JP2002175647A - 情報記録担体用基体の製造装置、情報記録担体用基体の製造方法、及び情報記録担体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一段と微細化された微細パターンを形
成することが可能な情報記録担体用基体の超微細な加工
装置を提供する。 【解決手段】 ブランク基体支持ユニットとエネルギ
ー線照射ユニットと相対運動付与ユニットと中和ユニッ
トとから少なくとも構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光又は磁気を記録
再生に利用したディスク、カード、テープなどの情報記
録担体、特に再生専用型や光磁気や相変化などの記録再
生型情報記録担体に好適な情報記録担体用基体の製造装
置、情報記録担体用基体の製造方法、情報記録担体の製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、高密度に情報を再生又は記録再生
する情報記録担体として、光カードや光ディスク、光テ
ープがあった。特にディスク状であり、再生専用型情報
記録担体としては、音楽情報やプログラムなどが記録さ
れるＣＤ、画像情報が記録されるＬＤ、ビデオＣＤなど
が知られている。一方、近年では記録再生に使用する半
導体レーザーが従来の８３０ｎｍ、７８０ｎｍの波長に
代わり６５０ｎｍ近傍の波長で登場し、記録パターンの
微細化により７倍近い記録容量としたＤＶＤ（デジタル
バーサタイルディスク）が開発された。このため市場で
はＣＤがＤＶＤオーディオやＳＡＣＤに、またＬＤ、ビ
デオＣＤがＤＶＤビデオに置き変わりつつある。このよ
うな事情は記録再生型の記録担体でも同様であり、光磁
気ディスクは従来のＭＯディスクから、ＧＩＧＡＭＯや
ＡＳＭＯに、相変化ディスクはＰＤからＤＶＤ−ＲＡ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷに置き変わりつつあ
る。また、ＣＤ−Ｒのような追記型ディスクも同様に、
ＤＶＤ−Ｒに置き換わりつつある。

【０００３】更に、最近では半導体レーザーの波長が６
５０ｎｍから４００ｎｍへと、より短波長化したものが
開発されている。これによって、従来の６０％近い波長
短縮が行われるので、記録担体の記録容量が更に増大す
るものと期待されている。これに伴って、より微細なパ
ターンを刻み込むいわゆるマスタリング技術の開発が進
められている。しかしながら今までのところ、波長短縮
に見合った超微細なマスタリングはまだ達成されていな
い。

【０００４】また、ハードディスクに代表される磁気デ
ィスクでも事情は同じであり、高密度化が急ピッチで進
められている。ＰＥＲＭディスクに代表される、ガイド
溝やアドレスピットを予めマスタリングするディスクが
次世代の候補であり、このようなディスクは開発途上で
ある。本発明人はこのような、高密度時代、短波長時代
に相応しいマスタリング技術について鋭意検討を行い、
本発明に至ったものである。

【０００５】いわゆるマスタリングは、高精度に研磨さ
れた基体にエネルギー線感応膜が形成されたブランク基
体１１に行われる。このエネルギー線感応膜は、例えば
波長１０〜１５００ｎｍの電磁波（γ線、Ｘ線、極端紫
外線、遠紫外線、紫外線、可視光、赤外線など）に感応
する材料や、粒子線（α線、β線、陽子線、中性子線、
電子線など）に感応する材料から選ばれ、薄く形成され
ている。この膜に対してエネルギー線を照射すると、両
者の相互作用によって、エネルギー線感応膜に所望の像
が形成される。具体的には像を記録し、記録後に行う現
像処理によって、記録された像が浮かび上がる。

【０００６】ところで所望のパターンの微細化に伴い、
エネルギー線感応膜の性能として高感度、高解像度のも
のが求められてきている。その要求に応えるために酸発
生剤を含有した樹脂からなるエネルギー線感応膜が開発
されている。この酸発生剤はエネルギー線の照射を受け
ると分解し、内部で酸を発生し、発生した酸がベースの
樹脂や添加剤に作用することによって像形成に導く。特
に材料を工夫することによってベース樹脂や添加剤に作
用する際に、新たな酸を発生させ、それが再度ベース樹
脂や添加剤に作用するように設計することもできる。こ
のようにすると反応は爆発的に進行することになり、高
感度で高コントラストな像形成が可能となる。特に照射
と現像の間で加温処理を短時間行うと、内部で酸が程良
く拡散するために更に望ましい結果となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな酸発生剤を含有した樹脂は、高感度、高解像度とい
う利点を持ちながら、使用する大気環境に敏感であると
いう欠点を併せ持つ。つまり、エネルギー線感応膜内部
のｐＨが像の感度を左右するために、大気中に塩基成分
や酸成分が微量でも含まれていると、像が歪んだり、ノ
イズを含んだりする。最悪の場合には所望の形状が形成
されない場合も出てくる。

【０００８】このような欠点を克服するために、空気循
環システムにフィルターを配備したいわゆるクリーンル
ーム内に、照射装置や現像装置、さらには加温装置を配
置することが考えられる。しかしながら、このような環
境下で、実際、情報記録担体用基体に記録を行っても再
現性が不充分であり、Ｃ／Ｎ特性も満足のゆくものでは
なかった。特に情報記録担体の場合、記録時間が１〜５
時間であり、半導体製造などと比べても非常に長く、照
射最初と最後では信号特性が異なるという問題があっ
た。

【０００９】本発明は、従来の情報記録担体用基体より
も一段と微細化された微細パターンを形成することが可
能な超微細な加工方法である情報記録担体用基体の製造
装置、情報記録担体用基体の製造方法、情報記録担体の
製造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、平坦基体とエネルギー線感応膜からなるブラン
ク基体に対し、エネルギー線を部分的に照射する情報記
録担体用基体の製造装置であって、大気を取り込み、中
性に中和すると共に、中和された中和大気を前記ブラン
ク基体に供給する中和ユニットと、前記ブランク基体を
支持するブランク基体支持ユニットと、前記中和ユニッ
トによって供給された中和大気中で、前記ブランク基体
支持ユニットに支持されたブランク基体にエネルギー線
を照射するエネルギー線照射ユニットと、前記ブランク
基体ユニット及び／又は前記エネルギー照射線ユニット
に接続され、前記ブランク基体ユニット及び／又は前記
エネルギー線照射ユニットを相対運動させる相対運動付
与ユニットとからなる情報記録担体用基体の製造装置を
提供する。

