部、凹部または凹凸パター
ンを形成すると共に、コンタクトホールを形成する工程
と、該第１絶縁膜上に、該第１絶縁膜に設けた傾斜面を
維持するように導電性膜を形成する工程と、該導電性膜
をパターニングして、該アクティブ素子の電極と接続さ
れるように、画素電極を形成する工程と、該画素電極上
に、該画素電極の傾斜面を覆って基板面に対して表面を
平坦化させるように、第２絶縁膜を形成する工程とを含
み、そのことにより上記目的が達成される。
【００２８】以下に、本発明の作用について説明する。
【００２９】本発明にあっては、液晶分子が基板に対し
て斜めに配向するときの配向方向を規制するドメイン規
制手段として、一対の基板の少なくとも一方の基板に設
けられた電極が、液晶層側の表面に、基板面に対してそ
れぞれ異なる方向に傾斜すると共に、互いに隣接する第
１傾斜面および第２傾斜面を少なくとも有しているの
で、後述する実施形態１〜実施形態５に示すように、電
極間に液晶層と基板との界面付近の電気力線が電極の傾
斜面に対して垂直方向に発現し、画素内の液晶分子が傾
斜面の境界部を境として、基板面に対して互いに異なる
方向に傾斜して配向する。また、液晶層内では、基板間
中央部よりも電極に近い方が電界効果が強く現れるた
め、基板間中央部の液晶分子は、電極の傾斜面に従って
配向規制された液晶分子の傾斜方向に追随して傾斜す
る。この結果、視角が変化することにより透過光強度ま
たは色相が変化するという、所謂、視角依存性の問題を
防ぐことができる。
【００３０】また、傾斜面を有する電極の液晶層側に設
けられた絶縁膜（実施形態では第２絶縁膜と称する）に
よって、液晶層に接する表面を基板面に対して平坦化さ
せることができるので、表示部の液晶挟持部において基
板間距離が不均一になるという問題を防ぐことができる
と共に、電圧無印加時に基板正面（垂直方向）において
良好な黒表示を実現することができる。
【００３１】２つ以上の画素にわたって傾斜面を設ける
と、隣り合う画素で視角依存性が異なることによって良
好な表示が得られにくい。従って、各画素内に２方向以
上の傾斜面を設けるのが好ましい。
【００３２】また、電極に傾斜面を設けるために、例え
ば、後述する実施形態１〜実施形態４に示すように、電
極の基板側に、液晶層側の表面に少なくとも第１傾斜面
および第２傾斜面を有する所定の凸部、凹部または凹凸
パターンを有する絶縁膜（実施形態では第１絶縁膜と称
する）を設けて、その絶縁膜の液晶層側に、その傾斜面
を維持するように電極を設けてもよい。このような傾斜
面を有する所定の凸部、凹部または凹凸パターンは、後
述する実施形態４に示すように対向基板側に設けてもよ
く、両方の基板に設けてもよい。なお、本発明におい
て、両方の基板に傾斜面を設けた場合には、貼り合わせ
精度は問題となるが、この場合でも、基板間距離の不均
一の問題は生じない。
【００３３】この第１絶縁膜は、後述する実施形態２に
示すように、開口面積を広げるために画素電極をアクテ
ィブ素子や電極配線等と重畳させる場合に、絶縁保護膜
と兼用してもよい。さらに、この場合には、バスライン
上に画素電極が重畳することにより、バスラインの液晶
配向への影響は生じず、画素電極の端部で配向の乱れが
生じるという問題を防ぐことができる。
【００３４】または、後述する実施形態５に示すよう
に、電極自体を凸形状として傾斜面を設けることによ
り、後述する実施形態１〜実施形態４のように第１絶縁
膜を形成する必要がなく、液晶表示装置の製造プロセス
を簡略化することができる。
【００３５】電極の隣接する傾斜面が境界部において凸
となるように形成し、その境界部を第２絶縁膜から露出
させることにより、後述する実施形態３に示すように、
電圧印加時の液晶分子の配向規制力を一段と強化して、
配向の境界をより明確に規制することができる。
【００３６】第２絶縁膜は、電極の傾斜面を覆って表面
を基板面に対して平坦化させることが可能であれば、垂
直配向膜と兼用してもよい。これによって、垂直配向膜
を別に形成する必要なくなり、液晶表示装置の製造プロ
セスを簡略化することができる。
【００３７】さらに、液晶層側の表面に、基板面に対し
てそれぞれ第１傾斜面および第２傾斜面とは異なる方向
に傾斜すると共に、互いに隣接する第３傾斜面および第
４傾斜面を、第１傾斜面と第２傾斜面との境界部と、第
３傾斜面と第４傾斜面との境界部とが、基板面に平行な
面内でそれぞれ異なる方向になるように設けてもよい。
これによって、必要とされる方向に液晶の配向方向を規
制するドメイン手段を設けることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、図面を参照しながら説明する。
【００３９】（実施形態１）図１は本実施形態１の液晶
表示装置における素子側基板の構成を説明するための平
面図であり、図２はそのＡ−Ａ’部分の断面図である。
この液晶表示装置において、素子側基板１４は、ガラス
基板１上に２方向の傾斜面を有する凸部を設けた第１絶
縁膜３が形成され、その上に凸部の形状を維持するよう
に画素電極４が形成され、さらにその上に凸部の形状を
平坦化させるための第２絶縁膜５が形成されている。画
素電極４は、素子側基板１４に設けられたＴＦＴ２のド
レイン電極と接続され、その近傍を通るゲート配線とＴ
ＦＴ２を介して接続されている。対向基板１３は、ガラ
ス基板６上にカラーフィルタ７および対向電極８が形成
されている。両基板１３、１４は、内側表面に垂直配向
膜９が形成されて貼り合わせられ、その間隙に負の誘電
率異方性を有する液晶層１０が挟持されている。また、
各基板の外側には偏光板１１、１２が配置されている。
【００４０】なお、傾斜面とは、基板１の広面に平行な
面（以下、基板面と称する）に対して任意の方向に傾斜
した面のことを表す。傾斜面は曲面形状であっても平面
形状であってもよく、幅方向が狭い線形状であってもよ
い。
【００４１】この液晶表示装置は、例えば以下のように
して作製することができる。まず、素子側基板１４は、
ガラス基板１上にＴＦＴ２、ゲート配線およびソース配
線等の電極配線を形成する。その上に、感光性樹脂膜を
塗布し、露光、現像および焼成を行って２方向の傾斜面
を有する凸部を設けた第１絶縁膜３を形成する。例え
ば、少なくとも１つの画素電極に対して２方向の傾斜面
を有する凸部を設けた場合、画素ピッチ（幅）を１００
