JP2002174244A

JP2002174244A - すべり軸受

Info

Publication number: JP2002174244A
Application number: JP2000368464A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Fuwa; 良雄不破; Katsuyuki Hashizume; 克幸橋爪
Original assignee: Taiho Kogyo Co Ltd; Toyota Motor Corp
Current assignee: Taiho Kogyo Co Ltd; Toyota Motor Corp
Priority date: 2000-12-04
Filing date: 2000-12-04
Publication date: 2002-06-21
Anticipated expiration: 2020-12-04
Also published as: JP4447150B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッ
ティング摩耗を長期間にわたって効果的に防止する。【解決手段】コンロッドの大端部２の第１取り付け孔
２ａの内面（ハウジング内面）には軸受メタル５が取り
付けられている。このハウジング内面及び軸受メタル５
の内面のうちの表面粗さの小さい方の面に、Ｈｖ１００
０以上の硬度をもつ硬質皮膜を形成する。硬質皮膜によ
り覆われた面は、硬度が高く摩滅もし難い硬質皮膜によ
り、長期間にわたって摩耗が確実に防止される。表面粗
さの小さい面に形成された硬質皮膜は、この硬質皮膜自
身の表面粗さも形成される面の表面粗さに応じて小さく
なり、該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃性も小さくなる。
したがって、硬質皮膜で覆われた面及び硬質皮膜の形成
されていない相手側の面の双方における耐摩耗性を長期
間にわたって高く維持することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハウジングと、該
ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタルとを備え
たすべり軸受に関する。本発明のすべり軸受は、例えば
車両用エンジンのコンロッドやクランク軸受部に利用す
ることができる。

【０００２】

【従来の技術】自動車の内燃機関用部品としてのコンロ
ッドは、棒状のロッド本体部と、このロッド本体部の一
端に設けられた第１取付孔を有する大端部と、ロッド本
体部の他端に設けられた第２取付孔を有する小端部とを
備えている。そして、大端部の第１取付孔には通常軸受
メタルを介してクランクシャフトが回動可能に取り付け
られ、小端部の第２取付孔にはピストンピンが回動可能
に取り付けられる。

【０００３】ここに、例えば大端部の第１取付孔とクラ
ンクシャフトとの間に介在された軸受メタルは、その内
面にアルミニウム合金等の軸受層が形成されている。そ
して、この軸受メタルとハウジングとしての大端部との
間におけるフレッティング摩耗を防止すべく、軸受メタ
ルの背面及び大端部の内面に摩耗防止皮膜を形成するこ
とが行われている。

【０００４】例えば、特開平６−３２３３２７号公報に
は、厚さ１０μｍ以上の硬質のＮｉ−Ｐメッキ層を大端
部の内面に形成したアルミニウム合金製コンロッドが開
示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記Ｎ
ｉ−Ｐメッキ層を設けたコンロッドでは、初期のフレッ
ティング特性は良好であるが、例えば１８０時間以上の
長時間の耐久試験後においてはフレッティング摩耗によ
りＮｉ−Ｐメッキ層が摩滅し、十分な耐フレッティング
性が得られないという問題があった。

【０００６】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あり、ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッテ
ィング摩耗を長期間にわたって効果的に防止しうるすべ
り軸受を提供することを解決すべき技術課題とするもの
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のすべり軸受は、ハウジングと、該ハウジングの内面
に取り付けられた軸受メタルとを備えたすべり軸受にお
いて、上記ハウジングの内面及び上記軸受メタルの背面
のうちの表面粗さの小さい方には、Ｈｖ１０００以上の
硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とする
ものである。

【０００８】好適な態様において、前記硬質皮膜はＤＬ
Ｃ（ダイヤモンドライクカーボン）膜であり、特にフッ
素、ケイ素及びチタンのうちの少なくとも一種を含有す
るＤＬＣ膜であることが好ましい。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明のすべり軸受は、ハウジン
グと、該ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタル
とを備えている。

【００１０】上記ハウジング及び軸受メタルの形状は特
に限定されるものではなく、本発明を適用しようとする
製品形状に応じて適宜設定可能である。ただし、軸受メ
タルはハウジングの内面に取り付けられるものであり、
ハウジングの内面及び軸受メタルの背面同士が整合して
当接し合うように、ハウジングの内面形状及び軸受メタ
ルの背面形状は対応した形状とされる。

【００１１】また、軸受メタルの内面には、アルミニウ
ム合金等の所定の軸受合金層が必要に応じて形成され
る。

【００１２】そして、本発明のすべり軸受では、上記ハ
ウジングの内面及び上記軸受メタルの背面のうちの表面
粗さの小さい方に、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質
皮膜が形成されていることを特徴とする。

【００１３】上記硬質皮膜は、ハウジングの内面及び軸
受メタルの背面間におけるフレッティング摩耗を防止す
るためのものである。この硬質皮膜が直接形成されて該
硬質皮膜により覆われた面は、Ｈｖ１０００以上と硬度
が高く摩滅もし難い硬質皮膜により、長期間にわたって
摩耗が確実に防止される。なお、この硬質皮膜の硬度が
Ｈｖ１０００未満であると、硬質皮膜自身が摩滅し易く
なることから、該硬質皮膜で覆われた面における耐摩耗
性を長期間にわたって十分に高く維持することが困難と
なる。一方、硬質皮膜の硬度が極端に高くなると、相手
攻撃性の増大による不都合が生じるため、硬質皮膜の硬
度の上限はＨｖ９０００程度とすることが好ましい。

【００１４】このように硬質皮膜により覆われた面にお
ける耐摩耗性を長期間にわたって高く維持する観点から
は、該硬質皮膜の硬度はより高い方が好ましく、硬質皮
膜自身がより摩滅し難いものであることが好ましい。し
かし、硬質皮膜の硬度が高くなると、硬質皮膜自身の相
手攻撃性が大きくなって、硬質皮膜の形成されていない
相手側の面が該硬質皮膜により攻撃されて摩耗し易くな
るという懸念を生ずる。

【００１５】そこで、本発明のすべり軸受では、硬度の
高い硬質皮膜であっても該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃
性を抑えるべく、ハウジングの内面及び軸受メタルの背
面のうちの表面粗さの小さい方の面にＨｖ１０００以上
と極めて硬度の高い硬質皮膜を形成している。このよう
に表面粗さの小さい面に形成された硬質皮膜は、この硬
質皮膜自身の表面粗さも形成される面の表面粗さに応じ
て小さくなり、その結果該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃
性も小さくなる。

【００１６】したがって、本発明のすべり軸受では、硬
質皮膜で覆われた面及び硬質皮膜の形成されていない相
手側の面の双方における耐摩耗性を長期間にわたって高
く維持することができる。よって、本発明のすべり軸受
では、ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッテ
ィング摩耗を長期間にわたって効果的に防止することが
可能となる。

【００１７】なお、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質
皮膜は、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面のうち
の表面粗さの小さい方に形成すれば、上記した本発明の
作用効果を発揮しうる。ただし、必要に応じて表面粗さ
の大きい（粗い）方の面にも所定の硬質皮膜を形成して
もよい。この表面粗さの粗い方の面に形成される硬質皮
膜は、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつものでも、Ｈｖ１
０００未満の硬度をもつものでも、いずれでもよいが、
表面粗さの小さい方の面に形成された硬質皮膜に対する
相手攻撃性を抑えるべくＨｖ１０００未満（望ましくは
Ｈｖ３００〜７００程度）の硬度をもつものとすること
が好ましい。このように表面粗さの大きい方の面にも硬
質皮膜を形成すれば、表面粗さの小さい方の面に形成さ
れた硬質皮膜による攻撃から該表面粗さの大きい方の面
を護ることができ、該表面粗さの大きい方の面における
耐摩耗性をより向上させることが可能となる。

【００１８】ハウジングの内面及び軸受メタルの背面の
うちの表面粗さの小さい方に形成される、Ｈｖ１０００
以上の硬度をもつ上記硬質皮膜の好適な態様は、以下の
とおりである。

【００１９】この硬質皮膜を構成する材料としては、特
に限定されず、ＴｉＮ、ＣｒＮ、Ｃｒ₂ＮやＷＣ等を採
用することもできるが、炭素系のものを採用することが
好ましい。炭素系の硬質皮膜であれば、ＴｉＮやＣｒＮ
等と比べて、鉄系の相手材との凝着が起こり難いので、
硬質皮膜自身の摩滅をより抑えることができると考えら
れる。

【００２０】また、この炭素系硬質皮膜には、結晶性の
ダイヤモンド膜や、非晶質炭素よりなるＤＬＣ（ダイヤ
モンドライクカーボン）膜があるが、これらのうちでは
Ｈｖ１０００〜５０００程度のＤＬＣ膜が特に好まし
い。ＤＬＣ膜は、鉄系の相手材との凝着が起こり難く、
またＤＬＣ膜自身の表面粗さが該ＤＬＣ膜を形成する面
の表面粗さとなる。すなわち、ＤＬＣ膜の成膜処理の前
後で表面粗さが変化せず、ＤＬＣ膜を形成する面を研磨
等して表面粗さを小さくしておけば、その面に形成され
るＤＬＣ膜自身の表面粗さもそれと同等に小さくなる。
したがって、ＤＬＣ膜によれば、相手攻撃性を小さくす
ることができるとともに、相手材の摩耗粉等によりＤＬ
Ｃ膜自身が摩滅することもより抑えるができる。なお、
このようなＤＬＣ膜は化学蒸着（ＣＶＤ）法、プラズマ
ＣＶＤ法やイオンビーム形成法等により成膜することが
できる。これに対し、結晶性のダイヤモンド膜は、硬度
がＨｖ７０００〜８０００程度と極端に高くなるととも
に、結晶相の成長によりダイヤモンド膜自身の表面粗さ
が大きくなることから、相手攻撃性が大きくなる。

【００２１】また、硬質皮膜としてＤＬＣ膜を採用した
場合は、フッ素、ケイ素及びチタンのうちの少なくとも
一種を含有させることが好ましい。ＤＬＣ膜にこれらの
成分を添加することにより、鉄系の相手材に対する耐凝
着性をさらに向上させることができ、耐フレッティング
特性をより向上させることが可能となる。なお、フッ
素、ケイ素及びチタンの合計の含有量は、硬質皮膜全体
を１００ｖｏｌ％としたとき、０．５〜３０ｖｏｌ％と
することが好ましい。フッ素、ケイ素及びチタンの合計
の含有量が０．５ｖｏｌ％よりも少ないと、これらの成
分を添加することによる効果が得られず、３０ｖｏｌ％
よりも多いと、十分な硬さが得られなくなる。

【００２２】上記硬質皮膜の膜厚としては、０．５〜５
μｍ程度とすることが好ましい。膜厚が０．５μｍより
も薄いと均一な硬質皮膜の形成が困難となり、膜厚が５
μｍよりも厚いと剥離し易くなる。

【００２３】また、上記硬質皮膜が形成される面の表面
粗さの大きさは、この面に形成される硬質皮膜自身の表
面粗さの大きさに影響を及ぼす。このため、ハウジング
の内面及び軸受メタルの背面のうち、硬質皮膜が形成さ
れる表面粗さの小さい方の面は、１０μｍＲｚ以下の表
面粗さとすることが好ましく、５μｍＲｚ以下の表面粗
さとすることが特に好ましい。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について、図
面を参照しつつ説明する。

【００２５】本実施例は、自動車の内燃機関用部品とし
てのコンロッドの大端部におけるすべり軸受部に本発明
を適用したものである。

【００２６】（実施例１）図１に示すコンロッドは、Ｈ
ｖ２４０の硬度をもつＳ４５Ｃ調質材よりなり、棒状の
ロッド本体部１と、このロッド本体部１の一端に設けら
れた大端部２と、ロッド本体部１の他端に設けられた小
端部３とを備えている。

【００２７】上記大端部２は、二分割されており、ボル
ト４により一体化されている。この大端部２は、本発明
に係るハウジングを構成するもので、円形断面の第１取
付孔２ａが設けられている。そして、大端部２の第１取
付孔２ａの内面には、それぞれが半円形断面をなす一対
の軸受メタル５、５が取り付けられている。なお、この
第１取り付け孔２ａには、各軸受メタル５、５を介して
図示しないクランクシャフトが取り付けられる。また、
この大端部２の第１取り付け孔２ａの内面（ハウジング
の内面）は、表面粗さが１０μｍＲｚとされている。

【００２８】上記軸受メタル５は、Ｈｖ１８０の硬度を
もつ冷間圧延鋼板（ＳＰＣＣ）よりなり、背面及び内面
における表面粗さが４μｍＲｚとされている。そして、
図２に示すように、軸受メタル５の内面には、アルミニ
ウム合金（Ａｌ−２０Ｓｎ）よりなる軸受合金層５１が
形成されるとともに、軸受メタル５の背面には硬質皮膜
６が形成されている。

【００２９】すなわち、硬質皮膜６は、大端部２の第１
取り付け孔２ａの内面（ハウジングの内面）及び軸受メ
タル５の背面のうちの表面粗さの小さい方に形成されて
いる。この硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ３００
０の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法
により成膜した。なお、成膜条件は、バイアス電圧：−
１．０ｋＶ、電子ビーム電流：１００ｍＡ、真空度：
０．３Ｐａとした。また、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮
膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面に
おける表面粗さと同等）とされている。

【００３０】上記小端部３には、図示しないピストンピ
ンが回転可能に取り付けられる円形断面の第２取り付け
孔３ａが設けられている。

【００３１】（実施例２）本実施例は、軸受メタル５の
背面に形成する硬質皮膜６の硬度を変更すること以外
は、前記実施例１と同様である。

【００３２】すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚
が２μｍで、Ｈｖ１３００の硬度をもつＤＬＣ膜よりな
り、イオンビーム形成法により成膜した。なお、成膜条
件は、バイアス電圧：−０．９ｋＶ、電子ビーム電流：
１００ｍＡ、真空度：０．５Ｐａとした。また、このＤ
ＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ
（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされ
ている。

【００３３】（実施例３）本実施例は、軸受メタル５の
背面に形成する硬質皮膜６をＴｉＮ膜とすること以外
は、前記実施例１と同様である。

【００３４】すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚
が２μｍで、Ｈｖ２３００の硬度をもつＴｉＮ膜よりな
り、アークイオンプレーティング法により成膜した。な
お、成膜条件は、アーク電流：１００Ａ、バイアス電
圧：１００Ｖとした。また、このＴｉＮ膜よりなる硬質
皮膜６は、表面粗さが５μｍＲｚ（軸受メタル５の背面
における表面粗さ４μｍよりも粗くなっている）とされ
ている。

【００３５】（実施例４）本実施例は、軸受メタル５の
背面に形成する硬質皮膜６をＣｒＮ膜とすること以外
は、前記実施例１と同様である。

【００３６】すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚
が２μｍで、Ｈｖ１４００の硬度をもつＣｒＮ膜よりな
り、アークイオンプレーティング法により成膜した。な
お、成膜条件は、アーク電流：１００Ａ、バイアス電
圧：９０Ｖとした。また、このＣｒＮ膜よりなる硬質皮
膜６は、表面粗さが４．５μｍＲｚ（軸受メタル５の背
面における表面粗さ４μｍよりも若干粗くなっている）
とされている。

【００３７】（実施例５）本実施例は、軸受メタル５の
背面に形成する硬質皮膜６を結晶性ダイヤモンド膜とす
ること以外は、前記実施例１と同様である。

【００３８】すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚
が２μｍで、Ｈｖ８０００程度の硬度をもつ結晶性ダイ
ヤモンド膜よりなり、ＣＶＤプラズマ成膜装置を用いた
ＣＶＤダイヤモンド合成法により成膜した。なお、成膜
条件は、プラズマ：２．４５ＧＨｚ、２ｋＷ、成膜温
度：７００℃とした。また、このダイヤモンド膜よりな
る硬質皮膜６は、表面粗さが５．５μｍＲｚ（軸受メタ
ル５の背面における表面粗さ４μｍよりも粗くなってい
る）とされている。

【００３９】（実施例６）本実施例は、軸受メタル５の
背面に形成する硬質皮膜６をフッ素及びケイ素を含有す
るＤＬＣ膜とすること以外は、前記実施例１と同様であ
る。

【００４０】すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚
が２μｍでＨｖ３０００の硬度をもち、硬質皮膜６全体
を１００ｖｏｌ％としたときフッ素及びケイ素を合計で
１０ｖｏｌ％含有するＤＬＣ膜よりなる。なお、フッ素
及びケイ素は、マグネトロンスパッタリング装置を使用
することにより、ＤＬＣ膜に含有させた。また、このＤ
ＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ
（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされ
ている。

【００４１】（実施例７）本実施例は、ハウジングの内
面、すなわち大端部２の第１取り付け孔２ａの内面を軸
受メタル５の背面よりも表面粗さを小さくし、軸受メタ
ル５の背面ではなく、この第１取り付け孔２ａの内面に
硬質皮膜６を形成するもので、その他の構成は前記実施
例１と同様である。

【００４２】すなわち、前記大端部２の第１取り付け孔
２ａの内面の表面粗さを３μｍＲｚに仕上げて軸受メタ
ル５の背面の表面粗さ（４μｍＲｚ）よりも小さくし、
この第１取り付け孔２ａの内面に硬質皮膜６を形成し
た。

【００４３】この硬質皮膜６は、前記実施例１と同様、
膜厚が２μｍで、Ｈｖ３０００の硬度をもつＤＬＣ膜よ
りなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、こ
のＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが３μｍＲ
ｚ（第１取り付け孔２ａの内面における表面粗さと同
等）とされている。

【００４４】（比較例１）この比較例は、軸受メタル５
の背面に形成する硬質皮膜６の硬度を変更すること以外
は、前記実施例１と同様である。

【００４５】すなわち、この比較例の硬質皮膜６は、膜
厚が２μｍで、Ｈｖ９００の硬度をもつＤＬＣ膜よりな
り、イオンビーム形成法により成膜した。なお、成膜条
件は、バイアス電圧：−０．９ｋＶ、電子ビーム電流：
１００ｍＡ、真空度：１Ｐａとした。また、このＤＬＣ
膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受
メタル５の背面における表面粗さと同等）とされてい
る。

【００４６】（比較例２）この比較例は、大端部２の第
２取り付け孔２ａの内面（ハウジングの内面）及び軸受
メタル５の背面のうち、表面粗さの大きい方の面に硬質
皮膜６を形成するもので、その他の構成は前記実施例１
と同様である。

【００４７】すなわち、軸受メタル５の背面（表面粗さ
４μｍＲｚ）ではなく、大端部２の第１取り付け孔２ａ
の内面（表面粗さ１０μｍＲｚ）に硬質皮膜６を形成し
た。

【００４８】この硬質皮膜６は、前記実施例１と同様、
膜厚が２μｍで、Ｈｖ３０００の硬度をもつＤＬＣ膜よ
りなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、こ
のＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが１０μｍ
Ｒｚ（第１取り付け孔２ａの内面における表面粗さと同
等）とされている。

【００４９】（比較例３）この比較例は、軸受メタル５
の背面に硬質皮膜６の代わりにＮｉ−Ｐめっき膜を形成
すること以外は、前記実施例１と同様である。

【００５０】すなわち、この比較例では、無電界めっき
処理を施すことにより、膜厚が１５μｍで、Ｈｖ７００
の硬度をもつＮｉ−Ｐめっき膜を軸受メタル５の背面に
成膜した。なお、成膜は、次亜リン酸塩を還元剤とする
通常の方法で行った。また、このＮｉ−Ｐめっき膜は、
表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表
面粗さと同等）とされている。

【００５１】（比較例４）この比較例は、軸受メタル５
の背面に硬質皮膜６の代わりにＰＴＦＥ含有のＮｉめっ
き膜を形成すること以外は、前記実施例１と同様であ
る。

【００５２】すなわち、この比較例では、無電界めっき
処理を施すことにより、膜厚が１０μｍで、Ｈｖ４００
の硬度をもち、ＰＴＦＥを５ｗｔ％含有するＮｉめっき
膜を軸受メタル５の背面に成膜した。なお、成膜は、Ｐ
ＴＦＥ粒径０．２〜０．３μｍ、硝酸ニッケル、次亜リ
ン酸ソーダ、アルキルジカルボン酸（反応促進剤）、安
定剤及びＰＨ調整剤よりなる浴温８５〜９０℃のめっき
液に約３０分浸漬することにより行った。また、このＰ
ＴＦＥ含有Ｎｉめっき膜は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸
受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされてい
る。

【００５３】（比較例５）この比較例は、軸受メタル５
の背面に硬質皮膜６の代わりにリン酸マンガン処理膜を
形成すること以外は、前記実施例１と同様である。

【００５４】すなわち、この比較例では、通常のスリッ
パーディップ法によるリン酸マンガン処理を施すことに
より、膜厚が１０μｍのリン酸マンガン処理膜を軸受メ
タル５の背面に成膜した。なお、このリン酸マンガン処
理膜は、表面粗さが７μｍＲｚ（軸受メタル５の背面に
おける表面粗さ４μｍよりも粗くなっている）とされて
いる。

【００５５】

【表１】

【００５６】（評価）前記実施例１〜７及び比較例１〜
５で示したコンロッドについて、実機耐久試験を実施し
て、処理層の摩滅状況及びフレッティング摩耗の発生状
況を調べた。なお、試験条件は、４気筒２０００ｃｃの
ガソリンエンジンを使用し、７６００ｒｐｍ×１８０時
間×全負荷とした。

【００５７】評価結果を表１に示すように、Ｈｖ１００
０以上の硬度をもつ硬質皮膜６を表面粗さの小さい方の
面に形成した本実施例１〜７では、１８０時間経過後に
おいてもフレッティング摩耗が発生しなかった。

【００５８】また、処理層、すなわち硬質皮膜６として
ＴｉＮ、ＣｒＮ、ダイヤモンドを採用した実施例３、
４、５では、１６０〜１７０時間経過後に処理層が摩滅
したのに対し、処理層としてＤＬＣ膜を採用した実施例
１、２、６、７では、１８０時間経過後においても処理
層が摩滅せず、処理層の全体が残存していた。これは、
ＤＬＣ膜は、ＴｉＮやＣｒＮと比べて相手材（Ｓ４５
ｃ）に対する凝着性が低いこと、及びダイヤモンドと比
べて相手攻撃性が小さいことに因るものと考えられる。
なお、ダイヤモンドもＤＬＣと同様、相手材（Ｓ４５
ｃ）に対する凝着性が低いものであるが、Ｈｖ８０００
と極めて硬度が高く、しかもダイヤモンド膜の表面粗さ
が５．５μｍＲｚとＤＬＣ膜の表面粗さ（４μｍＲｚ）
よりも粗くなっていることから、ダイヤモンド膜による
相手攻撃性が増大する。このため、実施例５では、相手
材の摩耗粉の影響により、処理層が摩滅したものと考え
られる。

【００５９】また、硬質皮膜６として、Ｆ及びＳｉ含有
のＤＬＣを採用した実施例６では、Ｆ及びＳｉ成分によ
り相手材（Ｓ４５Ｃ）に対する耐凝着性が向上し、耐フ
レッティング特性が一層向上した。

【００６０】一方、比較例１〜５では、いずれも１３０
時間経過以前に処理層が摩滅するとともに、１８０時間
経過後にフレッティング摩耗が発生していた。処理層
（ＤＬＣ）の硬度がＨｖ９００と低すぎる比較例１で
は、１２０時間経過後に処理層が摩滅した。また、表面
粗さの大きい方の面に処理層（Ｈｖ３０００のＤＬＣ）
を形成した比較例２では、試験初期段階から処理層によ
る相手攻撃性が大きく、その結果１３０時間経過後に処
理層が摩滅した。また、処理層の硬度がＨｖ７００以下
と低すぎる比較例３〜５では、いずれも短時間のうちに
処理層が摩滅した。

【００６１】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明のすべり軸
受では、ハウジング内面及び軸受メタル背面のうちの表
面粗さの小さい方に硬度の高い硬質皮膜を形成すること
により、硬質皮膜で覆われた面及び硬質皮膜の形成され
ていない相手側の面の双方における耐摩耗性を長期間に
わたって高く維持することができ、ハウジングと軸受メ
タルとの間におけるフレッティング摩耗を長期間にわた
って効果的に防止することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係るコンロッドの平面図である。

【図２】本実施例に係り、軸受メタルの背面に硬質皮
膜を形成した状態を示す平面図である。

【符号の説明】１…コンロッド本体部２…大端部（ハウジ
ング）５…軸受メタル６…硬質皮膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者橋爪克幸愛知県豊田市緑ケ丘３丁目65番地大豊工業株式会社内Ｆターム(参考） 3J011 CA05 NA01 QA04 SD10 SE02 SE10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ハウジングと、該ハウジングの内面に取
り付けられた軸受メタルとを備えたすべり軸受におい
て、上記ハウジングの内面及び上記軸受メタルの背面のうち
の表面粗さの小さい方には、Ｈｖ１０００以上の硬度を
もつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とするすべり
軸受。
【請求項２】前記硬質炭素皮膜はＤＬＣ膜であること
を特徴とする請求項１記載のすべり軸受。
【請求項３】前記ＤＬＣ膜は、フッ素、ケイ素及びチ
タンのうちの少なくとも一種を含有することを特徴とす
る請求項２記載のすべり軸受。