JP2002195728A - チラー装置 - Google Patents
チラー装置Info
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- JP2002195728A JP2002195728A JP2000400617A JP2000400617A JP2002195728A JP 2002195728 A JP2002195728 A JP 2002195728A JP 2000400617 A JP2000400617 A JP 2000400617A JP 2000400617 A JP2000400617 A JP 2000400617A JP 2002195728 A JP2002195728 A JP 2002195728A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度に温度制御を行うとともに、制御性を
高める。 【解決手段】 冷媒流路１の所定位置に、冷凍機２、ヒ
ータ３、第１温度センサ４、ポンプ５、バッファタンク
６、および第２温度センサ７をこの順に配置していると
ともに、第１温度センサ４の出力、および第２温度セン
サ７の出力を入力として冷凍機２、およびヒータ３に供
給すべき制御信号を出力する温度コントローラ８を有し
ている。
高める。 【解決手段】 冷媒流路１の所定位置に、冷凍機２、ヒ
ータ３、第１温度センサ４、ポンプ５、バッファタンク
６、および第２温度センサ７をこの順に配置していると
ともに、第１温度センサ４の出力、および第２温度セン
サ７の出力を入力として冷凍機２、およびヒータ３に供
給すべき制御信号を出力する温度コントローラ８を有し
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はチラー装置に関
し、さらに詳細にいえば、温度制御対象から冷媒を取り
出し、この冷媒を所定温度に制御した後にバッファタン
クを通して再び温度制御対象に供給するチラー装置に関
する。
し、さらに詳細にいえば、温度制御対象から冷媒を取り
出し、この冷媒を所定温度に制御した後にバッファタン
クを通して再び温度制御対象に供給するチラー装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、種々の用途、例えば、半導体
製造装置などに一定温度のブラインを供給する用途に、
チラー装置が採用されている。
製造装置などに一定温度のブラインを供給する用途に、
チラー装置が採用されている。
【０００３】このようなチラー装置としては、図５に示
す構成のもの、および図６に示す構成のものが提案され
ている。
す構成のもの、および図６に示す構成のものが提案され
ている。
【０００４】図５に示すチラー装置は、図示しない温度
制御対象から取り出した冷媒（例えば、ブライン）を冷
凍機５１により冷却した後にヒータ５２により加熱する
ことにより温度制御を行い、ポンプ５３によってバッフ
ァタンク５４に供給し、バッファタンク５４から温度制
御対象に冷媒を供給するようにしている。そして、バッ
ファタンク５４から吐出される冷媒の温度を温度センサ
５５により検出し、設定温度および検出温度に基づいて
ＰＩＤ制御などを行って制御信号を出力して冷凍機５１
およびヒータ５２を制御するようにしている。そして、
温度センサ５５として、白金測温体などの高精度温度セ
ンサを採用している。
制御対象から取り出した冷媒（例えば、ブライン）を冷
凍機５１により冷却した後にヒータ５２により加熱する
ことにより温度制御を行い、ポンプ５３によってバッフ
ァタンク５４に供給し、バッファタンク５４から温度制
御対象に冷媒を供給するようにしている。そして、バッ
ファタンク５４から吐出される冷媒の温度を温度センサ
５５により検出し、設定温度および検出温度に基づいて
ＰＩＤ制御などを行って制御信号を出力して冷凍機５１
およびヒータ５２を制御するようにしている。そして、
温度センサ５５として、白金測温体などの高精度温度セ
ンサを採用している。
【０００５】この構成のチラー装置を採用すれば、バッ
ファタンク５４から吐出される冷媒温度が設定温度にな
るように冷媒の温度制御を行うことができ、温度制御対
象に供給される冷媒の温度を設定温度になるように制御
することができる。
ファタンク５４から吐出される冷媒温度が設定温度にな
るように冷媒の温度制御を行うことができ、温度制御対
象に供給される冷媒の温度を設定温度になるように制御
することができる。
【０００６】図６に示すチラー装置は、図示しない温度
