JP2002181687A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
- Publication number
- JP2002181687A JP2002181687A JP2000381555A JP2000381555A JP2002181687A JP 2002181687 A JP2002181687 A JP 2002181687A JP 2000381555 A JP2000381555 A JP 2000381555A JP 2000381555 A JP2000381555 A JP 2000381555A JP 2002181687 A JP2002181687 A JP 2002181687A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cantilever
- sample
- scanning probe
- amplitude
- probe microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/24—AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
- G01Q60/32—AC mode
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
- G01Q10/06—Circuits or algorithms therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q20/00—Monitoring the movement or position of the probe
- G01Q20/02—Monitoring the movement or position of the probe by optical means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/85—Scanning probe control process
- Y10S977/851—Particular movement or positioning of scanning tip
Abstract
(57)【要約】
【課題】カンチレバーにレーザを照射し反射光の変位を
検出するいわゆる光てこ方式の検出手段を有し、第一の
操作で、試料表面の凹凸形状を得て、第二の操作で、針
先を第一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離しな
がら、非接触状態での物理作用力情報を検出する走査型
プローブ顕微鏡において、試料表面の物性情報を正しく
測定する。 【解決手段】第一の操作時に、カンチレバ−の加振周波
数ｆと振幅量Ａの依存曲線（Ｑカ−ブ）の半値幅となる
周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とすることで、カ
ンチレバ−が減衰しにくい加振周波数領域（共振点近
傍）から離し、カンチレバ−の探針が試料に接触した後
の過渡振動変化の減衰を容易にし、試料表面に対する追
随性を高めた。
検出するいわゆる光てこ方式の検出手段を有し、第一の
操作で、試料表面の凹凸形状を得て、第二の操作で、針
先を第一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離しな
がら、非接触状態での物理作用力情報を検出する走査型
プローブ顕微鏡において、試料表面の物性情報を正しく
測定する。 【解決手段】第一の操作時に、カンチレバ−の加振周波
数ｆと振幅量Ａの依存曲線（Ｑカ−ブ）の半値幅となる
周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とすることで、カ
ンチレバ−が減衰しにくい加振周波数領域（共振点近
傍）から離し、カンチレバ−の探針が試料に接触した後
の過渡振動変化の減衰を容易にし、試料表面に対する追
随性を高めた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、先端に微小な探針
を有するカンチレバーとカンチレバ−のレ−ザ反射面に
照射するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検出する光位
置検出器と試料を移動させる試料移動手段とカンチレバ
−を一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手
段からなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触した
とき振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少し
た振幅量が一定になるように、試料移動手段の上下動作
を制御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹
凸形状情報を測定する第一の操作と、次に針先を第一の
操作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接
触状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う
走査型プローブ顕微鏡に関する。
を有するカンチレバーとカンチレバ−のレ−ザ反射面に
照射するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検出する光位
置検出器と試料を移動させる試料移動手段とカンチレバ
−を一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手
段からなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触した
とき振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少し
た振幅量が一定になるように、試料移動手段の上下動作
を制御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹
凸形状情報を測定する第一の操作と、次に針先を第一の
操作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接
触状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う
走査型プローブ顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の走査型プローブ顕微鏡は、先端に
微小な探針を有するカンチレバーとカンチレバ−のレ−
ザ反射面に照射するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検
出する光位置検出器と試料を移動させる試料移動手段と
カンチレバ−を一定周期で所望の振幅量で振動させるレ
バ−加振手段からなり、カンチレバ−の探針が試料表面
に接触したとき振幅量の減少分を光位置検出器でとらえ
て、減少した振幅量が一定になるように、試料移動手段
の上下動作を制御することで、上下動作の操作量から試
料表面の凹凸形状情報を測定する第一の操作と、次に、
針先を第一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離し
ながら、非接触状態での物理作用力情報を検出する第二
の操作を行う走査型プローブ顕微鏡において、第一の操
作時に、カンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線
（Ｑカ−ブ）の共振点近傍をカンチレバ−の加振周波数
とすることで、試料表面の凹凸情報が測定する。次に、
第二の操作時に、針先を第一の操作で得られた凹凸形状
から一定距離 離しながら、非接触状態での物理作用力
情報を検出することで試料の物性情報が測定されてい
る。
微小な探針を有するカンチレバーとカンチレバ−のレ−
ザ反射面に照射するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検
出する光位置検出器と試料を移動させる試料移動手段と
カンチレバ−を一定周期で所望の振幅量で振動させるレ
バ−加振手段からなり、カンチレバ−の探針が試料表面
に接触したとき振幅量の減少分を光位置検出器でとらえ
て、減少した振幅量が一定になるように、試料移動手段
の上下動作を制御することで、上下動作の操作量から試
料表面の凹凸形状情報を測定する第一の操作と、次に、
針先を第一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離し
ながら、非接触状態での物理作用力情報を検出する第二
の操作を行う走査型プローブ顕微鏡において、第一の操
作時に、カンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線
（Ｑカ−ブ）の共振点近傍をカンチレバ−の加振周波数
とすることで、試料表面の凹凸情報が測定する。次に、
第二の操作時に、針先を第一の操作で得られた凹凸形状
から一定距離 離しながら、非接触状態での物理作用力
情報を検出することで試料の物性情報が測定されてい
る。
【０００３】また、試料表面とカンチレバ−の探針との
相互作用で、カンチレバ−の振動形態に時間的遅れ（位
相）が発生したときの信号をとらえる位相検出器を有
し、カンチレバ−の加振周波数は、表面凹凸情報の測定
のときと同じく、Ｑカ−ブの共振点近傍として位相を検
出することで試料表面の物性の違いが測定されている。
相互作用で、カンチレバ−の振動形態に時間的遅れ（位
相）が発生したときの信号をとらえる位相検出器を有
し、カンチレバ−の加振周波数は、表面凹凸情報の測定
のときと同じく、Ｑカ−ブの共振点近傍として位相を検
出することで試料表面の物性の違いが測定されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の走査型プローブ
顕微鏡では、第一の操作時にカンチレバ−の加振周波数
と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の共振点近傍をレバ−
加振周波数としていたため、カンチレバ−は振動しやす
く減衰しにくい欠点があった。探針が試料表面との相互
作用を受けても減衰しにくく、振幅量の変化分がすぐ一
定にならず、試料移動手段の制御が遅れ気味となり、試
料移動手段の上下動作の操作量も遅れ気味となり、操作
量から得られる表面凹凸情報は、正しく測定できない欠
点があった。また、試料移動手段の上下動作の制御速度
を速める方法もあるが、振幅量の変化の方向と制御の上