μｍ、凸部の高さを５μｍとすると、傾斜角度はｔａｎ
-1（５／５０）≒５．７となる。但し、凸部の高さが高
すぎると後工程での平坦化が困難となり、電気力線への
影響も少なくなるので、凸部をあまり高くすることは好
ましくない。プロセス的には５μｍ程度までであるのが
好ましく、最大でも１０μｍ程度までであるのが好まし
いと考えられる。ここで、凸部の高さを１０μｍとする
と、傾斜角度は１１．３゜となる。一方、段差（凸部の
高さ）と凸部のピッチの半分が１：１であれば、傾斜角
度は４５゜となる。傾斜角度は凸部の高さと凸部のピッ
チとによって決定されるので、細かいピッチのパターン
にすることによって、傾斜角度４５°をより実現可能な
パターンに近づけることができる。
【００４２】次に、凸部を覆うように基板全面にＩＴＯ
膜を形成する。その上にスピンコート法によりレジスト
を塗布してレジスト膜を形成し、リソグラフィ技術にお
けるレジストプロセスを用いてレジスト膜の露光および
現像を行って画素電極４のパターンを形成する。そし
て、パターニングされたレジスト膜をマスクとしてＩＴ
Ｏ膜のエッチングを行って画素電極４を形成する。この
とき、ＴＦＴ２のドレイン電極と画素電極４とが接続さ
れ、凸部の形状を維持するように画素電極４が形成され
る。ＩＴＯ膜からなる画素電極４は、透過率の観点から
通常１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲で用いられており、
その範囲であれば凸部の形状を充分維持したまま成膜可
能である。
【００４３】次に、凸部の形状を平坦化させるために、
ＳｉＮx、ＳｉＯ2、ＰＩやアクリル系樹脂等からなる第
２絶縁膜５を形成する。第２絶縁膜５の厚みは、上記凸
部の平坦化が可能な膜厚として、段差と同等の膜厚であ
ればよく、最大１０μｍ程度であればよい。
【００４４】この素子側基板１４、およびガラス基板６
上にカラーフィルタ７および対向電極８を形成した対向
基板１３の内側表面に垂直配向膜９を塗布した後、両基
板を貼り合わせ、その間隙に液晶層１０を挟持させる。
その後、基板の外側に偏光板１１、１２を貼り付けて本
実施形態の液晶表示装置が完成する。
【００４５】このようにして得られる本実施形態の液晶
表示装置においては、電圧印加時に液晶分子が斜めにな
る配向方向を規制するドメイン規制が行われる。このこ
とについて、図３を用いて説明する。
【００４６】この液晶表示装置において、液晶層１０は
負の誘電率異方性を有するので、電圧無印加時には、図
３（ａ）に示すように液晶分子１５の配向が基板に対し
て一様に、ほぼ垂直に並ぶ。しかし、図３（ｃ）に示す
ように、素子側基板１４に２方向の傾斜面を有する凸部
を設けた第１絶縁膜３が形成され、その上にその凸部の
形状を維持して画素電極４が形成され、その上に平坦化
のための第２絶縁膜５が形成されているので、素子側基
板１４表面では電気力線１６が所定の方向に傾く。この
状態で液晶分子がほぼ水平となる所定の電圧（よりも低
い電圧を印加したときには、図３（ｂ）に示すように、
液晶分子１５の斜め配向が、第１絶縁膜３の２方向の傾
斜面を有する凸部によって、所定の２方向に規則正しく
規制されることになる。ここで、所定の方向とは、視角
特性を良好にしたい方向のことを示す。例えば、図３
（ｃ）のように２方向の傾斜面を設けた場合、第１傾斜
面と第２傾斜面との境界部の線に対してほぼ垂直方向の
ことを示す。凸形状が渦巻き状の場合は、基板に垂直な
軸に対してあらゆる方向（３６０°方向）に規制され
る。
【００４７】このように液晶分子の配向が規則正しく規
制される理由は、電圧印加時に発生する電気力線が、液
晶層と基板との界面付近において、画素電極の傾斜面に
対して垂直方向に発生するためである。本実施形態の液
晶表示装置では、画素電極が基板面に対して互いに異な
る２方向以上の傾斜面を液晶層側に有しているため、電
圧印加時にはそれぞれの傾斜面に面している液晶分子が
各傾斜面の境界を境としてそれぞれ異なる方向に傾斜し
て配向する。このとき、液晶層内では、基板間中央部よ
りも画素電極に近い方が電界効果が強く現れるため、基
板間中央部の液晶分子は、画素電極の傾斜面に従って配
向規制された液晶分子の傾斜方向に追随して傾斜する。
【００４８】その結果、液晶分子を全て同じ方向に傾け
た従来の液晶表示装置において生じていたような、視角
が変化することにより透過光強度または色相が変化して
しまうと言う、いわゆる視角依存性の問題を防ぐことが
できる。また、画素電極４上に設けた第２絶縁膜５によ
って素子側基板表面を平坦化することができるので、従
来の液晶表示装置において生じていたような、表示部の
液晶層６０挟持部において素子側基板６４と対向基板６
３の基板間距離が不均一になるという問題も防ぐことが
できる。さらに、図１８（ａ）および図１８（ｂ）に示
す従来の液晶表示装置において生じていたような、液晶
層と基板との界面に凹凸面が形成されることによって、
液晶分子が凹凸面と同じ傾斜角度で傾いて、電圧無印加
時にコントラストが低下するという問題も防ぐことがで
きる。
【００４９】（実施形態２）図４は本実施形態２の液晶
表示装置の構成を説明するための断面図である。この液
晶表示装置において、素子側基板３４は、ガラス基板２
１上に２方向の傾斜面を有する凸部を設けた第１絶縁膜
２３が形成され、その上に凸部の形状を維持するように
画素電極２４が形成され、さらにその上に凸部の形状を
平坦化させるための第２絶縁膜２５が形成されている。
第１絶縁膜２３は、コンタクトホールを開けてＴＦＴ２
２を覆うように設けられている。画素電極２４は、コン
タクトホールにおいてＴＦＴ２２のドレイン電極と接続
され、その近傍を通るゲート配線とＴＦＴ２２を介して
接続されている。対向基板３３は、ガラス基板２６上に
カラーフィルタ２７および対向電極２８が形成されてい
る。両基板３３、３４は、内側表面に垂直配向膜２９が
形成されて貼り合わせられ、その間隙に負の誘電率異方
性を有する液晶層３０が挟持されている。また、各基板
の外側には偏光板３１、３２が配置されている。
【００５０】この液晶表示装置は、例えば以下のように
して作製することができる。まず、素子側基板３４は、
ガラス基板２１上にＴＦＴ２２、ゲート配線およびソー
ス配線等の電極配線を形成する。その上に、感光性樹脂
膜を塗布し、露光、現像および焼成を行って２方向の傾
斜面を有する凸部およびコンタクトホールを設けた第１
絶縁膜２３を形成する。この第１絶縁膜２３は、２方向
の傾斜面を有する凸部によってドメイン規制手段として
機能すると共に、開口面積を広げるためにその上に形成
される画素電極とＴＦＴ２２や電極配線等を重畳させる
場合に、両者を電気的に絶縁させるための絶縁保護膜と
しても機能する。この凸部の高さは、上記と同様に、１
０μｍ程度までであればよい。
【００５１】次に、凸部を覆うように基板全面にＩＴＯ
膜を形成する。その上にスピンコート法によりレジスト
を塗布してレジスト膜を形成し、リソグラフィ技術にお
けるレジストプロセスを用いてレジスト膜の露光および
現像を行って画素電極２４のパターンを形成する。そし
て、パターニングされたレジスト膜をマスクとしてＩＴ
Ｏ膜のエッチングを行って画素電極２４を形成する。こ
のとき、ＴＦＴ２２のドレイン電極と画素電極２４とが
コンタクトホールを介して接続され、凸部の形状を維持
するように画素電極２４が形成される。画素電極２４の
厚みは、上記と同様に、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度の
範囲であるのが好ましい。
【００５２】次に、凸部の形状を平坦化させるために、
ＳｉＮx、ＳｉＯ2、ＰＩやアクリル系樹脂等からなる第
２絶縁膜２５を形成する。なお、第２絶縁膜２５の厚み
は、上記と同様に、最大１０μｍ程度であればよい。
【００５３】この素子側基板３４、およびガラス基板２
６上にカラーフィルタ２７および対向電極２８を形成し
た対向基板３３の内側表面に垂直配向膜２９を塗布した
後、両基板を貼り合わせ、その間隙に液晶層３０を挟持
させる。その後、基板の外側に偏光板３１、３２を貼り
付けて本実施形態の液晶表示装置が完成する。
【００５４】このようにして得られる本実施形態の液晶
表示装置においても、実施形態１と同様に、電圧印加時
に液晶分子が斜めになる配向方向を規制するドメイン規
制が行われる。また、本実施形態によれば、画素電極と
ＴＦＴ２２や電極配線を重畳させて、開口面積を広げる
ことができる。さらに、電極配線の端部上に画素電極の
端部が重畳しているので、従来の液晶表示装置のよう
に、電極配線が液晶配向に影響を及ぼして画素電極の端
部で液晶配向乱れが生じるという問題も防ぐことができ
る。
【００５５】（実施形態３）図５は、本実施形態の液晶
表示装置において、電圧印加時に液晶分子が斜めになる
配向方向を規制するドメイン規制が行われることについ
て説明するための図である。
【００５６】この液晶表示装置は、素子側基板１９に設
けた画素電極４の凸部の頂点１７が第２絶縁膜１８から
露出している。それ以外は、実施形態１と同様の構造で
ある。または、実施形態２のように画素電極とＴＦＴや
電極配線を重畳させる構造としてもよい。
【００５７】この液晶表示装置は、例えば以下のように
して作製することができる。まず、素子側基板１９は、
ガラス基板１上にＴＦＴ２、ゲート配線およびソース配
線等の電極配線を形成する。その上に、感光性樹脂膜を
塗布し、露光、現像および焼成を行って２方向の傾斜面
を有する凸部を設けた第１絶縁膜３を形成する。この凸
部の高さについては、上記と同様に、１０μｍ程度まで
であればよい。
【００５８】次に、凸部を覆うように基板全面にＩＴＯ
膜を形成する。その上にスピンコート法によりレジスト
を塗布してレジスト膜を形成し、リソグラフィ技術にお
けるレジストプロセスを用いてレジスト膜の露光および
現像を行って画素電極４のパターンを形成する。そし
て、パターニングされたレジスト膜をマスクとしてＩＴ
Ｏ膜のエッチングを行って画素電極４を形成する。この
とき、ＴＦＴ２のドレイン電極と画素電極４とが接続さ
れ、凸部の形状を維持するように画素電極４が形成され
る。画素電極４の厚みは上記と同様に、１０ｎｍ〜１０
００ｎｍ程度であるのが好ましい。
【００５９】次に、凸部の形状を平坦化させるために、
ＳｉＮx、ＳｉＯ2、ＰＩやアクリル系樹脂等からなる第
２絶縁膜１８を形成する。このときには、画素電極４の
凸部の頂点１７部分のみを露出させるようにする。また
は、充分に平坦化させた後、エッチング工程（アクリル
樹脂やＰＩの場合にはＯ2プラズマアッシング、ＳｉＮx
やＳｉＯ2の場合にはフッ酸エッチャント等を用いたウ
ェットエッチング）を行うことにより、電極の頂点を露
出させることも可能である。なお、第２絶縁膜５の厚み
は、上記と同様に、最大１０μｍ程度であればよい。
【００６０】この素子側基板１９、およびガラス基板６
上にカラーフィルタ７および対向電極８を形成した対向
基板１３の内側表面に垂直配向膜９を塗布した後、両基
板を貼り合わせ、その間隙に液晶層１０を挟持させる。
その後、基板の外側に偏光板１１、１２を貼り付けて本
実施形態の液晶表示装置が完成する。
【００６１】このようにして得られた液晶表示装置にお
いて、液晶１０は負の誘電率異方性を有するので、電圧
無印加時には、図５（ａ）に示すように液晶分子１５の
配向が基板に対してほぼ垂直に並ぶ。しかし、図５
（ｃ）に示すように、素子側基板１９に２方向の傾斜面
を有する凸部を設けた第１絶縁膜３が形成され、その上
にその凸部の形状を維持して画素電極４が形成され、そ
の上に平坦化のための第２絶縁膜５が形成されているの
で、画素電極４の凸部の頂点１７以外の部分では、素子
側基板１９表面で電気力線１６が所定の方向に傾く。こ
の状態で液晶分子がほぼ水平となる所定の電圧よりも低
い電圧を印加したときには、図５（ｂ）に示すように、
液晶分子１５の斜め配向が、第１絶縁膜３の２方向の傾
斜面を有する凸部によって、所定の２方向に規則正しく
規制されることになる。さらに、画素電極の凸部の頂点
１７を第２絶縁膜１８から露出させているので、実施形
態１および実施形態２に比べて、その液晶分子１５の配
向方向の境界２０をより明確に規制することができる。
【００６２】なお、露出している頂点１７部分が、その
周囲の部分（第２絶縁膜）とは異なる表面張力を有して
いれば、液晶層の配向状態を局所的に変化させて、境界
領域の固定をより確実に行うことができる。
【００６３】なお、上記実施形態１〜実施形態３におい
ては凸部を用いて２方向の傾斜面を形成しているが、凹
部によって２方向の傾斜面を形成しても良く、さらに、
凸部または凹部によって２方向以上の傾斜面を形成して
もよい。また、凸部を連続させた凹凸パターンを形成し
てもよく、例えば実施形態１では図６（ａ）のような凹
凸パターンになり、実施形態２では図６（ｂ）のような
凹凸パターンになる。
【００６４】第１絶縁膜３において、図７（ａ）および
そのＢ−Ｂ’部分の断面図である図７（ｂ）に示すよう
な凸部を連続させた凹凸パターンを設けた場合には、図
の左右方向に液晶の配向方向を規制するドメイン規制手
段が形成される。また、図８（ａ）およびそのＣ−Ｃ’
部分の断面図である図８（ｂ）に示すような凹凸パター
ンを設けた場合には、図の左右方向に液晶の配向方向を
規制するドメイン規制手段に加えて、図の上下方向に液
晶の配向方向を規制するドメイン規制手段が形成され
る。さらに、図８（ｃ）およびそのＤ−Ｄ’部分の断面
図である図８（ｄ）に示すような凹凸パターンを設けた
場合には、図の斜め方向に液晶の配向方向を規制するド
メイン規制手段を形成することができる。このように、
凹凸パターンを変化させることにより、必要とされる方
向に液晶の配向方向を規制するドメイン規制手段を設け
ることが可能となる。
【００６５】さらに、図９（ａ）およびそのＥ−Ｅ’部
分の断面図である図９（ｂ）に示すような凹凸パターン
を設けた場合には、４方向のみにとどまらず、３６０゜
のいかなる方向に対しても視角依存性に問題の無い表示
を得ることも可能となる。この場合、図９（ａ）および
図９（ｂ）に示すように渦巻状に複数の凸部を設けても
よく、図９（ｃ）およびそのＦ−Ｆ’部分の断面図であ
る図９（ｄ）に示すように円錐状の１つの凸部を設けて
もよい。
【００６６】さらに、２方向以上の傾斜面は、同一方向
に電気力線を曲げて配向方向を規制することが可能であ
れば、平面であっても曲面であってもよい。
【００６７】上記実施形態１〜実施形態３では、少なく
とも２方向以上の傾斜面を、表示部にマトリクス状に形
成した画素の一画素単位で形成している。２つ以上の画
素にわたって２方向以上の傾斜面を設けると、隣り合わ
せた画素で視角依存性が異なったり、またはカラー表示
の場合には隣り合った異なる色の画素で視角依存性が生
じて、良好な表示が得られにくい。従って、１画素また
は１画素単位以下の単位で形成するのが好ましく、これ
により本発明の本来の効果を得ることができる。
【００６８】上記実施形態１〜実施形態３では、第２絶
縁膜の上に垂直配向膜を形成しているが、垂直配向膜を
画素電極の上に形成した場合にその凹凸形状を平坦化す
ることが可能であれば、垂直配向膜を第２絶縁膜として
兼用してもよい。なお、本発明はアクティブマトリクス
方式に限られず、単純マトリクス方式にも適用可能であ
るが、アクティブマトリクス方式において特に大きな効
果が得られる。
【００６９】さらに、上記実施形態１〜実施形態３で
は、凸部または凹部によって少なくとも２方向の傾斜面
を構成したドメイン規制手段を素子側基板に形成した
が、以下の実施形態に示すように、対向側基板の内側表
面に形成しても、何ら問題はなく、素子側基板に形成し
た場合と同等の効果を得ることが可能である。
【００７０】（実施形態４）図１０は本実施形態の液晶
表示装置の構成を示す断面図である。この液晶表示装置
において、対向側基板１３３は、ガラス基板１２６上に
カラーフィルタ１２７が形成され、２方向の傾斜面を有
する凸部を設けた第１絶縁膜１３５が形成されている。
その上に凸部の形状を維持するように対向電極１２８が
形成され、さらにその上に凸部の形状を平坦化させるた
めの第２絶縁膜１２５が形成されている。素子側基板１
３４は、ガラス基板１２１上にＴＦＴ１２２、絶縁膜１
２３および画素電極１２４が設けられている。画素電極
１２４は、素子側基板１３４に設けられたＴＦＴ１２２
のドレイン電極と接続され、その近傍を通るゲート配線
とＴＦＴ１２２を介して接続されている。両基板１２
３、１２４は、内側表面に垂直配向膜１２９が形成され
て貼り合わせられ、その間隙に負の誘電率異方性を有す
る液晶層１２０が挟持されている。また、各基板の外側
には偏光板１３１、１３２が配置されている。
【００７１】この液晶表示装置において、液晶層１２０
は負の誘電率異方性を有するので、電圧無印加時には、
液晶分子の配向が基板に対してほぼ垂直に並ぶ。しか
し、図１０（ｂ）に示すように、対向側基板に２方向の
傾斜面を有する凸部を設けた第１絶縁膜１３５が形成さ
れ、その上にその凸部の形状を維持して対向電極１２８
が形成され、その上に平坦化のための第２絶縁膜１２５
が形成されているので、対向側基板表面では電気力線１
３６が所定の方向に傾く。この状態で液晶分子１３７が
ほぼ水平となる所定の電圧よりも低い電圧を印加したと
きには、液晶分子１３７の斜め配向が、第１絶縁膜１３
５の２方向の傾斜面を有する凸部によって、所定の２方
向に規則正しく規制されることになる。
【００７２】従って、液晶分子を全て同じ方向に傾けた
従来の液晶表示装置において生じていたような、視角が
変化することにより透過光強度または色相が変化してし
まうと言う、いわゆる視角依存性の問題を防ぐことがで
きる。また、対向電極１２８上に設けた第２絶縁膜１２
５によって対向側基板表面を平坦化することができるの
で、従来の液晶表示装置において生じていたような、表
示部の液晶層６０挟持部において素子側基板６４と対向
基板６３の基板間距離が不均一になるという問題も防ぐ
ことができる。
【００７３】以上のように、本実施形態４では対向基板
側に配向規制手段を設ける構成について説明したが、こ
の場合にも、基本的には、上記実施形態１〜実施形態３
で説明したような製造方法によって凸部、凹部、凹凸パ
ターン等を設けることができる。
【００７４】さらに、図１１に示すように、素子側基板
と対向側基板の両方に、配向規制手段を設けてもよい。
図１１中、点線は電圧印加時の電気力線の方向を示す。
この場合には、画素電極および対向電極の傾斜面は、凹
部の谷部と凸部の頂点部とが互いに対向するように設計
されているのが好ましい。なお、画素電極と対向電極の
凸部（または凹部）のサイズは互いに異なっていてもよ
い。
【００７５】なお、上記実施形態１〜実施形態４におい
て、第１絶縁膜に少なくとも２方向以上の傾斜面を有す
る凸部、凹部または凹凸パターンを形成するために、基
板上にアクリル樹脂等の絶縁膜材料を塗布し、凹凸パタ
ーン等を反転させた形状とした金型を押し付けて、その
ままの状態で樹脂を硬化させることによって金型の凹凸
パターン等を転写させて、金型を剥離する方法を用いて
もよい。
【００７６】（実施形態５）図１２は本実施形態５の液
晶表示装置の構成を説明するための断面図である。この
液晶表示装置は、素子側基板１４ａに凸部（または凹
部）を設けた第１絶縁膜が形成されず、画素電極４ａ自
体が２方向以上の傾斜面を有する凸形状（または凹形
状）となっている点が上記実施形態１〜実施形態４とは
異なる。
【００７７】この液晶表示装置において、素子側基板１
４ａは、ガラス基板１上に２方向の傾斜面を有する凸形
状の画素電極４ａが形成され、さらにその上に凸形状を
平坦化させるための絶縁膜（第２絶縁膜）５ａが形成さ
れている。画素電極４ａは、素子側基板１４ａに設けら
れたＴＦＴ２のドレイン電極と接続され、その近傍を通
るゲート配線とＴＦＴ２を介して接続されている。対向
基板１３は、ガラス基板６上にカラーフィルタ７および
対向電極８が形成されている。両基板１３、１４ａは、
内側表面に垂直配向膜９が形成されて貼り合わせられ、
その間隙に負の誘電率異方性を有する液晶層１０が挟持
されている。また、各基板の外側には偏光板１１、１２
が配置されている。
【００７８】この液晶表示装置は、画素電極自体を２方
向以上の傾斜面を有する凸形状（または凹形状）にする
以外は、実施形態１〜実施形態４と同様に作製すること
ができる。画素電極４ａに少なくとも２方向以上の傾斜
面を有する凸部、凹部または凹凸パターンを形成するた
めには、まず、粉末状の導電性材料をゲル状にして基板
上に塗布し、凹凸パターン等を反転させた形状とした金
型を押し付けて、そのままの状態で樹脂を硬化させるこ
とによって金型の凹凸パターン等を転写させる。その後
で、金型を剥離し、１画素単位で画素電極のパターニン
グを行うことができる。
【００７９】なお、例えばアルミニウム等の金属膜を成
膜して、ドライエッチングによって、傾斜面を有する凹
凸パターンを形成することもできる。
【００８０】本実施形態の液晶表示装置においても、上
記実施形態１〜実施形態４と同様に、電圧無印加時に
は、液晶層１０内の液晶分子が画素内で一様に基板面に
対して垂直に配向して良好な黒表示を実現することがで
きる。一方、液晶分子が基板面に対してほぼ水平となる
電圧よりも低い電圧を印加したときには、液晶分子が画
素電極４ａの２方向（またはそれ以上）の傾斜面によっ
て、所定の２方向（またはそれ以上）に規則正しく配向
規制されるので、視角依存性の問題を解決することがで
きる。
【００８１】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
視角に依存して透過光強度または色相が変化する、いわ
ゆる視角依存性の問題を解決すると共に、視角に依存し
て透過光強度または色相が変化する、いわゆる視角依存
性の問題を解決することができる。さらに、液晶層と基
板との界面に凹凸面が形成されることによって電圧無印
加時のコントラストが低下するという問題も防ぐことが
できる。その結果、表示状態が良好でより広視野角の液
晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態１の液晶表示装置における素子側基板
の構成を説明するための平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’部分の断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、実施形態１およ
び実施形態２の液晶表示装置において、電圧印加時に液
晶分子が斜めになる配向を規制するドメイン規制が行わ
れることについて説明するための断面図である。
【図４】実施形態２の液晶表示装置の構成を説明するた
めの断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、実施形態３の液
晶表示装置において、電圧印加時に液晶分子が斜めにな
る配向を規制するドメイン規制が行われることについて
説明するための断面図である。
【図６】（ａ）は、実施形態１の液晶表示装置の他の構
成例を説明するための断面図であり、（ｂ）は、実施形
態２の液晶表示装置の他の構成例を説明するための断面
図である。
【図７】（ａ）は、２方向以上の傾斜面を有する所定の
凹凸パターンの例を説明するための平面図であり、
（ｂ）は、そのＢ−Ｂ’部分の断面図である。
【図８】（ａ）は、２方向以上の傾斜面を有する所定の
凹凸パターンの他の例を説明するための平面図であり、
（ｂ）は、そのＣ−Ｃ’部分の断面図であり、（ｃ）
は、２方向以上の傾斜面を有する所定の凹凸パターンの
他の例を説明するための平面図であり、（ｄ）は、その
Ｄ−Ｄ’部分の断面図である。
【図９】（ａ）は、２方向以上の傾斜面を有する所定の
凹凸パターンの他の例を説明するための平面図であり、
（ｂ）は、そのＥ−Ｅ’部分の断面図であり、（ｃ）
は、２方向以上の傾斜面を有する所定の凹凸パターンの
他の例を説明するための平面図であり、（ｄ）は、その
Ｆ−Ｆ’部分の断面図である。
【図１０】（ａ）は、実施形態４の液晶表示装置の構成
を説明するための断面図であり、（ｂ）は、その配向状
態について説明するための断面図である。
【図１１】実施形態４の他の液晶表示装置の構成を説明
するための断面図である。
【図１２】実施形態５の液晶表示装置の構成を説明する
ための断面図である。
【図１３】従来の液晶表示装置の概略構成を示す断面図
である。
【図１４】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、従来の液晶表
示装置の配向状態について説明するための断面図であ
る。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、従来の液晶表
示装置の配向状態について説明するための断面図であ
る。
【図１６】一般的な液晶表示装置における素子側基板の
構成を説明するための平面図である。
【図１７】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ、従来の液
晶表示装置の問題点について説明するための断面図であ
る。
【図１８】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、従来の液晶表
示装置の配向状態について説明するための断面図であ
る。
【符号の説明】
１、６、２１、２６、４１、４６、１０１、１２１、１
２６ ガラス基板 ２、２２、１２２ ＴＦＴ ３、２３、１３５ 第１絶縁膜 ４、４ａ、２４、４４、８４、１０４、１２４ 画素電
極 ５、５ａ、１８、２５、１２５ 第２絶縁膜 ７、２７、４７、１２７ カラーフィルタ ８、２８、４８、８８、１２８ 対向電極 ９、２９、４９、１２９ 垂直配向膜 １０、３０、５０、６０、７０、８０、１１０、１２０
液晶 １１、１２、３１、３２、５１、５２、１３１、１３２
偏光板 １３、３３、５３、６３、７３、９３、１１３、１３３
対向基板 １４、１９、３４、５４、６４、７４、９４、１１４、
１３４ 素子側基板 １５、５５、６５、７５、８５、１１５、１３７ 液晶
分子 １６、５６、８６、１１６、１３６ 電気力線 １７ 画素電極の凸部の頂点 ２０ 配向方向の境界 ４２ ３端子非線形素子 ６７、７７、７８ 凸部 ８９、９０ 溝 １０３ 傾斜パターン １０５ オーバーコート層 １１７ ソース配線 １１８ ゲート配線 １２３ 絶縁膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水嶋 繁光 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 HA03 HA04 HA07 HA15 HA16 HC10 HD03 HD14 HD17 LA01 LA04 MA01 MA07 MA11 MA15 2H092 GA13 GA17 JA46 JB58 NA01 PA02

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 表面に垂直配向処理を施した一対の基板
    の間隙に負の誘電率異方性を有する液晶が挟持され、液
    晶層を挟んで各基板に設けられた電極の対向部分に画素
    が構成されており、各基板に設けられた電極間に電圧を
    印加していないときには液晶分子が基板面に対してほぼ
    垂直に配向し、所定の電圧を印加したときには液晶分子
    が基板面に対してほぼ水平に配向し、該所定の電圧より
    も低い電圧を印加したときには液晶分子が基板面に対し
    て斜めに配向する液晶表示装置であって、 該一対の基板の少なくとも一方の基板に設けられた電極
    は、該液晶層側の表面に、基板面に対してそれぞれ異な
    る方向に傾斜すると共に、互いに隣接する第１傾斜面お
    よび第２傾斜面を少なくとも有し、 該電極の液晶層側に、該電極の傾斜面を覆って基板面に
    対して表面を平坦化させるように、絶縁膜が設けられて
    いる液晶表示装置。
  2. 【請求項２】 前記電極の基板側に、前記液晶層側の表
    面に少なくとも第１傾斜面および第２傾斜面を有する所
    定の凸部、凹部または凹凸パターンを設けた他の絶縁膜
    が設けられ、該他の絶縁膜の液晶層側に、該他の絶縁膜
    の傾斜面を維持するように、該電極が設けられている請
    求項１に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項３】 各画素内に前記電極の第１傾斜面および
    第２傾斜面を有し、１つの画素内の液晶分子は、電圧印
    加時に、該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部を境と
    して、基板面に対して互いに異なる方向に傾斜する請求
    項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項４】 前記電極の第１傾斜面と第２傾斜面とが
    境界部において液晶層側に凸となるように隣接すると共
    に、該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部が、前記絶
    縁膜から液晶層側に露出している請求項１乃至請求項３
    のいずれかに記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項５】 前記絶縁膜は、基板表面に垂直配向処理
    を施すための配向膜としても機能する請求項１乃至請求
    項４のいずれかに記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項６】 前記電極は、さらに、該液晶層側の表面
    に、基板面に対してそれぞれ前記第１傾斜面および前記
    第２傾斜面とは異なる方向に傾斜すると共に、互いに隣
    接する第３傾斜面および第４傾斜面を少なくとも有し、 該第１傾斜面と該第２傾斜面との境界部と、該第３傾斜
    面と該第４傾斜面との境界部とが、基板面に平行な面内
    でそれぞれ異なる方向に設けられている請求項１乃至請
    求項５のいずれかに記載の液晶表示装置。
  7. 【請求項７】 表面に垂直配向処理を施した一対の基板
    の間隙に負の誘電率異方性を有する液晶が挟持され、液
    晶層を挟んで各基板に設けられた電極の対向部分に画素
    が構成されており、各基板に設けられた電極間に電圧を
    印加していないときには液晶分子が基板面に対してほぼ
    垂直に配向し、所定の電圧を印加したときには液晶分子
    が基板面に対してほぼ水平に配向し、該所定の電圧より
    も低い電圧を印加したときには液晶分子が基板面に対し
    て斜めに配向する液晶表示装置であって、 該一対の基板のうちの一方の基板であるアクティブマト
    リクス基板の製造において、 複数のアクティブ素子と複数の電極配線とを形成した基
    板上に、導電性膜を成膜し、該導電性膜をパターニング
    して、該液晶層側の表面に、基板面に対してそれぞれ異
    なる方向に傾斜すると共に、互いに隣接する第１傾斜面
    および第２傾斜面を少なくとも有し、該アクティブ素子
    の電極と接続されるように、画素電極を形成する工程
    と、 該画素電極上に、該画素電極の傾斜面を覆って基板面に
    対して表面を平坦化させるように、絶縁膜を形成する工
    程と、 を含む液晶表示装置の製造方法。
  8. 【請求項８】 表面に垂直配向処理を施した一対の基板
    の間隙に負の誘電率異方性を有する液晶が挟持され、液
    晶層を挟んで各基板に設けられた電極の対向部分に画素
    が構成されており、各基板に設けられた電極間に電圧を
    印加していないときには液晶分子が基板面に対してほぼ
    垂直に配向し、所定の電圧を印加したときには液晶分子
    が基板面に対してほぼ水平に配向し、該所定の電圧より
    も低い電圧を印加したときには液晶分子が基板面に対し
    て斜めに配向する液晶表示装置であって該一対の基板の
    うちの一方の基板であるアクティブマトリクス基板の製
    造において、 複数のアクティブ素子と複数の電極配線とを形成した基
    板上に、第１絶縁膜を成膜し、該第１絶縁膜をパターニ
    ングして、該液晶層側の表面に少なくとも第１傾斜面お
    よび第２傾斜面を有する所定の凸部、凹部または凹凸パ
    ターンを形成すると共に、コンタクトホールを形成する
    工程と、 該第１絶縁膜上に、該第１絶縁膜に設けた傾斜面を維持
    するように導電性膜を形成する工程と、 該導電性膜をパターニングして、該アクティブ素子の電
    極と接続されるように、画素電極を形成する工程と、 該画素電極上に、該画素電極の傾斜面を覆って基板面に
    対して表面を平坦化させるように、第２絶縁膜を形成す
    る工程とを含む液晶表示装置の製造方法。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006184336A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP2007147793A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
KR100776552B1 (ko) * 2004-10-22 2007-11-15 세이코 엡슨 가부시키가이샤 전기 광학 장치의 제조 방법 및 제조 장치, 전기 광학 장치및 전자 기기
JP2009193066A (ja) * 2008-02-15 2009-08-27 Samsung Electronics Co Ltd 垂直配向液晶表示装置及びその製造方法
US7697096B2 (en) 2003-12-03 2010-04-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display and panel therefor
JP2011227443A (ja) * 2010-04-21 2011-11-10 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置
US8098353B2 (en) 2007-08-07 2012-01-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display with improved response speed and aperture ratio
US20140125905A1 (en) * 2012-11-07 2014-05-08 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
KR20150002509A (ko) * 2013-06-28 2015-01-07 소니 주식회사 액정 표시 장치
WO2020191833A1 (zh) * 2019-03-26 2020-10-01 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6614497B2 (en) * 2001-05-29 2003-09-02 Chi Mei Optoelectronics Corp. Liquid crystal display device having particular pixel electrodes
US7295274B1 (en) * 2003-04-01 2007-11-13 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Flower-shaped vertical alignment liquid crystal displays with wide view angle and fast response time
JP4436161B2 (ja) * 2004-03-12 2010-03-24 富士通株式会社 液晶表示装置
KR20060034802A (ko) * 2004-10-19 2006-04-26 삼성전자주식회사 반투과형 액정 표시 장치
KR20070003412A (ko) * 2005-07-01 2007-01-05 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101430610B1 (ko) * 2006-09-18 2014-09-23 삼성디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 이의 제조 방법
CN102540558B (zh) * 2011-12-13 2014-08-06 四川大学 基于蓝相液晶透镜的2d/3d可切换自由立体显示装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02191914A (ja) 1989-01-20 1990-07-27 Seiko Epson Corp 液晶電気光学素子
JPH06194654A (ja) * 1992-12-24 1994-07-15 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP3108768B2 (ja) 1992-12-24 2000-11-13 スタンレー電気株式会社 Ｔｎ液晶表示素子
JP3298216B2 (ja) * 1993-03-31 2002-07-02 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
JP2975844B2 (ja) * 1993-06-24 1999-11-10 三洋電機株式会社 液晶表示装置
JP2972514B2 (ja) 1993-12-28 1999-11-08 日本電気株式会社 液晶表示装置
JPH10288787A (ja) * 1997-04-16 1998-10-27 Canon Inc 液晶素子
US6580484B2 (en) * 1997-05-09 2003-06-17 Sharp Kabushiki Kaisha Laminated phase plate and liquid crystal display comprising the laminated phase plate
EP1621923B8 (en) * 1997-06-12 2010-03-24 Sharp Kabushiki Kaisha Vertically-aligned (VA) liquid crystal display device
JPH11174456A (ja) * 1997-12-11 1999-07-02 Omron Corp 配向分割用の基板及びその製造方法ならびに液晶表示素子
JP3744714B2 (ja) * 1998-12-08 2006-02-15 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその駆動方法
US6573964B1 (en) * 1998-12-25 2003-06-03 Fujitsu Display Technologies Corporation Multidomain vertically aligned liquid crystal display device
US6657695B1 (en) * 1999-06-30 2003-12-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display wherein pixel electrode having openings and protrusions in the same substrate
KR100312761B1 (ko) * 1999-07-14 2001-11-03 윤종용 액정 표시 장치
JP4344062B2 (ja) * 2000-03-06 2009-10-14 シャープ株式会社 液晶表示装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7697096B2 (en) 2003-12-03 2010-04-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display and panel therefor
KR100776552B1 (ko) * 2004-10-22 2007-11-15 세이코 엡슨 가부시키가이샤 전기 광학 장치의 제조 방법 및 제조 장치, 전기 광학 장치및 전자 기기
US7456920B2 (en) 2004-10-22 2008-11-25 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing electro-optical device, device for manufacturing the same, electro-optical device and electronic apparatus
JP4645190B2 (ja) * 2004-12-24 2011-03-09 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
JP2006184336A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP2007147793A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP4648169B2 (ja) * 2005-11-25 2011-03-09 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
US8098353B2 (en) 2007-08-07 2012-01-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display with improved response speed and aperture ratio
JP2009193066A (ja) * 2008-02-15 2009-08-27 Samsung Electronics Co Ltd 垂直配向液晶表示装置及びその製造方法
JP2011227443A (ja) * 2010-04-21 2011-11-10 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置
JP2015028667A (ja) * 2010-04-21 2015-02-12 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 液晶表示装置
US9176344B2 (en) 2010-04-21 2015-11-03 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display having pixel electrode with concave downward or convex upward portions
US20140125905A1 (en) * 2012-11-07 2014-05-08 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
US9442319B2 (en) * 2012-11-07 2016-09-13 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
KR20150002509A (ko) * 2013-06-28 2015-01-07 소니 주식회사 액정 표시 장치
JP2015011157A (ja) * 2013-06-28 2015-01-19 ソニー株式会社 液晶表示装置
KR102183353B1 (ko) * 2013-06-28 2020-11-26 소니 주식회사 액정 표시 장치
WO2020191833A1 (zh) * 2019-03-26 2020-10-01 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板

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