【００１１】また、前記中和ユニットから排出された中
和大気が、ブランク基体に対し周囲よりも陽圧で吹き付
けられるように気流制御されていることを特徴とする請
求項１に記載の情報記録担体用基体の製造装置を提供す
る。

【００１２】更に、前記エネルギー線の照射は、酸によ
って分解しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤と
から少なくともなるエネルギー線感応膜に対して行うこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の情報記録
担体用基体の製造装置を提供する。

【００１３】また更に、平坦基体とエネルギー線感応膜
からなるブランク基体を支持する工程と、大気を取り込
み、中性に中和すると共に、中和された中和大気を前記
ブランク基体に供給する工程と、前記中和大気中で前記
ブランク基体にエネルギー線を照射する工程と、前記エ
ネルギー線が照射された後の前記エネルギー線感応膜を
塩基性水溶液によって現像する工程とを有する情報記録
担体用基体の製造方法を提供する。

【００１４】更にまた、平坦基体とエネルギー線感応膜
からなるブランク基体を支持する工程と、前記ブランク
基体にエネルギー線を照射する工程と、大気を取り込
み、中性に中和すると共に、中和された中和大気を前記
ブランク基体に供給する工程と、前記エネルギー線が照
射された後の前記エネルギー線感応膜を前記中和大気中
で塩基性水溶液によって現像する工程とを有する情報記
録担体用基体の製造方法を提供する。

【００１５】また、前記中和ユニットから排出された中
和大気が、ブランク基体に対し周囲よりも陽圧で吹き付
けられるように気流制御されていることを特徴とする請
求項４又は請求項５に記載の情報記録担体用基体の製造
方法を提供する。

【００１６】更に、前記エネルギー線の照射は、酸によ
って分解しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤と
から少なくともなるエネルギー線感応層に対して行うこ
とを特徴とする請求項４乃至請求項６いずれか一項に記
載の情報記録担体用基体の製造方法を提供する。

【００１７】また更に、情報記録担体の製造方法におい
て、請求項４乃至請求項７いずれか一項に記載の情報記
録担体用基体の製造方法によって製造した情報記録担体
用基体のエネルギー線感応膜上に機能層を成膜する工程
を設けたことを特徴とする情報記録担体の製造方法を提
供する。

【００１８】更にまた、情報記録担体の製造方法におい
て、請求項４乃至請求項７いずれか一項に記載の情報記
録担体用基体の製造方法によって製造した情報記録担体
用基体のエネルギー線感応膜に対してスタンパーを作成
する工程と、前記スタンパーによって支持体を成形し
て、この支持体に少なくとも機能層を成膜する工程とを
設けたことを特徴とする情報記録担体の製造方法を提供
する。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明なる情報記録担体用
基体の製造装置の実施例を、図１〜図３を用いて詳しく
説明する。本発明者は上記問題点に鑑み、ブランク基体
１１にマスタリングを行う記録装置を鋭意検討した結
果、本発明に至ったものである。

【００２０】まず、情報記録担体用基体の製造装置１を
説明する。本発明なる情報記録担体用基体の製造装置１
は、従来マスタリングでは用いられていなかった中和ユ
ニット１０を内蔵した製造装置であり、具体的にはブラ
ンク基体支持ユニット１３とエネルギー線照射ユニット
１２と相対運動付与ユニット１４と中和ユニット１０と
から少なくともなるものである。

【００２１】ここで、ブランク基体支持ユニット１３は
ブランク基体１１を設置し、少なくともエネルギー線照
射により記録を行う間、支持できるユニットである。具
体的には高精度に研磨されたテーブルが該当し、それに
ブランク基体１１が設置できるように固定機構（ねじ止
め、真空吸着、静電吸着など）が付与されたものであ
る。

【００２２】ここで設置されるブランク基体１１は、図
９に一例を示すように、平坦基体７１上にエネルギー線
感応膜７２が少なくとも片面に形成されたものである。
ここでエネルギー線感応膜７２は、ベース樹脂と酸発生
剤から少なくともなるものである。また具体的には酸に
よって分解しうる感応基を有したベース樹脂と後述する
エネルギー線によって分解しうる酸発生剤とから少なく
ともなり、この他、架橋剤などの添加剤を付与してもよ
いものである。なお、少なくともエネルギー線照射と現
像によってポジ型（照射部が溶解）又はネガ型（非照射
部が溶解）のパターンを形成する。なおエネルギー線感
応膜は単層でも複層でもよいし、別の目的の機能膜との
積層でもよいものである。

【００２３】また平坦な基体７１は、表面が光学グレー
ド並みにフラットに仕上げられた基体であり、酸化珪素
や、ＡＮガラス、７９１３ガラス、シリコン、モリブデ
ン、タングステンやこれらの合金（酸化物、窒化物、炭
化物の例を含む）などから選ばれる。なお直接光を入射
して信号を読み出し、又は記録する場合には、その光波
長に対し略透明（透過率５０％以上）であることが必要
である。

【００２４】また、エネルギー線照射ユニット１２は、
波長１０〜１５００ｎｍの電磁波（γ線、Ｘ線、極端紫
外線、遠紫外線、紫外線、可視光、赤外線など）や、粒
子線（α線、β線、陽子線、中性子線、電子線など）を
照射するユニットである。例えばエネルギー線源と、情
報記録に相応しいビーム形状に整形し、信号変調するビ
ーム整形器から少なくともなる。

【００２５】また、相対運動付与ユニット１４は、微細
パターンをマスタリングするにあたって走査するユニッ
トであり、エネルギー線ユニット１２又はブランク基体
支持ユニット１３の少なくとも一方に接続される。その
機構としてはモーターやリニアドライブなどが用いら
れ、回転、Ｘ移動、Ｙ移動、Ｚ移動又はこれらの複合移
動を行う。なお、必要に応じて位置モニターを設置し、
モニターされた位置に応じて制御を行うようにしてもよ
い。

【００２６】中和ユニット１０は本発明の主点であり、
大気の化学成分を制御するためのユニットである。本発
明なる製造装置１の内部又は周辺の大気を取り入れ、そ
れが塩基性の場合、中性に中和する。また、製造装置１
の内部が酸性の場合にも、中性に中和する。固相、液
相、気相のいずれかにおいて、又はこれらの複合により
中和を行うことができる。具体的には、固相の場合には
中和材料自体の粉体や、多孔質体へ中和材料吸着された
もの、高分子繊維へ中和材料を吸着させたものを用いる
ことができる。大気が塩基性の場合、固相では活性炭
や、燐酸を担持させた人工高分子繊維、スルホン酸基を
含む有機物をがん浸させたゼオライト、液相の場合は純
水や燐酸水溶液、気相の場合には燐酸ガスなどを用いる
ことができる。また大気が酸性の場合、固相では水酸化
カリウムをがん浸させた活性炭、液相の場合は水酸化カ
リウム水溶液などを用いることができる。このようにし
て大気を中和することによって、残存塩基の総量を例え
ば１ｎｇ／ｌ以下とすることができ、エネルギー感応膜
の内部での反応を阻害することなくマスタリングでき
る。また、このようにして大気を中和することによっ
て、残存酸の総量を例えば１ｎｇ／ｌ以下とすることが
でき、エネルギー感応膜の内部での反応を過剰に促進す
ることなくマスタリングできる。

【００２７】なお、中和ユニット１０は、その中和能力
を最大限に引き出すために加湿器を内蔵してもよく、大
気を一度加湿してから中和を行うようにしてもよい。ま
た、中和ユニット１０は必要に応じて大気モニターと連
動して制御してもよい。この大気モニターは例えばイオ
ンクロマトグラフやガスクロマトグラフを用いることが
でき、中和ユニット１０の吸気側又は排気側又はその両
方に設置される。また、必要に応じて微粒子除去のため
の物理フィルターを併設してもよい。例えば、公知のＨ
ＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタ
ーや、ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィル
ターを好適に用いることができる。また、公知の温湿度
制御システムと組み合わせてもよい。

【００２８】更に、中和ユニット１０の最も効果的な配
置方法は、その中和された大気が、少なくともブランク
基体１１に輸送されるように配置することである。その
ためには中和ユニット１０の直下にブランク基体１１
（及びブランク基体支持ユニット１３）を設置するか、
中和ユニット１０から配管によって中和大気を輸送する
ようにすればよい。

【００２９】更に望ましいのは、ブランク基体１１上の
大気圧と、その周辺の大気圧に差があり、ブランク基体
１１上の大気が陽圧となるように大気制御されているこ
とである。これは中和された大気が直接ブランク基体１
１上に高い純度で供給されることを助け、安定したパタ
ーン形成を可能にする。具体的には、中和ユニット１０
の吸気側と排気側の相対的な位置関係の調節によって大
気制御を行う。望ましいのはエアートンネル（３１、３
４、３５ａ、３５ｂ）をブランク基体１１の上方に設置
し、中和ユニット１０により中和された大気を導入する
方法であり、簡便にして効率的に大気を陽圧に制御でき
る。特にエアートンネル（３１、３４、３５ａ、３５
ｂ）のサイズを、ブランク基体１１と略同サイズ又はそ
れよりもやや大きなサイズとするのが最もよい。

【００３０】以上述べたように、本発明なる情報記録担
体用基体の製造装置１は構成される。本発明なる情報記
録担体用基体の製造装置１は、ブランク基体支持ユニッ
ト１３とエネルギー線照射ユニット１２と相対運動付与
ユニット１４と中和ユニット１０とから少なくともな
り、中和ユニット１０により中和された大気が、少なく
ともブランク基体１１に輸送されるように配置するとき
最大の効果が得られる。

【００３１】なお、以上の説明は本発明の基本的な部分
のみであり、用途に応じて種々変形や機能追加が可能で
ある。以下具体的な実施例について図面を用いて説明す
る。

【００３２】実施例１ 図１に従って、実施例１を説明する。図１の本発明なる
情報記録担体用基体の製造装置１はブランク基体支持ユ
ニット１３とエネルギー線照射ユニット１２と相対運動
付与ユニット１４と中和ユニット１０とから少なくとも
構成されている。なお理解を容易にするために、ブラン
ク基体支持ユニット１３にブランク基体１１を取り付け
た状態の図面で説明を行う。

【００３３】そして、相対運動付与ユニット１４はブラ
ンク基体支持ユニット１３に接続され、ブランク基体支
持ユニット１３が自在に相対運動できるようになってい
る。

【００３４】一方、エネルギー線照射ユニット１２は、
紫外線（例えば３６４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５１ｎｍ、
３２５ｎｍの波長）を照射するエネルギー線源１２０
と、情報記録に相応しいビーム形状に整形し、信号変調
するビーム整形器１２１からなっている。なお、ビーム
整形器１２１は公知の電気光学結晶素子による露光量調
節器とエクスパンダーなどからなる。そしてエネルギー
線照射ユニット１２と相対運動付与ユニット１４は光学
定盤２０上に設置されている。

【００３５】一方、大気の循環であるが、大気は本発明
なる情報記録担体用基体の製造装置１の内部又は外部に
設置された導入口３３から取り入れられる。そして適量
に風速を調整した配風器３２によって、中和ユニット１
０に運ばれる。この中和ユニット１０は大気を中和し、
配管によってブランク基体支持ユニット１３近傍に輸送
される。ここで中和された大気が、少なくとも情報記録
担体用基体１１に運ばれるようにフード状のエアートン
ネル３１が接続され、このエアートンネル３１がブラン
ク基体１１の上方に配置される。なお、ここでブランク
基体１１は厚み１０ｍｍ、直径２００ｍｍの円盤であ
り、縦に設置されているが、エアートンネル３１はこれ
をやや越える大きさ、すなわち、２０×３００ｍｍ角の
角形となっている。このように配置することによってブ
ランク基体１１には常に中和大気３０が供給され、紫外
線による記録は正常に行われる。

【００３６】実施例２ 図２に従って、実施例２を説明する。図２の本発明なる
情報記録担体用基体の製造装置１も、ブランク基体支持
ユニット１３とエネルギー線照射ユニット１２と相対運
動付与ユニット１４と中和ユニット１０とから少なくと
も構成されている。なお、理解を容易にするために、情
報記録担体用基体支持ユニット１３にブランク基体１１
を取り付けた状態の図面で説明を行う。

【００３７】そして、相対運動付与ユニット１４はブラ
ンク基体支持ユニット１３に接続され、ブランク基体支
持ユニット１３が回転運動と共に水平運動できるように
なっている。

【００３８】一方、エネルギー線照射ユニット１２は、
遠紫外線（例えば２７５ｎｍ、２６６ｎｍ、２５７ｎ
ｍ、２４８ｎｍ、２４４ｎｍ）を照射するエネルギー線
源１２０と、情報記録に相応しいビーム形状に整形し、
信号変調するビーム整形器１２１とミラー１２２及び図
示しない対物レンズからなっている。なおビーム整形器
１２１は公知の電気光学結晶素子による露光制御器と、
電気光学結晶素子変調器（ＥＯＭ）と、エクスパンダー
などからなる。そしてエネルギー線照射ユニット１２と
相対運動付与ユニット１４は光学定盤２０上に設置され
ている。

【００３９】一方、大気の循環であるが、大気は本発明
なる情報記録担体用基体の製造装置１の内部又は外部に
設置された導入口３３から取り入れられる。そして、適
量に風速を調整した配風器３２によって、中和ユニット
１０に運ばれる。この中和ユニット１０は大気を中和す
る。そして中和ユニット１０は情報記録担体用基体１１
のみならず、エネルギー線照射ユニット１２をも覆うよ
うに配置され、中和ユニット１０から排出された中和大
気３０が直接これらに吹き付けられるようになってい
る。なお、ここで主要部分を陽圧とするために、中和ユ
ニット１０周囲は大型のエアートンネル３４によって囲
われている。なお、ここで情報記録担体用基体１１のサ
イズは厚み１０ｍｍ、直径２２０ｍｍの円盤であり、横
に設置されている。またエアートンネル３４はこれを越
えて、９００×１３００ｍｍ角の角形となっている。こ
のように配置することによってブランク基体１１には常
に中和大気３０が陽圧で供給され、エネルギー線による
記録は正常に行われる。

【００４０】なお、図２の構成なる製造装置１とした場
合の副次的な効果として、エネルギー線照射ユニット１
２の経時的な汚れが軽減される。具体的にはビーム整形
器１２１及び対物レンズは、多くのレンズからなってい
るが、遠紫外線を通過させるために材料として石英又は
蛍石が使用されている。これらの材料は大気中に微量に
含まれる有機珪素を吸着しやすく、曇りを生じることが
ある。特に遠紫外線の高いエネルギーが通過する光路
は、この反応を促進し、場合によっては吸着物が変質し
て、いわゆるヤケが進行しやすい。しかしながら中和ユ
ニット１０は、本来狙いの機能ではない有機珪素もある
程度除去する能力を持っており、このような構成とする
ことでエネルギー線照射ユニット１２の寿命を延ばすこ
とができる。また、メンテナンスの頻度も軽減できるこ
とになる。

【００４１】実施例３ 図３に従って、実施例３を説明する。図３の本発明なる
情報記録担体用基体の製造装置１もブランク基体支持ユ
ニット１３とエネルギー線照射ユニット１２と相対運動
付与ユニット１４と中和ユニット１０とから少なくとも
構成されている。なお、理解を容易にするために、ブラ
ンク基体支持ユニット１３にブランク基体１１を取り付
けた状態の図面で説明を行う。

【００４２】ここで相対運動付与ユニット１４はエネル
ギー線照射ユニット１２の一部に接続され、水平運動で
きるようになっている。

【００４３】エネルギー線照射ユニット１２は、遠紫外
線（例えば２７５ｎｍ、２６６ｎｍ、２５７ｎｍ、２４
８ｎｍ、２４４ｎｍ）を照射するエネルギー線源１２０
と、情報記録に相応しいビーム形状に整形し、信号変調
するビーム整形器１２１とミラー１２２及び図示しない
対物レンズからなっている。なおビーム整形器１２１は
公知の音響光学結晶素子による露光制御器と、音響光学
結晶素子変調器（ＡＯＭ）と、エクスパンダーなどから
なる。そしてエネルギー線照射ユニット１２と相対運動
付与ユニット１４は光学定盤２０上に設置されている。

【００４４】一方、大気の循環であるが、大気は本発明
なる情報記録担体用基体の製造装置１の内部又は外部に
設置された導入口３３から取り入れられる。そして適量
に風速を調整した配風器３２によって、中和ユニット１
０に運ばれる。この中和ユニット１０は大気を中和す
る。そして中和ユニット１０はブランク基体１１を少な
くとも覆うように配置され、中和ユニット１０から排出
された中和大気３０が直接これに吹き付けられるように
なっている。なお、ここで主要部分を陽圧とするため
に、中和ユニット１０周囲はエアートンネル３５によっ
て囲われている。なおここでブランク基体１１のサイズ
は厚み６ｍｍ、直径２００ｍｍの円盤であり、横に設置
されている。エアートンネル３５は直径２５０ｍｍの円
柱状であり、ブランク基体１１をすっぽり覆っている。
ただし相対運動付与ユニット１４とエネルギー線照射ユ
ニット１２の一部は水平移動するので、この可動距離分
の隙間が設けられている。具体的には円柱状エアートン
ネル３５の相対運動付与ユニット１４と対峙する側３５
ｂには切り欠きが設けられている。一方、その対局側３
５ａには切り欠きがなく、平坦な面となっている。この
ように配置することによってブランク基体１１には常に
中和大気３０が陽圧で供給され、エネルギー線による記
録は正常に行われる。

【００４５】このような構成とすることにより、陽圧と
する領域はブランク基体１１にほぼ限定されてくるの
で、中和ユニット１０と配風器３２を小型とすることが
できる。

【００４６】以上、本発明なる情報記録担体用基体の製
造装置１について縷々説明を行ってきた。本発明はこれ
ら実施例に記載した内容に限定されるものではなく、本
発明の要点を損なわないものであれば、種々改変が可能
である。例えば各構成材料や寸法は、必要に応じ随時変
更することができる。また、各実施例の構成要素を互い
に入れ替えても構わない。

【００４７】実施例４ 図４は実施例２の情報記録担体用基体の製造装置１を改
良し、ビーム整形器１２１を６つの機能パートに分解し
て構成した情報記録担体用基体の製造装置１である。具
体的には、ビーム整形器１２１に置き換えて、電気光学
結晶素子露光制御器１２１１、電気光学結晶素子変調器
（ＥＯＭ）１２１２、電気光学結晶素子偏向器（ＥＯ
Ｄ）１２１３、エクスパンダー１２１４、ビームスプリ
ッター１２１５、光検出素子１２１６からなる６つの機
能部品を配置したものであり、総合してビーム整形器１
２１と同様の作用を行うものである。なおここで、電気
光学結晶素子露光制御器１２１１は、照射する強度を調
節し、安定に制御するための素子である。また電気光学
結晶素子変調器（ＥＯＭ）１２１２は、形成する微細パ
ターンの形状に対応して、ビームをＯＮ、ＯＦＦするた
めのものである。

【００４８】また電気光学結晶素子偏向器（ＥＯＤ）１
２１３は、形成する微細パターンの位置に対応して、ビ
ームを偏向させるためのものである。またエクスパンダ
ー１２１４は、最終的に結像するビーム径に調整するた
めのビームサイズ調節器である。そしてビームスプリッ
ター１２１５は、エクスパンダー１２１４を通過したビ
ームを、ミラー１２２と光検出素子１２１６に振り分け
るための分割素子である。そして光検出素子１２１６
は、エクスパンダー１２１４を通過したビームをモニタ
ーするための素子であり、例えばビームの強度を電気信
号に変換する素子である。ビーム整形器１２１をこのよ
うな構成することによって、本発明なる情報記録担体用
基体の製造装置１は、微細パターンを自在に描く装置と
することができる。

【００４９】実施例５ 図５は実施例３の情報記録担体用基体の製造装置１を改
良し、ビーム整形器１２１を６つの機能パートに分解し
て構成した情報記録担体用基体の製造装置１である。ま
た更に相対運動付与ユニット１４を、ブランク基体支持
ユニット１３に接続し、ブランク基体支持ユニット１３
が回転運動と共に水平運動できるように改変したもので
ある。ビーム整形器１２１は、音響光学結晶素子露光制
御器１２１７、音響光学結晶素子変調器（ＡＯＭ）１２
１８、音響電気光学結晶素子偏向器（ＡＯＤ）１２１
９、エクスパンダー１２１４、ビームスプリッター１２
１５、光検出素子１２１６からなる６つの機能部品を配
置したものであり、総合してビーム整形器１２１と同様
の作用を行うものである。なおここで、音響光学結晶素
子露光制御器１２１７は、照射する強度を調節し、安定
に制御するための素子である。また音響光学結晶素子変
調器（ＡＯＭ）１２１８は、形成する微細パターンの形
状に対応して、ビームをＯＮ、ＯＦＦするためのもので
ある。また音響電気光学結晶素子偏向器（ＡＯＤ）１２
１９は、形成する微細パターンの位置に対応して、ビー
ムを偏向させるためのものである。またエクスパンダー
１２１４は、最終的に結像するビーム径に調整するため
のビームサイズ調節器である。そしてビームスプリッタ
ー１２１５は、エクスパンダー１２１４を通過したビー
ムを、ミラー１２２と光検出素子１２１６に振り分ける
ための分割素子である。そして光検出素子１２１６は、
エクスパンダー１２１４を通過したビームをモニターす
るための素子であり、例えばビームの強度を電気信号に
変換する素子である。ビーム整形器１２１をこのような
構成することによって、本発明なる情報記録担体用基体
の製造装置１は、微細パターンを自在に描く装置とする
ことができる。

【００５０】なお以上説明してきた本発明なる情報記録
担体用基体の製造装置１は、既存の基体前処理装置、基
体研磨装置、エネルギー線感応膜形成装置、加熱装置、
現像装置、導電化装置、鍍金装置などと組み合わせるこ
とも可能であり、これらの一部又はすべてによって、一
貫連続製造ラインを構成してもよい。

【００５１】次に、本発明なる情報記録担体用基体及び
情報記録担体の製造方法について説明する。本発明なる
情報記録担体用基体２の製造方法及び情報記録担体４、
５の製造方法は、酸によって分解しうる感応基を有した
ベース樹脂と酸発生剤から少なくともなるエネルギー線
感応層７２に対して、上述したような情報記録担体用基
体の製造装置１を用いてエネルギー線記録を行うことに
よって達成される。

【００５２】具体的には図６に示すような少なくとも４
つのステップによって、情報記録担体用基体２の製造方
法は達成される。すなわちまず先述したブランク基体１
１（図９）を用意する（ステップ（ａ））。繰り返すが
ここでブランク基体１１とは、平坦基体７１と、酸によ
って分解しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤か
ら少なくともなるエネルギー線感応膜７２が少なくとも
一面に形成されているものである。そしてこのブランク
基体１１に対して、本発明なる情報記録担体用基体の製
造装置１を用いてエネルギー線記録を行う（ステップ
（ｂ））。具体的には平坦基体７１上に形成されたエネ
ルギー線感応膜７２に対して、直接記録を行う。この
後、水溶性現像液によって現像を行う（ステップ
（ｃ））。具体的には記録されたエネルギー線感応膜７
２に対して、ＰＨ１０以上の塩基性水溶液を適量塗布す
ることによって、溶解反応を行わせる。例えばポジ型の
エネルギー線感応膜７２の場合には、エネルギー線照射
部が現像によって溶解され、窪みが形成される。またネ
ガ型のエネルギー線感応膜７２の場合には、エネルギー
線を照射しなかった部分が現像によって溶解され、窪み
が形成される。なお現像液の具体的な材料としては、燐
酸ナトリウム、燐酸水素ナトリウム、珪酸ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラアルキルア
ンモニウムヒドリドの少なくとも１つを用いて水溶液と
したものである。また必要に応じてこの現像の前後に超
純水による洗浄を行ってもよい。また必要に応じて、少
なくともエネルギー線感応膜７２を加熱し、エネルギー
線感応膜７２と平坦基体７１の密着力を向上させてもよ
い。このようにして情報記録担体用基体２が完成する
（ステップ（ｄ））。図１０に一例の断面図を示すが、
エネルギー線感応膜７２の内部に窪み７０が形成され
る。なお図１０ではこの窪み７０が平坦基体７１と接し
てもいるが、接していなくてもよいものである。以上説
明したようにして、情報記録担体用基体２は製造され
る。

【００５３】次に、本発明なる情報記録担体の製造方法
について説明する。具体的には図７に示すような少なく
とも７つのステップによって、情報記録担体４の製造方
法は達成される。すなわち図６と同様の方法によって情
報記録担体用基体２を製造する（ステップ（ａ）〜
（ｄ））。続いて内部に窪み７０が形成されたエネルギ
ー線感応膜７２に対して、機能層７３を形成する（ステ
ップ（ｅ））。ここで機能層７３とは、少なくとも電場
及び磁場の変化として再生しうる機能を有した材料から
構成された層である。例えば磁気ヘッドにより、磁場の
変化として再生が可能な磁気記録膜や、電磁波、例えば
光の印加により再生可能な光記録膜である。再生のみな
らず、記録する機能を併せ持ってもよい。具体的には磁
気記録膜の場合には、面内磁気材料（ＣｏＰｔ、ＣｏＣ
ｒＴａＰｔなど）や垂直磁気材料（ＣｏＣｒなどであ
る。また光記録膜の場合には、高反射率反射材料（アル
ミニウム、金、銀など）、色素材料（シアニン色素、フ
タロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、アゾ色素、
ナフトキノン色素、フルギド色素、ポリメチン色素、ア
クリジン色素など）、相変化材料（ＡｇＩｎＳｂＴｅ、
ＣｕＡｌＴｅＳｂ、ＧｅＳｂＴｅ）、光磁気材料（Ｔｂ
ＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏなど）から用途
に応じて選択して用いる。なおこれら機能層７３には、
再生出力向上や書き換え回数向上、保存安定性向上等の
目的で、補助層を併用して積層してもよい。続いて機能
膜７３の情報記録担体用基体２とは反対側に樹脂層７４
を成膜する（ステップ（ｆ））。ここで樹脂層７４は機
能層７３を保存環境や使用環境から保護するものであ
り、磁気記録の場合にはフッ素系やシリコン系の潤滑性
樹脂が、光記録の場合には、硬度の高い熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂から選
ばれて使用される。このようにして情報記録担体４が完
成する（ステップ（ｇ））。なおこの情報記録担体４の
断面図は図１２に記載したようになる。

【００５４】次に、本発明なる情報記録担体の第２の製
造方法について説明する。具体的には図８に示すような
少なくとも９つのステップによって、情報記録担体５の
製造方法は達成される。すなわち図６と同様の方法によ
って情報記録担体用基体２を製造する（ステップ（ａ）
〜（ｄ））。続いて内部に窪み７０が形成されたエネル
ギー線感応膜７２に対して、公知のスタンパープロセス
技術によってスタンパー３を作成する（ステップ
（ｅ））。ここでスタンパー３とは、例えばニッケルな
どの硬度の高い金属による金型部品を指し、図１１に示
す如く、情報記録担体用基体２の表面形状を、凹凸を逆
として形成したものである。このスタンパー３を用いて
公知の成形技術（射出成形、圧縮成形、２Ｐ成形、熱硬
化樹脂成形など）により、支持体７５を形成する（ステ
ップ（ｆ））。ここで支持体７６はその表面形状を、ス
タンパー３の凹凸と逆にして転写され、結果的に情報記
録担体用基体２と同じ凹凸になる。更にステップ（ｇ）
にて機能層７３が、ステップ（ｈ）にて樹脂層７４が形
成されるが、その内容は先述図７のステップ（ｅ）、
（ｆ）とそれぞれ同じである。このようにして情報記録
担体５が完成する（ステップ（ｉ））。なおこの情報記
録担体５の断面図は図１３に記載したようになる。

【００５５】以上述べたように本発明なる情報記録担体
用基体及び情報記録担体の製造方法は、酸によって分解
しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤から少なく
ともなるエネルギー線感応層７２に対して、本発明なる
情報記録担体用基体の製造装置１を用いてエネルギー線
記録を行うことによって達成される。このような製造方
法によって従来技術よりも一段と微細化された微細パタ
ーンを形成することが可能となる。

【００５６】実施例６ 図７記載の製造方法によって、情報記録担体４を製作し
た。ここでステップ（ａ）で使用したブランク基体１１
（図９）は、半径６０ｍｍの円盤状酸化珪素平坦基体７
１上に、遠紫外線に感応して、酸によって分解しうる感
応基を有したベース樹脂と酸発生剤からなるエネルギー
線感応層７２を形成したものである。またステップ
（ｂ）に使用した情報記録担体用基体の製造装置１は、
実施例４に記載した製造装置１と同じ構成のもので、エ
ネルギー線照射ユニット１２は２６６ｎｍの遠紫外線を
照射するものである。エネルギー線記録は、半径２３〜
５８ｍｍの範囲を、螺旋状に５時間かけて行った。具体
的にはピット長０．２μｍの単一周波数信号を、トラッ
クピッチ０．３５μｍとなるように、内周から外周に向
かって等速度螺旋記録した。なお本製造装置１の周囲の
大気は、塩基成分を１８ｎｇ／ｌ含むものであったが、
大気導入口３３から取り入れられ、配風器３２を経由し
て中和ユニット１０（燐酸を担持させた人工高分子繊維
を含むユニット）を通過した中和大気３０は１ｎｇ／ｌ
以下に減じられていた。また大気導入口３３に対して、
中和ユニット１０の出口は８ｍｍＨ２Ｏの陽圧であっ
た。そしてステップ（ｃ）ではテトラメチルアンモニウ
ムヒドリドからなる塩基性現像液により現像し、ステッ
プ（ｄ）で情報記録担体用基体２を得た。更にステップ
（ｅ）では機能層７３をアルミチタン合金、ステップ
（ｆ）では樹脂層７４を熱可塑性樹脂であるポリカーボ
ネイトで構成した。

【００５７】このようにして製造した情報記録担体４
を、波長４０５ｎｍ、対物レンズ開口数（ＮＡ）０．８
のピックアップで再生したところ、図１４の結果を得
た。図１４は記録開始径２３ｍｍから記録終了径５８ｍ
ｍまで７ｍｍ刻みで、Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）を測定
した結果である（解像度幅３０ｋＨｚ、ビデオバンド幅
０．１ｋＨｚ）。どの半径でも、再生上必要なＣ／Ｎ４
５ｄＢ以上を確保しており、大気のｐＨを中和すること
により記録が円滑に行われたことを示している。

【００５８】実施例７ 図８記載の製造方法によって、情報記録担体５を製作し
た。ここでステップ（ａ）で使用したブランク基体１１
（図９）は、半径１００ｍｍの円盤状酸化珪素平坦基体
７１上に、遠紫外線に感応して、酸によって分解しうる
感応基を有したベース樹脂と酸発生剤からなるエネルギ
ー線感応層７２を形成したものである。またステップ
（ｂ）に使用した情報記録担体用基体の製造装置１は、
実施例５に記載した製造装置１と同じ構成のもので、エ
ネルギー線照射ユニット１２は２６６ｎｍの遠紫外線を
照射するものである。エネルギー線の記録は、半径２３
〜５８ｍｍの範囲を、螺旋状に５時間かけて行った。具
体的にはピット長０．２μｍの単一周波数信号を、トラ
ックピッチ０．３５μｍとなるように、内周から外周に
向かって等速度螺旋記録した。なお本製造装置１の周囲
の大気は、塩基成分を１８ｎｇ／ｌ含むものであった
が、大気導入口３３から取り入れられ、配風器３２を経
由して中和ユニット１０（燐酸を担持させた人工高分子
繊維を含むユニット）を通過した中和大気３０は１ｎｇ
／ｌ以下に減じられていた。また大気導入口３３に対し
て、中和ユニット１０の出口は８ｍｍＨ２Ｏの陽圧であ
った。そしてステップ（ｃ）ではテトラメチルアンモニ
ウムヒドリドからなる塩基性現像液により現像し、ステ
ップ（ｄ）で情報記録担体用基体２を得た。更にステッ
プ（ｅ）ではニッケル製のスタンパーを作成し、ステッ
プ（ｆ）ではポリカーボネイト製の支持体７５を得た。
そして実施例６と同様に、ステップ（ｇ）では機能層７
３をアルミチタン合金、ステップ（ｈ）では樹脂層７４
を熱可塑性樹脂であるポリカーボネイトで構成した。

【００５９】このようにして製造した情報記録担体５
を、実施例６と同様の手法で測定し、図１４の結果を得
た。どの半径でも、再生上必要なＣ／Ｎ４５ｄＢ以上を
確保しており、大気のｐＨを中和することにより記録が
円滑に行われたことを示している。

【００６０】比較例 実施例６と同様の製造方法で、情報記録担体４を製作し
た。ただしここで本製造装置１の周囲の大気は、塩基成
分を１８ｎｇ／ｌ含むものであったが、中和ユニット１
０の代わりに、通常のＨＥＰＡフィルターとしたもので
ある。大気導入口３３から取り入れられ、配風器３２を
経由してを通過した中和大気３０は塩基成分が１７ｎｇ
／ｌ程度にしかなっていなかった。

【００６１】完成した情報記録担体４を実施例６と同様
の手法で測定し、図１４の結果を得た。最終記録半径５
８ｍｍではＣ／Ｎ４５ｄＢ以上を確保したが、内周に進
むに従ってＣ／Ｎが著しく低下し、半径５１ｍｍではＣ
／Ｎが４２ｄＢに低下していた。更に記録初期である半
径２３〜３７ｍｍに至っては、信号すら見受けられず、
ほとんどパターンが形成されていなかった。このように
記録直後から大気のｐＨがエネルギー線感応層７２に影
響を与え始め、情報記録担体４に必要な記録時間が確保
できないことが分かった。また記録できた半径４４〜５
８ｍｍであっても、その信号品質は一定ではなく、情報
記録担体４に必要な信号の安定性が確保できないことが
明らかになった。

【００６２】以上の実施例６，７及び比較例により、大
気ｐＨが記録に与える影響は甚大であり、本発明なる情
報記録担体の製造方法がこの影響を充分排除できること
が確認できた。なお実施例６と実施例７を比較したとき
に見られる信号特性の差については、その原因が充分特
定されたとはいえないが、実施例６で使用した図４なる
製造装置１の場合には、大気を光学定盤２０周辺より取
り入れていることに原因があると考えられる。すなわち
光学定盤２０は多くの場合、ブラックアルマイトを使用
しているが、その製造過程ではジアゾ染料を使用するた
めに、製造後のブラックアルマイトから大気中に塩基成
分が発生しやすい。従って光学定盤２０を含んで全体を
陽圧とする図４なる製造装置１（及び図２なる製造装置
１）の場合、発生した塩基成分の回り込みが若干影響す
ると推定される。その点、実施例７で使用した図５なる
製造装置１（及び図３なる製造装置１）の場合、事実上
ブランク基体のみ局所に陽圧となるために、影響が少な
いと考えられる。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、中和され
た大気を、少なくともブランク基体１１に供給すること
により、基体の製造時に大気中に塩基成分や酸成分が含
まれている場合でも反応を阻害又は過剰に促進すること
なく情報記録担体用基体を製造することが可能となる。
そしてこの情報記録担体用基体を用いることによって、
情報記録担体の高密度化、大容量化を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録担体用基体の製造装置を説明
するための図である。

【図２】本発明の情報記録担体用基体の製造装置を説明
するための図である。

【図３】本発明の情報記録担体用基体の製造装置を説明
するための図である。

【図４】本発明の第２実施例に係る情報記録担体用基体
の製造装置の変形例を示す図である。

【図５】本発明の第３実施例に係る情報記録担体用基体
の製造装置の変形例を示す図である。

【図６】本発明に係る情報記録担体用基体の製造方法を
示す図である。

【図７】本発明に係る情報記録担体の製造方法を示す図
である。

【図８】本発明に係る情報記録担体の製造方法の他の例
を示す図である。

【図９】本発明に係る情報記録担体に使用するブランク
基体を示す図である。

【図１０】本発明に係る情報記録担体用基体を示す図で
ある。

【図１１】本発明にて使用されるスタンパーを示す図で
ある。

【図１２】本発明に係る情報記録担体の一実施例を示す
図である。

【図１３】本発明に係る情報記録担体の他の例を示す図
である。

【図１４】本発明の実施例と比較例との搬送波対雑音比
を示す図である。

【符号の説明】

１ 情報記録担体用基体の製造装置 ２ 情報記録担体用基体 ３ スタンパー ４ 情報記録担体 ５ 情報記録担体 １０ 中和ユニット １１ ブランク基体 １２ エネルギー線照射ユニット １３ ブランク基体支持ユニット １４ 相対運動付与ユニット ３０ 中和大気 ３２ 配風器 ３３ 大気導入口 ３１、３４、３５ａ、３５ｂ エアートンネル

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】平坦基体とエネルギー線感応膜からなるブ
   ランク基体に対し、エネルギー線を部分的に照射する情
   報記録担体用基体の製造装置であって、 大気を取り込み、中性に中和すると共に、中和された中
   和大気を前記ブランク基体に供給する中和ユニットと、 前記ブランク基体を支持するブランク基体支持ユニット
   と、 前記中和ユニットによって供給された中和大気中で、前
   記ブランク基体支持ユニットに支持されたブランク基体
   にエネルギー線を照射するエネルギー線照射ユニット
   と、 前記ブランク基体ユニット及び／又は前記エネルギー照
   射線ユニットに接続され、前記ブランク基体ユニット及
   び／又は前記エネルギー線照射ユニットを相対運動させ
   る相対運動付与ユニットと、からなる情報記録担体用基
   体の製造装置。
2. 【請求項２】前記中和ユニットから排出された中和大気
   が、ブランク基体に対し周囲よりも陽圧で吹き付けられ
   るように気流制御されていることを特徴とする請求項１
   に記載の情報記録担体用基体の製造装置。
3. 【請求項３】前記エネルギー線の照射は、酸によって分
   解しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤とから少
   なくともなるエネルギー線感応膜に対して行うことを特
   徴とする請求項１又は請求項２に記載の情報記録担体用
   基体の製造装置。
4. 【請求項４】平坦基体とエネルギー線感応膜からなるブ
   ランク基体を支持する工程と、 大気を取り込み、中性に中和すると共に、中和された中
   和大気を前記ブランク基体に供給する工程と、 前記中和大気中で前記ブランク基体にエネルギー線を照
   射する工程と、 前記エネルギー線が照射された後の前記エネルギー線感
   応膜を塩基性水溶液によって現像する工程と、を有する
   情報記録担体用基体の製造方法。
5. 【請求項５】平坦基体とエネルギー線感応膜からなるブ
   ランク基体を支持する工程と、 前記ブランク基体にエネルギー線を照射する工程と、 大気を取り込み、中性に中和すると共に、中和された中
   和大気を前記ブランク基体に供給する工程と、 前記エネルギー線が照射された後の前記エネルギー線感
   応膜を前記中和大気中で塩基性水溶液によって現像する
   工程と、を有する情報記録担体用基体の製造方法。
6. 【請求項６】前記中和ユニットから排出された中和大気
   が、ブランク基体に対し周囲よりも陽圧で吹き付けられ
   るように気流制御されていることを特徴とする請求項４
   又は請求項５に記載の情報記録担体用基体の製造方法。
7. 【請求項７】前記エネルギー線の照射は、酸によって分
   解しうる感応基を有したベース樹脂と酸発生剤とから少
   なくともなるエネルギー線感応層に対して行うことを特
   徴とする請求項４乃至請求項６いずれか一項に記載の情
   報記録担体用基体の製造方法。
8. 【請求項８】情報記録担体の製造方法において、 請求項４乃至請求項７いずれか一項に記載の情報記録担
   体用基体の製造方法によって製造した情報記録担体用基
   体のエネルギー線感応膜上に機能層を成膜する工程を設
   けたことを特徴とする情報記録担体の製造方法。
9. 【請求項９】情報記録担体の製造方法において、 請求項４乃至請求項７いずれか一項に記載の情報記録担
   体用基体の製造方法によって製造した情報記録担体用基
   体のエネルギー線感応膜に対してスタンパーを作成する
   工程と、 前記スタンパーによって支持体を成形して、この支持体
   に少なくとも機能層を成膜する工程とを設けたことを特
   徴とする情報記録担体の製造方法。