下方向が一致しない発振現象が発生してしまう欠点があ
った。特に真空中測定においては、空気抵抗が無くなる
ため、カンチレバ−が減衰しにくくなるため、試料との
相互作用による変化すべき振幅量にすぐならない。制御
がますます遅れ気味になり、表面凹凸情報が測定できな
い欠点があった。
顕微鏡では、第一の操作時にカンチレバ−の加振周波数
と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の共振点近傍をレバ−
加振周波数としていたため、カンチレバ−は振動しやす
く減衰しにくい欠点があった。探針が試料表面との相互
作用を受けても減衰しにくく、振幅量の変化分がすぐ一
定にならず、試料移動手段の制御が遅れ気味となり、試
料移動手段の上下動作の操作量も遅れ気味となり、操作
量から得られる表面凹凸情報は、正しく測定できない欠
点があった。また、試料移動手段の上下動作の制御速度
を速める方法もあるが、振幅量の変化の方向と制御の上
下方向が一致しない発振現象が発生してしまう欠点があ
った。特に真空中測定においては、空気抵抗が無くなる
ため、カンチレバ−が減衰しにくくなるため、試料との
相互作用による変化すべき振幅量にすぐならない。制御
がますます遅れ気味になり、表面凹凸情報が測定できな
い欠点があった。
【０００５】また第二の操作時には、第一の操作時で得
られた表面凹凸情報を基準に針先を一定距離離すが、表
面凹凸情報が正確に測定できていないため、針先を一定
距離離した状態での試料表面の物性情報を正しく検出で
きない欠点があった。
られた表面凹凸情報を基準に針先を一定距離離すが、表
面凹凸情報が正確に測定できていないため、針先を一定
距離離した状態での試料表面の物性情報を正しく検出で
きない欠点があった。
【０００６】そこで、この発明は、第一の操作時に、カ
ンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−
ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波
数とすることで、カンチレバ−が減衰しにくい加振周波
数領域（共振点近傍）から離すことで、 カンチレバ−
の探針が試料に接触した後の過渡振動変化の減衰を容易
にし、特に空気抵抗の無い真空中での測定を可能とする
ことを課題とする。さらに、第二の操作時に、第一の操
作時に得られた試料表面凹凸情報を基準に針先を試料表
面から正確に一定距離離して、試料表面の物性情報を正
しく測定することを課題とする。
ンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−
ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波
数とすることで、カンチレバ−が減衰しにくい加振周波
数領域（共振点近傍）から離すことで、 カンチレバ−
の探針が試料に接触した後の過渡振動変化の減衰を容易
にし、特に空気抵抗の無い真空中での測定を可能とする
ことを課題とする。さらに、第二の操作時に、第一の操
作時に得られた試料表面凹凸情報を基準に針先を試料表
面から正確に一定距離離して、試料表面の物性情報を正
しく測定することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明では、第一の操作時に、カンチレバ−の
加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の半値幅と
なる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とすること
で、カンチレバ−が減衰しにくい加振周波数領域（共振
点近傍）から離すことで、カンチレバ−の探針が試料に
接触した後の過渡振動変化の減衰を容易にし、特に空気
抵抗の無い真空中での試料表面凹凸情報の測定を可能と
した。さらに、第二の操作時に、第一の操作時に得られ
た試料表面凹凸情報を基準に針先を試料表面から正確に
一定距離離して、試料表面の物性情報を正しく測定する
ことを可能とした。
ために、本発明では、第一の操作時に、カンチレバ−の
加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の半値幅と
なる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とすること
で、カンチレバ−が減衰しにくい加振周波数領域（共振
点近傍）から離すことで、カンチレバ−の探針が試料に
接触した後の過渡振動変化の減衰を容易にし、特に空気
抵抗の無い真空中での試料表面凹凸情報の測定を可能と
した。さらに、第二の操作時に、第一の操作時に得られ
た試料表面凹凸情報を基準に針先を試料表面から正確に
一定距離離して、試料表面の物性情報を正しく測定する
ことを可能とした。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、先端に微小な探針を有
するカンチレバーとカンチレバ−のレ−ザ反射面に照射
するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検出する光位置検
出器と試料を移動させる試料移動手段とカンチレバ−を
一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手段か
らなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触したとき
振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少した振
幅量が一定になるように 試料移動手段の上下動作を制
御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹凸形
状情報を測定する第一の操作と、次に、針先を第一の操
作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接触
状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う走
査型プローブ顕微鏡において、第一の操作時に、カンチ
レバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の
半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とす
ることで、カンチレバ−が減衰しやすくなり、試料表面
の凹凸情報を得ることを可能にした。次に、第二の操作
時に、第一の操作時に得られた試料表面凹凸情報を基準
に針先を試料表面から正確に一定距離離して、試料表面
の物性情報を正しく測定することを可能とした。
するカンチレバーとカンチレバ−のレ−ザ反射面に照射
するレ−ザとレ−ザの反射光の位置を検出する光位置検
出器と試料を移動させる試料移動手段とカンチレバ−を
一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手段か
らなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触したとき
振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少した振
幅量が一定になるように 試料移動手段の上下動作を制
御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹凸形
状情報を測定する第一の操作と、次に、針先を第一の操
作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接触
状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う走
査型プローブ顕微鏡において、第一の操作時に、カンチ
レバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の
半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とす
ることで、カンチレバ−が減衰しやすくなり、試料表面
の凹凸情報を得ることを可能にした。次に、第二の操作
時に、第一の操作時に得られた試料表面凹凸情報を基準
に針先を試料表面から正確に一定距離離して、試料表面
の物性情報を正しく測定することを可能とした。
【０００９】
【実施例】実施例について図面を参照して説明すると、
図１，２，３は走査型プローブ顕微鏡の測定において
本発明の方式の模式図である。
図１，２，３は走査型プローブ顕微鏡の測定において
本発明の方式の模式図である。
【００１０】測定される情報として表面凹凸形状の場合
を図１で説明する。探針１を有するカンチレバ−２は、
レバ−加振手段３に取り付けられている。レ−ザ反射面
４には、レ−ザ５が照射されていて、反射光７は光位置
検出器８の位置として検出される。探針１が上下動する
ように、カンチレバ−２はレバ−加振手段３により振動
している。探針１は試料９の表面凹部に接触したときレ
−ザ反射光は光位置検出器の位置Ｄに到達する。探針が
試料の凹部より離れ振動の上限になったときレ−ザ反射
光は光位置検出器の位置Ｂに到達する。探針が試料凹部
にあたったり離れたりの振動をしているときは、カンチ
レバ−の振幅量は、位置Ｄと位置Ｂの差として得られ
る。次に、試料移動手段１０のスキャン動作１１によ
り、左へ移動させると、探針は試料の凸部上であたった
り離れたりする。探針が凸部あたっているときレ−ザ反
射光は光位置検出器の位置Ｃへ到達する。探針が凸部か
ら離れ振動の上限になったときレ−ザ反射光は光位置検
出器の位置Ｂへ到達する。
を図１で説明する。探針１を有するカンチレバ−２は、
レバ−加振手段３に取り付けられている。レ−ザ反射面
４には、レ−ザ５が照射されていて、反射光７は光位置
検出器８の位置として検出される。探針１が上下動する
ように、カンチレバ−２はレバ−加振手段３により振動
している。探針１は試料９の表面凹部に接触したときレ
−ザ反射光は光位置検出器の位置Ｄに到達する。探針が
試料の凹部より離れ振動の上限になったときレ−ザ反射
光は光位置検出器の位置Ｂに到達する。探針が試料凹部
にあたったり離れたりの振動をしているときは、カンチ
レバ−の振幅量は、位置Ｄと位置Ｂの差として得られ
る。次に、試料移動手段１０のスキャン動作１１によ
り、左へ移動させると、探針は試料の凸部上であたった
り離れたりする。探針が凸部あたっているときレ−ザ反
射光は光位置検出器の位置Ｃへ到達する。探針が凸部か
ら離れ振動の上限になったときレ−ザ反射光は光位置検
出器の位置Ｂへ到達する。
【００１１】探針が試料凸部にあたったり離れたりの振
動をしているときは、カンチレバ−の振幅量は、位置Ｃ
と位置Ｂの差として得られる。光位置検出器へのレ−ザ
