JP2002201074A - 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 - Google Patents
窒化珪素質焼結体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002201074A JP2002201074A JP2000402257A JP2000402257A JP2002201074A JP 2002201074 A JP2002201074 A JP 2002201074A JP 2000402257 A JP2000402257 A JP 2000402257A JP 2000402257 A JP2000402257 A JP 2000402257A JP 2002201074 A JP2002201074 A JP 2002201074A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon nitride
- mass
- thermal expansion
- sintered body
- sintered compact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
ま維持され、絶縁性材料等として好適な窒化珪素質焼結
体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の窒化珪素質焼結体は、窒化珪素
成分100質量%に対し、平均粒径が1μm以下の炭化
珪素を1質量%以上4質量%未満分散含有してなり、上
記窒化珪素成分中、希土類元素を酸化物換算で15〜2
5質量%、Crを酸化物換算で5〜10質量%含有し、
焼結体中の粒界に結晶相が存在し、且つ室温から100
0℃までの熱膨張係数が3.7ppm/℃以上であるこ
とを特徴とする。かかる構成により、絶縁物である窒化
珪素粒子の針状化が抑えて窒化珪素粒子の比表面積を増
大させ、高熱膨張化合物の導電パスを抑え、得られる焼
結体の熱膨張係数を大きくすると共に、絶縁性の低下を
防止することができるので、セラミックグロープラグの
基体材料等として好適に利用できる。
Description
及びその製造方法に関し、更に詳しくは、熱膨張係数が
大きく、且つ優れた絶縁性がそのまま維持され、セラミ
ックグロープラグの基体材料等の絶縁性材料等として好
適な高耐熱性を有する窒化珪素質焼結体及びその製造方
法に関する。
性及び耐食性等に優れているため、従来より、抵抗発熱
体を埋設したセラミックヒーター等の絶縁体材料として
使用されている。このようなセラミックヒーター等の絶
縁体材料として用いる場合、窒化珪素質焼結体は高絶縁
性であることが求められる。また、窒化珪素質焼結体を
絶縁体材料として用いた場合、抵抗発熱体として一般に
用いられているタングステン、炭化タングステン及び珪
化モリブデン等は、窒化珪素よりも熱膨張係数が大きい
ことから、加熱時又は発熱時に熱膨張差に起因して絶縁
体に亀裂を生ずる等の問題がある。かかる亀裂の発生を
防止するためには、絶縁体材料の熱膨張係数を抵抗発熱
体の熱膨張係数と同程度まで大きくする必要がある。よ
って、セラミックヒーター等の絶縁体材料等として用い
る場合、窒化珪素質焼結体の性質として、高絶縁性であ
ると共に、熱膨張係数が大きいことが求められる。
するために、従来より、窒化珪素より熱膨張係数の大き
い希土類元素化合物(酸化物等)や金属系化合物(炭化
物、窒化物及び珪化物等)等の粒子を高熱膨張化合物と
して、窒化珪素焼結体の原料粉末に添加し分散させるこ
とが行われている。このような高熱膨張化合物は、一般
に、体積比で数%〜30%程度が窒化珪素質焼結体に配
合されている。
化合物である希土類元素化合物や金属系化合物は、大き
な熱膨張係数を有する反面、高い導電性を有しているこ
とから、焼結体に添加した場合、焼結体の絶縁性を低下
させるという問題がある。特に、焼結性及び強度の低下
を抑えるため、高熱膨張化合物を多量に添加し分散させ
た場合、高熱膨張化合物は窒化珪素粒子の粒界に連続的
に存在することが多く、その結果、焼結体の絶縁性を大
幅に低下させる要因となる。この絶縁性の低下を抑える
ため、窒化珪素原料あるいは焼結助剤の組成及び粒径等
について様々な検討がなされているが、絶縁性を維持し
つつ、熱膨張係数の大きい窒化珪素焼結体を得ることは
未だ容易ではない。
