JP2002191964A - 低温プラズマ及び誘電熱を用いて有害ガスを処理するための触媒反応器、及びその処理方法 - Google Patents
低温プラズマ及び誘電熱を用いて有害ガスを処理するための触媒反応器、及びその処理方法Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 63
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 claims description 7
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 claims description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 6
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 5
- 229920006926 PFC Polymers 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- -1 perfluoro compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100033029 Carbonic anhydrase-related protein 11 Human genes 0.000 description 2
- 101000867841 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 11 Proteins 0.000 description 2
- 101001075218 Homo sapiens Gastrokine-1 Proteins 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxin Chemical compound O1C=COC=C1 KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 102000003729 Neprilysin Human genes 0.000 description 1
- 108090000028 Neprilysin Proteins 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/248—Reactors comprising multiple separated flow channels
- B01J19/249—Plate-type reactors
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0835—Details relating to the shape of the electrodes substantially flat
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0875—Gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0892—Materials to be treated involving catalytically active material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
- B01J2219/0896—Cold plasma
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J2219/2401—Reactors comprising multiple separate flow channels
- B01J2219/245—Plate-type reactors
- B01J2219/2451—Geometry of the reactor
- B01J2219/2453—Plates arranged in parallel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J2219/2401—Reactors comprising multiple separate flow channels
- B01J2219/245—Plate-type reactors
- B01J2219/2461—Heat exchange aspects
- B01J2219/2467—Additional heat exchange means, e.g. electric resistance heaters, coils
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J2219/2401—Reactors comprising multiple separate flow channels
- B01J2219/245—Plate-type reactors
- B01J2219/2476—Construction materials
- B01J2219/2477—Construction materials of the catalysts
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- B01J2219/2401—Reactors comprising multiple separate flow channels
- B01J2219/245—Plate-type reactors
- B01J2219/2476—Construction materials
- B01J2219/2483—Construction materials of the plates
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、低温プラズマによる誘電熱及び触
媒を同時に使用し、有害ガス除去率及び反応工程の選択
性を向上させることができる有害ガス処理用反応器、及
びその処理方法を提供する。 【解決手段】 本発明の反応器は、所定の内部容積を有
するボディと；このボディに一定間隔をおいて並列して
配置される平板電極であって、連続かつ交互的に、１つ
の平板電極には交流電源が接続され、隣り合う他の１つ
の平板電極には接地が接続される多数の平板電極と；前
記それぞれの平板電極に交流周波数の電圧を印加するた
めの電源装置とからなる。この反応器を用いる有害ガス
処理方法は、反応器を有害ガス処理装置に設けるステッ
プと；反応器のそれぞれの平板電極に交流周波数の交流
電圧を印加し、低温プラズマ及び誘電熱を発生させるス
テップと；反応器の内部に有害ガスを供給するステップ
と；有害ガスに対するプラズマ反応及び触媒反応を同時
に行うステップとを含む。
媒を同時に使用し、有害ガス除去率及び反応工程の選択
性を向上させることができる有害ガス処理用反応器、及
びその処理方法を提供する。 【解決手段】 本発明の反応器は、所定の内部容積を有
するボディと；このボディに一定間隔をおいて並列して
配置される平板電極であって、連続かつ交互的に、１つ
の平板電極には交流電源が接続され、隣り合う他の１つ
の平板電極には接地が接続される多数の平板電極と；前
記それぞれの平板電極に交流周波数の電圧を印加するた
めの電源装置とからなる。この反応器を用いる有害ガス
処理方法は、反応器を有害ガス処理装置に設けるステッ
プと；反応器のそれぞれの平板電極に交流周波数の交流
電圧を印加し、低温プラズマ及び誘電熱を発生させるス
テップと；反応器の内部に有害ガスを供給するステップ
と；有害ガスに対するプラズマ反応及び触媒反応を同時
に行うステップとを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、低温プラズマ及び
誘電熱を用いて有害ガスを処理するための反応器、及び
その処理方法に関し、更に詳しくは、低温プラズマ及び
触媒を同時に使用する有害ガス処理工程において、低温
プラズマによる誘電熱及び触媒を同時に使用し、有害ガ
ス除去率及び反応工程の選択性を向上させることができ
る有害ガス処理用反応器、及びその処理方法に関する。
誘電熱を用いて有害ガスを処理するための反応器、及び
その処理方法に関し、更に詳しくは、低温プラズマ及び
触媒を同時に使用する有害ガス処理工程において、低温
プラズマによる誘電熱及び触媒を同時に使用し、有害ガ
ス除去率及び反応工程の選択性を向上させることができ
る有害ガス処理用反応器、及びその処理方法に関する。
【０００２】一般に、産業工程で必然的に排出される揮
発性有機物質（Volatile Organic Compounds：ＶＯＣ
ｓ）の大部分は、人体に有害なだけでなく、大気中で光
化学スモッグを起こす原因物質であるため、各国は、こ
れを強く規制している。一方、国際協約（国際気候変動
枠組み条約）により地球温暖化物質のパーフルオロ化合
物（ＰＦＣｓ：Perfluoro-Compounds）及びクロロフル
オロカーボン類（ＣＦＣｓ：Chlorofluorocarbons）の
排出規制が段階的に強化されており、例えば、２００２
年からは、これらの総量規制が実施される見込みにあ
る。これにより、このような有害物質またはガスを処理
するための技術開発に多くの努力が注がれ、一般化され
た処理技術としては、焼却工法、触媒工法、吸着または
生物学的濾過工程等がある。しかし、このような従来の
方式では、今後強化される有害ガスに対する排出規制を
十分に満たすことはできないことが知られている。例え
ば、焼却及び触媒を用いる方式では、必須的に高温の熱
源が要求されるが、有害ガスが断続的に排出される超清
浄半導体工程のような事業工程では、高温の熱源を持続
的に維持できず、これを維持するためには、費用が非常
にかかるという問題点がある。
発性有機物質（Volatile Organic Compounds：ＶＯＣ
ｓ）の大部分は、人体に有害なだけでなく、大気中で光
化学スモッグを起こす原因物質であるため、各国は、こ
れを強く規制している。一方、国際協約（国際気候変動
枠組み条約）により地球温暖化物質のパーフルオロ化合
物（ＰＦＣｓ：Perfluoro-Compounds）及びクロロフル
オロカーボン類（ＣＦＣｓ：Chlorofluorocarbons）の
排出規制が段階的に強化されており、例えば、２００２
年からは、これらの総量規制が実施される見込みにあ
る。これにより、このような有害物質またはガスを処理
するための技術開発に多くの努力が注がれ、一般化され
た処理技術としては、焼却工法、触媒工法、吸着または
生物学的濾過工程等がある。しかし、このような従来の
方式では、今後強化される有害ガスに対する排出規制を
十分に満たすことはできないことが知られている。例え
ば、焼却及び触媒を用いる方式では、必須的に高温の熱
源が要求されるが、有害ガスが断続的に排出される超清
浄半導体工程のような事業工程では、高温の熱源を持続
的に維持できず、これを維持するためには、費用が非常
にかかるという問題点がある。
【０００３】一方、高温の熱源を利用せず、有害ガスを
分解又は酸化処理するための技術として、低温プラズマ
を用いる有害ガス処理方式がある。この有害ガス処理方
式のうちの１つが、米国特許第５,２３６,６２７号に開
示されている。この特許によると、常圧条件で電子とイ
オンからなる低温プラズマは、直径が数mmの電気的誘電
体及び強誘電体ペレット（pellets）またはビーズ（bea
ds）が充填されたプラズマ反応器内に高電圧交流電力を
加えることにより発生し、ここで発生した一部のエネル
ギーを利用する化学反応を通じて有害ガスを処理する。
しかし、このような有害ガス処理方式は、その処理工程
に必要な電力費用が大きく、その処理工程中に発生した
エアロゾル形態の副産物が反応器において詰まり現象を
もたらすか、電気的特性を悪化させ、工程の連続運転を
妨害するため、実際的な実用化及び常用化が困難という
問題点がある。
分解又は酸化処理するための技術として、低温プラズマ
を用いる有害ガス処理方式がある。この有害ガス処理方
式のうちの１つが、米国特許第５,２３６,６２７号に開
示されている。この特許によると、常圧条件で電子とイ
オンからなる低温プラズマは、直径が数mmの電気的誘電
体及び強誘電体ペレット（pellets）またはビーズ（bea
ds）が充填されたプラズマ反応器内に高電圧交流電力を
加えることにより発生し、ここで発生した一部のエネル
ギーを利用する化学反応を通じて有害ガスを処理する。
しかし、このような有害ガス処理方式は、その処理工程
に必要な電力費用が大きく、その処理工程中に発生した
エアロゾル形態の副産物が反応器において詰まり現象を
もたらすか、電気的特性を悪化させ、工程の連続運転を
妨害するため、実際的な実用化及び常用化が困難という
問題点がある。
【０００４】また、米国特許第５,２３６,６７２号と類
似するものとして、米国特許第４,９５４,３２０号は、
反応器に貴金属触媒ビーズ、アルミナビーズまたは吸着
物質を充填し、低温プラズマとの吸着または触媒反応を
同時に発生させる有害ガス処理方式を開示している。そ
して、米国特許第５,８４３,２８８号では、前記のよう
な特許に開示されている反応器及び交流電源装置におい
て、気体状の副産物が減少できるように強誘電体結晶の
表面に遷移金属触媒の白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐ
ｄ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）等をコーテ
ィングする技術が提案されている。
似するものとして、米国特許第４,９５４,３２０号は、
反応器に貴金属触媒ビーズ、アルミナビーズまたは吸着
物質を充填し、低温プラズマとの吸着または触媒反応を
同時に発生させる有害ガス処理方式を開示している。そ
して、米国特許第５,８４３,２８８号では、前記のよう
な特許に開示されている反応器及び交流電源装置におい
て、気体状の副産物が減少できるように強誘電体結晶の
表面に遷移金属触媒の白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐ
ｄ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）等をコーテ
ィングする技術が提案されている。
【０００５】上述のように、現在までの低温プラズマを
用いて有害ガスを処理する反応器は、チューブ型（tube
type）ボディに誘電体性質を有するペレットまたはビ
ーズを充填した構造または形状を基本とし、触媒工程を
低温プラズマと同時に用いる場合には、反応器に充填さ
れた誘電体ペレットまたはビーズの表面に触媒をコーテ
ィングする形態をなしている。しかし、これらのような
方法を実際に有害ガスを排出する工程に適用する場合、
反応器に充填された誘電体により圧力損失が発生し、排
出ガスに粒状物質（particulate materials）が存在す
る場合、反応器が詰まり易く、この反応器を必然的に振
動が発生する輸送用エンジンに適用する場合、ペレット
またはビーズ間の接触面が擦り削られることがあり、大
容量の排出ガスを処理するためには、複数のチューブ型
反応器を束または集合的に束ねなければならないため、
全体的な有害ガス処理システムの規模が大きくなり過ぎ
る等の問題点がある。
用いて有害ガスを処理する反応器は、チューブ型（tube
type）ボディに誘電体性質を有するペレットまたはビ
ーズを充填した構造または形状を基本とし、触媒工程を
低温プラズマと同時に用いる場合には、反応器に充填さ
れた誘電体ペレットまたはビーズの表面に触媒をコーテ
ィングする形態をなしている。しかし、これらのような
方法を実際に有害ガスを排出する工程に適用する場合、
反応器に充填された誘電体により圧力損失が発生し、排
出ガスに粒状物質（particulate materials）が存在す
る場合、反応器が詰まり易く、この反応器を必然的に振
動が発生する輸送用エンジンに適用する場合、ペレット
またはビーズ間の接触面が擦り削られることがあり、大
容量の排出ガスを処理するためには、複数のチューブ型
反応器を束または集合的に束ねなければならないため、
全体的な有害ガス処理システムの規模が大きくなり過ぎ
る等の問題点がある。
【０００６】特に、反応器の容積または嵩が大きくなる
と、単に実用性において問題となるのみならず、交流電
源により発生した誘電熱が反応空間に集中されず、分散
されるため、熱により活性化される触媒の性能を期待で
きないことから、全体的な工程のエネルギー効率が著し
く低下するという問題点がある。
と、単に実用性において問題となるのみならず、交流電
源により発生した誘電熱が反応空間に集中されず、分散
されるため、熱により活性化される触媒の性能を期待で
きないことから、全体的な工程のエネルギー効率が著し
く低下するという問題点がある。
【０００７】従って、低温プラズマを発生させる時に生
成される誘電熱をより効果的に活用することができる体
積の小さい反応器構造を有しつつも、ガスの流れを妨害
しない技術の開発が、低温プラズマと触媒工程とを同時
に活用する工程において重要な解決課題として提起され
ている。
成される誘電熱をより効果的に活用することができる体
積の小さい反応器構造を有しつつも、ガスの流れを妨害
しない技術の開発が、低温プラズマと触媒工程とを同時
に活用する工程において重要な解決課題として提起され
ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ここで、本発明は、上
述の問題点及び課題を解決するために発明されたもので
あって、本発明の目的は、圧力損失及び詰まりが防止さ
れる低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用反
応器を提供することにある。
述の問題点及び課題を解決するために発明されたもので
あって、本発明の目的は、圧力損失及び詰まりが防止さ
れる低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用反
応器を提供することにある。
【０００９】本発明の別の目的は、ペレットまたはビー
ズを使用せず、全体的な体積を縮小させることができる
低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用反応器
を提供することにある。
ズを使用せず、全体的な体積を縮小させることができる
低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用反応器
を提供することにある。
【００１０】本発明の更に別の目的は、小さい空間で多
量のガスを処理することができる有害ガス処理用反応器
を提供することにある。
量のガスを処理することができる有害ガス処理用反応器
を提供することにある。
【００１１】本発明の他の更なる目的は、プラズマ発生
により発生した熱を狭い空間に集中させることができ、
電極表面にコーティングされた触媒が熱により効果的に
活性化されることにより、運転時の省電力化を図ること
ができ、また液状及び固体状の副産物の発生を抑えるこ
とができる有害ガス処理用反応器を提供することにあ
る。
により発生した熱を狭い空間に集中させることができ、
電極表面にコーティングされた触媒が熱により効果的に
活性化されることにより、運転時の省電力化を図ること
ができ、また液状及び固体状の副産物の発生を抑えるこ
とができる有害ガス処理用反応器を提供することにあ
る。
【００１２】本発明のまた更なる主要目的は、上述の反
応器を使用して有害ガスを処理するための方法を提供す
ることにある。
応器を使用して有害ガスを処理するための方法を提供す
ることにある。
【００１３】本発明は、揮発性有機物（ＶＯＣｓ：Vola
tile Organic Compounds）、パーフルオロ化合物（ＰＦ
Ｃｓ：Perfluoro-Compounds）、クロロフルオロカーボ
ン類（ＣＦＣｓ：Chlorofluorocarbons）、トリクロロ
エチレン、ダイオキシン、及びその他無機物等の有害ガ
スを処理するために低温プラズマ及び触媒を同時に使用
する有害ガス処理装置に使用するための反応器、及びそ
の処理方法に関し、従来は低温プラズマ反応器に利用さ
れなかった誘電熱及び触媒を反応工程に効果的に活用す
ることにより、運転に所要される電力を節減することが
できると共に、液状及び固体状の副産物の発生を抑える
ことができる。
tile Organic Compounds）、パーフルオロ化合物（ＰＦ
Ｃｓ：Perfluoro-Compounds）、クロロフルオロカーボ
ン類（ＣＦＣｓ：Chlorofluorocarbons）、トリクロロ
エチレン、ダイオキシン、及びその他無機物等の有害ガ
スを処理するために低温プラズマ及び触媒を同時に使用
する有害ガス処理装置に使用するための反応器、及びそ
の処理方法に関し、従来は低温プラズマ反応器に利用さ
れなかった誘電熱及び触媒を反応工程に効果的に活用す
ることにより、運転に所要される電力を節減することが
できると共に、液状及び固体状の副産物の発生を抑える
ことができる。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上述の目的は、低温プラ
ズマとこの低温プラズマの発生時に発生する誘電熱を用
いて有害ガスを処理するための反応器において、所定の
内部容積を有するボディと；前記ボディに一定間隔をお
いて並列して配置される平板電極であって、連続かつ交
互的に、１つの平板電極には交流電源が接続され、隣り
合う他の１つの平板電極には接地が接続される多数の平
板電極と；前記交流電源に接続されたそれぞれの平板電
極に交流周波数の電圧を印加するための電源装置とを含
むことを特徴とする、低温プラズマ及び誘電熱を用いる
有害ガス処理用反応器により達成することができる。好
ましくは、前記それぞれの平板電極が、一側面に導電性
の金属薄膜が被覆され他側面には触媒がコーティングさ
れた２つの誘電体プレートのそれぞれの金属薄膜が被覆
された面を相互接合して形成される。好ましくは、前記
それぞれの誘電体プレートが、０.１mm乃至２.０mmの厚
さを有し、ガラス、セラミック、石英から選ばれたいず
れか１つで形成される。好ましくは、前記触媒が、白
金、Ｐｄ、Ｖ、Ｒｈを含む金属触媒群、ＭＳ ５Ａ及び
ＭＳ ３Ａを含むゼオライト触媒群、及びＴｉＯ２を含
む光触媒群から選ばれたいずれか１つである。好ましく
は、前記電源装置により前記平板電極に供給される電力
が、５０Ｈｚ乃至１００ｋＨｚ周波数の１ｋＶ乃至３０
ｋＶの交流電圧である。
ズマとこの低温プラズマの発生時に発生する誘電熱を用
いて有害ガスを処理するための反応器において、所定の
内部容積を有するボディと；前記ボディに一定間隔をお
いて並列して配置される平板電極であって、連続かつ交
互的に、１つの平板電極には交流電源が接続され、隣り
合う他の１つの平板電極には接地が接続される多数の平
板電極と；前記交流電源に接続されたそれぞれの平板電
極に交流周波数の電圧を印加するための電源装置とを含
むことを特徴とする、低温プラズマ及び誘電熱を用いる
有害ガス処理用反応器により達成することができる。好
ましくは、前記それぞれの平板電極が、一側面に導電性
の金属薄膜が被覆され他側面には触媒がコーティングさ
れた２つの誘電体プレートのそれぞれの金属薄膜が被覆
された面を相互接合して形成される。好ましくは、前記
それぞれの誘電体プレートが、０.１mm乃至２.０mmの厚
さを有し、ガラス、セラミック、石英から選ばれたいず
れか１つで形成される。好ましくは、前記触媒が、白
金、Ｐｄ、Ｖ、Ｒｈを含む金属触媒群、ＭＳ ５Ａ及び
ＭＳ ３Ａを含むゼオライト触媒群、及びＴｉＯ２を含
む光触媒群から選ばれたいずれか１つである。好ましく
は、前記電源装置により前記平板電極に供給される電力
が、５０Ｈｚ乃至１００ｋＨｚ周波数の１ｋＶ乃至３０
ｋＶの交流電圧である。
【００１５】本発明による目的は、さらに、反応器を有
害ガス処理装置に設けるステップと；前記反応器のそれ
ぞれの平板電極に交流周波数の交流電圧を印加し、低温
プラズマ及び誘電熱を発生させるステップと；前記反応
器の内部に有害ガスを供給するステップと；前記有害ガ
スに対するプラズマ反応及び触媒反応を同時に行うステ
ップとを含むことを特徴とする、有害ガス処理方法によ
り達成することができる。
害ガス処理装置に設けるステップと；前記反応器のそれ
ぞれの平板電極に交流周波数の交流電圧を印加し、低温
プラズマ及び誘電熱を発生させるステップと；前記反応
器の内部に有害ガスを供給するステップと；前記有害ガ
スに対するプラズマ反応及び触媒反応を同時に行うステ
ップとを含むことを特徴とする、有害ガス処理方法によ
り達成することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明による低温プラズマ
及び誘電熱を用いる有害ガス処理装置用反応器、及びそ
の反応器を用いる有害ガス処理方法の好ましい実施の形
態を、添付図面に基づいて詳細に説明する。
及び誘電熱を用いる有害ガス処理装置用反応器、及びそ
の反応器を用いる有害ガス処理方法の好ましい実施の形
態を、添付図面に基づいて詳細に説明する。
【００１７】図１及び図２を参照すると、本発明による
低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理装置用反
応器は、基本的に長方形または正方形のように所定の空
間を有する立方体状のボディ１０を備える。このボディ
１０の前方には、有害ガスをボディ１０内に流入させる
ための流入口１２を備えた流動分配器（フローディスト
リビューター：flow distributor）１４が設けられる。
低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理装置用反
応器は、基本的に長方形または正方形のように所定の空
間を有する立方体状のボディ１０を備える。このボディ
１０の前方には、有害ガスをボディ１０内に流入させる
ための流入口１２を備えた流動分配器（フローディスト
リビューター：flow distributor）１４が設けられる。
【００１８】特に、ボディ１０は、１つまたは多数の平
板電極１６を含む。それぞれの平板電極１６は、長方形
または正方形に形成されるのが好ましい。また、図３に
示すように、平板電極１６は、電気的絶縁性及び誘電性
を同時に有するセラミック、ガラス、石英のような材質
で形成される２つの誘電体プレート１８を備える。これ
らのそれぞれの誘電体プレート１８は、例えば０.１mm
乃至２mmの厚さで形成され得る。また、それぞれの誘電
体プレート１８の大きさは、反応器全体の容量に応じて
任意に設定でき、例えば縦辺及び横辺の大きさは、それ
ぞれ数mmから数百mmになり得る。
板電極１６を含む。それぞれの平板電極１６は、長方形
または正方形に形成されるのが好ましい。また、図３に
示すように、平板電極１６は、電気的絶縁性及び誘電性
を同時に有するセラミック、ガラス、石英のような材質
で形成される２つの誘電体プレート１８を備える。これ
らのそれぞれの誘電体プレート１８は、例えば０.１mm
乃至２mmの厚さで形成され得る。また、それぞれの誘電
体プレート１８の大きさは、反応器全体の容量に応じて
任意に設定でき、例えば縦辺及び横辺の大きさは、それ
ぞれ数mmから数百mmになり得る。
【００１９】それぞれの誘電体プレート１８の一側面に
は導電性の金属コーティング材または金属薄膜２０が被
覆されるのに対し、他側面には触媒２２または吸着材が
コーティングされるのが好ましい。
は導電性の金属コーティング材または金属薄膜２０が被
覆されるのに対し、他側面には触媒２２または吸着材が
コーティングされるのが好ましい。
【００２０】それぞれの平板電極１６は、２つの誘電体
プレート１８を相互密着させることにより完成される。
具体的には、１つの誘電体プレート１８の金属薄膜２０
が被覆された一側面と、他の１つの誘電体プレート１８
の金属薄膜２０が被覆された一側面とを相互接着させる
ことにより、１つの平板電極１６が完成される。
プレート１８を相互密着させることにより完成される。
具体的には、１つの誘電体プレート１８の金属薄膜２０
が被覆された一側面と、他の１つの誘電体プレート１８
の金属薄膜２０が被覆された一側面とを相互接着させる
ことにより、１つの平板電極１６が完成される。
【００２１】選択的に、平板電極は、２つの誘電体プレ
ートの間に金属薄膜を挿入して形成することもでき、こ
の場合には、それぞれの誘電体プレートの相互接合面の
いずれにも金属薄膜が被覆される必要はない。
ートの間に金属薄膜を挿入して形成することもでき、こ
の場合には、それぞれの誘電体プレートの相互接合面の
いずれにも金属薄膜が被覆される必要はない。
【００２２】このように完成されたそれぞれの平板電極
１６は、図２に示すように、反応器のボディ内に並列し
て配置される。図面では、ただ７つの平板電極が示され
ているが、反応器の能力または体積に応じてその個数を
任意に設定できることはいうまでもない。このように、
並列して配置された状態において、１つは交流電源２４
に接続し、他の１つは接地２６に接続する方式で連続か
つ交互に配置する。この際、それぞれの電極間の距離
は、約１mm乃至６mmに維持されるのが好ましい。また、
平板電極１６は、処理すべきガスの流量または反応器の
能力に応じて数個の対乃至数十、数百個の対で並列配置
され得る。図面に示してはいないが、反応器の外形をな
すボディは、電気絶縁性を有するのはもとより、高温で
も耐えられるようにセラミックのような材質で形成され
るのが好ましい。
１６は、図２に示すように、反応器のボディ内に並列し
て配置される。図面では、ただ７つの平板電極が示され
ているが、反応器の能力または体積に応じてその個数を
任意に設定できることはいうまでもない。このように、
並列して配置された状態において、１つは交流電源２４
に接続し、他の１つは接地２６に接続する方式で連続か
つ交互に配置する。この際、それぞれの電極間の距離
は、約１mm乃至６mmに維持されるのが好ましい。また、
平板電極１６は、処理すべきガスの流量または反応器の
能力に応じて数個の対乃至数十、数百個の対で並列配置
され得る。図面に示してはいないが、反応器の外形をな
すボディは、電気絶縁性を有するのはもとより、高温で
も耐えられるようにセラミックのような材質で形成され
るのが好ましい。
【００２３】無論、反応器のそれぞれの平板電極１６に
接続される電源装置２８は、５ｋＶ乃至２０ｋＶに及ぶ
交流電圧を、例えば数十乃至数十万Ｈｚの特定周波数で
供給し、反応器とのインピーダンス整合（impedance ma
tching）のために、その電源装置と反応器との間には、
インダクタンス及び充電回路（図示せず）が設けられる
のが好ましい。
接続される電源装置２８は、５ｋＶ乃至２０ｋＶに及ぶ
交流電圧を、例えば数十乃至数十万Ｈｚの特定周波数で
供給し、反応器とのインピーダンス整合（impedance ma
tching）のために、その電源装置と反応器との間には、
インダクタンス及び充電回路（図示せず）が設けられる
のが好ましい。
【００２４】また、それぞれの誘電体プレート１８にコ
ーティングされる触媒には、熱により触媒の活性が発生
するものとして知られているＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の貴金
属触媒のみならず、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ等の金属触媒から
１つまたはそれ以上が選ばれ使用され得る。また、これ
らのそれぞれの金属触媒は、反応気体との接触面積を増
大できるように、先ず、誘電体プレート１８の滑らかな
セラミック平板に表面積が大きいγ-アルミナ、シリ
カ、またはゼオライトをコーティングした後、このコー
ティング面の上にコーティングされるのが好ましい。
ーティングされる触媒には、熱により触媒の活性が発生
するものとして知られているＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の貴金
属触媒のみならず、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ等の金属触媒から
１つまたはそれ以上が選ばれ使用され得る。また、これ
らのそれぞれの金属触媒は、反応気体との接触面積を増
大できるように、先ず、誘電体プレート１８の滑らかな
セラミック平板に表面積が大きいγ-アルミナ、シリ
カ、またはゼオライトをコーティングした後、このコー
ティング面の上にコーティングされるのが好ましい。
【００２５】また、誘電体プレート１８にコーティング
された吸着剤は、γ-アルミナまたはゼオライトであっ
てもよい。ここで、ゼオライトは、モレキュラーシーブ
（Molecular Sieve：ＭＳ）３Ａまたは５Ａであるのが
好ましく、これらのモレキュラーシーブにアルカリ金属
がアルカリ土類金属で置き換えられた触媒を使用するこ
とでより優れた性能を発揮できることがわかった。
された吸着剤は、γ-アルミナまたはゼオライトであっ
てもよい。ここで、ゼオライトは、モレキュラーシーブ
（Molecular Sieve：ＭＳ）３Ａまたは５Ａであるのが
好ましく、これらのモレキュラーシーブにアルカリ金属
がアルカリ土類金属で置き換えられた触媒を使用するこ
とでより優れた性能を発揮できることがわかった。
【００２６】このように構成された反応器の反応工程に
よると、先ず、反応器に電源装置２８を作動させ電力を
印加すると、それぞれの平板電極１６の間に電気的放電
が起こり、電子及びイオンが発生する。ここで発生した
電子は、処理すべきガス分子を直接分解するか、若しく
は処理対象の有害ガスと共に供給された空気または添加
されたガス分子が電子と衝突することにより発生した
Ｏ、ＯＨ、ＨＯ２、Ｎラジカル（radical）またはイオ
ンにより酸化若しくは還元反応を経ることになる。上述
のような反応工程は、一般の低温プラズマを用いる工程
原理である。
よると、先ず、反応器に電源装置２８を作動させ電力を
印加すると、それぞれの平板電極１６の間に電気的放電
が起こり、電子及びイオンが発生する。ここで発生した
電子は、処理すべきガス分子を直接分解するか、若しく
は処理対象の有害ガスと共に供給された空気または添加
されたガス分子が電子と衝突することにより発生した
Ｏ、ＯＨ、ＨＯ２、Ｎラジカル（radical）またはイオ
ンにより酸化若しくは還元反応を経ることになる。上述
のような反応工程は、一般の低温プラズマを用いる工程
原理である。
【００２７】これに加えて、本発明による反応器は、誘
電加熱を用いて反応器内の温度を上昇させ、所望の反応
をより容易に達成することができ、誘電加熱を通じて上
昇された反応器内の熱を触媒を活性化するのに使用する
ことにより、低温プラズマ反応と触媒反応の複合効果を
獲得することができる。例えば、低温プラズマ反応と触
媒反応の複合効果を既存の低温プラズマまたは触媒工程
と比較してみると、次のような技術的な長所があること
がわかった。
電加熱を用いて反応器内の温度を上昇させ、所望の反応
をより容易に達成することができ、誘電加熱を通じて上
昇された反応器内の熱を触媒を活性化するのに使用する
ことにより、低温プラズマ反応と触媒反応の複合効果を
獲得することができる。例えば、低温プラズマ反応と触
媒反応の複合効果を既存の低温プラズマまたは触媒工程
と比較してみると、次のような技術的な長所があること
がわかった。
【００２８】即ち、従来のように触媒を用いて有害ガス
を酸化する場合、特定の温度以上に触媒を加熱する必要
があるが、本発明のように低温プラズマと触媒とを同時
に使用する場合、触媒が活性化可能な温度が低下し、低
い温度でも工程の実行が可能である。これは、低温プラ
ズマ空間の中で有害ガスまたは酸化剤（例えば、酸素、
水分または添加剤）が、反応が起こり易い状態に変換さ
れるためであると理解される。
を酸化する場合、特定の温度以上に触媒を加熱する必要
があるが、本発明のように低温プラズマと触媒とを同時
に使用する場合、触媒が活性化可能な温度が低下し、低
い温度でも工程の実行が可能である。これは、低温プラ
ズマ空間の中で有害ガスまたは酸化剤（例えば、酸素、
水分または添加剤）が、反応が起こり易い状態に変換さ
れるためであると理解される。
【００２９】また、従来の低温プラズマ反応では、特定
の反応が選択的に起こる可能性は少ないが、本発明のよ
うに触媒を低温プラズマと共に使用する場合、反応での
選択性が増加し得る。例えば、低温プラズマのみの反応
でトルエンを除去する場合、半分以上のトルエンは重合
反応を起こし、エアロゾル状に変換され、これらの物質
が電極表面に付着して定期的な運転を妨害するか、反応
器内の詰まり現象をもたらし得るが、誘電熱により活性
化された触媒を使用する場合、最終産出物が二酸化炭素
と水分になる酸化反応が起こり易い。
の反応が選択的に起こる可能性は少ないが、本発明のよ
うに触媒を低温プラズマと共に使用する場合、反応での
選択性が増加し得る。例えば、低温プラズマのみの反応
でトルエンを除去する場合、半分以上のトルエンは重合
反応を起こし、エアロゾル状に変換され、これらの物質
が電極表面に付着して定期的な運転を妨害するか、反応
器内の詰まり現象をもたらし得るが、誘電熱により活性
化された触媒を使用する場合、最終産出物が二酸化炭素
と水分になる酸化反応が起こり易い。
【００３０】以下、本発明による具体的な実施の形態の
作用モード及びその作用効果を詳細に説明することにす
る。
作用モード及びその作用効果を詳細に説明することにす
る。
【００３１】（実施例１）平板電極１６の大きさは７６
mm×７６mm×１mmで、内部金属薄膜２０の大きさは６０
mm×６０mm×０.１mmで、平板電極１６の個数は１５個
で、それぞれの平板電極１６間の距離は２mmに設定さ
れ、反応流動断面積６０mm×６０mmには、１４段の反応
空間が形成されている。また、反応器に平均電圧１１ｋ
Ｖかつ周波数６０Ｈｚの交流電力を供給し、低温プラズ
マを発生させた。この時、電力供給が５乃至６時間持続
され、また実験を１０余回にわたって繰り返し行った
が、反応器内で絶縁破壊による致命的な損傷は見出され
なかった。一方、この時に使用される平板電極の誘電体
プレートとしては、α−アルミナプレート、α−アルミ
ナプレートにγ−アルミナ及び白金をコーティングして
形成したプレート、α−アルミナプレートにゼオライト
をコーティングして形成したプレート、石英プレート等
の様々な材質が選ばれ利用され得る。
mm×７６mm×１mmで、内部金属薄膜２０の大きさは６０
mm×６０mm×０.１mmで、平板電極１６の個数は１５個
で、それぞれの平板電極１６間の距離は２mmに設定さ
れ、反応流動断面積６０mm×６０mmには、１４段の反応
空間が形成されている。また、反応器に平均電圧１１ｋ
Ｖかつ周波数６０Ｈｚの交流電力を供給し、低温プラズ
マを発生させた。この時、電力供給が５乃至６時間持続
され、また実験を１０余回にわたって繰り返し行った
が、反応器内で絶縁破壊による致命的な損傷は見出され
なかった。一方、この時に使用される平板電極の誘電体
プレートとしては、α−アルミナプレート、α−アルミ
ナプレートにγ−アルミナ及び白金をコーティングして
形成したプレート、α−アルミナプレートにゼオライト
をコーティングして形成したプレート、石英プレート等
の様々な材質が選ばれ利用され得る。
【００３２】（実施例２）実施例１のように構成された
反応器に空気を注入し流動させ、電源装置の周波数を６
０Ｈｚから１０ｋＨｚまで増加させ電力を印加すると、
周波数が増加すればするほど反応器に印加される電力が
増加し、反応器内の温度及び反応器の後端より排出され
る空気の温度が高くなることがわかった。一方、反応器
において低温プラズマが発生する電極の実総面積は、６
cm×６cm×１４×２=１００８cm２であるのに対し、外
部との接触面積は、６cm×６cm×６=２１６cm２と計算
することができる。即ち、誘電熱が発生する電極面積に
比して熱損失が発生し得る外部との接触面積が著しく少
なくなるため、発生した熱を反応工程に効果的に使用す
ることができる。これに比して、従来のチューブ状の反
応器は、電極面積と外部との接触面積がほぼ等しいた
め、熱損失が多く発生し、反応に必要な熱を効果的に利
用することができなかった。
反応器に空気を注入し流動させ、電源装置の周波数を６
０Ｈｚから１０ｋＨｚまで増加させ電力を印加すると、
周波数が増加すればするほど反応器に印加される電力が
増加し、反応器内の温度及び反応器の後端より排出され
る空気の温度が高くなることがわかった。一方、反応器
において低温プラズマが発生する電極の実総面積は、６
cm×６cm×１４×２=１００８cm２であるのに対し、外
部との接触面積は、６cm×６cm×６=２１６cm２と計算
することができる。即ち、誘電熱が発生する電極面積に
比して熱損失が発生し得る外部との接触面積が著しく少
なくなるため、発生した熱を反応工程に効果的に使用す
ることができる。これに比して、従来のチューブ状の反
応器は、電極面積と外部との接触面積がほぼ等しいた
め、熱損失が多く発生し、反応に必要な熱を効果的に利
用することができなかった。
【００３３】（実施例３）実施例１のように構成された
反応器に空気を注入し流動させ、この時、反応器の前方
端及び後方端で圧力損失を測定してみた結果、既存のチ
ューブ状反応器に触媒ビーズまたはペレットを充填し空
気を流し込んだ場合に比し、圧力損失が著しく減少する
ことがわかった。従って、本発明による反応器は、流量
が大きい工程に効果的に使用することができ、反応工程
中に粒状の物質があるか、そのような粒子が発生する場
合にも反応器内で詰まり現象が発生しないことがわかっ
た。
反応器に空気を注入し流動させ、この時、反応器の前方
端及び後方端で圧力損失を測定してみた結果、既存のチ
ューブ状反応器に触媒ビーズまたはペレットを充填し空
気を流し込んだ場合に比し、圧力損失が著しく減少する
ことがわかった。従って、本発明による反応器は、流量
が大きい工程に効果的に使用することができ、反応工程
中に粒状の物質があるか、そのような粒子が発生する場
合にも反応器内で詰まり現象が発生しないことがわかっ
た。
【００３４】例えば、トルエンを数十乃至数百ppm含ん
でいる空気を反応器に供給し、長時間処理する場合、一
部のトルエンは、酸化工程を経ずに小粒状の炭素化合物
に変わり、電極に付着する現象が発生する。この時、付
着した副産物は、電極の電気的特性を変化させ、電力供
給に問題を起こす。しかし、本発明のように酸化反応を
起こす白金触媒を電極板にコーティングすると、粒子及
び液状の副産物の発生が著しく減少するのはもとより、
一定時間が過ぎた後には周期的に空気のみを注入し、取
り付いた炭素化合物を除去できることがわかった。
でいる空気を反応器に供給し、長時間処理する場合、一
部のトルエンは、酸化工程を経ずに小粒状の炭素化合物
に変わり、電極に付着する現象が発生する。この時、付
着した副産物は、電極の電気的特性を変化させ、電力供
給に問題を起こす。しかし、本発明のように酸化反応を
起こす白金触媒を電極板にコーティングすると、粒子及
び液状の副産物の発生が著しく減少するのはもとより、
一定時間が過ぎた後には周期的に空気のみを注入し、取
り付いた炭素化合物を除去できることがわかった。
【００３５】（比較実施例１）有害ガスを実際に処理す
る場合において触媒及び熱が除去性能に及ぼす影響を調
べるために、有害ガスとして３００ppmのトルエンを空
気と共に反応器に供給し、その後直ぐに６０Ｈｚの周波
数で１１ｋＶの交流電力を反応器に印加した後、反応器
の後端より排出されるトルエンの濃度を測定した。ここ
で、比較の明確性のために、１）α−アルミナプレート
を用いる平板電極の場合、２）α−アルミナプレートに
γ−アルミナをコーティングした平板電極の場合、３）
α−アルミナプレートにγ−アルミナ及び白金をコーテ
ィングした平板電極の場合に区分して比較実験を実行し
た。また、トルエンのような揮発性有機化合物の酸化工
程での温度上昇が反応工程にいかなる効果を及ぼすかを
調べるために、それぞれの平板電極に対する比較実験の
運転温度（反応器に供給される空気及び反応器の周辺温
度）をそれぞれ常温、６０℃及び１００℃に設定して遂
行した。
る場合において触媒及び熱が除去性能に及ぼす影響を調
べるために、有害ガスとして３００ppmのトルエンを空
気と共に反応器に供給し、その後直ぐに６０Ｈｚの周波
数で１１ｋＶの交流電力を反応器に印加した後、反応器
の後端より排出されるトルエンの濃度を測定した。ここ
で、比較の明確性のために、１）α−アルミナプレート
を用いる平板電極の場合、２）α−アルミナプレートに
γ−アルミナをコーティングした平板電極の場合、３）
α−アルミナプレートにγ−アルミナ及び白金をコーテ
ィングした平板電極の場合に区分して比較実験を実行し
た。また、トルエンのような揮発性有機化合物の酸化工
程での温度上昇が反応工程にいかなる効果を及ぼすかを
調べるために、それぞれの平板電極に対する比較実験の
運転温度（反応器に供給される空気及び反応器の周辺温
度）をそれぞれ常温、６０℃及び１００℃に設定して遂
行した。
【００３６】このように設定された実験条件で実験した
結果が、図４のグラフに示されている。このグラフによ
ると、電源装置で同一の電力が消費されていても有害ガ
スのトルエンの除去率（初期濃度に対する除去された濃
度）は、α−アルミナ、γ−アルミナ、白金触媒の順に
増加した。一方、それぞれの場合において、運転温度が
増加する場合、共通してトルエンの除去率は上昇し、温
度増加が反応工程に著しく肯定的に作用することがわか
った。
結果が、図４のグラフに示されている。このグラフによ
ると、電源装置で同一の電力が消費されていても有害ガ
スのトルエンの除去率（初期濃度に対する除去された濃
度）は、α−アルミナ、γ−アルミナ、白金触媒の順に
増加した。一方、それぞれの場合において、運転温度が
増加する場合、共通してトルエンの除去率は上昇し、温
度増加が反応工程に著しく肯定的に作用することがわか
った。
【００３７】（比較実施例２）ＰＦＣｓであるＮＦ３と
ＣＦ４を本発明による反応器で処理する実験において、
このようなガスもまた、トルエンと同様に低温プラズマ
工程において、反応器内の温度上昇により除去率が増加
することが観察された。特に、ＮＦ３は、反応器内の温
度が４００℃以上の場合、熱のみでも分解される物質で
あるため、本反応器による除去率の増加は、触媒工程を
共に使用しない場合にも観察された。
ＣＦ４を本発明による反応器で処理する実験において、
このようなガスもまた、トルエンと同様に低温プラズマ
工程において、反応器内の温度上昇により除去率が増加
することが観察された。特に、ＮＦ３は、反応器内の温
度が４００℃以上の場合、熱のみでも分解される物質で
あるため、本反応器による除去率の増加は、触媒工程を
共に使用しない場合にも観察された。
【００３８】一方、ＣＦ４の熱分解は、１２００℃乃至
１８００℃以上でのみ可能であるため、貴金属触媒の白
金がコーティングされた電極が必要であり、このような
白金触媒を使用する場合は、反応器内の温度が３００℃
乃至４００℃レベルに維持されながら低温プラズマが発
生する場合に、本格的なＣＦ４分解が開始された。
１８００℃以上でのみ可能であるため、貴金属触媒の白
金がコーティングされた電極が必要であり、このような
白金触媒を使用する場合は、反応器内の温度が３００℃
乃至４００℃レベルに維持されながら低温プラズマが発
生する場合に、本格的なＣＦ４分解が開始された。
【００３９】この他に、トリクロロエチレン（ＴＣＥ：
trichloroethylene）のようにＣｌが含まれた有機物の
分解実験でも反応温度の増加は、有害物質の酸化反応を
加速させることがわかった。これにより、本発明による
反応器により反応温度を上昇させる技術は、トルエンの
ようなＶＯＣｓのみならず、ダイオキシン、ＰＦＣｓ，
ＣＦＣｓ、及び窒素酸化物のような無機物の分解にも広
範囲に適用され得るものと理解される。
trichloroethylene）のようにＣｌが含まれた有機物の
分解実験でも反応温度の増加は、有害物質の酸化反応を
加速させることがわかった。これにより、本発明による
反応器により反応温度を上昇させる技術は、トルエンの
ようなＶＯＣｓのみならず、ダイオキシン、ＰＦＣｓ，
ＣＦＣｓ、及び窒素酸化物のような無機物の分解にも広
範囲に適用され得るものと理解される。
【００４０】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
による低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用
反応器、及びその処理方法によると、交流電源と誘電体
電極を通じて低温プラズマを発生させる時に発生する誘
電熱を反応工程に触媒と共に用いることができ、反応効
率が向上する効果がある。
による低温プラズマ及び誘電熱を用いる有害ガス処理用
反応器、及びその処理方法によると、交流電源と誘電体
電極を通じて低温プラズマを発生させる時に発生する誘
電熱を反応工程に触媒と共に用いることができ、反応効
率が向上する効果がある。
【００４１】また、反応器内での圧力損失が減少し、電
極の掃除、及び取替えのようなメンテナンスが簡易で、
反応器の体積が小さくなり、実用性が向上するメリット
がある。
極の掃除、及び取替えのようなメンテナンスが簡易で、
反応器の体積が小さくなり、実用性が向上するメリット
がある。
【００４２】以上において、本発明による好ましい実施
の形態について説明したが、本技術分野の当業者であれ
ば、添付された特許請求の範囲を逸脱せず、様々な変更
例及び修正例を実施することができるものと理解され
る。
の形態について説明したが、本技術分野の当業者であれ
ば、添付された特許請求の範囲を逸脱せず、様々な変更
例及び修正例を実施することができるものと理解され
る。
【図１】本発明による低温プラズマを用いる有害ガス処
理用反応器を概略的に示す斜視図である。
理用反応器を概略的に示す斜視図である。
【図２】図１の反応器における平板電極の配列状態を示
す構成図である。
す構成図である。
【図３】図２の電極の構成を詳細に示す斜視図である。
【図４】本発明による反応器における低温プラズマ及び
触媒の効率の結果を示すグラフである。
触媒の効率の結果を示すグラフである。
１０ ボディ １４ 流動分配器 １６ 平板電極 １８ 誘電体プレート ２０ 金属薄膜 ２２ 触媒 ２４ 交流電源 ２６ 接地 ２８ 電源装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/72 Ｃ０７Ｃ 21/10 ４Ｈ００６ 53/74 Ｃ０７Ｄ 319/24 53/86 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｊ 53/94 Ｇ Ｂ０１Ｊ 35/02 １０２Ａ １０２Ｄ Ｃ０７Ｂ 37/06 53/34 １３４Ｅ Ｃ０７Ｃ 21/10 ＺＡＢ Ｃ０７Ｄ 319/24 １２０Ｄ １２９Ｃ (72)発明者 李 載玉 大韓民国大田広域市儒城区田民洞エクスポ アパートメント304棟1108号 (72)発明者 崔 然碩 大韓民国大田広域市儒城区魚隠洞ハンビッ トアパートメント128棟204号 (72)発明者 申 完浩 大韓民国忠清北道清洲市上党区大城洞宇星 アパートメント103棟202号 (72)発明者 金 冠泰 大韓民国大田広域市西区月坪洞ハンアルム アパートメント106棟1405号 (72)発明者 金 碩準 大韓民国大田広域市西区月坪洞ヌリアパー トメント106棟401号 Ｆターム(参考） 2E191 BA12 BA15 BD13 BD18 4D002 AA12 AA21 AA22 AA33 BA09 CA20 4D048 AA05 AA11 AA17 BA07Y BA11X BA23Y BA30X BA31Y BA33Y BA41Y BB03 CA07 CC43 CD10 EA01 EA04 4G069 AA03 AA08 BA01B BA04A BA07A BA07B BA48A BC54A BC71A BC72A BC75A BC75B CA11 CA13 CA19 DA06 EA11 EC22Y EE03 FA03 FB23 ZA02A 4G075 AA37 BA06 CA47 CA54 DA02 DA11 DA18 EB01 EC21 EE31 FA12 FB02 FB04 FB06 FC11 FC15 4H006 AA05 AC26 BA10 BA22 BA26 BA30 BA71 BA95 BD60
Claims (8)
- 【請求項１】低温プラズマとこの低温プラズマの発生時
に発生する誘電熱を用いて有害ガスを処理するための反
応器において、 有害ガスを収容するための所定の内部容積を有するボデ
ィと；前記ボディに一定間隔をおいて並列して配置され
る平板電極であって、連続かつ交互的に、１つの平板電
極には交流電源が接続され、隣り合う他の１つの平板電
極には接地が接続される多数の平板電極と；前記それぞ
れの平板電極に交流周波数の電圧を印加するための電源
装置と；を含むことを特徴とする、低温プラズマ及び誘
電熱を用いる有害ガス処理用反応器。 - 【請求項２】 前記それぞれの平板電極が、一側面に導
電性の金属薄膜が被覆され他側面には触媒がコーティン
グされた２つの誘電体プレートのそれぞれの金属薄膜が
被覆された面を相互接合して形成されることを特徴とす
る、請求項１記載の有害ガス処理用反応器。 - 【請求項３】 前記それぞれの誘電体プレートが、０.
１mm乃至２.０mmの厚さを有し、ガラス、セラミック、
石英から選ばれたいずれか１つで形成されることを特徴
とする、請求項２記載の有害ガス処理用反応器。 - 【請求項４】 前記触媒が、白金、Ｐｄ、Ｖ、Ｒｈを含
む金属触媒群、ＭＳ ５Ａ及びＭＳ ３Ａを含むゼオライ
ト触媒群、及びＴｉＯ２を含む光触媒群からなる群から
選ばれたいずれか１つであることを特徴とする、請求項
２記載の有害ガス処理用反応器。 - 【請求項５】 前記電源装置により前記平板電極に供給
される電力が、５０Ｈｚ乃至１００ｋＨｚ周波数の１ｋ
Ｖ乃至３０ｋＶの交流電圧であることを特徴とする、請
求項１記載の有害ガス処理用反応器。 - 【請求項６】 請求項１による有害ガス処理用反応器を
用いる有害ガス処理方法において、 反応器を有害ガス処理装置に設けるステップと；前記反
応器のそれぞれの平板電極に交流周波数の交流電圧を印
加し、低温プラズマ及び誘電熱を発生させるステップ
と；前記反応器の内部に有害ガスを供給するステップ
と；前記有害ガスに対するプラズマ反応及び触媒反応を
同時に行うステップと；を含むことを特徴とする有害ガ
ス処理方法。 - 【請求項７】 更に、反応器の内部に形成され得る固体
状及び液状副産物を除去するために、長時間の運転後、
周期的に清浄空気または酸素を反応器に供給するステッ
プを含むことを特徴とする、請求項６記載の有害ガス処
理方法。 - 【請求項８】 前記有害ガスが、揮発性有機物質（ＶＯ
Ｃｓ：Volatile OrganicCompounds）、パーフルオロ化
合物（ＰＦＣｓ：Perfluoro-Compounds）、クロロフル
オロカーボン類（ＣＦＣｓ：Chlorofluorocarbons）、
トリクロロエチレン（ＴＣＥ：Trichloroethylene）、
ダイオキシン、窒素酸化物からなる群から選ばれた少な
くとも１種の有害成分を含むことを特徴とする、請求項
６記載の有害ガス処理方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0075601A KR100434940B1 (ko) | 2000-12-12 | 2000-12-12 | 저온 플라즈마 및 유전열을 이용하여 유해가스를 처리하기위한 촉매 반응기 및 그 처리방법 |
| KR2000-75601 | 2000-12-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002191964A true JP2002191964A (ja) | 2002-07-10 |
| JP3711052B2 JP3711052B2 (ja) | 2005-10-26 |
Family
ID=19702987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001274881A Expired - Fee Related JP3711052B2 (ja) | 2000-12-12 | 2001-09-11 | 低温プラズマ及び誘電熱を用いて有害ガスを処理するための触媒反応器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020070127A1 (ja) |
| JP (1) | JP3711052B2 (ja) |
| KR (1) | KR100434940B1 (ja) |
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| JP2015527701A (ja) * | 2012-07-13 | 2015-09-17 | エスピー テック | 電極上に導電体突出部を有する誘電体障壁放電方式のプラズマ発生電極構造体 |
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| KR20020023779A (ko) * | 2001-12-17 | 2002-03-29 | 김기호 | 프라즈마(Plasma) 발생장치의 제조방법 |
| KR100477060B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2005-03-17 | 환경플라즈마(주) | 평판형 다층 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해가스처리시스템 |
| KR100462505B1 (ko) * | 2002-06-17 | 2004-12-17 | 주식회사 블루플래닛 | 세라믹 박판을 사용한 판대판형 플라즈마 반응기 및 그제조 방법 |
| KR100461516B1 (ko) * | 2002-07-25 | 2004-12-13 | 사단법인 고등기술연구원 연구조합 | 유전체 매입형 전극 보호 구조의 다단식 배리어 방전장치 |
| KR100511568B1 (ko) * | 2002-11-18 | 2005-09-02 | 한국에너지기술연구원 | 일체형 유전체 촉매전극을 이용한 플라즈마 반응기 |
| KR100462188B1 (ko) * | 2002-12-13 | 2004-12-17 | 주식회사 블루플래닛 | 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마반응기 및 그 제조 방법 |
| KR100543529B1 (ko) * | 2003-04-29 | 2006-01-31 | 국방과학연구소 | 공기정화시스템 및 정화방법 |
| KR100577960B1 (ko) * | 2004-07-08 | 2006-05-10 | 주식회사 효성 | 알칼리 토금속으로 함침된 제올라이트 5ａ를 이용한삼불화질소 가스의 정제방법 |
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| FR2975018B1 (fr) | 2011-05-10 | 2016-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour le traitement des gaz par plasma de surface |
| KR101601805B1 (ko) * | 2011-11-14 | 2016-03-11 | 한국전자통신연구원 | 스토리 기반 가상 체험 학습을 위한 혼합 현실 콘텐츠 제공 장치 및 방법 |
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| CN102755819A (zh) * | 2012-08-02 | 2012-10-31 | 桂林市世环废气处理设备有限公司 | 低温等离子氧化器及低温等离子除臭系统 |
| CN102755819B (zh) * | 2012-08-02 | 2014-04-16 | 桂林市世环废气处理设备有限公司 | 低温等离子氧化器及低温等离子除臭系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100434940B1 (ko) | 2004-06-10 |
| JP3711052B2 (ja) | 2005-10-26 |
| KR20020046093A (ko) | 2002-06-20 |
| US20020070127A1 (en) | 2002-06-13 |
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Legal Events
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050610 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050705 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050811 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090819 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100819 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110819 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120819 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130819 Year of fee payment: 8 |
|
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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