反射光の到達位置の差を検出すれば試料の凹凸情報を測
定することができる。また、光位置検出器へのレ−ザ反
射光の到達位置の差が一定になるように、試料移動手段
１０の上下動作１２を制御し、上下動作の操作量から試
料の凹凸情報としてもよい。探針の試料へのあたりかた
（押し付け具合）は小さく一定にしたほうが、探針にも
試料表面にもダメ−ジを与えにくいため、通常は後者の
方法が取られている。
動をしているときは、カンチレバ−の振幅量は、位置Ｃ
と位置Ｂの差として得られる。光位置検出器へのレ−ザ
反射光の到達位置の差を検出すれば試料の凹凸情報を測
定することができる。また、光位置検出器へのレ−ザ反
射光の到達位置の差が一定になるように、試料移動手段
１０の上下動作１２を制御し、上下動作の操作量から試
料の凹凸情報としてもよい。探針の試料へのあたりかた
（押し付け具合）は小さく一定にしたほうが、探針にも
試料表面にもダメ−ジを与えにくいため、通常は後者の
方法が取られている。
【００１２】次に、図２にカンチレバ−が振動している
ときの模式図を示す。カンチレバ−２は、レバ−加振手
段３取り付けられている。レバ−加振手段３は、圧電素
子が用いられていて、圧電素子にある一定電圧が、ある
一定周期で印加される。圧電素子は上下方向の振動１３
を起こし、カンチレバ−２を振動させる。カンチレバ−
はある振幅量Ａで振動する。振幅量Ａは、レバ−加振手
段３内の圧電素子への印加電圧と振動周波数に依存す
る。印加電圧を一定値に決めても、加振させる周波数に
大きく依存する。
ときの模式図を示す。カンチレバ−２は、レバ−加振手
段３取り付けられている。レバ−加振手段３は、圧電素
子が用いられていて、圧電素子にある一定電圧が、ある
一定周期で印加される。圧電素子は上下方向の振動１３
を起こし、カンチレバ−２を振動させる。カンチレバ−
はある振幅量Ａで振動する。振幅量Ａは、レバ−加振手
段３内の圧電素子への印加電圧と振動周波数に依存す
る。印加電圧を一定値に決めても、加振させる周波数に
大きく依存する。
【００１３】図３に、本発明の第一の操作時において、
レバ−の加振周波数領域を従来との違いとして示す。縦
軸はカンチレバ−の振幅量Ａで、横軸はレバ−の加振周
波数である。加振周波数ｆを低周波より増加させていく
と、ある周波数のところで、カンチレバ−の振幅量Ａは
最大値Ａｍａｘとなる。さらに加振周波数ｆを増加させ
ると、振幅量Ａは小さくなっていく。どの周波数で最大
になるかは、カンチレバ−の材質、長さ、厚み、幅で決
まる。図に示すような、振幅量Ａの加振周波数の依存曲
線をＱカ−ブという。Ｑカ−ブのピ−クが共振点１４と
なる。共振点のときの加振周波数を共振周波数という。
共振周波数前後の近傍でレバ−を加振させれば、振動し
やすく、減衰しにくい特性となる。共振する周波数近傍
（共振点１４近傍）で加振させれば、カンチレバ−は同
一印加電圧でも振幅量Ａが大きくなり、振動しやすく、
逆に減衰しにくい。探針が試料から作用を受けても、減
衰しにくいため、変化すべき振幅量にすぐならない。振
動しやすい点を優先させて、 従来からカンチレバ−の
加振周波数は共振点近傍とされてきた。
レバ−の加振周波数領域を従来との違いとして示す。縦
軸はカンチレバ−の振幅量Ａで、横軸はレバ−の加振周
波数である。加振周波数ｆを低周波より増加させていく
と、ある周波数のところで、カンチレバ−の振幅量Ａは
最大値Ａｍａｘとなる。さらに加振周波数ｆを増加させ
ると、振幅量Ａは小さくなっていく。どの周波数で最大
になるかは、カンチレバ−の材質、長さ、厚み、幅で決
まる。図に示すような、振幅量Ａの加振周波数の依存曲
線をＱカ−ブという。Ｑカ−ブのピ−クが共振点１４と
なる。共振点のときの加振周波数を共振周波数という。
共振周波数前後の近傍でレバ−を加振させれば、振動し
やすく、減衰しにくい特性となる。共振する周波数近傍
（共振点１４近傍）で加振させれば、カンチレバ−は同
一印加電圧でも振幅量Ａが大きくなり、振動しやすく、
逆に減衰しにくい。探針が試料から作用を受けても、減
衰しにくいため、変化すべき振幅量にすぐならない。振
動しやすい点を優先させて、 従来からカンチレバ−の
加振周波数は共振点近傍とされてきた。
【００１４】共振点１４の高さ（振幅量）をＡｍａｘと
し、Ａｍａｘの１／２となる高さのＱカ−ブ上の点の周
波数をｆ１とｆ２とすると、ｆ１からｆ２の間を半値幅
の周波数帯とする。半値幅の周波数帯のなかでは、共振
点１４に近いほどレバ−は振動しやすく、減衰しにくい
特性となる。本発明では、第一の操作時に、レバ−の加
振周波数を半値幅の周波数帯の両外側とした。半値幅の
周波数帯の両外側ではレバ−は振動しにくく、減衰しや
すい特性となる。レバ−の減衰しやすい加振周波数の領
域とすることで、試料の凹凸形状に応じて、レバ−の振
幅量は変化があっても減衰しやすく一定値になりやす
く、試料移動手段の上下動作の操作量をすぐ決めること
ができ、試料表面の凹凸に応じて、試料移動手段の上下
動作を追従できるため、上下動作の操作量から得られる
情報は試料表面の凹凸形状となる。正しい試料表面の凹
凸情報が測定可能となる。
し、Ａｍａｘの１／２となる高さのＱカ−ブ上の点の周
波数をｆ１とｆ２とすると、ｆ１からｆ２の間を半値幅
の周波数帯とする。半値幅の周波数帯のなかでは、共振
点１４に近いほどレバ−は振動しやすく、減衰しにくい
特性となる。本発明では、第一の操作時に、レバ−の加
振周波数を半値幅の周波数帯の両外側とした。半値幅の
周波数帯の両外側ではレバ−は振動しにくく、減衰しや
すい特性となる。レバ−の減衰しやすい加振周波数の領
域とすることで、試料の凹凸形状に応じて、レバ−の振
幅量は変化があっても減衰しやすく一定値になりやす
く、試料移動手段の上下動作の操作量をすぐ決めること
ができ、試料表面の凹凸に応じて、試料移動手段の上下
動作を追従できるため、上下動作の操作量から得られる
情報は試料表面の凹凸形状となる。正しい試料表面の凹
凸情報が測定可能となる。
【００１５】図４に、カンチレバ−の振幅量が一定にな
るように、真空中で試料の凹凸形状を測定するとき、カ
ンチレバ−の振動量と試料表面との関係を模式図で示
す。探針が試料表面にあたっていないとき、カンチレバ
−は振幅量Ａ０で振動している。試料移動手段１０のス
キャン動作１１により試料が左方向へ移動してくると、
探針が試料の凸面２１にあたりカンチレバ−の振幅量が
Ａ１になったとする。Ａ１はＡ０よりも小さくなる。
この時点から、説明上制御を始めるとする。
るように、真空中で試料の凹凸形状を測定するとき、カ
ンチレバ−の振動量と試料表面との関係を模式図で示
す。探針が試料表面にあたっていないとき、カンチレバ
−は振幅量Ａ０で振動している。試料移動手段１０のス
キャン動作１１により試料が左方向へ移動してくると、
探針が試料の凸面２１にあたりカンチレバ−の振幅量が
Ａ１になったとする。Ａ１はＡ０よりも小さくなる。
この時点から、説明上制御を始めるとする。
【００１６】スキャンしながら、カンチレバ−の振幅量
がＡ１と一定になるように、試料移動手段１０の上下動
作１２を制御する。上下動作の操作量から試料表面の凹
凸形状を測定するのは前述のとうりである。スキャン動
作が進んで、試料がさらに左へ移動し探針が凸部２１の
右角よりさらに右にきた瞬間、凸部と同一の高さの面が
急になくなるため、カンチレバ−の振幅量はＡ１から変
化することになるが、レバ−が減衰しにくいためすぐに
は安定しない。このとき振幅量がすぐ一定になれば、試
料移動手段の上下動作の操作量を決めることができ、振
幅量がＡ１となるまで、試料移動手段により試料を探針
に近づければ上下動作の操作量から凸部の高さを決める
ことができる。しかし、探針が凸部の右角から外れる
と、探針のあたるものが急に無くなり、カンチレバ−は
別の振幅量で振れ始める。しかし、カンチレバ−の周囲
に空気抵抗が無いため、減衰しにくいことで、振幅量が
すぐ一定に決まらない。実際の振幅量は、ある時間経過
後に、探針が試料表面の凹部にあたりだし、Ａ２に落ち
着いて一定値になる。一定値になったＡ２と目標値であ
るＡ１とを比較し、振幅Ａ２がＡ１と同じになるよう
に、試料移動手段の上下動作の操作量がはじめて決まる
ことになる。しかし、実際には、試料移動手段の上下動
作の操作量を決める制御は常時行なっているため、振幅
量がＡ２になっていく途中の情報で操作量が決まること
になる。つまり、探針が試料表面にあたっていないの
に、上下動作の操作量が決まることになる。カンチレバ
−の過渡的な振幅量から測定される試料表面凹凸情報は
試料表面本来の形状でなく、カンチレバ−の減衰のしに
くさがはいってしまうことになる。たとえば、試料の凹
凸の段差立ち下がり部、立ち上がり部では、カンチレバ
−の振幅量は、減衰のしにくさから試料表面の凹凸に追
従できず、過渡的に遅れる形で上下動作の操作量が決ま
るため、測定される（得られる）凹凸情報は、図５に示
すように、試料の凹凸情報と測定される凹凸情報に違い
が出ることになる。真空中においても、本発明では、第
一の操作時に、図３に示すように、カンチレバ−の加振
周波数をＱカ−ブの半値幅の周波数帯の両外側とするこ
とで、カンチレバ−の振動が減衰しやすくなり、特に真
空中では、カンチレバ−の周囲の空気が無くなるため、
カンチレバ−が振動する際空気抵抗を受けず、 大気中
よりもさらに振動しやすく、一度振動し始めたら減衰し
にくくなる。カンチレバ−の加振周波数をＱカ−ブの半
値幅の周波数帯の両外側とすることで、大気中と同じ
く、正しい試料表面の凹凸情報が測定可能となる。
がＡ１と一定になるように、試料移動手段１０の上下動
作１２を制御する。上下動作の操作量から試料表面の凹
凸形状を測定するのは前述のとうりである。スキャン動
作が進んで、試料がさらに左へ移動し探針が凸部２１の
右角よりさらに右にきた瞬間、凸部と同一の高さの面が
急になくなるため、カンチレバ−の振幅量はＡ１から変
化することになるが、レバ−が減衰しにくいためすぐに
は安定しない。このとき振幅量がすぐ一定になれば、試
料移動手段の上下動作の操作量を決めることができ、振
幅量がＡ１となるまで、試料移動手段により試料を探針
に近づければ上下動作の操作量から凸部の高さを決める
ことができる。しかし、探針が凸部の右角から外れる
と、探針のあたるものが急に無くなり、カンチレバ−は
別の振幅量で振れ始める。しかし、カンチレバ−の周囲
に空気抵抗が無いため、減衰しにくいことで、振幅量が
すぐ一定に決まらない。実際の振幅量は、ある時間経過
後に、探針が試料表面の凹部にあたりだし、Ａ２に落ち
着いて一定値になる。一定値になったＡ２と目標値であ
るＡ１とを比較し、振幅Ａ２がＡ１と同じになるよう
に、試料移動手段の上下動作の操作量がはじめて決まる
ことになる。しかし、実際には、試料移動手段の上下動
作の操作量を決める制御は常時行なっているため、振幅
量がＡ２になっていく途中の情報で操作量が決まること