あり、熱膨張係数が大きく、且つ優れた絶縁性がそのま
ま維持され、セラミックグロープラグの基体材料等の絶
縁性材料等として好適な高耐熱性を有する窒化珪素質焼
結体及びその製造方法に関する。
質焼結体中の各種成分と絶縁性及び熱膨張係数との関係
について検討した結果、原料粉末に特定の粒径を有する
炭化珪素を所定量添加することにより、優れた絶縁性が
そのまま維持されると共に、熱膨張係数を大きくするこ
とができることを見出して本発明を完成するに至った。
分100質量%に対し、平均粒径が1μm以下の炭化珪
素を1質量%以上4質量%未満分散含有してなり、且つ
室温から1000℃までの熱膨張係数が3.7ppm/
℃以上であることを特徴とする。
窒化珪素質焼結体を構成する成分のうち、炭化珪素成分
を除いたもので、窒化珪素を主成分とするものであれ
ば、その他の成分を含んでいてもよく、また、各成分の
含有量については特に限定はない。その他の成分とし
て、例えば、希土類元素(Eu、Sm、Y、Sc、L
a、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Er及びY
b等)やCr等が挙げられる。また、希土類元素及びC
rを含む場合、その含有量としては、上記窒化珪素成分
中、希土類元素を酸化物換算で15〜25質量%、好ま
しくは16〜24質量%、更に好ましくは17〜23質
量%とし、Crを酸化物換算で5〜10質量%、好まし
くは6〜10質量%、更に好ましくは7〜10質量%と
することができる。かかる範囲とすることにより、高温
下での機械特性を向上させることが可能であることから
好ましい。尚、希土類元素の酸化物換算量とは、窒化珪
素成分中の希土類元素をR2O3(R:希土類元素)に換
算した量を表し、Crの酸化物換算量とは、窒化珪素成
分中のCrをCr2O3に換算した量を表す。
含有することにより、窒化珪素質粒子が針状に粒成長す
るのを抑えることができる。これにより、絶縁物である
窒化珪素粒子の比表面積が増大し、導電性を有する高熱
膨張化合物の粒子が導電経路を形成するのを抑える効果
が働く。その結果、得られる焼結体の熱膨張係数を大き
くすると共に、絶縁性の低下を防止することができる。
分100質量%に対して、通常1質量%以上4質量%未
満、好ましくは1〜3質量%、更に好ましくは1.5〜
2.5質量%である。この炭化珪素の量が4質量%以上
の場合、炭化珪素添加量の増加に伴い、炭化珪素自体の
導電性により、得られる焼結体の絶縁抵抗値が低下して
しまうので好ましくない。一方、炭化珪素の量が1質量
%未満の場合は、窒化珪素粒子の針状化が抑制されない
ため、窒化珪素粒子の比表面積が減少し、高熱膨張化合
物の導電パスを抑えることができず、やはり得られる焼
結体の絶縁性を損なってしまうので好ましくない。
m以下、好ましくは0.7μm以下、更に好ましくは
0.1〜0.7μmである。平均粒径が1μmを超える
と、窒化珪素粒子の針状化を抑制することができず、絶
縁性が得られないので好ましくない。一方、平均粒径1
μm以下の炭化珪素を用いることにより、炭化珪素の比
表面積を増大させることができ、その結果、窒化珪素粒
子の針状化を抑制する効果が大きくなるので好ましい。
尚、上記「炭化珪素」の平均粒径については、炭化珪素
粒子は焼結による粒成長を起こさないものとして、炭化
した炭化珪素原料の平均粒径を用いている。
素を含有させることにより、粒界に結晶相を生じさせる
ことができる。これにより、窒化珪素質焼結体の高温下
での機械特性を向上させることができるので好ましい。
このような結晶相としては、例えば、H相(R20Si12
N4O48)、J相(R4Si2N2O7)、M相(R2Si 3
N4O3)、ダイシリケート相(R2Si2O7)等の結晶
相(R:希土類元素)等が挙げられる。
熱膨張係数は、室温から1000℃までの熱膨張係数が
通常3.7ppm/℃以上、好ましくは3.75ppm
/℃以上、更に好ましくは3.8ppm/℃以上であ
る。窒化珪素質焼結体の熱膨張係数をかかる範囲とする
ことにより、タングステン、炭化タングステン及び珪化
モリブデン等により構成される抵抗発熱体との熱膨張係
数の差を小さくすることができる。その結果、セラミッ
クグロープラグの基体材料等の絶縁性材料等として用い
た場合、熱膨張係数の差に起因する亀裂の発生を防ぐこ
とができるので好ましい。また、本発明の窒化珪素質焼
結体は、熱膨張係数が大きいと共に、優れた絶縁性を奏