制御対象から取り出した冷媒（例えば、ブライン）を冷
凍機６１により冷却した後にヒータ６２により加熱する
ことにより温度制御を行い、ポンプ６３によってバッフ
ァタンク６４に供給し、バッファタンク６４から温度制
御対象に冷媒を供給するようにしている。そして、ポン
プ６３の入口における冷媒の温度を温度センサ６５によ
り検出し、設定温度および検出温度に基づいてＰＩＤ制
御などを行って制御信号を出力して冷凍機６１およびヒ
ータ６２を制御するようにしている。そして、温度セン
サ６５として、白金測温体などの高精度温度センサを採
用している。
制御対象から取り出した冷媒（例えば、ブライン）を冷
凍機６１により冷却した後にヒータ６２により加熱する
ことにより温度制御を行い、ポンプ６３によってバッフ
ァタンク６４に供給し、バッファタンク６４から温度制
御対象に冷媒を供給するようにしている。そして、ポン
プ６３の入口における冷媒の温度を温度センサ６５によ
り検出し、設定温度および検出温度に基づいてＰＩＤ制
御などを行って制御信号を出力して冷凍機６１およびヒ
ータ６２を制御するようにしている。そして、温度セン
サ６５として、白金測温体などの高精度温度センサを採
用している。
【０００７】この構成のチラー装置を採用すれば、ポン
プ６３の入口における冷媒の温度が設定温度になるよう
に冷媒の温度制御を行うことができる。
プ６３の入口における冷媒の温度が設定温度になるよう
に冷媒の温度制御を行うことができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図５に示すチラー装置
を採用した場合には、冷凍機５１、ヒータ５２と温度セ
ンサ５５との間にバッファタンク５４が介在している関
係上、高速な温度制御を行うことができない。したがっ
て、急激な負荷変動があった場合でも温度制御対象に供
給すべき冷媒の温度が急激に変動するという不都合の発
生を防止するために、バッファタンク５４を大型化しな
ければならない。
を採用した場合には、冷凍機５１、ヒータ５２と温度セ
ンサ５５との間にバッファタンク５４が介在している関
係上、高速な温度制御を行うことができない。したがっ
て、急激な負荷変動があった場合でも温度制御対象に供
給すべき冷媒の温度が急激に変動するという不都合の発
生を防止するために、バッファタンク５４を大型化しな
ければならない。
【０００９】図６に示すチラー装置を採用した場合に
は、冷凍機６１、ヒータ６２と温度センサ６５との間に
バッファタンク６４が介在していない関係上、高速な温
度制御を行うことができ、ひいてはバッファタンクを小
型化することができる。
は、冷凍機６１、ヒータ６２と温度センサ６５との間に
バッファタンク６４が介在していない関係上、高速な温
度制御を行うことができ、ひいてはバッファタンクを小
型化することができる。
【００１０】しかし、実際に温度が高精度に制御される
のはポンプ６３の入口における冷媒の温度であり、温度
制御対象に供給されるまでの間にはポンプ６３、バッフ
ァタンク６４および配管が存在しているので、バッファ
タンク６４から吐出される冷媒の温度を正確に制御でき
ているという保証が全くない。例えば、半導体製造装置
においては、著しく高精度の温度制御が要求されるので
あるから、この不都合は到底無視しえないものである。
のはポンプ６３の入口における冷媒の温度であり、温度
制御対象に供給されるまでの間にはポンプ６３、バッフ
ァタンク６４および配管が存在しているので、バッファ
タンク６４から吐出される冷媒の温度を正確に制御でき
ているという保証が全くない。例えば、半導体製造装置
においては、著しく高精度の温度制御が要求されるので
あるから、この不都合は到底無視しえないものである。
【００１１】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、高精度に温度制御を行うことができると
ともに、制御性を高めることができるチラー装置を提供
することを目的としている。
たものであり、高精度に温度制御を行うことができると
ともに、制御性を高めることができるチラー装置を提供
することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１のチラー装置
は、温度制御対象から冷媒を取り出し、この冷媒を所定
温度に制御した後にバッファタンクを通して再び温度制
御対象に供給するものにおいて、冷却手段および加熱手
段により温度が制御された冷媒をバッファタンクに供給
する冷媒供給手段と、冷媒供給手段の上流側における冷
媒の温度を検出する第１温度検出手段と、バッファタン
クの下流側における冷媒の温度を検出する第２温度検出
手段と、設定温度、第１温度検出手段による第１検出温
度、および第２温度検出手段による第２検出温度に基づ
いて冷却手段および加熱手段を制御する温度制御手段と
を含むものである。
は、温度制御対象から冷媒を取り出し、この冷媒を所定
温度に制御した後にバッファタンクを通して再び温度制
御対象に供給するものにおいて、冷却手段および加熱手
段により温度が制御された冷媒をバッファタンクに供給
する冷媒供給手段と、冷媒供給手段の上流側における冷
媒の温度を検出する第１温度検出手段と、バッファタン
クの下流側における冷媒の温度を検出する第２温度検出
手段と、設定温度、第１温度検出手段による第１検出温
度、および第２温度検出手段による第２検出温度に基づ
いて冷却手段および加熱手段を制御する温度制御手段と
を含むものである。
【００１３】請求項２のチラー装置は、前記温度制御手
段として、第２検出温度と第１検出温度との差を設定温
度に加算して設定温度を補正する設定温度補正手段と、
補正された設定温度を入力としてＰＩＤ制御を行って冷
却手段および加熱手段を制御する制御信号を出力するＰ
ＩＤ制御手段とを含むものを採用するものである。
段として、第２検出温度と第１検出温度との差を設定温
度に加算して設定温度を補正する設定温度補正手段と、
補正された設定温度を入力としてＰＩＤ制御を行って冷
却手段および加熱手段を制御する制御信号を出力するＰ
ＩＤ制御手段とを含むものを採用するものである。
【００１４】
【作用】請求項１のチラー装置であれば、温度制御対象
から冷媒を取り出し、この冷媒を所定温度に制御した後
にバッファタンクを通して再び温度制御対象に供給する
に当たって、冷媒供給手段によって、冷却手段および加
熱手段により温度が制御された冷媒をバッファタンクに
供給し、第１温度検出手段によって、冷媒供給手段の上
流側における冷媒の温度を検出し、第２温度検出手段に
よって、バッファタンクの下流側における冷媒の温度を
検出する。そして、温度制御手段によって、設定温度、
第１温度検出手段による第１検出温度、および第２温度
検出手段による第２検出温度に基づいて冷却手段および
加熱手段を制御する。
から冷媒を取り出し、この冷媒を所定温度に制御した後
にバッファタンクを通して再び温度制御対象に供給する
に当たって、冷媒供給手段によって、冷却手段および加
熱手段により温度が制御された冷媒をバッファタンクに
供給し、第１温度検出手段によって、冷媒供給手段の上
流側における冷媒の温度を検出し、第２温度検出手段に
よって、バッファタンクの下流側における冷媒の温度を
検出する。そして、温度制御手段によって、設定温度、
第１温度検出手段による第１検出温度、および第２温度
検出手段による第２検出温度に基づいて冷却手段および
加熱手段を制御する。
【００１５】したがって、冷媒の温度を高精度に制御す
ることができるとともに、冷媒の温度の制御性を高める
ことができる。そして、第１温度検出手段として、相対
精度があるが絶対精度が保証されていないものを採用す
ることができるので、温度検出手段が増加することに伴
うコストの増加を大幅に抑制することができる。
ることができるとともに、冷媒の温度の制御性を高める
ことができる。そして、第１温度検出手段として、相対
精度があるが絶対精度が保証されていないものを採用す
ることができるので、温度検出手段が増加することに伴
うコストの増加を大幅に抑制することができる。
【００１６】請求項２のチラー装置であれば、前記温度
制御手段として、第２検出温度と第１検出温度との差を
設定温度に加算して設定温度を補正する設定温度補正手
段と、補正された設定温度を入力としてＰＩＤ制御を行
って冷却手段および加熱手段を制御する制御信号を出力
するＰＩＤ制御手段とを含むものを採用するのであるか
ら、温度制御手段の構成の複雑化を大幅に抑制し、しか
も請求項１と同様の作用を達成することができる。
制御手段として、第２検出温度と第１検出温度との差を
設定温度に加算して設定温度を補正する設定温度補正手
段と、補正された設定温度を入力としてＰＩＤ制御を行
って冷却手段および加熱手段を制御する制御信号を出力
するＰＩＤ制御手段とを含むものを採用するのであるか
ら、温度制御手段の構成の複雑化を大幅に抑制し、しか
も請求項１と同様の作用を達成することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、この
発明のチラー装置の実施の態様を詳細に説明する。
発明のチラー装置の実施の態様を詳細に説明する。
【００１８】図１はこの発明のチラー装置を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【００１９】このチラー装置は、図示しない温度制御対
象と連通される冷媒流路１の所定位置に、冷凍機２、ヒ
ータ３、第１温度センサ４、ポンプ５、バッファタンク
６、および第２温度センサ７をこの順に配置していると
ともに、第１温度センサ４の出力、および第２温度セン
サ７の出力を入力として冷凍機２、およびヒータ３に供
給すべき制御信号を出力する温度コントローラ８を有し
ている。なお、８ａは温度表示部である。
象と連通される冷媒流路１の所定位置に、冷凍機２、ヒ
ータ３、第１温度センサ４、ポンプ５、バッファタンク
６、および第２温度センサ７をこの順に配置していると
ともに、第１温度センサ４の出力、および第２温度セン
サ７の出力を入力として冷凍機２、およびヒータ３に供
給すべき制御信号を出力する温度コントローラ８を有し
ている。なお、８ａは温度表示部である。
【００２０】図２は温度コントローラ８の構成の一例を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【００２１】この温度コントローラ８は、設定値ＳＶお
よび第２温度センサ７による第２検出温度ＰＶ２を入力
として両者の差を出力する設定値コントローラ８ｂと、
設定値コントローラ８ｂの出力と第１温度センサによる
第１検出温度ＰＶ１とを加算して補正後設定値ＳＶ’を
出力する加算部８ｃと、補正後設定値ＳＶ’を入力とし
てＰＩＤ演算（比例演算、積分演算、微分演算）（スプ
リット制御またはＶ字型制御）を行って冷凍機２、ヒー
タ３を制御する制御信号を出力するＰＩＤコントローラ
８ｃと、第２検出温度ＰＶ２を入力として温度表示を行
う温度表示部８ａとを有している。
よび第２温度センサ７による第２検出温度ＰＶ２を入力
として両者の差を出力する設定値コントローラ８ｂと、
設定値コントローラ８ｂの出力と第１温度センサによる
第１検出温度ＰＶ１とを加算して補正後設定値ＳＶ’を
出力する加算部８ｃと、補正後設定値ＳＶ’を入力とし
てＰＩＤ演算（比例演算、積分演算、微分演算）（スプ
リット制御またはＶ字型制御）を行って冷凍機２、ヒー
タ３を制御する制御信号を出力するＰＩＤコントローラ
８ｃと、第２検出温度ＰＶ２を入力として温度表示を行
う温度表示部８ａとを有している。
【００２２】次いで、図３のフローチャートを参照し
て、起動時、もしくは設定温度変更時における温度コン
トローラの作用を説明する。
て、起動時、もしくは設定温度変更時における温度コン
トローラの作用を説明する。
【００２３】ステップＳＰ１において、検出温度が安定
するまで待ち、ステップＳＰ２において、設定値を変更
し、ステップＳＰ３において、検出温度が収束したか否
かを判定する。そして、収束していなければ、再びステ
ップＳＰ１の処理を行う。逆に、収束していれば、ステ
ップＳＰ４において、変更後の設定値を保存する。
するまで待ち、ステップＳＰ２において、設定値を変更
し、ステップＳＰ３において、検出温度が収束したか否
かを判定する。そして、収束していなければ、再びステ
ップＳＰ１の処理を行う。逆に、収束していれば、ステ
ップＳＰ４において、変更後の設定値を保存する。
【００２４】さらに説明する。
【００２５】ステップＳＰ１においては、第１検出温度
ＰＶ１、第２検出温度ＰＶ２が安定するまで待つ。ここ
で、「検出温度が安定する」とは、例えば、第１検出温
度ＰＶ１が設定値ＳＶに近づくまで待つ。そして、この
間は、設定値ＳＶを一定に保持し、かつ当初はＳＶ＝Ｓ
Ｖ’に設定して温度制御を行う。
ＰＶ１、第２検出温度ＰＶ２が安定するまで待つ。ここ
で、「検出温度が安定する」とは、例えば、第１検出温
度ＰＶ１が設定値ＳＶに近づくまで待つ。そして、この
間は、設定値ＳＶを一定に保持し、かつ当初はＳＶ＝Ｓ
Ｖ’に設定して温度制御を行う。
【００２６】ステップＳＰ２においては、ＳＶ’＝ＳＶ
＋（ＰＶ１−ＰＶ２）の演算を行って設定値ＳＶ’を変
更する。
＋（ＰＶ１−ＰＶ２）の演算を行って設定値ＳＶ’を変
更する。
【００２７】ステップＳＰ３においては、第１検出温度
ＰＶ１と第２検出温度ＰＶ２との差が所定値以下になっ
た場合に検出温度が収束したと判定する。
ＰＶ１と第２検出温度ＰＶ２との差が所定値以下になっ
た場合に検出温度が収束したと判定する。
【００２８】ステップＳＰ４においては、設定値ＳＶに
対応する変更後の設定値ＳＶ’を保存する。したがっ
て、その後は、変更後の設定値ＳＶ’を設定値として設
定する。
対応する変更後の設定値ＳＶ’を保存する。したがっ
て、その後は、変更後の設定値ＳＶ’を設定値として設
定する。
【００２９】図４は両検出温度の経時変化、および設定
値ＳＶ’の経時変化の一例を示す図である。
値ＳＶ’の経時変化の一例を示す図である。
【００３０】図４から分かるように、起動当初、もしく
は設定温度変更当初には、設定値ＳＶを一定に保持し、
かつＳＶ＝ＳＶ’に設定して温度制御を行うので、第１
検出温度ＰＶ１が設定値ＳＶに近づく（第１検出温度Ｐ
Ｖ１が収束する）。
は設定温度変更当初には、設定値ＳＶを一定に保持し、
かつＳＶ＝ＳＶ’に設定して温度制御を行うので、第１
検出温度ＰＶ１が設定値ＳＶに近づく（第１検出温度Ｐ
Ｖ１が収束する）。
【００３１】この間において、第２検出温度ＰＶ２は、
ポンプ５の発熱、配管を通して外部から与えられる熱な
どに起因して第１検出温度よりも高くなる。
ポンプ５の発熱、配管を通して外部から与えられる熱な
どに起因して第１検出温度よりも高くなる。
【００３２】そして、第１検出温度ＰＶ１が収束した後
は、第１検出温度ＰＶ１と第２検出温度ＰＶ２との差に
基づいて設定値ＳＶ’を変更する。
は、第１検出温度ＰＶ１と第２検出温度ＰＶ２との差に
基づいて設定値ＳＶ’を変更する。
【００３３】設定値ＳＶ’が変更された場合には、両検
出温度の差ＰＶ２−ＰＶ１が所定値以下になったか否か
を判定し、所定値以下になるまで設定値ＳＶ’の変更を
反復する。
出温度の差ＰＶ２−ＰＶ１が所定値以下になったか否か
を判定し、所定値以下になるまで設定値ＳＶ’の変更を
反復する。
【００３４】したがって、両検出温度の差ＰＶ２−ＰＶ
１が所定値以下になるように設定値ＳＶ’が変更された
後は、冷凍機２およびヒータ３を制御することによっ
て、第１検出温度ＰＶ１が設定値ＳＶ’と等しくなると
ともに、第２検出温度ＰＶ２が設定値ＳＶと等しくなる
ように温度制御を行うことができる。
１が所定値以下になるように設定値ＳＶ’が変更された
後は、冷凍機２およびヒータ３を制御することによっ
て、第１検出温度ＰＶ１が設定値ＳＶ’と等しくなると
ともに、第２検出温度ＰＶ２が設定値ＳＶと等しくなる
ように温度制御を行うことができる。
【００３５】そして、第１検出温度ＰＶ１に基づく温度
制御は、バッファタンク６の影響を受けないので、制御
性を高めることができる。
制御は、バッファタンク６の影響を受けないので、制御
性を高めることができる。
【００３６】また、温度制御を行うに当たって、第２検
出温度ＰＶ２をも考慮しているので、温度制御精度を高
めることができる。特に、第１温度センサ４として、サ
ーミスタなどの絶対温度精度は保証されていないが相対
温度精度が保証されているものを採用しても、十分に高
い温度制御精度を達成することができる。
出温度ＰＶ２をも考慮しているので、温度制御精度を高
めることができる。特に、第１温度センサ４として、サ
ーミスタなどの絶対温度精度は保証されていないが相対
温度精度が保証されているものを採用しても、十分に高
い温度制御精度を達成することができる。
【００３７】なお、上記の実施態様においては、第２温
度センサ７によって第２検出温度ＰＶ２を検出するよう
にしているが、チラー装置の実測結果を基に参照表を作
成しておいて、この参照表から第２検出温度ＰＶ２を読
み出すよう構成することが可能であるほか、ポンプ５の
発熱を回転数／流量から推測して第２検出温度ＰＶ２を
得るよう構成することが可能である。
度センサ７によって第２検出温度ＰＶ２を検出するよう
にしているが、チラー装置の実測結果を基に参照表を作
成しておいて、この参照表から第２検出温度ＰＶ２を読
み出すよう構成することが可能であるほか、ポンプ５の
発熱を回転数／流量から推測して第２検出温度ＰＶ２を
得るよう構成することが可能である。
【００３８】
【発明の効果】請求項１の発明は、冷媒の温度を高精度
に制御することができるとともに、冷媒の温度の制御性
を高めることができ、しかも、第１温度検出手段とし
て、相対精度があるが絶対精度が保証されていないもの
を採用することができるので、温度検出手段が増加する
ことに伴うコストの増加を大幅に抑制することができる
という特有の効果を奏する。
に制御することができるとともに、冷媒の温度の制御性
を高めることができ、しかも、第１温度検出手段とし
て、相対精度があるが絶対精度が保証されていないもの
を採用することができるので、温度検出手段が増加する
ことに伴うコストの増加を大幅に抑制することができる
という特有の効果を奏する。
【００３９】請求項２の発明は、温度制御手段の構成の
複雑化を大幅に抑制し、しかも請求項１と同様の効果を
奏する。
複雑化を大幅に抑制し、しかも請求項１と同様の効果を
奏する。
【図１】この発明のチラー装置を示すブロック図であ
る。
る。
【図２】温度コントローラの構成の一例を示すブロック
図である。
図である。
【図３】温度コントローラの処理の一例を説明するフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図４】両検出温度ＰＶ１、ＰＶ２の経時変化、および
設定値ＳＶ’の経時変化の一例を示す図である。
設定値ＳＶ’の経時変化の一例を示す図である。
【図５】従来のチラー装置の一例を示すブロック図であ
る。
る。
【図６】従来のチラー装置の他の例を示すブロック図で
ある。
ある。
２ 冷凍機 ３ ヒータ ４ 第１温度センサ ５ ポンプ ６ バッファタンク ７ 第２温度センサ ８ 温度コントローラ ８ｂ 設定値コントローラ ８ｃ 加算部 ８ｄ ＰＩＤコントローラ
Claims (2)
- 【請求項１】 温度制御対象から冷媒を取り出し、この
冷媒を所定温度に制御した後にバッファタンク（６）を
通して再び温度制御対象に供給するチラー装置におい
て、 冷却手段（２）および加熱手段（３）により温度が制御
された冷媒をバッファタンク（６）に供給する冷媒供給
手段（５）と、 冷媒供給手段（５）の上流側における冷媒の温度を検出
する第１温度検出手段（４）と、 バッファタンク（６）の下流側における冷媒の温度を検
出する第２温度検出手段（７）と、 設定温度、第１温度検出手段（４）による第１検出温
度、および第２温度検出手段（７）による第２検出温度
に基づいて冷却手段（２）および加熱手段（３）を制御
する温度制御手段（８）と、 を含むことを特徴とするチラー装置。 - 【請求項２】 前記温度制御手段（８）は、第２検出温
度と第１検出温度との差を設定温度に加算して設定温度
を補正する設定温度補正手段（８ｂ）（８ｃ）と、補正
された設定温度を入力としてＰＩＤ制御を行って冷却手
段（２）および加熱手段（３）を制御する制御信号を出
力するＰＩＤ制御手段（８ｄ）とを含むものである請求
項１に記載のチラー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000400617A JP4622102B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | チラー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000400617A JP4622102B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | チラー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002195728A true JP2002195728A (ja) | 2002-07-10 |
| JP4622102B2 JP4622102B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=18865178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000400617A Expired - Fee Related JP4622102B2 (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | チラー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4622102B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013039362A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | General Electric Co <Ge> | 撮像用検出器を冷却するための液体冷却式の熱制御システム及び方法 |
Citations (5)
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2000
- 2000-12-28 JP JP2000400617A patent/JP4622102B2/ja not_active Expired - Fee Related
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