になる。つまり、探針が試料表面にあたっていないの
に、上下動作の操作量が決まることになる。カンチレバ
−の過渡的な振幅量から測定される試料表面凹凸情報は
試料表面本来の形状でなく、カンチレバ−の減衰のしに
くさがはいってしまうことになる。たとえば、試料の凹
凸の段差立ち下がり部、立ち上がり部では、カンチレバ
−の振幅量は、減衰のしにくさから試料表面の凹凸に追
従できず、過渡的に遅れる形で上下動作の操作量が決ま
るため、測定される（得られる）凹凸情報は、図５に示
すように、試料の凹凸情報と測定される凹凸情報に違い
が出ることになる。真空中においても、本発明では、第
一の操作時に、図３に示すように、カンチレバ−の加振
周波数をＱカ−ブの半値幅の周波数帯の両外側とするこ
とで、カンチレバ−の振動が減衰しやすくなり、特に真
空中では、カンチレバ−の周囲の空気が無くなるため、
カンチレバ−が振動する際空気抵抗を受けず、 大気中
よりもさらに振動しやすく、一度振動し始めたら減衰し
にくくなる。カンチレバ−の加振周波数をＱカ−ブの半
値幅の周波数帯の両外側とすることで、大気中と同じ
く、正しい試料表面の凹凸情報が測定可能となる。
【００１７】次に、第二の操作時には、第一の操作時に
得られた表面凹凸情報を基準に、針先を試料表面から一
定の距離離す。また、カンチレバ−の加振周波数は共振
点近傍に切り替える。
得られた表面凹凸情報を基準に、針先を試料表面から一
定の距離離す。また、カンチレバ−の加振周波数は共振
点近傍に切り替える。
【００１８】図６に、レバ−加振手段の印加電圧波形と
光位置検出器で検出される光位置出力信号の時間的関係
を示す。探針と試料表面が相互作用を受けなければ、印
加電圧波形と光位置出力波形は時間的な遅れが無く同一
となる。探針と試料表面は、静電気力、磁気力などによ
り時間的に遅れた応答をすることになる。探針が試料表
面から離れる方向の印加電圧をＶ１とし、探針が試料表
面に近づく方向の印加電圧を−Ｖ１とする。また、探針
が試料表面に近づく方向の光位置出力信号をＷ１とし、
探針が試料表面から離れる方向の光位置出力信号をＷ２
とする。探針と試料表面に前述の相互作用により、印加
電圧波形がＶ１になっても、光位置出力信号は時間Ｔ秒
後にＷ２になる。つまり、試料表面に物性による作用力
があると探針が試料表面から離れる方向のときに時間的
遅れ（位相）が発生する。
光位置検出器で検出される光位置出力信号の時間的関係
を示す。探針と試料表面が相互作用を受けなければ、印
加電圧波形と光位置出力波形は時間的な遅れが無く同一
となる。探針と試料表面は、静電気力、磁気力などによ
り時間的に遅れた応答をすることになる。探針が試料表
面から離れる方向の印加電圧をＶ１とし、探針が試料表
面に近づく方向の印加電圧を−Ｖ１とする。また、探針
が試料表面に近づく方向の光位置出力信号をＷ１とし、
探針が試料表面から離れる方向の光位置出力信号をＷ２
とする。探針と試料表面に前述の相互作用により、印加
電圧波形がＶ１になっても、光位置出力信号は時間Ｔ秒
後にＷ２になる。つまり、試料表面に物性による作用力
があると探針が試料表面から離れる方向のときに時間的
遅れ（位相）が発生する。
【００１９】このとき、遅れ時間Ｔの大小を検出するこ
とで、試料表面の物性の大小を比較することができる。
針先が試料表面から非接触のときは、位相を測定する際
にレバ−加振周波数をＱカ−ブの半値幅となる周波数帯
の両側とすると試料表面の物性の影響を受けても、レバ
−の振動は減衰しやすくなり共振しにくいため、高分解
能測定が犠牲になる。
とで、試料表面の物性の大小を比較することができる。
針先が試料表面から非接触のときは、位相を測定する際
にレバ−加振周波数をＱカ−ブの半値幅となる周波数帯
の両側とすると試料表面の物性の影響を受けても、レバ
−の振動は減衰しやすくなり共振しにくいため、高分解
能測定が犠牲になる。
【００２０】そこで、第一の操作時には針先が試料表面
に対して接触するため、カンチレバ−の加振周波数をＱ
カ−ブの半値幅の周波数帯の両外側とすることで、カン
チレバ−の振動が減衰しやすくなり、正確な表面凹凸情
報を得て、第二の操作時には針先が試料表面に対して非
接触となるため、カンチレバ−の加振周波数をＱカ−ブ
の共振点近傍と切り替えることで共振しやすくし、試料
表面の物性情報を感度よく測定することができる。
に対して接触するため、カンチレバ−の加振周波数をＱ
カ−ブの半値幅の周波数帯の両外側とすることで、カン
チレバ−の振動が減衰しやすくなり、正確な表面凹凸情
報を得て、第二の操作時には針先が試料表面に対して非
接触となるため、カンチレバ−の加振周波数をＱカ−ブ
の共振点近傍と切り替えることで共振しやすくし、試料
表面の物性情報を感度よく測定することができる。
【００２１】試料表面の物性情報としては、磁場、電
場、物理作用力などがある。例えば、カンチレバ−の探
針に磁性コ−トをしておけば、第二の操作時に試料表面
の磁場分布に応じて、磁性コ−トされた探針は引力、斥
力を受け、位相の違いとして検出される。測定したい領
域について位相信号をマッピングしていけば、試料表面
の磁場分布を測定できる磁気力顕微鏡となる。
場、物理作用力などがある。例えば、カンチレバ−の探
針に磁性コ−トをしておけば、第二の操作時に試料表面
の磁場分布に応じて、磁性コ−トされた探針は引力、斥
力を受け、位相の違いとして検出される。測定したい領
域について位相信号をマッピングしていけば、試料表面
の磁場分布を測定できる磁気力顕微鏡となる。
【００２２】また、カンチレバ−の探針に導電性コ−ト
をしておけば、第二の操作時に試料表面の電位分布に応
じて、導電性コ−トされた探針は静電誘導現象により引
力を受け、試料表面の電位の大きいところほど大きく引
力を浮け、位相の違いとして検出される。測定したい領
域について位相信号をマッピングしていけば、試料表面
の電位分布を測定できる電位力顕微鏡となる。
をしておけば、第二の操作時に試料表面の電位分布に応
じて、導電性コ−トされた探針は静電誘導現象により引
力を受け、試料表面の電位の大きいところほど大きく引
力を浮け、位相の違いとして検出される。測定したい領
域について位相信号をマッピングしていけば、試料表面
の電位分布を測定できる電位力顕微鏡となる。
【００２３】また、カンチレバ−の探針に樹脂コ−トあ
るいは高分子の球などを装着しておけば、第二の操作時
に試料表面の電位分布に応じて、樹脂コ−トあるいは高
分子の球などを装着された探針は、樹脂コ−トあるいは
高分子の球の材質で決まる帯電を持つため、試料表面の
場所ごとに引力、斥力を受ける。試料表面のプラス、マ
イナスに応じて、探針は引力あるいは斥力を位相の違い
として検出される。測定したい領域について位相信号を
マッピングしていけば、 試料表面の電位分布を測定で
きる電位力顕微鏡となる。
るいは高分子の球などを装着しておけば、第二の操作時
に試料表面の電位分布に応じて、樹脂コ−トあるいは高
分子の球などを装着された探針は、樹脂コ−トあるいは
高分子の球の材質で決まる帯電を持つため、試料表面の
場所ごとに引力、斥力を受ける。試料表面のプラス、マ
イナスに応じて、探針は引力あるいは斥力を位相の違い
として検出される。測定したい領域について位相信号を
マッピングしていけば、 試料表面の電位分布を測定で
きる電位力顕微鏡となる。
【００２４】また、カンチレバ−の探針に導電性コ−
ト、樹脂コ−トなどに拘わらず、第二の操作時に、探針
と試料表面とが離れた状態での非接触な相互物理作用力
（ファンデルワ−ルス力など）は位相の違いとして検出
される。測定したい領域について位相信号をマッピング
していけば、試料表面の非接触相互物理作用力分布を測
定できる物理作用力顕微鏡となる。
ト、樹脂コ−トなどに拘わらず、第二の操作時に、探針
と試料表面とが離れた状態での非接触な相互物理作用力
（ファンデルワ−ルス力など）は位相の違いとして検出
される。測定したい領域について位相信号をマッピング
していけば、試料表面の非接触相互物理作用力分布を測
定できる物理作用力顕微鏡となる。
【００２５】図７に、位相信号から共振点の周波数シフ
トを得る手順を示す。位相信号を得る方法は図６と同じ
である。位相信号から共振周波数のシフト分を求めても
よい。 第二の操作時に、共振周波数のシフト分をマッ
ピングしていけば、前述と同じく 磁気力顕微鏡、電位
力顕微鏡、物理作用力顕微鏡となるのはいうまでもな
い。
トを得る手順を示す。位相信号を得る方法は図６と同じ
である。位相信号から共振周波数のシフト分を求めても
よい。 第二の操作時に、共振周波数のシフト分をマッ
ピングしていけば、前述と同じく 磁気力顕微鏡、電位
力顕微鏡、物理作用力顕微鏡となるのはいうまでもな
い。
【００２６】また、第二の操作時にカンチレバ−を振動
させなくてもよい。振動させないときは、第二の操作時
に、カンチレバ−は試料表面の物性により非接触の拘束
力（静電気力、磁気力など）を受け、カンチレバ−のレ
−ザ反射面はたわむ。試料表面から引力を受けると針先
は試料面に近づき、反力を受けると試料表面から離れよ
うとする。たわみ量を光ヘッドで検出すれば、試料表面
の物性情報を測定することもできる。
させなくてもよい。振動させないときは、第二の操作時
に、カンチレバ−は試料表面の物性により非接触の拘束
力（静電気力、磁気力など）を受け、カンチレバ−のレ
−ザ反射面はたわむ。試料表面から引力を受けると針先
は試料面に近づき、反力を受けると試料表面から離れよ
うとする。たわみ量を光ヘッドで検出すれば、試料表面
の物性情報を測定することもできる。
【００２７】第一の操作と第二の操作は、測定したい領
域内においてポイントごとに行ってもよい。ある点にお
いて、第一の操作をしてすぐ第二の操作をする。針先と
試料の位置を相対的にずらして、隣のポイントにおいて
同じく第一の操作と第二の操作をする。同様に繰り返し
ていくことで、測定したい領域内の表面凹凸情報と試料
表面物性情報が得られる。
域内においてポイントごとに行ってもよい。ある点にお
いて、第一の操作をしてすぐ第二の操作をする。針先と
試料の位置を相対的にずらして、隣のポイントにおいて
同じく第一の操作と第二の操作をする。同様に繰り返し
ていくことで、測定したい領域内の表面凹凸情報と試料
表面物性情報が得られる。
【００２８】第一の操作と第二の操作は、測定したい領
域内においてラインごとに行ってもよい。あるラインに
おいて、第一の操作をして測定ラインでの表面凹凸情報
を測定し記憶する。次に、記憶された表面凹凸情報を基
準に針先が試料表面から一定距離離して、同一ライン上
で第二の操作をする。針先と試料の位置を相対的にずら
して、隣のラインにおいて同じく第一の操作と第二の操
作をする。同様に繰り返していくことで、測定したい領
域内の表面凹凸情報と試料表面物性情報が得られる。
域内においてラインごとに行ってもよい。あるラインに
おいて、第一の操作をして測定ラインでの表面凹凸情報
を測定し記憶する。次に、記憶された表面凹凸情報を基
準に針先が試料表面から一定距離離して、同一ライン上
で第二の操作をする。針先と試料の位置を相対的にずら
して、隣のラインにおいて同じく第一の操作と第二の操
作をする。同様に繰り返していくことで、測定したい領
域内の表面凹凸情報と試料表面物性情報が得られる。
【００２９】第一の操作と第二の操作は、測定したい領
域内においてフレ−ムごとに行ってもよい。測定したい
領域（フレ−ム）をすべて第一の操作をする。このケ−
スでは、試料表面凹凸情報を２次元デ−タとして記憶す
る。次に記憶された２次元ｈの表面凹凸情報を基準に、
針先を試料表面から一定距離離して、第二の操作をす
る。
域内においてフレ−ムごとに行ってもよい。測定したい
領域（フレ−ム）をすべて第一の操作をする。このケ−
スでは、試料表面凹凸情報を２次元デ−タとして記憶す
る。次に記憶された２次元ｈの表面凹凸情報を基準に、
針先を試料表面から一定距離離して、第二の操作をす
る。
【００３０】また、第一の操作で最初に測定したい領域
内のフレ−ムを測定し表面凹凸形状を得て、次に試料移
動手段により探針を測定したいポイントに移動させて、
そのポイントにおいてのみ第二の操作に入り表面物性情
報を測定してもよい。さらにポイントにおいての第二の
操作時に表面物性情報を得るとき試料に磁場あるいは電
界を印加させてもよい。なお磁場、電界など印加する強
さを変化させて第二の操作時で得られる表面物性情報の
変化を測定してもよい。
内のフレ−ムを測定し表面凹凸形状を得て、次に試料移
動手段により探針を測定したいポイントに移動させて、
そのポイントにおいてのみ第二の操作に入り表面物性情
報を測定してもよい。さらにポイントにおいての第二の
操作時に表面物性情報を得るとき試料に磁場あるいは電
界を印加させてもよい。なお磁場、電界など印加する強
さを変化させて第二の操作時で得られる表面物性情報の
変化を測定してもよい。
【００３１】次に、図８に真空中での実施例を示す。レ
−ザ発生器６１からのレ−ザ５はウインドウ６２を透過
して真空容器６３内へ導入される。真空容器とウインド
ウは気密性が確保されていて、真空容器は真空排気手段
６４により真空状態が達成される。真空容器内にはカン
チレバ−２とレバ−加振手段３と試料９と試料を加熱あ
るいは冷却あるいは室温のまま載せる試料台６５が設置
されている。試料台は試料台移動手段６９によりスキャ
ン動作および上下動作が可能となっている。ウインドウ
を介し真空容器内に導入されたレ−ザは、カンチレバ−
２のレ−ザ反射面に照射され、レ−ザの反射光７はウイ
ンドウを介し真空容器外に設置された光位置検出器８へ
到達する。光位置検出器の位置により、カンチレバ−の
振幅量が得られる。第一の操作において 探針が試料表
面にあたることで振幅量が減少するが、減少した振幅量
を維持するように試料移動手段のスキャン動作に応じて
上下動作により操作量を決めれば試料凹凸情報を得るこ
とができる。この際、レバ−加振動周波数をＱカ−ブの
半値幅の周波数帯の両外側とすることで、レバ−が減衰
しやすくなり、試料凹凸に追随しやすくなり、試料の凹
凸形状情報を測定することができる。また、第二の操作
において、レバ−加振手段３への印加電圧波形と光位置
検出器８の出力信号を測定することで、探針が離れる方
向のときの時間遅れ（位相）を得ることができ、時間遅
れの大小は試料表面の物性値の大小になるため、物性分
布を測定することができる。
−ザ発生器６１からのレ−ザ５はウインドウ６２を透過
して真空容器６３内へ導入される。真空容器とウインド
ウは気密性が確保されていて、真空容器は真空排気手段
６４により真空状態が達成される。真空容器内にはカン
チレバ−２とレバ−加振手段３と試料９と試料を加熱あ
るいは冷却あるいは室温のまま載せる試料台６５が設置
されている。試料台は試料台移動手段６９によりスキャ
ン動作および上下動作が可能となっている。ウインドウ
を介し真空容器内に導入されたレ−ザは、カンチレバ−
２のレ−ザ反射面に照射され、レ−ザの反射光７はウイ
ンドウを介し真空容器外に設置された光位置検出器８へ
到達する。光位置検出器の位置により、カンチレバ−の
振幅量が得られる。第一の操作において 探針が試料表
面にあたることで振幅量が減少するが、減少した振幅量
を維持するように試料移動手段のスキャン動作に応じて
上下動作により操作量を決めれば試料凹凸情報を得るこ
とができる。この際、レバ−加振動周波数をＱカ−ブの
半値幅の周波数帯の両外側とすることで、レバ−が減衰
しやすくなり、試料凹凸に追随しやすくなり、試料の凹
凸形状情報を測定することができる。また、第二の操作
において、レバ−加振手段３への印加電圧波形と光位置
検出器８の出力信号を測定することで、探針が離れる方
向のときの時間遅れ（位相）を得ることができ、時間遅
れの大小は試料表面の物性値の大小になるため、物性分
布を測定することができる。
【００３２】また、測定は真空中だけではなく、真空排
気手段により真空にした後、真空容器にガス導入６８し
て大気圧下で測定してもよい。さらに、ガス置換する際
に、湿度を含ませたガスを導入して測定してもよい。ま
た、真空排気せず、真空容器内へガスあるいは湿度を含
めたガスを常時流し続けて１気圧状態で測定してもよ
い。
気手段により真空にした後、真空容器にガス導入６８し
て大気圧下で測定してもよい。さらに、ガス置換する際
に、湿度を含ませたガスを導入して測定してもよい。ま
た、真空排気せず、真空容器内へガスあるいは湿度を含
めたガスを常時流し続けて１気圧状態で測定してもよ
い。
【００３３】また、試料を溶液の入れることのできるセ
ル内にセットして、試料移動手段上に置き溶液中で測定
してもよい。
ル内にセットして、試料移動手段上に置き溶液中で測定
してもよい。
【００３４】また、 試料表面に垂直あるいは水平ある
いは任意の角度の磁場、電界などを印加して測定しても
よい。磁場あるいは電界を印加する手段は、試料の近く
周囲でも、真空容器の外に配置してもよい。例えば磁場
を印加する場合には、試料近傍にコイルを設置し、コイ
ルに電流を流すことで電流の大きさで印加磁場の強さを
変化させてもよい。また永久磁石を用いて試料との距離
を変化させることで印加磁場の強さを変化させてもよ
い。次に例えば電界を印加する場合には、試料近傍にコ
イルを設置し、コイルに電流を流すことで電流の大きさ
で印加電界の強さを変化させてもよい。また試料近傍に
板状の電極面を設置し、電極に電圧を印加し 印加する
電圧の強さを変化させることで試料への電界を変化させ
てもよい。
いは任意の角度の磁場、電界などを印加して測定しても
よい。磁場あるいは電界を印加する手段は、試料の近く
周囲でも、真空容器の外に配置してもよい。例えば磁場
を印加する場合には、試料近傍にコイルを設置し、コイ
ルに電流を流すことで電流の大きさで印加磁場の強さを
変化させてもよい。また永久磁石を用いて試料との距離
を変化させることで印加磁場の強さを変化させてもよ
い。次に例えば電界を印加する場合には、試料近傍にコ
イルを設置し、コイルに電流を流すことで電流の大きさ
で印加電界の強さを変化させてもよい。また試料近傍に
板状の電極面を設置し、電極に電圧を印加し 印加する
電圧の強さを変化させることで試料への電界を変化させ
てもよい。
【００３５】第一の操作において、レバ−加振周波数
を、レバ−の振幅量と加振周波数の依存曲線（Ｑカ−
ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側とすることで、レ
バ−の減衰をしやすくし、大気中のみならず真空中、ガ
ス中、溶液中においも、試料の凹凸に追随させ、試料表
面凹凸情報を正確に測定できる。また、第二の操作時に
は、第一で得られた表面凹凸情報を基準にすることがで
き、針先を試料表面から一定距離離した状態の物性情報
を測定できる。
を、レバ−の振幅量と加振周波数の依存曲線（Ｑカ−
ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側とすることで、レ
バ−の減衰をしやすくし、大気中のみならず真空中、ガ
ス中、溶液中においも、試料の凹凸に追随させ、試料表
面凹凸情報を正確に測定できる。また、第二の操作時に
は、第一で得られた表面凹凸情報を基準にすることがで
き、針先を試料表面から一定距離離した状態の物性情報
を測定できる。
【００３６】
【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
【００３７】先端に微小な探針を有するカンチレバー
と、該カンチレバ−のレ−ザ反射面に照射するレ−ザ
と、該レ−ザの反射光の位置を検出する光位置検出器
と、試料を移動させる試料移動手段と、カンチレバ−を
一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手段と
からなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触したと
き振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少した
振幅量が一定になるように、試料移動手段の上下動作を
制御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹凸
形状情報を測定する第一の操作と、次に針先を第一の操
作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接触
状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う走
査型プローブ顕微鏡において、第一の操作時に、カンチ
レバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の
半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とす
ることで、カンチレバ−が減衰しやすくなり、試料表面
の凹凸情報を正確に得ることを可能にした。次に、第二
の操作時に、第一の操作時に得られた試料表面凹凸情報
を基準に針先を試料表面から正確に一定距離離して、試
料表面の物性情報を正しく測定することを可能にする効
果がある。
と、該カンチレバ−のレ−ザ反射面に照射するレ−ザ
と、該レ−ザの反射光の位置を検出する光位置検出器
と、試料を移動させる試料移動手段と、カンチレバ−を
一定周期で所望の振幅量で振動させるレバ−加振手段と
からなり、カンチレバ−の探針が試料表面に接触したと
き振幅量の減少分を光位置検出器でとらえて、減少した
振幅量が一定になるように、試料移動手段の上下動作を
制御することで、上下動作の操作量から試料表面の凹凸
形状情報を測定する第一の操作と、次に針先を第一の操
作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、非接触
状態での物理作用力情報を検出する第二の操作を行う走
査型プローブ顕微鏡において、第一の操作時に、カンチ
レバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ−ブ）の
半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−加振周波数とす
ることで、カンチレバ−が減衰しやすくなり、試料表面
の凹凸情報を正確に得ることを可能にした。次に、第二
の操作時に、第一の操作時に得られた試料表面凹凸情報
を基準に針先を試料表面から正確に一定距離離して、試
料表面の物性情報を正しく測定することを可能にする効
果がある。
【図１】走査型プロ−ブ顕微鏡で表面凹凸分布を測定す
るときの方式の模式図。
るときの方式の模式図。
【図２】カンチレバ−の振動を説明する模式図。
【図３】カンチレバ−の振幅量と加振周波数の依存曲線
と本発明の加振周波数領域の説明図。
と本発明の加振周波数領域の説明図。
【図４】走査型プロ−ブ顕微鏡で表面凹凸分布を測定す
るときの、探針と試料表面の関係を示す説明図。
るときの、探針と試料表面の関係を示す説明図。
【図５】走査型プロ−ブ顕微鏡で表面凹凸分布を測定す
るときの、カンチレバ−が減衰しにくいときの測定され
る凹凸情報の説明図。
るときの、カンチレバ−が減衰しにくいときの測定され
る凹凸情報の説明図。
【図６】走査型プロ−ブ顕微鏡で物性分布を測定する
際、探針の試料表面から離れる時間的遅れ（位相）を示
す説明図。
際、探針の試料表面から離れる時間的遅れ（位相）を示
す説明図。
【図７】走査型プロ−ブ顕微鏡で物性分布を測定する
際、探針の試料表面から離れる時間的遅れ（位相）から
共振周波数のシフト量を求める説明図。
際、探針の試料表面から離れる時間的遅れ（位相）から
共振周波数のシフト量を求める説明図。
【図８】走査型プロ−ブ顕微鏡で試料表面凹凸情報およ
び物性分布を測定する際の実施例を示す模式図。
び物性分布を測定する際の実施例を示す模式図。
１ 探針 ２ カンチレバ− ３ レバ−加振手段 ４ レ−ザ反射面 ５ レ−ザ ７ 反射光 ８ 光位置検出器 ９ 試料 １０ 試料移動手段 １１ スキャン動作 １２ 上下動作 １３ 振動 １４ 共振点 ２１ 試料凸部 ６１ レ−ザ発生器 ６２ ウインドウ ６３ 真空容器 ６４ 真空排気手段 ６５ 試料台 ６６ レ−ザ移動手段 ６７ 光位置検出器移動手段 ６８ ガス導入 ６９ 試料台移動手段 Ｂ，Ｃ，Ｄ レ−ザ反射光の光位置検出器
への到達する位置 Ａ、Ａ０、Ａ１、Ａ２ カンチレバ−の振幅 Ａｍａｘ Ｑカ−ブの共振点の振幅量 ｆ１、ｆ２ Ｑカ−ブの共振点振幅量の半
分となる周波数 Ｖ１，−Ｖ１ レバ−加振手段への印加電圧 Ｗ１、Ｗ２ 光位置検出器での光位置出力
信号
への到達する位置 Ａ、Ａ０、Ａ１、Ａ２ カンチレバ−の振幅 Ａｍａｘ Ｑカ−ブの共振点の振幅量 ｆ１、ｆ２ Ｑカ−ブの共振点振幅量の半
分となる周波数 Ｖ１，−Ｖ１ レバ−加振手段への印加電圧 Ｗ１、Ｗ２ 光位置検出器での光位置出力
信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土橋 正樹 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 鹿倉 良晃 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 渡辺 和俊 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 Ｆターム(参考） 2F069 AA57 AA60 BB40 GG04 GG07 GG19 GG62 HH04 HH30 KK10 LL03 RR09
Claims (14)
- 【請求項1】 先端に微小な探針を有するカンチレバーと
カンチレバ−のレ−ザ反射面に照射するレ−ザとレ−ザ
の反射光の位置を検出する光位置検出器と試料を移動さ
せる試料移動手段とカンチレバ−を一定周期で所望の振
幅量で振動させるレバ−加振手段からなり、カンチレバ
−の探針が試料表面に接触したとき振幅量の減少分を光
位置検出器でとらえて、減少した振幅量が一定になるよ
うに、試料移動手段の上下動作を制御することで、上下
動作の操作量から試料表面の凹凸形状情報を測定する第
一の操作と、次に針先を第一の操作で得られた凹凸形状
から一定距離離しながら、非接触状態での物理作用力情
報を検出する第二の操作を行う走査型プローブ顕微鏡に
おいて、試料表面の凹凸形状情報を測定する第一の操作
時に、カンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線
（Ｑカ−ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−
加振周波数とし表面凹凸情報を測定し、次に、針先を第
一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、
非接触状態での物理作用力情報を検出する第二の操作時
にカンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線（Ｑカ
−ブ）の共振点近傍をレバ−加振周波数とすることを特
徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項２】 先端に微小な探針を有するカンチレバー
とカンチレバ−のレ−ザ反射面に照射するレ−ザとレ−
ザの反射光の位置を検出する光位置検出器と試料を移動
させる試料移動手段とカンチレバ−を一定周期で所望の
振幅量で振動させるレバ−加振手段からなり、カンチレ
バ−の探針が試料表面に接触したとき振幅量の減少分を
光位置検出器でとらえて、減少した振幅量が一定になる
ように、試料移動手段の上下動作を制御することで、上
下動作の操作量から試料表面の凹凸形状情報を測定する
第一の操作と、次に針先を第一の操作で得られた凹凸形
状から一定距離離しながら、非接触状態での物理作用力
情報を検出する第二の操作を行う走査型プローブ顕微鏡
において、試料表面の凹凸形状情報を測定する第一の操
作時に、カンチレバ−の加振周波数と振幅量の依存曲線
（Ｑカ−ブ）の半値幅となる周波数帯の両外側をレバ−
加振周波数とし表面凹凸情報を測定し、次に、針先を第
一の操作で得られた凹凸形状から一定距離離しながら、
非接触状態での物理作用力情報を検出する第二の操作時
にカンチレバ−を積極的に振動させずにカンチレバ−の
たわみ量を検出することを特徴とする走査型プローブ顕
微鏡。 - 【請求項３】 試料表面とカンチレバ−の探針との相互
作用で、カンチレバ−の振動形態に時間的遅れ（位相）
が発生したときの信号をとらえる位相検出器を有し、位
相を検出することで試料表面の物性（磁場、電場、物理
作用力）の違いを測定するようにした請求項1記載の走
査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項４】 試料表面とカンチレバ−の探針との相互
作用で カンチレバ−の振動形態に時間的遅れ（位相）
が発生したときの信号をとらえる位相検出器を有し、カ
ンチレバ−の振動形態に共振周波数のシフトが発生した
ときの信号を位相検出器によりとらえる機能（手段）に
より、周波数のシフト量を検出することで試料表面の物
性（磁場、電場、物理作用力）の違いを測定するように
した請求項1記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項５】第一の操作と第二の操作が、測定ポイント
ごとに行っていくようにした請求項1から４のいずれか
一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項６】第一の操作と第二の操作が、測定ラインご
とに行っていくようにした請求項1から４のいずれか一
つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項７】第一の操作と第二の操作が、測定面フレ−
ムごとに行っていくようにした請求項1から４のいずれ
か一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項８】大気中で測定するようにした請求項1から
７のいずれか一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項９】溶液を入れるセルを有し、試料を溶液中に
入れ、溶液中で測定するようにした請求項1から７のい
ずれか一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項１０】真空容器と排気の手段を有し、真空環境
で測定するようにした、請求項1から７のいずれか一つ
に記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項１１】一度真空にしてから真空容器をガス置換
してガス雰囲気中で測定できるようにした、請求項1か
ら７のいずれか一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項１２】測定試料を加熱あるいは冷却する機能を
有し、加熱あるいは冷却中で測定するようにした請求項
８から１１のいずれか一つに記載の走査型プローブ顕微
鏡。 - 【請求項１３】測定試料に磁場を印加する機能を有し、
磁場印加中で測定するようにした請求項８から１２のい
ずれか一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項１４】測定試料に電界を印加する機能を有し、
電界印加中で測定するようにした請求項８から１２のい
ずれか一つに記載の走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000381555A JP4510277B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US10/017,123 US6596992B2 (en) | 2000-12-15 | 2001-12-14 | Method of operating scanning probe microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000381555A JP4510277B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002181687A true JP2002181687A (ja) | 2002-06-26 |
| JP4510277B2 JP4510277B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=18849530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000381555A Expired - Fee Related JP4510277B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6596992B2 (ja) |
| JP (1) | JP4510277B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006167866A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Sii Nanotechnology Inc | 微細加工装置及び微細加工方法 |
| JP2008241346A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Fujitsu Ltd | 探針及びそれを用いた測定装置 |
| EP2017599A2 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Mitutoyo Corporation | Shape measuring apparatus |
| JP2009537840A (ja) * | 2006-05-24 | 2009-10-29 | ユニヴェルシテ ジョセフ フーリエ | 制御される原子間力顕微鏡 |
| JP2010014591A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Mitsutoyo Corp | 微細形状測定装置 |
| US7681439B2 (en) | 2006-08-23 | 2010-03-23 | Mitutoyo Corporation | Measuring apparatus |
| US7853422B2 (en) | 2004-11-05 | 2010-12-14 | Japan Science And Technology Agency | Dynamic-mode atomic-force-microscope probe (Tip) vibration simulation method, program, recording medium, and vibration simulator |
| KR101109378B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2012-01-30 | 삼성전기주식회사 | 캔틸레버 바이오 센서의 공진 주파수 측정방법 |
| CN103443631A (zh) * | 2008-05-23 | 2013-12-11 | 库马尔·维尔瓦尼 | 前置放大悬臂及其应用 |
| JP2021092572A (ja) * | 2017-03-28 | 2021-06-17 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7055378B2 (en) * | 2003-08-11 | 2006-06-06 | Veeco Instruments, Inc. | System for wide frequency dynamic nanomechanical analysis |
| US7958776B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-06-14 | Chunhai Wang | Atomic force gradient microscope and method of using this microscope |
| JP5461917B2 (ja) * | 2009-08-12 | 2014-04-02 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 軟化点測定装置および熱伝導測定装置 |
| US8549660B2 (en) | 2010-04-09 | 2013-10-01 | Boise State University | Cantilever-based optical fiber probe interfacial force microscope for partial immersion in liquid |
| US20120047610A1 (en) | 2010-04-09 | 2012-02-23 | Boise State University | Cantilever-based optical interface force microscope |
| GB201104805D0 (en) | 2011-03-22 | 2011-05-04 | Invibio Ltd | Medical device |
| US8769710B2 (en) * | 2012-11-13 | 2014-07-01 | Agilent Technologies, Inc. | Atomic force microscope system using selective active damping |
| CN109059785B (zh) * | 2018-09-06 | 2020-04-14 | 天津大学 | 一种基于平行平板光杠杆的薄片厚度测量系统 |
| CN109141252B (zh) * | 2018-09-06 | 2020-04-14 | 天津大学 | 一种基于平行平板的光杠杆测量系统 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06213910A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-08-05 | Digital Instr Inc | 形状を除く表面のパラメータを正確に測定し、または形状に関連した仕事を行うための方法および相互作用装置 |
| JPH10247118A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Canon Inc | マイクロダンパ、及び該マイクロダンパを有するセンサ、アクチュエータ、プローブ、並びに該プローブを有する走査型プローブ顕微鏡、加工装置、情報処理装置 |
| JPH11337560A (ja) * | 1998-05-28 | 1999-12-10 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
| JP2000249713A (ja) * | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Jeol Ltd | 走査プローブ顕微鏡 |
| JP2001108602A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-04-20 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4724318A (en) * | 1985-11-26 | 1988-02-09 | International Business Machines Corporation | Atomic force microscope and method for imaging surfaces with atomic resolution |
| EP0459392B1 (en) * | 1990-05-30 | 1999-08-18 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for processing a minute portion of a specimen |
| US5077473A (en) * | 1990-07-26 | 1991-12-31 | Digital Instruments, Inc. | Drift compensation for scanning probe microscopes using an enhanced probe positioning system |
| US5298975A (en) * | 1991-09-27 | 1994-03-29 | International Business Machines Corporation | Combined scanning force microscope and optical metrology tool |
| US5376790A (en) * | 1992-03-13 | 1994-12-27 | Park Scientific Instruments | Scanning probe microscope |
| US6006594A (en) * | 1994-05-11 | 1999-12-28 | Dr. Khaled Und Dr. Miles Haines Gesellschaft Burgerlichen Rechts | Scanning probe microscope head with signal processing circuit |
| US5624845A (en) * | 1995-03-16 | 1997-04-29 | International Business Machines Corporation | Assembly and a method suitable for identifying a code |
| US5744704A (en) * | 1995-06-07 | 1998-04-28 | The Regents, University Of California | Apparatus for imaging liquid and dielectric materials with scanning polarization force microscopy |
| JPH0961442A (ja) * | 1995-08-23 | 1997-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 原子間力顕微鏡及びその測定ヘッド |
| JPH10142240A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡とこの走査型プローブ顕微鏡を備えた加工装置 |
| JP3210961B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2001-09-25 | 北海道大学長 | 交換相互作用力の測定装置 |
| US6246054B1 (en) * | 1997-06-10 | 2001-06-12 | Olympus Optical Co., Ltd. | Scanning probe microscope suitable for observing the sidewalls of steps in a specimen and measuring the tilt angle of the sidewalls |
