JP2009155167A - 被加工体の加工方法、ガラス又は樹脂の成型方法、金型、及びガラス又は樹脂の成型体 - Google Patents
被加工体の加工方法、ガラス又は樹脂の成型方法、金型、及びガラス又は樹脂の成型体 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明に係る被加工体の加工方法は、ガラス状カーボンからなる被加工体10上にHSQ膜20を形成する工程と、HSQ膜20を電子線描画し、その後HSQ膜20を現像することにより、被加工体10上に位置していてパターンを有するマスク膜22を形成する工程と、マスク膜22をマスクとして被加工体10をドライエッチングすることにより、被加工体10を加工する工程とを具備する。HSQは酸素プラズマにエッチングされ難い為、被加工体10を加工する工程は、酸素を含むプラズマを用いてドライエッチングする工程であってもよい。
【選択図】図1
Description
前記HSQ膜を電子線描画し、前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工する工程とを具備する。
前記金型に、ガラス転移点以上に加熱したガラス又は樹脂を導入して冷却し、その後前記ガラス又は樹脂を前記金型から剥離することによりガラス又は樹脂の成型体を形成する工程と、
を具備し、
前記金型は、
ガラス状カーボンからなる被加工体上にHSQ膜を形成する工程と、
前記HSQ膜を電子線描画し、前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、
を経て形成されている。
前記HSQ膜を電子線描画し、記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、を経て形成されている。
前記HSQ膜を電子線描画し、その後前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置していてパターンを有するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、
前記マスク膜を除去する工程と、
を経て形成された金型を準備する工程と、
前記金型に、ガラス転移点以上に加熱したガラス又は樹脂を導入して冷却し、その後前記ガラス又は樹脂を前記金型から剥離することによりガラス又は樹脂の成型体を形成する工程とを経て形成されている。
Claims (7)
- ガラス状カーボンからなる被加工体上に水素化シルセシキオキサン(Hydrogen silsesquioxane:以下HSQと記載)膜を形成する工程と、
前記HSQ膜を電子線描画し、前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工する工程と、
を具備する被加工体の加工方法。 - 前記被加工体を加工する工程は、酸素を含むプラズマを用いてドライエッチングする工程を含む請求項1に記載の被加工体の加工方法。
- 前記被加工体を加工する工程は、誘導結合プラズマを用いてドライエッチングする工程である請求項1又は2に記載の被加工体の加工方法。
- 金型を準備する工程と、
前記金型に、ガラス転移点以上に加熱したガラス又は樹脂を導入して冷却し、その後前記ガラス又は樹脂を前記金型から剥離することによりガラス又は樹脂の成型体を形成する工程と、
を具備し、
前記金型は、
ガラス状カーボンからなる被加工体上にHSQ膜を形成する工程と、
前記HSQ膜を電子線描画し、前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、
を経て形成されているガラス又は樹脂の成型方法。 - 前記ガラス又は樹脂の成型体は、表面に周期的な凹凸を有するレンズである請求項4に記載のガラス又は樹脂の成型方法。
- ガラス状カーボンからなる被加工体上にHSQ膜を形成する工程と、
前記HSQ膜を電子線描画し、記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、
を経て形成された金型。 - ガラス状カーボンからなる被加工体上にHSQ膜を形成する工程と、
前記HSQ膜を電子線描画し、その後前記HSQ膜を現像することにより、前記被加工体上に位置していてパターンを有するマスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜をマスクとして前記被加工体をドライエッチングすることにより、前記被加工体を加工して金型を形成する工程と、
前記マスク膜を除去する工程と、
を経て形成された金型を準備する工程と、
前記金型に、ガラス転移点以上に加熱したガラス又は樹脂を導入して冷却し、その後前記ガラス又は樹脂を前記金型から剥離することによりガラス又は樹脂の成型体を形成する工程と、
を経て形成されたガラス又は樹脂の成型体。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013083129A1 (en) * | 2011-12-08 | 2013-06-13 | Inmold Biosystems A/S | Spin-on-glass assisted polishing of rough substrates |
CN110850688A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-02-28 | 清华大学 | 一种铌酸锂薄膜表面制作光学微纳图形的方法 |
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-
2007
- 2007-12-27 JP JP2007335757A patent/JP2009155167A/ja active Pending
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