する。具体的には、実験例に記載の方法により測定した
絶縁抵抗値を10000MΩ以上とすることができる。
窒化珪素質成分100質量%に対し、平均粒径が1μm
以下の炭化珪素を1質量%以上4質量%未満添加した原
料粉末混合物を焼結することにより得られることを特徴
とする。本発明の製造方法において、焼結方法、焼結条
件については、焼結体を得ることができる限りは特に限
定はない。焼結助剤を用いても用いなくてもよく、常圧
焼結でも加圧焼結でもよい。焼結温度は通常1650〜
1950℃であり、窒化珪素の分解を抑制するため、通
常は窒素を含む非酸化性ガス雰囲気中で焼結する。
ては、窒化珪素か、あるいは焼成により窒化珪素となる
成分を含んでいれば特に限定はなく、その他にも、焼結
助剤等、他の成分を1種又は2種以上添加することがで
きる。このような成分としては、例えば、希土類元素化
合物やCr化合物を添加することができる。上記希土類
元素化合物としては、希土類元素(Eu、Sm、Y、S
c、La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Er
及びYb等)の酸化物等が挙げられ、上記Cr化合物と
しては、CrSi2、Cr5Si3等が挙げられる。ま
た、原料粉末に希土類元素化合物及びCr化合物を添加
する場合、その量は、上記窒化珪素成分中、希土類元素
を酸化物換算で15〜25質量%、好ましくは16〜2
4質量%、更に好ましくは17〜23質量%とし、Cr
を酸化物換算で5〜10質量%、好ましくは6〜10質
量%、更に好ましくは7〜10質量%とすることができ
る。かかる範囲とすることにより、高温下での機械特性
を向上させることが可能であることから好ましい。更
に、上記原料粉末混合物に希土類元素を含有させて焼結
することにより、粒界に結晶相を析出させることができ
る。これにより、窒化珪素質焼結体の高温下での機械特
性を向上させることができるので好ましい。
び比較例を挙げて具体的に説明する。 (1)焼結体の調製 〔実験例1〕原料粉末として、Si3N4粉末(平均粒径
0.7μm)、希土類酸化物であるY2O3(平均粒径
1.0〜3.0μm)、及び平均粒径1.0μmのCr
化合物粉末(Cr2O3・CrSi2)を用い、添加する
炭化珪素として、結晶構造がαの炭化珪素粉末(平均粒
径1.0μm)を用いた。これを表1に示した組成で配
合して原料混合粉末を調製した。そして、該原料混合粉
末を、Si3N4製の球石を使用してエタノール中で16
時間湿式混合し、次いで湯煎乾燥し、その後、窒素雰囲
気下、1800℃、25MPaの条件で0.5時間かけ
てホットプレスで焼成し、45×45×5mmの焼結体
No.1〜15を得た。
ついて、熱膨張係数及び絶縁抵抗値を調べた。その結果
を以下の表1に示す。表1において、無印の試料No.
は、本発明の範囲の実施例であり、※印の試料No.は
本発明の範囲外の比較例である。ここで、熱膨張係数
(ppm/℃)は、上記焼結体No.1〜15を3mm
×4mm×15mmの形状の試験片に加工し、室温〜1
000℃、窒素雰囲気下の条件で試験片の長さを測定
し、以下の式により求めた。また、絶縁抵抗値(MΩ)
は、上記焼結体No.1〜15を3mm×4mm×17
mmの形状の試験片に加工し、測定装置として東亜電波
工業株式会社製超絶縁計「SM−8205」を用いて、
室温にてこの試験片の両端をワニ口クリップ端子により
挟み、1000Vの電圧を1分間チャージした後、抵抗
値を測定することにより求めた。 D=−{(A−B)/〔C×(1000−30)〕}+
8.45×10-6 A:1000℃における標準試料長さ(mm) B:1000℃における測定試料長さ(mm) C:30℃における測定試料長さ(mm) D:熱膨張係数
7μm)75質量%に、希土類酸化物であるY2O3(平
均粒径1.0〜3.0μm)を15質量%、平均粒径
1.0μmのCr化合物粉末(Cr2O3及びCrS
i2)を10質量%添加して原料粉末とし、これに結晶
構造がαの炭化珪素粉末(平均粒径0.1〜3.0μ
m)を原料粉末100質量%に対して2質量%配合し、
原料混合粉末を調製した。そして、該原料混合粉末を、
Si3N4製の球石を使用してエタノール中で16時間湿
式混合し、次いで湯煎乾燥し、その後、窒素雰囲気下、
1800℃、25MPaの条件で0.5時間かけてホッ
トプレスで焼成し、45×45×5mmの焼結体No.
16〜20を得た。そして、得られた焼結体No.16
〜20について、熱膨張係数及び絶縁抵抗値を調べた。
その結果を以下の表2に示す。尚、表2において、N
o.16〜18は、本発明の範囲内であり、No.19
及び20は本発明の範囲外である。また、熱膨張係数
(ppm/℃)及び絶縁抵抗値(MΩ)の測定方法は、
上記(1)の実験例1と同じである。
〜20の組成を用いて、それぞれ10本のグロープラグ
素子を製作し、通電サイクル試験を行った。通電サイク
ル試験は、グロープラグに電源を取り付け、通電1分間
で飽和温度1400℃に昇温した後、1分間通電を断つ
のを1サイクルとして、最大10000サイクルまで通
電サイクル試験を行った。この通電サイクル試験の結果
を表3に示す。表3において、10本の素子で不具合が
生じなかったものは○、基体材料の絶縁抵抗不足により
1本でも不具合を生じた素子は△、10本全ての素子に
おいて、基体材料の絶縁抵抗不足により不具合を生じた
素子は×とした。
例1より、炭化珪素を含まないNo.1、6及び11並
びに炭化珪素の分散含有量が4質量%の5、10及び1
5の各焼結体では、絶縁抵抗が5000〜8000MΩ
である。これに対して、炭化珪素の添加量が1〜3質量
%のNo.2〜4、7〜9及び12〜14の焼結体で
は、絶縁抵抗が11000〜100000MΩと高い値
を示している。この結果より、炭化珪素の添加量を1質
量%以上4質量%未満とすることにより、焼結体の熱膨
張係数を大きくすると共に、絶縁性を高めることができ
ることが判る。
化珪素の平均粒径を変化させた実験例2より、炭化珪素
の平均粒径が1.2μmのNo.19及び3.0μmの
No.20の各焼結体では、絶縁抵抗が2000及び9
000MΩである。これに対して、炭化珪素の平均粒径
を1.0μm以下としたNo.16〜18の各焼結体で
は、絶縁抵抗が70000〜1000000MΩと高い
値を示している。この結果より、炭化珪素の平均粒径を
1.0μm以下とすることにより、焼結体の熱膨張係数
を大きくすると共に、絶縁性を高めることができること
が判る。
2のNo.1〜20の組成を用いて調製したグロープラ
グについて通電サイクル試験を行った結果、本発明の範
囲であるNo.2〜4、7〜9、12〜14及び16〜
18の各焼結体では、全く不具合が生じなかったのに対
し、本発明の範囲外であるNo.1、5、6、10、1
1、15、19及び20の各焼結体では、いずれも通電
サイクル試験において不具合が生じている。この結果よ
り、本発明の範囲である焼結体は、通電サイクル性能に
優れた耐久性を示しているのに対して、本発明の範囲外
の焼結体では、基体材料の絶縁不足により耐久性が低い
ことが判る。
に示すものに限られず、目的、用途に応じて種々変更し
た実施例とすることができる。
化珪素成分100質量%に対し、平均粒径が1μm以下
の炭化珪素を1質量%以上4質量%未満分散含有するこ
とにより、絶縁性を維持しつつ、熱膨張係数を大きくす
ることができる。また、窒化珪素成分中、希土類元素を
酸化物換算で15〜25質量%、Crを酸化物換算で5
〜10質量%含有するものとしたり、焼結体の粒界に結
晶相を析出させることにより、絶縁性を維持し、熱膨張
係数を大きくすると共に、高温下での機械特性を向上さ
せることができる。よって、本発明の窒化珪素質焼結体
は、セラミックグロープラグの基体材料等として好適に
利用することができる。また、本発明の窒化珪素質焼結
体の製造方法によれば、上記特性を有する窒化珪素質焼
結体を得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 窒化珪素成分100質量%に対し、平均
粒径が1μm以下の炭化珪素を1質量%以上4質量%未
満分散含有してなり、且つ室温から1000℃までの熱
膨張係数が3.7ppm/℃以上であることを特徴とす
る窒化珪素質焼結体。 - 【請求項2】 上記窒化珪素成分中、希土類元素を酸化
物換算で15〜25質量%、Crを酸化物換算で5〜1
0質量%含有する請求項1記載の窒化珪素質焼結体。 - 【請求項3】 上記焼結体中の粒界に結晶相が存在する
請求項2記載の窒化珪素質焼結体。 - 【請求項4】 窒化珪素成分100質量%に対し、平均
粒径が1μm以下の炭化珪素を1質量%以上4質量%未
満添加した原料粉末混合物を焼成することを特徴とする
窒化珪素質焼結体の製造方法。 - 【請求項5】 窒化珪素成分100質量%に対し、平均
粒径が1μm以下の炭化珪素を1質量%以上4質量%未
満添加した原料粉末混合物を焼成し、粒界に結晶相を析
出させることを特徴とする窒化珪素質焼結体の製造方
法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000402257A JP4795534B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
US10/024,015 US6849207B2 (en) | 2000-12-28 | 2001-12-21 | Silicon nitride sintered material and production process thereof |
DE60111915T DE60111915T2 (de) | 2000-12-28 | 2001-12-27 | Sinterwerkstoff aus Siliciumnitrid und Verfahren zu dessen Herstellung |
EP01310900A EP1219579B1 (en) | 2000-12-28 | 2001-12-27 | Silicon nitride sintered material and production process thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000402257A JP4795534B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002201074A true JP2002201074A (ja) | 2002-07-16 |
JP4795534B2 JP4795534B2 (ja) | 2011-10-19 |
Family
ID=18866586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000402257A Expired - Fee Related JP4795534B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6849207B2 (ja) |
EP (1) | EP1219579B1 (ja) |
JP (1) | JP4795534B2 (ja) |
DE (1) | DE60111915T2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4294232B2 (ja) * | 2001-05-02 | 2009-07-08 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックヒータ及びそれを用いたグロープラグ |
KR101167557B1 (ko) * | 2007-10-29 | 2012-07-27 | 쿄세라 코포레이션 | 세라믹 히터 및 이것을 구비한 글로 플러그 |
EP2257119B1 (en) * | 2008-02-20 | 2018-04-04 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Ceramic heater and glow plug |
JP5964547B2 (ja) * | 2011-01-25 | 2016-08-03 | 日本特殊陶業株式会社 | グロープラグおよびその製造方法 |
JP6140955B2 (ja) * | 2011-12-21 | 2017-06-07 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックヒータの製造方法 |
DE102016114929B4 (de) * | 2016-08-11 | 2018-05-09 | Borgwarner Ludwigsburg Gmbh | Druckmessglühkerze |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06263540A (ja) * | 1993-03-11 | 1994-09-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 複合焼結体およびその製造法 |
JPH07267734A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Nippon Steel Corp | 粒子分散窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
JPH0948667A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Bayer Ag | 高温において安定な焼結複合材料、およびその製造法並びに使用法 |
JPH1081568A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-31 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 窒化珪素−炭化珪素複合焼結体及びその製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5826077A (ja) | 1981-08-10 | 1983-02-16 | 株式会社東芝 | セラミツクス焼結体及びその製造方法 |
JPS61266359A (ja) | 1985-05-20 | 1986-11-26 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体の製造法 |
JP2616931B2 (ja) | 1987-09-01 | 1997-06-04 | 株式会社デンソー | グロープラグのヒータ支持体 |
US5238882A (en) * | 1989-05-10 | 1993-08-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing silicon nitride sintered bodies |
DE69004735T2 (de) * | 1989-05-10 | 1994-05-11 | Ngk Insulators Ltd | Siliciumnitrid-Sinterkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
US5096859A (en) * | 1990-02-09 | 1992-03-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Silicon nitride sintered body and method of producing the same |
EP0493802B1 (en) | 1990-12-27 | 1996-08-28 | Kyocera Corporation | Silicon nitride-silicon carbide composite sintered material |
US5494866A (en) | 1991-06-17 | 1996-02-27 | Alliedsignal Inc. | Stress-rupture resistant sintered silicon nitride |
JP3078418B2 (ja) | 1993-02-26 | 2000-08-21 | 京セラ株式会社 | セラミック発熱体 |
JP3398274B2 (ja) | 1995-12-27 | 2003-04-21 | 京セラ株式会社 | セラミックヒータ |
JPH1025162A (ja) | 1996-07-08 | 1998-01-27 | Kyocera Corp | セラミック焼結体 |
JP3807813B2 (ja) | 1997-04-23 | 2006-08-09 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックヒータ及びセラミックグロープラグ |