| JPH1130619A (ja) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Jeol Ltd | 走査プローブ顕微鏡 |
| US6196061B1 (en) * | 1998-11-05 | 2001-03-06 | Nanodevices, Inc. | AFM with referenced or differential height measurement |
| JP2001027596A (ja) * | 1999-05-13 | 2001-01-30 | Canon Inc | 走査型プローブによる表面特性・電気的特性の検出装置と検出方法、およびこれらにより構成されたマルチプローブによる表面特性・電気的特性の検出装置と検出方法、並びに観察装置と観察方法 |
-
2000
- 2000-12-15 JP JP2000381555A patent/JP4510277B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-12-14 US US10/017,123 patent/US6596992B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06213910A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-08-05 | Digital Instr Inc | 形状を除く表面のパラメータを正確に測定し、または形状に関連した仕事を行うための方法および相互作用装置 |
| JPH10247118A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Canon Inc | マイクロダンパ、及び該マイクロダンパを有するセンサ、アクチュエータ、プローブ、並びに該プローブを有する走査型プローブ顕微鏡、加工装置、情報処理装置 |
| JPH11337560A (ja) * | 1998-05-28 | 1999-12-10 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
| JP2000249713A (ja) * | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Jeol Ltd | 走査プローブ顕微鏡 |
| JP2001108602A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-04-20 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7853422B2 (en) | 2004-11-05 | 2010-12-14 | Japan Science And Technology Agency | Dynamic-mode atomic-force-microscope probe (Tip) vibration simulation method, program, recording medium, and vibration simulator |
| JP2006167866A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Sii Nanotechnology Inc | 微細加工装置及び微細加工方法 |
| JP4699748B2 (ja) * | 2004-12-16 | 2011-06-15 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 微細加工装置及び微細加工方法 |
| JP2009537840A (ja) * | 2006-05-24 | 2009-10-29 | ユニヴェルシテ ジョセフ フーリエ | 制御される原子間力顕微鏡 |
| US7681439B2 (en) | 2006-08-23 | 2010-03-23 | Mitutoyo Corporation | Measuring apparatus |
| JP2008241346A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Fujitsu Ltd | 探針及びそれを用いた測定装置 |
| EP2017599A2 (en) | 2007-07-19 | 2009-01-21 | Mitutoyo Corporation | Shape measuring apparatus |
| US7907288B2 (en) | 2007-07-19 | 2011-03-15 | Mitutoyo Corporation | Shape measuring apparatus |
| CN103443631A (zh) * | 2008-05-23 | 2013-12-11 | 库马尔·维尔瓦尼 | 前置放大悬臂及其应用 |
| JP2010014591A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Mitsutoyo Corp | 微細形状測定装置 |
| KR101109378B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2012-01-30 | 삼성전기주식회사 | 캔틸레버 바이오 센서의 공진 주파수 측정방법 |
| JP2021092572A (ja) * | 2017-03-28 | 2021-06-17 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4510277B2 (ja) | 2010-07-21 |
| US20020088937A1 (en) | 2002-07-11 |
| US6596992B2 (en) | 2003-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002181687A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| CN1924521B (zh) | 表面形状测量装置 | |
| US6675637B2 (en) | Touch sensor | |
| JP2010210636A5 (ja) | ||
| JP5252389B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| RU2005102703A (ru) | Сканирующий зондовый микроскоп | |
| EP1269480B1 (en) | Atomic force microscope | |
| US7509844B2 (en) | Atomic force microscope technique for minimal tip damage | |
| JP4960347B2 (ja) | より高次の高調波原子間力顕微鏡 | |
| US6617848B2 (en) | Magnetic head measuring apparatus and measuring method applied to the same apparatus | |
| JPH11352138A (ja) | 磁気力顕微鏡 | |
| JPH11352135A (ja) | 原子間力顕微鏡 | |
| JP3877919B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| JP3731047B2 (ja) | 微小硬さ試験機 | |
| JP2005106786A (ja) | 走査形プローブ顕微鏡 | |
| JPH03500213A (ja) | 共鳴音響発振素子の近接場中の対象物を検査する音響走査顕微鏡 | |
| JP2001108601A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| KR100971467B1 (ko) | 탐침의 강도를 가변하는 장치와 이를 이용한 전기기계장치 | |
| JP3989704B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| KR101630392B1 (ko) | 토포그래피 신호 및 옵션 신호 획득 방법, 장치 및 이를 구비하는 원자 현미경 | |
| JP2003085717A (ja) | 磁気記録ヘッド測定装置及び同装置に適用する測定方法 | |
| US7854015B2 (en) | Method for measuring the force of interaction in a scanning probe microscope | |
| JP2007017388A (ja) | 走査形プローブ顕微鏡 | |
| JP2000028511A (ja) | カンチレバー振幅測定方法および非接触原子間力顕微鏡 | |
| JP3274087B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040303 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040526 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070710 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071119 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081217 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091102 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091113 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100218 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100427 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100430 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4510277 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |