JP2002225037A - 成形金型の製造方法 - Google Patents

成形金型の製造方法

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JP2002225037A JP2001025506A JP2001025506A JP2002225037A JP 2002225037 A JP2002225037 A JP 2002225037A JP 2001025506 A JP2001025506 A JP 2001025506A JP 2001025506 A JP2001025506 A JP 2001025506A JP 2002225037 A JP2002225037 A JP 2002225037A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パターンの抜け・欠けの無い微細パター
ンの成形金型を確実に作製することが出来る成形金型の
製造方法を提供する。 【解決手段】 予め表面10a、10bを高精度に仕上
げた基板10上面にレジスト11を塗布し、レジスト1
1上部より露光光によりパターンを露光・現像してレジ
スト11上に所定のレジストパターン12a〜12nを
形成し、しかる後、レジストパターン12a〜12n間
に所定厚みのメッキを施してメッキ部13a〜13dを
形成し、次に、レジストパターン12a〜12nを除去
して所定の厚みの予備パターン13a〜13dを有する
金型15を形成し、次に、この金型15の一部10bを
基準にして予備パターン13a〜13dを機械加工する
ことにより、所定の高さHを有する最終パターン16a
〜16dを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、スラスト
軸受の一部を構成するヘリングボーン溝等の微細パター
ンを有する金型の入れ子を製造する成形金型の製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、幅・深さ・ピッチがミクロンオ
ーダーのパターンを有する樹脂や金属の成形品を成形す
る際に用いられる金型では、この金型を構成する1部品
である入れ子と呼ばれる部品にそのパターンを付与す
る。そして、このパターンが付与された入れ子を取り付
けた金型を用いて所望の成形品を、例えば、大量に作製
するものである。
【0003】ところで、成形品を大量に作製するに際し
ては、製造工程中に何等かの原因によりパターン形状が
破壊したり摩耗したりする場合があり、その場合には、
この入れ子を交換することにより対応している。そし
て、パターンの形成は、その微細さゆえに機械加工より
はフォトリソグラフィ(電子線描画装置)技術を応用し
た方法が使われることが多い。
【0004】例えば、その一例として、特開平8−23
8361号公報や特開平9−311460公報記載の技
術を挙げることが出来る。以下、この特開平8−238
361号公報における入れ子の製造方法について、図3
を参照して説明する。なお、この特開平8−23836
1号公報記載の技術は、例えば、光ピックアップヘッド
等に用いられるグレーティングなどの微細な構造を持つ
金型の製造方法に関するものである。
【0005】すなわち、まず、基板1上に塗布されたポ
リマ2上にシリコン含有レジスト3を塗布する(図3
(a))。しかる後、このレジスト3を、例えば、レー
ザビーム、電子ビーム等の露光光4により露光現像(図
3(b))し、パターニングする(図3(c))。この
レジストパターンをマスクとして、ポリマ2を酸素ガス
の反応性イオンエッチング(酸素プラズマ5)によりエ
ッチングし(図3(d))、その後レジスト3を剥離
し、マスクパターン7を作製する(図3(e))。しか
る後、このマスクパターン7上にニッケルなどの金属を
真空蒸着し、この蒸着膜を核としてニッケルなどの金属
をメッキしたメッキ層6を形成する(図3(f))。次
に、このメッキ層6をマスクパターン7より剥離して金
型(入れ子)8を作製する(図3(g))。
【0006】ここでポリマ2としては、アクリル樹脂や
エポキシ樹脂、ポリイミドなど塗布性に優れ、酸素ガス
の反応性イオンエッチングによりエッチングできるポリ
マであれば良い。また、基板1上に塗布されたポリマ2
の代わりに、アクリル板などの適当な厚みのポリマ基板
を使っても良い。また、図3(b)のレジストの露光過
程は、フォトマスクとアライナを用いて一括露光しても
良いし、電子線描画装置を用いて行っても良いし、レー
ザビーム直接描画装置を用いて行っても良い。
【0007】シリコン含有レジスト3は、酸素ガスに対
して極めて高いエッチング耐性を有するので、1μm程
度の薄いレジスト膜を用いても、深さ数十μmのパター
ンをエッチングすることができる。そのため、厚膜レジ
ストを露光現像して作製した場合に比べ、壁面のダレが
小さく、深さの深い矩形パターンを作製することができ
る。
【0008】レーザビーム直接描画リソグラフィのよう
に(平行光でない)ビームを用いて露光過程を行う場
合、露光ビーム4はレジスト3面上にレンズにより集光
されるため、レジスト3の上面と下面では露光ビーム4
のビーム径は異なる。1μm程度の薄いレジスト膜を用
いた場合、このビーム径の差はあまり問題にはならない
が、数μm以上の厚膜レジストを露光する場合、このビ
ーム径の差は壁面のダレの要因となる。そのため、厚膜
レジストを用いる必要がないことによる効果は、レーザ
ビーム直接描画リソグラフィのようにビームを用いて露
光過程を行う場合特に重要になる。
【0009】レーザビーム直接描画リソグラフィは、コ
ンピュータ上でデータを入力することにより作製したい
金型のマスクパターンの露光が行えるので、パターンの
異なるマスクパターンを作製する場合などいちいち高価
なマスクを発注する必要がなく、自在性、経済性に優れ
た方法である。また、電子線露光と比べても、露光装置
が安価である、大気中で露光が行える(真空にする必要
がない)、帯電防止層が必要ない、などの利点もある。
【0010】しかしながら、この特開平8−23836
1号公報記載の技術によれば、形状、寸法精度、平滑性
などにおいて良好な金型が得られるものであるが、転写
の際にパターンの欠けや抜けが起き易いという欠点があ
った。
【0011】そこで、かかる欠点を解消するために特開
平9−311460公報記載の技術が提案された。以下
に、その技術について図4を用いて説明する。なお、こ
の特開平9−311460公報記載の技術は、例えば、
微細で複雑な形状であるプリンタヘッド等のレジストパ
ターン及び成形金型の製造方法に関するものである。
【0012】まず、シリコンウェハ上に、後述の反応性
イオンエッチングに対するエッチングレートが小さい金
属膜(例えば、ニッケル膜)を形成した基板1を用意
し、この基板1上にレジスト層2を形成し、さらにその
表面にパターン状にエッチンマスク3を形成する(図4
a)。次に、レジスト層2に反応性イオンエッチングを
施して、レジストパターン2aを得る(図4b、c)。
このとき、反応ガスには酸素にフッ素を添加した混合ガ
スを用いる。反応ガスにフッ素を添加することで、非矩
形のパターン断面形状(側壁が傾斜したテーパ形状)を
有するレジストパターン層2aが得られる。
【0013】なお、レジストパターン層2a上のエッチ
ングマスク3は除去してもよい。以上の工程により、例
えば、インクジェットプリンタのプリンタヘッドを構成
するインク流路の形状を有するレジストパターン2aが
得られる。次に、このレジストパターン層2aが形成さ
れた基板1からプリンタヘッドの成形金型を製造する工
程を以下に説明する。
【0014】まず、非矩形のパターン断面形状を有する
レジストパターン層2aが形成された基板1上に、メッ
キ法によりメッキ膜を成長させて、前記レジストパター
ン層2aの反転パターンを有するメッキ層4を形成する
(図4d)。次に、このメッキ層4からレジストパター
ン層2aと基板1をウエットエッチング等により除去す
ることで、レジストパターン層2aの反転パターンを有
するメッキ層4からなる成形金型(入れ子)4aが得ら
れる(図4e)。
【0015】しかしながら、この特開平9−31146
0公報記載の技術によれば、微細なテーパ状のパターン
断面形状を有する成形金型(入れ子)4aを得ることが
できるものではあるが、反転パターンを有するメッキ層
4を形成するに際し、前記した特開平8−238361
号公報と同様、かなりの厚さのメッキ膜を成長させると
いう方法を採らざるを得ないため、成形金型を得るのに
時間を要する欠点や、特に、成形品として精度を必要と
する場合には、残留応力が残らないような工夫も施さな
ければならないという欠点があった。
【0016】また、メッキ後に金型部材や入れ子の形に
加工するにも工数が掛かる欠点がある。更に、前記した
従来の方法では、レジスト面が金型の谷底面となるので
鏡面が得にくいという欠点もあった。従って、かかる従
来の成形金型の製造方法によれば、本発明が適用される
精密電気機器等の高精度の光学部品にあって必要とされ
る、パターンの山・谷底面ともに鏡面としたいという要
請に対して応えることは出来ないものであった。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
前記した従来の方法によれば、そのまま微細パターンを
有する成形金型の入れ子として使用するには、転写型を
取る際にメッキをかなり厚く着ける必要があり実用的で
なく、また、精密電気機器等に用いられる光学部品は、
かなりの高精度が必要とされるため、メッキ後の加工工
程も金型の入れ子の精度を出すためにはかなりの工数を
必要とするので、これまた実用的でない。更に、転写の
際にパターンの抜けや欠けが起き易いという問題点もあ
る。
【0018】本発明は、かかる点に鑑みなされたもので
あり、微細パターンを有する金型の入れ子を作製する際
に、パターンの抜け・欠けがなく、また、メッキ後の加
工が極力簡単になるとともに、精度の良い金型の入れ子
を作製できるようにした成形金型の製造方法を提供する
ものである。
【0019】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
予め表面10a、10bを高精度に仕上げた基板10上
面にレジスト11を塗布し、前記レジスト11上部より
露光光によりパターンを露光・現像して前記レジスト1
1上に所定のレジストパターン12a〜12nを形成
し、しかる後、前記レジストパターン12a〜12n間
に所定厚みのメッキを施してメッキ部13a〜13dを
形成し、次に、前記レジストパターン12a〜12nを
除去して所定の厚みの予備パターン13a〜13dを有
する金型15を形成し、次に、この金型15の一部10
bを基準にして前記予備パターン13a〜13dを機械
加工することにより、所定の高さHを有する最終パター
ン16a〜16dを形成することを特徴とする。
【0020】請求項2に係る発明は、予め表面10a、
10bを高精度に仕上げた基板10上面にレジスト11
を塗布し、前記レジスト11上部より露光光によりパタ
ーンを露光・現像して前記レジスト11上に所定のレジ
ストパターン12a〜12nを形成すると共にこのレジ
ストパターン12a〜12n間の前記基板上面10aを
加工してこの基板上面を粗面10c化し、しかる後、前
記レジストパターン2a〜12n間の前記粗面10c上
に所定厚みのメッキを施してメッキ部13a〜13dを
形成し、次に、前記レジストパターン12a〜12nを
除去して所定の厚みの予備パターン13a〜13dを有
する金型18を形成し、次に、この金型18の一部10
bを基準にして前記予備パターン13a〜13dを機械
加工することにより、所定の高さHを有する最終パター
ン19a〜19dを形成することを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施例を
添付図面に基づいて説明する。なお、以下に述べる実施
例は本発明の好適な具体例であるから、技術的に好まし
い種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下
の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限
り、これらの態様に限られるものではない。
【0022】図1は、本実施例に係る成形金型の製造方
法の工程図、図2は、同、成形金型の製造方法の他の工
程図である。
【0023】ここで、本実施例になる成形金型の製造方
法を説明するに際し、この成形金型を用いて作製される
作製対象である流体スラスト軸受について、概略説明す
る。
【0024】流体スラスト軸受けは、円盤形状のフラン
ジに動圧発生用の溝(ヘリングボーン)を施したもので
ある。実際の仕様としてスラストプレートは、モータの
主軸に組み込み、支持プレートとスラストプレートとの
隙間に流体を満たし、軸が回転することで流体に発生す
る圧力を利用して軸が浮上する軸受である。このため、
スラストプレートには、平面度、表面粗さ、溝深さなど
を高精度に仕上げることが必要とされている。以下、図
1を参照して本実施例について説明する。
【0025】(実施例1)まず、高速度工具鋼(SK
H)などよりなる金型部材10を、前記した理由によ
り、その表面10a、10bを高精度(例えば、平行
度、平面度をそれぞれ1μm以下)に鏡面仕上げしてお
き(図1(a))、この金型部材10の上面10aに、
レジストもしくはレジストシート11を塗布、もしくは
貼り付ける(図1(b))。例えば、塗布されるレジス
ト11等の厚さは、パターンの深さとほぼ同じ厚さにす
ることが望ましい。例えば、パターン溝が15μm程度
であれば、研磨仕上げ代10μmを考慮して25μmの
ように、着けたいメッキの厚さと同じレジスト厚を選定
する。しかる後、金型部材10の外周などを基準として
位置出しを行なった後、例えば、電子ビームによりパタ
ーンを露光・現像し、レジスト11にパターニングし
て、所定のレジストパターン12a〜12nを得る(図
1(c))。
【0026】しかる後、図示しないメッキ槽でメッキす
ることにより、前記したパターニングされることにより
得られた所定のレジストパターン12a〜12n間(レ
ジストの抜けている部分)に、所定の厚みのメッキ13
a〜13d(後述する予備マスクパターンとなる)が施
された複合基板14が得られる(図1(d))。メッキ
は硬質Cr等で行ない、樹脂成形用金型であればNi等
を使用する。
【0027】メッキ工程終了後、前記した複合基板14
の内のレジストパターン12a〜12nのみを、例え
ば、剥離剤やアッシング等により剥離(除去)して、所
定の厚みLを有する予備マスクパターン13a〜13d
を有する金型15を得る(図1(e))。次に、この金
型15の一部を構成する金型部材10の裏面10bを基
準として、所定の厚みLを有するメッキ部先端13a1
〜13d1部分を機械加工(研磨等)することにより、
所定の高さ(溝深さ)Hを有する最終パターン16a〜
16dが精度よく仕上げられた所望の成形金型(入れ
子)20を得ることができる(図1(f))。この際、
所望の最終パターン16a〜16dを得るための加工基
準を、前記した如く、高精度に仕上げられた金型部材1
0の裏面10bにおいているので、最終的な仕上げは容
易に行なうことができるものである。
【0028】このように、転写を行わずに成形金型(入
れ子)を得ることができるので、パターンの抜け・欠け
の無い微細パターンの成形金型を確実に作製することが
出来る。また、メッキ後の加工基準面が予め形成してあ
るので、山先端の平面度と基準面との平行度が得やす
く、パターンの山・谷面ともに鏡面が得られるものであ
る。
【0029】また、前記した如く、金型部材10の裏面
10bの平行度、平面度は、それぞれ1μm以下の高精
度に仕上げているので、機械加工後の最終パターン16
a〜16dの上面部16a1〜16d1は、所望の平面度
(例えば、1μm以下)が容易に得られるものである。
従って、この最終パターン16a〜16dを所定の溝形
状としておくことにより、この成形金型(入れ子)20
を用いて、被加工物に、例えば、プレス成形すれば、所
定の精度の動圧発生用の溝(ヘリングボーン)が得られ
るものである。
【0030】(実施例2)次に、金型部材10の上面1
0a上のレジストパターン12a〜12n間(レジスト
の抜けている部分)にメッキされる前記したメッキ部1
3a〜13dの金型部材10との密着性を上げた例につ
き、図2を参照して説明する。なお、前記した部分と同
一部分は同一符号を用い、その詳細な説明は省略する。
【0031】まず、前記した実施例1と同様、高速度工
具鋼(SKH)などよりなる金型部材10を、前記した
理由により、その表面10a、10bを高精度(例え
ば、平行度、平面度をそれぞれ1μm以下)に鏡面仕上
げしておき(図1(a))、この金型部材10の上面1
0aに、レジストもしくはレジストシート11を塗布、
もしくは貼り付ける(図1(b))。この場合も、例え
ば、塗布されるレジスト11等の厚さは、パターンの深
さとほぼ同じ厚さにすることが望ましい。例えば、パタ
ーン溝が15μm程度であれば、研磨仕上げ代10μm
を考慮して25μmのように、着けたいメッキの厚さと
同じレジスト厚を選定する。
【0032】しかる後、金型部材10の外周などを基準
として位置出しを行なった後、例えば、電子ビームによ
りパターンを露光・現像し、レジスト11にパターニン
グして、所定のレジストパターン12a〜12nを得る
と共に、このレジストパターン12a〜12n間の金型
部材10の上面10a部分を、ドライもしくはウェット
エッチングや、マイクロブラスト加工などにより加工し
て、粗面10cを形成する(図1(c))。
【0033】しかる後、図示しないメッキ槽でメッキす
ることにより、前記したパターニングされることにより
得られた所定のレジストパターン12a〜12n間(レ
ジストの抜けている部分)の粗面10c上に、密着性が
向上した所定の厚みのメッキ13a〜13d(後述する
予備マスクパターンとなる)が施された複合基板17が
得られる(図1(d))。メッキは硬質Cr等で行な
い、樹脂成形用金型であればNi等を使用する。
【0034】メッキ工程終了後、前記した複合基板17
の内のレジストパターン12a〜12nのみを、例え
ば、剥離剤やアッシング等により剥離(除去)して、所
定の厚みLを有する予備マスクパターン13a〜13d
を有する金型18を得る(図1(e))。次に、この金
型18の一部を構成する金型部材10の裏面10bを基
準として、所定の厚みLを有するメッキ部先端13a1
〜13d1部分を機械加工(研磨等)することにより、
所定の高さ(溝深さ)Hを有する最終パターン19a〜
19dが精度よく仕上げられた所望の成形金型(入れ
子)30を得ることができる(図1(f))。この際、
所望の最終パターン19a〜19dを得るための加工基
準を、前記した如く、高精度に仕上げられた金型部材1
0の裏面10bにおいているので、最終的な仕上げは容
易に行なうことができるものである。
【0035】このように、転写を行わずに成形金型(入
れ子)を得ることができるので、パターンの抜け・欠け
の無い微細パターンの成形金型を確実に作製することが
出来る。また、メッキ後の加工基準面が予め形成してあ
るので、山先端の平面度と基準面との平行度が得やす
く、パターンの山・谷面ともに鏡面が得られるものであ
る。
【0036】また、前記した如く、金型部材10の裏面
10bの平行度、平面度は、それぞれ1μm以下の高精
度に仕上げているので、機械加工後の最終パターン19
a〜19dの上面部19a1〜19d1は、所望の平面度
(例えば、1μm以下)が容易に得られるものである。
従って、この最終パターン19a〜19dを所定の溝形
状としておくことにより、この成形金型(入れ子)30
を用いて、被加工物に、例えば、プレス成形すれば、所
定の精度の動圧発生用の溝(ヘリングボーン)が得られ
るものである。
【0037】
【発明の効果】請求項1に係る発明は、予め表面10
a、10bを高精度に仕上げた基板10上面にレジスト
11を塗布し、前記レジスト11上部より露光光により
パターンを露光・現像して前記レジスト11上に所定の
レジストパターン12a〜12nを形成し、しかる後、
前記レジストパターン12a〜12n間に所定厚みのメ
ッキを施してメッキ部13a〜13dを形成し、次に、
前記レジストパターン12a〜12nを除去して所定の
厚みの予備パターン13a〜13dを有する金型15を
形成し、次に、この金型15の一部10bを基準にして
前記予備パターン13a〜13dを機械加工することに
より、所定の高さHを有する最終パターン16a〜16
dを形成する、すなわち、転写を行わずに成形金型(入
れ子)を得ることができるので、パターンの抜け・欠け
の無い微細パターンの成形金型を確実に作製することが
出来る。また、メッキ後の加工基準面が予め形成してあ
るので、山先端の平面度と基準面との平行度が得やす
く、パターンの山・谷面ともに鏡面が得られる。
【0038】請求項2に係る発明は、予め表面10a、
10bを高精度に仕上げた基板10上面にレジスト11
を塗布し、前記レジスト11上部より露光光によりパタ
ーンを露光・現像して前記レジスト11上に所定のレジ
ストパターン12a〜12nを形成すると共にこのレジ
ストパターン12a〜12n間の前記基板上面10aを
加工してこの基板上面を粗面10c化し、しかる後、前
記レジストパターン2a〜12n間の前記粗面10c上
に所定厚みのメッキを施してメッキ部13a〜13dを
形成し、次に、前記レジストパターン12a〜12nを
除去して所定の厚みの予備パターン13a〜13dを有
する金型18を形成し、次に、この金型18の一部10
bを基準にして前記予備パターン13a〜13dを機械
加工することにより、所定の高さHを有する最終パター
ン19a〜19dを形成する、すなわち、転写を行わず
に成形金型(入れ子)を得ることができるので、パター
ンの抜け・欠けの無い微細パターンの成形金型を確実に
作製することが出来る。また、メッキ後の加工基準面が
予め形成してあるので、山先端の平面度と基準面との平
行度が得やすく、パターンの山・谷面ともに鏡面が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る成形金型の製造方法の一実施例を
説明するための工程図である。
【図2】本発明に係る成形金型の製造方法の他の実施例
を説明するための工程図である。
【図3】従来の成形金型の製造方法を説明するための工
程図である。
【図4】従来の成形金型の製造方法を説明するための工
程図である。
【符号の説明】
10 基板 10a、10b 基板表面 11 レジスト 12a〜12n レジストパターン 13a〜13d メッキ部 14、17 複合基板 15、18 金型 16a〜16d 最終パターン 19a〜19d 最終パターン 20、30 成形金型(入れ子)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】予め表面を高精度に仕上げた基板上面にレ
    ジストを塗布し、 前記レジスト上部より露光光によりパターンを露光・現
    像して前記レジスト上に所定のレジストパターンを形成
    し、 しかる後、前記レジストパターン間に所定厚みのメッキ
    を施してメッキ部を形成し、 次に、前記レジストパターンを除去して所定の厚みの予
    備パターンを有する金型を形成し、 次に、この金型の一部を基準にして前記予備パターンを
    機械加工することにより、 所定の高さを有する最終パターンを形成することを特徴
    とする成形金型の製造方法。
  2. 【請求項2】予め表面を高精度に仕上げた基板上面にレ
    ジストを塗布し、 前記レジスト上部より露光光によりパターンを露光・現
    像して前記レジスト上に所定のレジストパターンを形成
    すると共にこのレジストパターン間の前記基板上面を加
    工してこの基板上面を粗面化し、 しかる後、前記レジストパターン間の前記粗面上に所定
    厚みのメッキを施してメッキ部を形成し、 次に、前記レジストパターンを除去して所定の厚みの予
    備パターンを有する金型を形成し、 次に、この金型の一部を基準にして前記予備パターンを
    機械加工することにより、 所定の高さを有する最終パターンを形成することを特徴
    とする成形金型の製造方法。
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