JP4685257B2 (ja) * | 2001-03-09 | 2011-05-18 | 日本特殊陶業株式会社 | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-12-28 JP JP2000402257A patent/JP4795534B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-12-21 US US10/024,015 patent/US6849207B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-27 DE DE60111915T patent/DE60111915T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-27 EP EP01310900A patent/EP1219579B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06263540A (ja) * | 1993-03-11 | 1994-09-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 複合焼結体およびその製造法 |
JPH07267734A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Nippon Steel Corp | 粒子分散窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
JPH0948667A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Bayer Ag | 高温において安定な焼結複合材料、およびその製造法並びに使用法 |
JPH1081568A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-31 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 窒化珪素−炭化珪素複合焼結体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60111915D1 (de) | 2005-08-18 |
JP4795534B2 (ja) | 2011-10-19 |
US6849207B2 (en) | 2005-02-01 |
EP1219579B1 (en) | 2005-07-13 |
US20020134774A1 (en) | 2002-09-26 |
DE60111915T2 (de) | 2006-04-20 |
EP1219579A1 (en) | 2002-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2676946B1 (en) | Ti3sic2 material, electrode, spark plug, and processes for production thereof | |
KR101523354B1 (ko) | 안정한 서미스터 | |
JP4685257B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 | |
CN112159233B (zh) | 一种高耐电场强度碳化硅基复相陶瓷材料及其制备方法 | |
JP4808852B2 (ja) | 窒化珪素/炭化タングステン複合焼結体 | |
Chen et al. | Ferroelectric and dielectric properties of Sr2− x (Na, K) xBi4Ti5O18 lead-free piezoelectric ceramics | |
JP2002201074A (ja) | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 | |
JP2002179464A (ja) | 窒化珪素/炭化タングステン複合焼結体 | |
JPH08268760A (ja) | セラミックヒータ及びその製造方法 | |
Li et al. | Effects of doping Y2O3 on the microstructure and electrical properties of ZnO-Bi2O3− based varistor ceramics | |
JP4604247B2 (ja) | テルビウム・ビスマス・タングステン酸化物固溶体からなる電気伝導材料及びその製造方法 | |
KR102552189B1 (ko) | 질화 알루미늄 세라믹스 조성물 및 그의 제조방법 | |
JP6291446B2 (ja) | 導電性炭化珪素質焼結体の製造方法 | |
KR20030024084A (ko) | 보조난방장치용 ptc 세라믹히터 및 그 제조방법 | |
JP3611345B2 (ja) | セラミック及びその用途 | |
JP2537606B2 (ja) | セラミツクヒ−タ | |
JP2018168006A (ja) | 導電性炭化珪素質焼結体の製造方法及び導電性炭化珪素質焼結体 | |
JPH1050460A (ja) | セラミックヒータ | |
JP3965246B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法並びにセラミックヒータ用絶縁体材料 | |
JP2735645B2 (ja) | 黒色窒化アルミニウム焼結体 | |
JP2704194B2 (ja) | 黒色窒化アルミニウム焼結体 | |
JP3995512B2 (ja) | 燃焼検知電極およびそれを用いた燃焼装置 | |
JP2019172495A (ja) | 導電性炭化珪素質焼結体の製造方法及び導電性炭化珪素質焼結体 | |
JP2005170783A (ja) | ビスマス・テルビウム・タングステン酸化物固溶体からなる電気伝導材料及びその製造方法 | |
JP3547154B2 (ja) | セラミック発熱体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110712 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140805 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140805 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |