JP4899638B2 - モールドの製造方法 - Google Patents
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Description
ナノインプリントプロセスにおいて、モールドは成形加工品の品質に影響を及ぼすため、モールドの素材開発と、その素材への三次元の微細形状加工技術の開発が求められている。
また、ナノインプリント用モールドの製造方法であって、前記の硬化したレジスト上に第2のレジスト層を塗布する工程(d)と、前記レジスト層にて微小凹凸を形成する工程(e)と、形成された微小凹凸形状を構成するレジストをイオン注入により硬化する工程(f)と、を有し、工程(d)〜工程(f)を繰り返すことを特徴とするモールドの製造方法である。
また、前記基板が凹凸を有していることを特徴とするモールドの製造方法である。
レジストの硬化プロセスは、昇温によるレジスト表面の炭化、及び不純物原子、イオン、ラジカルがレジスト内部に含まれる原子や官能基と反応し強固な結合状態を形成することである。またプラズマ照射の場合、プラズマ発生時に生じるUV光によってレジストの硬化が促進される場合もある。よって本発明に使用するレジスト材料は特に限定されないが、レジストの含有成分により、使用するプラズマ及びイオンの種類が決定される。
レジストパターン5の厚さは、目的とするパターンの深さによるが、パターンの幅と深さの比を示すアスペクト比で表すと、アスペクト比が0.1〜100であることが好ましい。
このように本実施の形態によれば、複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製することができる。
3、31………基板
5、11、51………レジストパターン
7、9………レジスト層
Claims (3)
- ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
基板の上面にレジスト層を塗布する工程(a)と、
前記レジスト層にて微小凹凸を形成する工程(b)と、
形成された微小凹凸を構成するレジストをイオン注入により硬化する工程(c)と、
を有することを特徴とするモールドの製造方法。 - 請求項1記載のモールドの製造方法であって、
前記の硬化したレジスト上に第2のレジスト層を塗布する工程(d)と、
前記レジスト層にて微小凹凸を形成する工程(e)と、
形成された微小凹凸形状を構成するレジストをイオン注入により硬化する工程(f)と、
を有し、工程(d)〜工程(f)を繰り返すことを特徴とする請求項1記載のモールドの製造方法。 - 前記基板が凹凸を有していることを特徴とする請求項1記載のモールドの製造方法。
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