JP2002173472A - 光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンの製造方法 - Google Patents
光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬および農薬の重要中間体である光学活性
１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルア
ミンを製造する方法を提供する。 【解決手段】トリフルオロメチルモノ置換フェニルメチ
ルケトンと光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することによって得られる光学活性イミンを不斉還元す
ることにより、光学活性二級アミンに変換し、該二級ア
ミンを加水素分解することにより、光学活性１−（トリ
フルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンを高い
不斉純度で収率良く製造する。
１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルア
ミンを製造する方法を提供する。 【解決手段】トリフルオロメチルモノ置換フェニルメチ
ルケトンと光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することによって得られる光学活性イミンを不斉還元す
ることにより、光学活性二級アミンに変換し、該二級ア
ミンを加水素分解することにより、光学活性１−（トリ
フルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンを高い
不斉純度で収率良く製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬および農薬の
重要中間体である光学活性１−（トリフルオロメチルモ
ノ置換フェニル）エチルアミンの製造方法に関する。
重要中間体である光学活性１−（トリフルオロメチルモ
ノ置換フェニル）エチルアミンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性１−（トリフルオロメチルモノ
置換フェニル）エチルアミンは、医薬および農薬の重要
中間体である。該光学活性アミンの製造方法に関して
は、例えば、オルト−トリフルオロメチル体（２−トリ
フルオロメチル体）の場合は、J. Am. Chem. Soc., 11
2, 5741-5747(1990)に報告されており、J. Chem. Soc.,
Perkin Trans. 1, 2039(1985)記載のオキシム誘導体の
不斉還元を参考にして合成している。その化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、１６％、７６％ｅｅ（Ｓ）で
ある。
置換フェニル）エチルアミンは、医薬および農薬の重要
中間体である。該光学活性アミンの製造方法に関して
は、例えば、オルト−トリフルオロメチル体（２−トリ
フルオロメチル体）の場合は、J. Am. Chem. Soc., 11
2, 5741-5747(1990)に報告されており、J. Chem. Soc.,
Perkin Trans. 1, 2039(1985)記載のオキシム誘導体の
不斉還元を参考にして合成している。その化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、１６％、７６％ｅｅ（Ｓ）で
ある。
【０００３】メタ−トリフルオロメチル体（３−トリフ
ルオロメチル体）の場合は、特開平９−２７８７１８に
報告されており、Ｌ−マンデル酸による光学分割を行っ
ている。析出したジアステレオマー塩の結晶からの化学
収率および光学純度は、それぞれ、４５％、６０％ｅｅ
（Ｓ）であり、母液と結晶の洗浄液からの化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、５５％、５０％ｅｅ（Ｒ）で
ある。また、オルト−トリフルオロメチル体に記載した
方法によっても合成でき、その化学収率および光学純度
は、それぞれ、１９％、８７％ｅｅ（Ｓ）である（J. A
m. Chem. Soc.,112, 5741-5747(1990)）。
ルオロメチル体）の場合は、特開平９−２７８７１８に
報告されており、Ｌ−マンデル酸による光学分割を行っ
ている。析出したジアステレオマー塩の結晶からの化学
収率および光学純度は、それぞれ、４５％、６０％ｅｅ
（Ｓ）であり、母液と結晶の洗浄液からの化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、５５％、５０％ｅｅ（Ｒ）で
ある。また、オルト−トリフルオロメチル体に記載した
方法によっても合成でき、その化学収率および光学純度
は、それぞれ、１９％、８７％ｅｅ（Ｓ）である（J. A
m. Chem. Soc.,112, 5741-5747(1990)）。
【０００４】パラ−トリフルオロメチル体（４−トリフ
ルオロメチル体）の場合は、J. Am.Chem. Soc., 105, 1
578-1584(1983)に報告されており、Ｌ−Ｎ−アセチルロ
イシンによる光学分割において、析出したジアステレオ
マー塩の結晶を３回再結晶している。その化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、１９％、６０％ｅｅ（Ｓ）で
ある。また、４−ピロリジノピリジンのプラナー−キラ
ル（ｐｌａｎａｒ−ｃｈｉｒａｌ）誘導体を用いる非酵
素的なエナンチオ選択的なアシル化反応によっても合成
でき、（−）−Ｐｈ−ＰＰＹ＊を用いることにより、未
反応のＳ体が濃縮されることが報告されている。しか
し、その化学収率および光学純度は記載されていない
（Chem. Commun., 2000, 119-120）。
ルオロメチル体）の場合は、J. Am.Chem. Soc., 105, 1
578-1584(1983)に報告されており、Ｌ−Ｎ−アセチルロ
イシンによる光学分割において、析出したジアステレオ
マー塩の結晶を３回再結晶している。その化学収率およ
び光学純度は、それぞれ、１９％、６０％ｅｅ（Ｓ）で
ある。また、４−ピロリジノピリジンのプラナー−キラ
ル（ｐｌａｎａｒ−ｃｈｉｒａｌ）誘導体を用いる非酵
素的なエナンチオ選択的なアシル化反応によっても合成
でき、（−）−Ｐｈ−ＰＰＹ＊を用いることにより、未
反応のＳ体が濃縮されることが報告されている。しか
し、その化学収率および光学純度は記載されていない
（Chem. Commun., 2000, 119-120）。
【０００５】上述した合成法では、該光学活性アミンを
高い光学純度で、且つ、収率良く得ることができず、工
業的にみた場合、簡便で且つ効率の良い製造方法ではな
かった。
高い光学純度で、且つ、収率良く得ることができず、工
業的にみた場合、簡便で且つ効率の良い製造方法ではな
かった。
【０００６】また、本発明の技術的背景として、光学活
性Ｎ−（アルキルベンジリデン）−α−メチルベンジル
アミンの不斉還元と、それに引き続く加水素分解があ
る。このタイプのジアステレオ選択的な１、３−不斉還
元の研究は多く行われているが、得られる生成物が下記
一般式［６］に示すような窒素原子に対して二つの同様
なα−アルキルベンジル基を持つことになり、一般的な
キラル補助基の除去方法である加水素分解では、キラル
補助基側（ｂ）だけを選択的に切断することができず、
これらの一連の技術は一般的な光学活性α−アリールエ
チルアミンの不斉合成法としては採用され難かった。
性Ｎ−（アルキルベンジリデン）−α−メチルベンジル
アミンの不斉還元と、それに引き続く加水素分解があ
る。このタイプのジアステレオ選択的な１、３−不斉還
元の研究は多く行われているが、得られる生成物が下記
一般式［６］に示すような窒素原子に対して二つの同様
なα−アルキルベンジル基を持つことになり、一般的な
キラル補助基の除去方法である加水素分解では、キラル
補助基側（ｂ）だけを選択的に切断することができず、
これらの一連の技術は一般的な光学活性α−アリールエ
チルアミンの不斉合成法としては採用され難かった。
【０００７】
【化８】
【０００８】［式中、Ｒは、アルキル基を表し、Ａｒ1
およびＡｒ2は、アリール基を表し、＊は、不斉炭素を
表す］ 最近、Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ
Ｎｅｗｓ、Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ、４、２０００のｐ３４
−３９に好例が示されており、次のスキーム１で表され
る通り、（Ａｒ1＝フェニル基、Ａｒ2＝３，４−メチ
レンジオキシフェニル基、Ｒ＝ｎ−プロピル基）の場
合、または（Ａｒ1＝４−メトキシフェニル基、Ａｒ2
＝３−ピリジル基、Ｒ＝メトキシカルボニルメチル基）
の場合に、キラル補助基側（ｂ）で選択的に切断を行っ
ている。しかしながら、ではｎ−プロピル基の嵩高さ
と３，４−メチレンジオキシフェニル基の電子的な効果
によりａ側での切断が起こりにくいものと考えられ、ま
た、ではキラル補助基の４位メトキシ基の電子供与性
効果を利用したものである。
およびＡｒ2は、アリール基を表し、＊は、不斉炭素を
表す］ 最近、Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ
Ｎｅｗｓ、Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ、４、２０００のｐ３４
−３９に好例が示されており、次のスキーム１で表され
る通り、（Ａｒ1＝フェニル基、Ａｒ2＝３，４−メチ
レンジオキシフェニル基、Ｒ＝ｎ−プロピル基）の場
合、または（Ａｒ1＝４−メトキシフェニル基、Ａｒ2
＝３−ピリジル基、Ｒ＝メトキシカルボニルメチル基）
の場合に、キラル補助基側（ｂ）で選択的に切断を行っ
ている。しかしながら、ではｎ−プロピル基の嵩高さ
と３，４−メチレンジオキシフェニル基の電子的な効果
によりａ側での切断が起こりにくいものと考えられ、ま
た、ではキラル補助基の４位メトキシ基の電子供与性
効果を利用したものである。
【０００９】
【化９】
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記の１，３−不斉還
元において、特に、本発明で対象とする一般式［４］で
示される還元生成物の場合、アルキル基が共にメチル基
であるため、切断箇所における立体的な嵩高さはほとん
ど同じである。このような場合には、アリール基上の置
換基の電子的な効果を利用して選択的に切断するしかな
い。
元において、特に、本発明で対象とする一般式［４］で
示される還元生成物の場合、アルキル基が共にメチル基
であるため、切断箇所における立体的な嵩高さはほとん
ど同じである。このような場合には、アリール基上の置
換基の電子的な効果を利用して選択的に切断するしかな
い。
【００１１】例えば、DE3819438とTetrahedron Lett.,
30, 317-320(1989)では、メトキシ基等の電子供与性基
を複数もつＡｒ2（Ｒはメチル基、Ａｒ1はフェニル基、
立体化学はＳＳ）の場合、キラル補助基側（ｂ）で選択
的に切断が起こることが報告されている（切断位置での
選択性（ａ：ｂ）は０：１００）。一方、上記の特許
（DE3819438）とJ. Fluorine Chem., 49, 67-73(1990)
では、塩素、またはフッ素の電子求引性基をオルト位
（２位）にもつＡｒ2（Ｒはメチル基、Ａｒ1はフェニル
基、立体化学はＳＳ）の場合も、キラル補助基側（ｂ）
で選択的に切断が起こることが報告されている。オルト
位（２位）の置換基は、切断位置に最も近接しているこ
とから、立体的および電子的な影響を特に与え易いと考
えられるにもかかわらず、切断位置での選択性（ａ：
ｂ）は、上記の電子供与性基をもつＡｒ 2の場合に比べ
１１：８９と著しく低下する。
30, 317-320(1989)では、メトキシ基等の電子供与性基
を複数もつＡｒ2（Ｒはメチル基、Ａｒ1はフェニル基、
立体化学はＳＳ）の場合、キラル補助基側（ｂ）で選択
的に切断が起こることが報告されている（切断位置での
選択性（ａ：ｂ）は０：１００）。一方、上記の特許
（DE3819438）とJ. Fluorine Chem., 49, 67-73(1990)
では、塩素、またはフッ素の電子求引性基をオルト位
（２位）にもつＡｒ2（Ｒはメチル基、Ａｒ1はフェニル
基、立体化学はＳＳ）の場合も、キラル補助基側（ｂ）
で選択的に切断が起こることが報告されている。オルト
位（２位）の置換基は、切断位置に最も近接しているこ
とから、立体的および電子的な影響を特に与え易いと考
えられるにもかかわらず、切断位置での選択性（ａ：
ｂ）は、上記の電子供与性基をもつＡｒ 2の場合に比べ
１１：８９と著しく低下する。
【００１２】本発明で対象とする電子求引性基のトリフ
ルオロメチル基が１個のみ置換した下記一般式［７］で
示される化合物の選択的な加水素分解については報告さ
れていなかった。また、オルト位（２位）、メタ位（３
位）、またはパラ位（４位）にトリフルオロメチル基が
置換した場合の切断位置での選択性（ａ：ｂ）について
は全く不明であった。
ルオロメチル基が１個のみ置換した下記一般式［７］で
示される化合物の選択的な加水素分解については報告さ
れていなかった。また、オルト位（２位）、メタ位（３
位）、またはパラ位（４位）にトリフルオロメチル基が
置換した場合の切断位置での選択性（ａ：ｂ）について
は全く不明であった。
【００１３】
【化１０】
【００１４】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］ 本発明者は、光学活性α−メチル−ビス−３，５−（ト
リフルオロメチル）ベンジルアミンの製造方法（特願２
０００−１４２４６０号）において、下記一般式［８］
で示される化合物の加水素分解がキラル補助基側（ｂ）
で選択的に起こることを明らかにしているが、トリフル
オロメチル基が１個のみ置換した上記一般式［７］にお
いて選択的な加水素分解が起こるかについては全く不明
であった。
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］ 本発明者は、光学活性α−メチル−ビス−３，５−（ト
リフルオロメチル）ベンジルアミンの製造方法（特願２
０００−１４２４６０号）において、下記一般式［８］
で示される化合物の加水素分解がキラル補助基側（ｂ）
で選択的に起こることを明らかにしているが、トリフル
オロメチル基が１個のみ置換した上記一般式［７］にお
いて選択的な加水素分解が起こるかについては全く不明
であった。
【００１５】
【化１１】
【００１６】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決すべく鋭意検討を行った結果、トリフルオロメ
チルモノ置換フェニルメチルケトンと光学活性一級アミ
ンを酸性条件下、脱水縮合することによって得られる光
学活性イミンを不斉還元することにより、光学活性二級
アミンに変換し、該二級アミンを加水素分解することに
より、光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェ
ニル）エチルアミンが高い不斉純度で収率良く製造でき
ることを見出した。
題を解決すべく鋭意検討を行った結果、トリフルオロメ
チルモノ置換フェニルメチルケトンと光学活性一級アミ
ンを酸性条件下、脱水縮合することによって得られる光
学活性イミンを不斉還元することにより、光学活性二級
アミンに変換し、該二級アミンを加水素分解することに
より、光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェ
ニル）エチルアミンが高い不斉純度で収率良く製造でき
ることを見出した。
【００１８】本発明の方法は、次のスキーム２で表され
る。
る。
【００１９】
【化１２】
【００２０】すなわち、本発明は、一般式［３］
【００２１】
【化１３】
【００２２】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性イミンを不斉還元することにより、
一般式［４］
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性イミンを不斉還元することにより、
一般式［４］
【００２３】
【化１４】
【００２４】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性二級アミンに変換し、該二級アミン
を加水素分解することにより、式［５］
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性二級アミンに変換し、該二級アミン
を加水素分解することにより、式［５］
【００２５】
【化１５】
【００２６】［式中、＊は、不斉炭素を表す］で示され
る光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニ
ル）エチルアミンを製造する方法である。また、本発明
は、一般式［３］で示される光学活性イミンが、式
［１］
る光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニ
ル）エチルアミンを製造する方法である。また、本発明
は、一般式［３］で示される光学活性イミンが、式
［１］
【００２７】
【化１６】
【００２８】で示されるトリフルオロメチルモノ置換フ
ェニルメチルケトンと、一般式［２］
ェニルメチルケトンと、一般式［２］
【００２９】
【化１７】
【００３０】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することによって得られる光学活性イミンである上記の
製造方法である。
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することによって得られる光学活性イミンである上記の
製造方法である。
【００３１】また、本発明は、一般式［３］、［４］、
［２］、または［５］で示される化合物の立体化学が、
Ｒ体（またはＳ体）である上記の製造方法である。
［２］、または［５］で示される化合物の立体化学が、
Ｒ体（またはＳ体）である上記の製造方法である。
【００３２】また、本発明は、 一般式［３］
【００３３】
【化１８】
【００３４】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性イミンである。
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性イミンである。
【００３５】また、本発明は、一般式［４］
【００３６】
【化１９】
【００３７】［式中、Ａｒは、フェニル基、または１も
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性二級アミンである。
しくは２−ナフチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］
で示される光学活性二級アミンである。
【００３８】また、本発明は、一般式［３］、または
［４］で示される化合物の立体化学が、Ｒ体（またはＳ
体）である上記の化合物である。
［４］で示される化合物の立体化学が、Ｒ体（またはＳ
体）である上記の化合物である。
【００３９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の光学活性１−（ト
リフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンの製
造方法について詳細に説明する。
リフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミンの製
造方法について詳細に説明する。
【００４０】本発明の製造方法は、トリフルオロメチル
モノ置換フェニルメチルケトンと光学活性一級アミンを
酸性条件下、脱水縮合することにより光学活性イミンを
製造する過程（第一過程）、該光学活性イミンを不斉還
元することにより光学活性二級アミンを製造する過程
（第二過程）および該光学活性二級アミンを加水素分解
することにより光学活性１−（トリフルオロメチルモノ
置換フェニル）エチルアミンを製造する過程（第三過
程）の三つよりなる。
モノ置換フェニルメチルケトンと光学活性一級アミンを
酸性条件下、脱水縮合することにより光学活性イミンを
製造する過程（第一過程）、該光学活性イミンを不斉還
元することにより光学活性二級アミンを製造する過程
（第二過程）および該光学活性二級アミンを加水素分解
することにより光学活性１−（トリフルオロメチルモノ
置換フェニル）エチルアミンを製造する過程（第三過
程）の三つよりなる。
【００４１】本発明の第一過程において、一般式［３］
で示される光学活性イミンを以下の方法により工業的に
簡便で且つ効率良く製造することができる。
で示される光学活性イミンを以下の方法により工業的に
簡便で且つ効率良く製造することができる。
【００４２】すなわち、式［１］で示されるトリフルオ
ロメチルモノ置換フェニルメチルケトンと一般式［２］
で示される光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することにより製造することができる。
ロメチルモノ置換フェニルメチルケトンと一般式［２］
で示される光学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合
することにより製造することができる。
【００４３】一般式［２］で示される光学活性一級アミ
ンとしては、１−フェニルエチルアミン、１−１’−ナ
フチルエチルアミン、１−２’−ナフチルエチルアミン
が挙げられる。その中でも、１−フェニルエチルアミン
および１−２’−ナフチルエチルアミンが好ましく、特
に、１−フェニルエチルアミンがより好ましい。また、
該光学活性一級アミンにはＲ体またはＳ体が存在するた
め、それから誘導される一般式［３］で示される光学活
性イミンにもＲ体またはＳ体が存在するが、これらの鏡
像体は目的とする生成物の絶対配置に応じて適宜使い分
ければよい。
ンとしては、１−フェニルエチルアミン、１−１’−ナ
フチルエチルアミン、１−２’−ナフチルエチルアミン
が挙げられる。その中でも、１−フェニルエチルアミン
および１−２’−ナフチルエチルアミンが好ましく、特
に、１−フェニルエチルアミンがより好ましい。また、
該光学活性一級アミンにはＲ体またはＳ体が存在するた
め、それから誘導される一般式［３］で示される光学活
性イミンにもＲ体またはＳ体が存在するが、これらの鏡
像体は目的とする生成物の絶対配置に応じて適宜使い分
ければよい。
【００４４】一般式［２］で示される光学活性一級アミ
ンの使用量は、通常は式［１］で示されるトリフルオロ
メチルモノ置換フェニルメチルケトンに対して、１モル
当量以上使用すればよく、１〜１０モル当量が好まし
く、特に、１〜５モル当量がより好ましい。
ンの使用量は、通常は式［１］で示されるトリフルオロ
メチルモノ置換フェニルメチルケトンに対して、１モル
当量以上使用すればよく、１〜１０モル当量が好まし
く、特に、１〜５モル当量がより好ましい。
【００４５】本反応は、式［１］で示されるケトンと一
般式［２］で示される光学活性一級アミンの脱水縮合で
あるため、酸性条件下、副生する水を除きながら反応を
行う。好ましくは、水と混和せず、水よりも比重が小さ
く、水と共沸する溶媒を用いて、還流条件下、ディーン
・スターク管で副生する水を除く。
般式［２］で示される光学活性一級アミンの脱水縮合で
あるため、酸性条件下、副生する水を除きながら反応を
行う。好ましくは、水と混和せず、水よりも比重が小さ
く、水と共沸する溶媒を用いて、還流条件下、ディーン
・スターク管で副生する水を除く。
【００４６】使用される溶媒としては、水と共沸する溶
媒であればよく、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼ
ン、キシレンおよびメシチレン等の芳香族炭化水素系が
好ましく、特に、トルエンがより好ましい。これらの溶
媒は、単独または組み合わせて用いることができる。溶
媒の使用量としては、理論的に副生する水の量を共沸除
去できるだけの溶媒量を必要とするが、ディーン・スタ
ーク管を用いることにより使用量を極端に減らすことが
できる。
媒であればよく、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼ
ン、キシレンおよびメシチレン等の芳香族炭化水素系が
好ましく、特に、トルエンがより好ましい。これらの溶
媒は、単独または組み合わせて用いることができる。溶
媒の使用量としては、理論的に副生する水の量を共沸除
去できるだけの溶媒量を必要とするが、ディーン・スタ
ーク管を用いることにより使用量を極端に減らすことが
できる。
【００４７】本脱水縮合において使用される酸触媒とし
ては、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
１０−カンファースルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸、
リン酸、塩化亜鉛、四塩化チタン等の無機酸が挙げられ
る。その中でも、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸および
塩化亜鉛が好ましく、特に、ｐ−トルエンスルホン酸お
よび塩化亜鉛がより好ましい。
ては、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
１０−カンファースルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸、
リン酸、塩化亜鉛、四塩化チタン等の無機酸が挙げられ
る。その中でも、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸および
塩化亜鉛が好ましく、特に、ｐ−トルエンスルホン酸お
よび塩化亜鉛がより好ましい。
【００４８】酸触媒の使用量としては、式［１］で示さ
れるケトンに対して、触媒量使用すればよく、０．００
１〜１モル当量が好ましく、特に、０．００５〜０．５
モル当量がより好ましい。
れるケトンに対して、触媒量使用すればよく、０．００
１〜１モル当量が好ましく、特に、０．００５〜０．５
モル当量がより好ましい。
【００４９】本脱水縮合の温度条件は、使用する溶媒と
水の共沸温度から溶媒の沸点までの範囲で行なうことが
でき、特に、使用する溶媒の沸点付近がより好ましい。
水の共沸温度から溶媒の沸点までの範囲で行なうことが
でき、特に、使用する溶媒の沸点付近がより好ましい。
【００５０】本発明の第一過程の後処理においては、反
応終了後、通常の後処理操作を行うことによって、粗生
成物を得ることができる。粗生成物は、必要に応じて、
活性炭、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の
精製操作を行い、目的の一般式［３］で示される光学活
性イミンを高い純度で得ることができる。また、単離精
製せずに第二過程の不斉還元に用いることができる。具
体的には、反応終了液をそのまま、または反応終了液を
炭酸水素ナトリウムまたは水酸化ナトリウム等のアルカ
リ水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムまたは無水硫
酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過して得られる該
光学活性イミンのトルエン溶液等を用いることができ
る。
応終了後、通常の後処理操作を行うことによって、粗生
成物を得ることができる。粗生成物は、必要に応じて、
活性炭、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の
精製操作を行い、目的の一般式［３］で示される光学活
性イミンを高い純度で得ることができる。また、単離精
製せずに第二過程の不斉還元に用いることができる。具
体的には、反応終了液をそのまま、または反応終了液を
炭酸水素ナトリウムまたは水酸化ナトリウム等のアルカ
リ水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムまたは無水硫
酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過して得られる該
光学活性イミンのトルエン溶液等を用いることができ
る。
【００５１】また、本発明の第二過程において、一般式
［４］で示される光学活性二級アミンを以下の方法によ
り工業的に簡便で且つ効率良く製造することができる。
すなわち、第一過程で製造した一般式［３］で示される
光学活性イミンを遷移金属錯体を用いる接触還元（第二
過程法）またはハイドライド還元（第二過程法）す
ることにより製造することができる。
［４］で示される光学活性二級アミンを以下の方法によ
り工業的に簡便で且つ効率良く製造することができる。
すなわち、第一過程で製造した一般式［３］で示される
光学活性イミンを遷移金属錯体を用いる接触還元（第二
過程法）またはハイドライド還元（第二過程法）す
ることにより製造することができる。
【００５２】初めに、遷移金属錯体を用いる接触還元
（第二過程法）について詳細に説明する。
（第二過程法）について詳細に説明する。
【００５３】遷移金属錯体としては、酸化白金、白金／
活性炭、白金黒等の白金触媒、還元ニッケル、ラネーニ
ッケル、白金付きラネーニッケル等のニッケル触媒、ラ
ネーコバルト等のコバルト触媒、還元銅、銅−クロム酸
化物等の銅触媒、亜鉛−クロム酸化物等の亜鉛触媒、酸
化ルテニウム、ルテニウム／活性炭等のルテニウム触
媒、ロジウム／活性炭、ロジウム／アルミナ、ロジウム
−酸化白金等のロジウム触媒、イリジウム黒等のイリジ
ウム触媒、酸化レニウム等のレニウム触媒、パラジウム
／活性炭、水酸化パラジウム、パラジウム黒、パラジウ
ム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸ストロンチウム、
パラジウム／炭酸カルシウム、パラジウム／炭酸カルシ
ウム−二酢酸鉛、パラジウム／硫酸バリウム−キノリ
ン、パラジウム／アルミナ、パラジウムスポンジ、塩化
パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセ
トナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ン］パラジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１、３−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ
［１、４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラ
ジウム、ジクロロ（１、５−シクロオクタジエン）パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ベンゾニトリル）］パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（アセトニトリル）］パラジウム、
酢酸［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラジウム等
のパラジウム触媒等が挙げられる。その中でも、白金触
媒、ロジウム触媒およびパラジウム触媒が好ましく、特
に、白金／活性炭、ロジウム／活性炭およびパラジウム
／活性炭がより好ましい。これらの触媒は、単独または
組み合わせて用いることができる。金属を担体に担持さ
せた触媒を用いる場合、その担持量は、０．１〜５０重
量％であり、０．５〜３０重量％が好ましく、特に、１
〜２０重量％がより好ましい。また、取り扱いの安全性
を高めるために、または金属表面の酸化を防ぐために、
水、鉱油等にからませたものを使うこともできる。
活性炭、白金黒等の白金触媒、還元ニッケル、ラネーニ
ッケル、白金付きラネーニッケル等のニッケル触媒、ラ
ネーコバルト等のコバルト触媒、還元銅、銅−クロム酸
化物等の銅触媒、亜鉛−クロム酸化物等の亜鉛触媒、酸
化ルテニウム、ルテニウム／活性炭等のルテニウム触
媒、ロジウム／活性炭、ロジウム／アルミナ、ロジウム
−酸化白金等のロジウム触媒、イリジウム黒等のイリジ
ウム触媒、酸化レニウム等のレニウム触媒、パラジウム
／活性炭、水酸化パラジウム、パラジウム黒、パラジウ
ム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸ストロンチウム、
パラジウム／炭酸カルシウム、パラジウム／炭酸カルシ
ウム−二酢酸鉛、パラジウム／硫酸バリウム−キノリ
ン、パラジウム／アルミナ、パラジウムスポンジ、塩化
パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセ
トナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ン］パラジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１、３−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ
［１、４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラ
ジウム、ジクロロ（１、５−シクロオクタジエン）パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ベンゾニトリル）］パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（アセトニトリル）］パラジウム、
酢酸［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラジウム等
のパラジウム触媒等が挙げられる。その中でも、白金触
媒、ロジウム触媒およびパラジウム触媒が好ましく、特
に、白金／活性炭、ロジウム／活性炭およびパラジウム
／活性炭がより好ましい。これらの触媒は、単独または
組み合わせて用いることができる。金属を担体に担持さ
せた触媒を用いる場合、その担持量は、０．１〜５０重
量％であり、０．５〜３０重量％が好ましく、特に、１
〜２０重量％がより好ましい。また、取り扱いの安全性
を高めるために、または金属表面の酸化を防ぐために、
水、鉱油等にからませたものを使うこともできる。
【００５４】遷移金属錯体の触媒量は、通常は一般式
［３］で示される光学活性イミンに対して、０．０１〜
５０重量％であり、０．１〜３０重量％が好ましく、特
に、０．２〜２０重量％がより好ましい。
［３］で示される光学活性イミンに対して、０．０１〜
５０重量％であり、０．１〜３０重量％が好ましく、特
に、０．２〜２０重量％がより好ましい。
【００５５】接触還元の水素の量は、通常は一般式
［３］で示される光学活性イミンに対して、１モル当量
以上使用すればよいが、通常は反応系を水素雰囲気下で
行うため大過剰使用する。
［３］で示される光学活性イミンに対して、１モル当量
以上使用すればよいが、通常は反応系を水素雰囲気下で
行うため大過剰使用する。
【００５６】接触還元の水素圧は、０．０１〜１０ＭＰ
ａであり、０．０５〜５ＭＰａが好ましく、特に、０．
１〜２ＭＰａがより好ましい。接触還元の水素源は、分
子状水素以外に、ギ酸、ギ酸アンモニウム、ヒドラジン
等を用いることができる。
ａであり、０．０５〜５ＭＰａが好ましく、特に、０．
１〜２ＭＰａがより好ましい。接触還元の水素源は、分
子状水素以外に、ギ酸、ギ酸アンモニウム、ヒドラジン
等を用いることができる。
【００５７】接触還元で使用される溶媒としては、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｃ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン
等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、
クロロホルム、１、２−ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル
系、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノ
ール等のアルコール系、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の
カルボン酸系、塩酸、硫酸、臭化水素酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、１０−カンファースルホン酸等の酸性水溶
液、水等が挙げられる。その中でも、トルエン、酢酸エ
チル、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、酢
酸、塩酸水溶液が好ましく、特に、メタノール、エタノ
ール、ｉ−プロパノール、塩酸水溶液がより好ましい。
これらの溶媒は単独または組み合わせて用いることがで
きる。
ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｃ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン
等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、
クロロホルム、１、２−ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル
系、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノ
ール等のアルコール系、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の
カルボン酸系、塩酸、硫酸、臭化水素酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、１０−カンファースルホン酸等の酸性水溶
液、水等が挙げられる。その中でも、トルエン、酢酸エ
チル、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、酢
酸、塩酸水溶液が好ましく、特に、メタノール、エタノ
ール、ｉ−プロパノール、塩酸水溶液がより好ましい。
これらの溶媒は単独または組み合わせて用いることがで
きる。
【００５８】接触還元の温度範囲は、−５０〜１５０℃
であり、−２５〜１２０℃が好ましく、特に、０〜１０
０℃がより好ましい。
であり、−２５〜１２０℃が好ましく、特に、０〜１０
０℃がより好ましい。
【００５９】次に、ハイドライド還元剤による不斉還元
（第二過程法）について詳細に説明する。
（第二過程法）について詳細に説明する。
【００６０】ハイドライド還元剤としては、（ｉ−Ｂ
ｕ）2ＡｌＨ、（ｉ−Ｂｕ）3Ａｌ、［２、６−（ｔ−Ｂ
ｕ）2−４−Ｍｅ］Ａｌ（ｉ−Ｂｕ）2、ＬｉＡｌＨ4、
ＬｉＡｌＨ（ＯＭｅ）3、ＬｉＡｌＨ（Ｏ−ｔ−Ｂ
ｕ）3、ＮａＡｌＨ2（ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3）2等のアル
ミニウムハイドライド系、ジボラン、ＢＨ3・ＴＨＦ、
ＢＨ3・ＳＭｅ2、ＢＨ3・ＮＭｅ3、９−ＢＢＮ、ＮａＢ
Ｈ4、ＮａＢＨ4−ＣｅＣｌ3、ＬｉＢＨ4、Ｚｎ（Ｂ
Ｈ4）2、Ｃａ（ＢＨ4）2、Ｌｉｎ−ＢｕＢＨ3、ＮａＢ
Ｈ（ＯＭｅ）3、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ3Ｃ
Ｎ、Ｅｔ4ＮＢＨ4、Ｍｅ4ＮＢＨ（ＯＡｃ）3、（ｎ−Ｂ
ｕ）4ＮＢＨ3ＣＮ、（ｎ−Ｂｕ）4ＮＢＨ（ＯＡｃ）3、
Ｌｉ（ｓ−Ｂｕ）3ＢＨ、Ｋ（ｓ−Ｂｕ）3ＢＨ、ＬｉＳ
ｉａ3ＢＨ、ＫＳｉａ3ＢＨ、ＬｉＥｔ3ＢＨ、ＫＰｈ3Ｂ
Ｈ、（Ｐｈ3Ｐ）2ＣｕＢＨ4、ＴｈｘＢＨ2、Ｓｉａ2Ｂ
Ｈ、カテコールボラン、ＩｐｃＢＨ2、Ｉｐｃ2ＢＨ等の
ホウ素ハイドライド系、Ｅｔ3ＳｉＨ、ＰｈＭｅ2Ｓｉ
Ｈ、Ｐｈ2ＳｉＨ2、ＰｈＳｉＨ3−Ｍｏ（ＣＯ）6等のケ
イ素ハイドライド系等が挙げられる。その中でも、Ｌｉ
ＡｌＨ4、ジボラン、ＮａＢＨ4およびＬｉＢＨ4が好ま
しく、特に、ＬｉＡｌＨ4およびＮａＢＨ4がより好まし
い。これらのハイドライド還元剤は、各種の無機塩の存
在下、行うこともできる。
ｕ）2ＡｌＨ、（ｉ−Ｂｕ）3Ａｌ、［２、６−（ｔ−Ｂ
ｕ）2−４−Ｍｅ］Ａｌ（ｉ−Ｂｕ）2、ＬｉＡｌＨ4、
ＬｉＡｌＨ（ＯＭｅ）3、ＬｉＡｌＨ（Ｏ−ｔ−Ｂ
ｕ）3、ＮａＡｌＨ2（ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3）2等のアル
ミニウムハイドライド系、ジボラン、ＢＨ3・ＴＨＦ、
ＢＨ3・ＳＭｅ2、ＢＨ3・ＮＭｅ3、９−ＢＢＮ、ＮａＢ
Ｈ4、ＮａＢＨ4−ＣｅＣｌ3、ＬｉＢＨ4、Ｚｎ（Ｂ
Ｈ4）2、Ｃａ（ＢＨ4）2、Ｌｉｎ−ＢｕＢＨ3、ＮａＢ
Ｈ（ＯＭｅ）3、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ3Ｃ
Ｎ、Ｅｔ4ＮＢＨ4、Ｍｅ4ＮＢＨ（ＯＡｃ）3、（ｎ−Ｂ
ｕ）4ＮＢＨ3ＣＮ、（ｎ−Ｂｕ）4ＮＢＨ（ＯＡｃ）3、
Ｌｉ（ｓ−Ｂｕ）3ＢＨ、Ｋ（ｓ−Ｂｕ）3ＢＨ、ＬｉＳ
ｉａ3ＢＨ、ＫＳｉａ3ＢＨ、ＬｉＥｔ3ＢＨ、ＫＰｈ3Ｂ
Ｈ、（Ｐｈ3Ｐ）2ＣｕＢＨ4、ＴｈｘＢＨ2、Ｓｉａ2Ｂ
Ｈ、カテコールボラン、ＩｐｃＢＨ2、Ｉｐｃ2ＢＨ等の
ホウ素ハイドライド系、Ｅｔ3ＳｉＨ、ＰｈＭｅ2Ｓｉ
Ｈ、Ｐｈ2ＳｉＨ2、ＰｈＳｉＨ3−Ｍｏ（ＣＯ）6等のケ
イ素ハイドライド系等が挙げられる。その中でも、Ｌｉ
ＡｌＨ4、ジボラン、ＮａＢＨ4およびＬｉＢＨ4が好ま
しく、特に、ＬｉＡｌＨ4およびＮａＢＨ4がより好まし
い。これらのハイドライド還元剤は、各種の無機塩の存
在下、行うこともできる。
【００６１】ハイドライド還元剤の使用量は、通常は一
般式［３］で示される光学活性イミンに対して、０．２
５モル当量以上使用すればよく、０．２５〜１０モル当
量が好ましく、特に、０．２５〜７モル当量がより好ま
しい。
般式［３］で示される光学活性イミンに対して、０．２
５モル当量以上使用すればよく、０．２５〜１０モル当
量が好ましく、特に、０．２５〜７モル当量がより好ま
しい。
【００６２】ハイドライド還元で使用される溶媒として
は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｃ−ヘキサン、ｎ−
ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチ
レン、クロロホルム、１、２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、
アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパ
ノール等のアルコール系、酢酸、プロピオン酸、酪酸等
のカルボン酸系等が挙げられる。その中でも、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエー
テル、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノールが好
ましく、特に、テトラヒドロフラン、メタノール、エタ
ノール、ｉ−プロパノールがより好ましい。これらの溶
媒は、単独または組み合わせて用いることができる。
は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｃ−ヘキサン、ｎ−
ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチ
レン、クロロホルム、１、２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、
アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパ
ノール等のアルコール系、酢酸、プロピオン酸、酪酸等
のカルボン酸系等が挙げられる。その中でも、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエー
テル、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノールが好
ましく、特に、テトラヒドロフラン、メタノール、エタ
ノール、ｉ−プロパノールがより好ましい。これらの溶
媒は、単独または組み合わせて用いることができる。
【００６３】ハイドライド還元の温度範囲は、−１００
〜１００℃であり、−８０〜８０℃が好ましく、特に、
−６０〜６０℃がより好ましい。本発明の第二過程の後
処理においては、、反応終了後、通常の後処理操作を行
うことにより、粗生成物を得ることができる。得られた
粗生成物は、必要に応じて、活性炭、蒸留、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことによ
り、目的の一般式［４］で示される光学活性二級アミン
を高い純度で得ることができる。
〜１００℃であり、−８０〜８０℃が好ましく、特に、
−６０〜６０℃がより好ましい。本発明の第二過程の後
処理においては、、反応終了後、通常の後処理操作を行
うことにより、粗生成物を得ることができる。得られた
粗生成物は、必要に応じて、活性炭、蒸留、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことによ
り、目的の一般式［４］で示される光学活性二級アミン
を高い純度で得ることができる。
【００６４】また、本発明の第三過程において、一般式
［５］で示される光学活性１−（トリフルオロメチルモ
ノ置換フェニル）エチルアミンを以下の方法により工業
的に簡便で且つ効率良く製造することができる。
［５］で示される光学活性１−（トリフルオロメチルモ
ノ置換フェニル）エチルアミンを以下の方法により工業
的に簡便で且つ効率良く製造することができる。
【００６５】すなわち、第二過程で製造した一般式
［４］で示される光学活性二級アミンを加水素分解する
ことにより製造することができる。加水素分解の反応条
件は、第二過程の遷移金属錯体を用いる接触還元の反応
条件と基本的に同じであるが、加水素分解は不斉還元よ
りも厳しい反応条件を必要とする。従って、緩和な反応
条件を選択することにより不斉還元だけを進行させ、反
応終了液を取り出さずに、同じ耐圧反応容器中で引き続
き加水素分解を行うこともできる。その際、遷移金属錯
体を追加したり、水素圧または反応温度を上げることに
より加水素分解を効率的に行うことができる。
［４］で示される光学活性二級アミンを加水素分解する
ことにより製造することができる。加水素分解の反応条
件は、第二過程の遷移金属錯体を用いる接触還元の反応
条件と基本的に同じであるが、加水素分解は不斉還元よ
りも厳しい反応条件を必要とする。従って、緩和な反応
条件を選択することにより不斉還元だけを進行させ、反
応終了液を取り出さずに、同じ耐圧反応容器中で引き続
き加水素分解を行うこともできる。その際、遷移金属錯
体を追加したり、水素圧または反応温度を上げることに
より加水素分解を効率的に行うことができる。
【００６６】本発明の第三過程の後処理においては、反
応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、粗生成
物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応
じて、活性炭、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等の精製操作を行うことにより、目的の一般式［５］
で示される光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換
フェニル）エチルアミンを高い純度で得ることができ
る。
応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、粗生成
物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応
じて、活性炭、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等の精製操作を行うことにより、目的の一般式［５］
で示される光学活性１−（トリフルオロメチルモノ置換
フェニル）エチルアミンを高い純度で得ることができ
る。
【００６７】
【実施例】以下、実施例により、本発明の実施の形態を
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
【００６８】実施例に示した１−（トリフルオロメチル
モノ置換フェニル）エチルアミンの絶対配置は、旋光度
の実測値の符号と文献値を比較して決定した。また、そ
れぞれの変換率、切断位置での選択性（前述のａ：
ｂ）、ジアステレオマー比および光学純度は、キラルＧ
Ｃ（ＣＰ−Ｃｈｉｒａｓｉｌ−Ｄｅｘ ＣＢ）により決
定した。
モノ置換フェニル）エチルアミンの絶対配置は、旋光度
の実測値の符号と文献値を比較して決定した。また、そ
れぞれの変換率、切断位置での選択性（前述のａ：
ｂ）、ジアステレオマー比および光学純度は、キラルＧ
Ｃ（ＣＰ−Ｃｈｉｒａｓｉｌ−Ｄｅｘ ＣＢ）により決
定した。
【００６９】［実施例１］ オルト−トリフルオロメチ
ル体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、オルト−トリフルオロメチルフ
ェニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏ
ｌ、１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．
６７ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜
鉛 ０．５５ｇ（４．０４ｍｍｏｌ、０．１５ｅｑ）を
溶解し、４３．５時間加熱還流し、副生する水をディー
ン・スターク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナト
リウム水溶液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液
で３回、水で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
ル体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、オルト−トリフルオロメチルフ
ェニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏ
ｌ、１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．
６７ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜
鉛 ０．５５ｇ（４．０４ｍｍｏｌ、０．１５ｅｑ）を
溶解し、４３．５時間加熱還流し、副生する水をディー
ン・スターク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナト
リウム水溶液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液
で３回、水で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００７０】
【化２０】
【００７１】で示される光学活性イミン（３ａ）の粗生
成物 ６．６４ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、７７％であった。粗生成物は、1Ｈ
および1 9Ｆ−ＮＭＲより、アトロプ異性を含め３つの異
性体の混合物であることを確認した。粗生成物は、未反
応のオルト−トリフルオロメチルフェニルメチルケトン
を除くため蒸留精製を実施し、精製品 ３．９７ｇ（収
率５１％）を得た。蒸留精製の前後で異性体比に変化が
認められた。ＧＣ純度と異性体比の結果を表１にまとめ
た。
成物 ６．６４ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、７７％であった。粗生成物は、1Ｈ
および1 9Ｆ−ＮＭＲより、アトロプ異性を含め３つの異
性体の混合物であることを確認した。粗生成物は、未反
応のオルト−トリフルオロメチルフェニルメチルケトン
を除くため蒸留精製を実施し、精製品 ３．９７ｇ（収
率５１％）を得た。蒸留精製の前後で異性体比に変化が
認められた。ＧＣ純度と異性体比の結果を表１にまとめ
た。
【００７２】
【表１】
【００７３】沸点 １１６−１１８℃／２ｍｍＨｇ1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．３２（ｄ、
６．４Ｈｚ）＆１．４２（ｄ、６．４Ｈｚ）＆１．５６
（ｄ、６．４Ｈｚ）／トータルで３Ｈ、２．２０（ｓ）
＆２．３２（ｓ）＆２．３４（ｓ）／トータルで３Ｈ、
４．０６（ｑ、６．４Ｈｚ）＆４．０８（ｄ、６．４Ｈ
ｚ）＆４．８１（ｄ、６．４Ｈｚ）／トータルで１Ｈ、
６．７０−７．８０（ｍ、９Ｈ）．19Ｆ−ＮＭＲ（Ｃ6
Ｆ6、ＣＤＣｌ3）：１０３．７、１０２．０、１０１．
９．
６．４Ｈｚ）＆１．４２（ｄ、６．４Ｈｚ）＆１．５６
（ｄ、６．４Ｈｚ）／トータルで３Ｈ、２．２０（ｓ）
＆２．３２（ｓ）＆２．３４（ｓ）／トータルで３Ｈ、
４．０６（ｑ、６．４Ｈｚ）＆４．０８（ｄ、６．４Ｈ
ｚ）＆４．８１（ｄ、６．４Ｈｚ）／トータルで１Ｈ、
６．７０−７．８０（ｍ、９Ｈ）．19Ｆ−ＮＭＲ（Ｃ6
Ｆ6、ＣＤＣｌ3）：１０３．７、１０２．０、１０１．
９．
【００７４】［実施例２］ オルト−トリフルオロメチ
ル体／不斉還元 メタノール ４ｍｌに、実施例１で製造した光学活性イ
ミン（３ａ）の精製品１．４２ｇ（４．８９ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ素ナトリ
ウム ０．４２ｇ（１０．９７ｍｍｏｌ、２．２４ｅ
ｑ）を加え、同温度で５時間、さらに室温で６２時間撹
拌した。反応混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終
了させ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性に
し、トルエンで抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
ル体／不斉還元 メタノール ４ｍｌに、実施例１で製造した光学活性イ
ミン（３ａ）の精製品１．４２ｇ（４．８９ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ素ナトリ
ウム ０．４２ｇ（１０．９７ｍｍｏｌ、２．２４ｅ
ｑ）を加え、同温度で５時間、さらに室温で６２時間撹
拌した。反応混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終
了させ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性に
し、トルエンで抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００７５】
【化２１】
【００７６】で示される光学活性二級アミン（４ａ）の
粗生成物 １．５３ｇを得た。粗生成物の変換率とジア
ステレオマー比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ
５６％、５９：４１であった。 メジャージアステレオマーの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１．２６（ｄ、６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．
３６（ｄ、６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１
Ｈ）、３．４８（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、４．０６
（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．７０−８．００（ｍ、
９Ｈ）． マイナージアステレオマーの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１．２６（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．
３２（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１
Ｈ）、３．６３（ｄ、６．５Ｈｚ、１Ｈ）、４．３３
（ｑ、６．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．７０−８．００（ｍ、
９Ｈ）．
粗生成物 １．５３ｇを得た。粗生成物の変換率とジア
ステレオマー比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ
５６％、５９：４１であった。 メジャージアステレオマーの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１．２６（ｄ、６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．
３６（ｄ、６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１
Ｈ）、３．４８（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、４．０６
（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．７０−８．００（ｍ、
９Ｈ）． マイナージアステレオマーの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１．２６（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．
３２（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１
Ｈ）、３．６３（ｄ、６．５Ｈｚ、１Ｈ）、４．３３
（ｑ、６．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．７０−８．００（ｍ、
９Ｈ）．
【００７７】［実施例３］ オルト−トリフルオロメチ
ル体／不斉還元−加水素分解 メタノール ３ｍｌに、実施例１で製造した光学活性イ
ミン（３ａ）の精製品８７８ｍｇ（３．０２ｍｍｏｌ）
と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含水）１７．３
ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５ＭＰａに設定
し、６０℃で５日間撹拌した。反応終了液をセライト濾
過、濃縮、真空乾燥し、下記式
ル体／不斉還元−加水素分解 メタノール ３ｍｌに、実施例１で製造した光学活性イ
ミン（３ａ）の精製品８７８ｍｇ（３．０２ｍｍｏｌ）
と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含水）１７．３
ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５ＭＰａに設定
し、６０℃で５日間撹拌した。反応終了液をセライト濾
過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００７８】
【化２２】
【００７９】で示される光学活性１−（オルト−トリフ
ルオロメチルフェニル）エチルアミン（５ａ）の粗生成
物を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前
述のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、
それぞれ１００％、ａ：ｂ＝１：９９、５０％ｅｅであ
った。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４１（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．５６（ｂｒ、２Ｈ）、４．５
６（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．３３（ｔ、７．９Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．５７（ｔ、７．９Ｈｚ、１Ｈ）、７．
６１（ｄ、７．９Ｈｚ、１Ｈ）、７．７４（ｄ、７．９
Ｈｚ、１Ｈ）．
ルオロメチルフェニル）エチルアミン（５ａ）の粗生成
物を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前
述のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、
それぞれ１００％、ａ：ｂ＝１：９９、５０％ｅｅであ
った。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４１（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．５６（ｂｒ、２Ｈ）、４．５
６（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．３３（ｔ、７．９Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．５７（ｔ、７．９Ｈｚ、１Ｈ）、７．
６１（ｄ、７．９Ｈｚ、１Ｈ）、７．７４（ｄ、７．９
Ｈｚ、１Ｈ）．
【００８０】［実施例４］ メタ−トリフルオロメチル
体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、メタ−トリフルオロメチルフェ
ニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．６７
ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜鉛
０．１１ｇ（０．８１ｍｍｏｌ、０．０３ｅｑ）を溶解
し、８時間加熱還流し、副生する水をディーン・スター
ク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶
液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液で３回、水
で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、メタ−トリフルオロメチルフェ
ニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．６７
ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜鉛
０．１１ｇ（０．８１ｍｍｏｌ、０．０３ｅｑ）を溶解
し、８時間加熱還流し、副生する水をディーン・スター
ク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶
液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液で３回、水
で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００８１】
【化２３】
【００８２】で示される光学活性イミン（３ｂ）の粗生
成物 ８．２２ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、９６％であった。粗生成物は、さら
に精製を行わず不斉還元に用いた。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、２．２９（ｓ、３Ｈ）、４．８５
（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．２４（ｔ、７．８Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．３４（ｔ、７．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．
４６（ｄ、７．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．４９（ｔ、８．０
Ｈｚ、１Ｈ）、７．６３（ｄ、８．０Ｈｚ、１Ｈ）、
８．０３（ｄ、８．０Ｈｚ、１Ｈ）、８．０９（ｓ、１
Ｈ）．
成物 ８．２２ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、９６％であった。粗生成物は、さら
に精製を行わず不斉還元に用いた。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、２．２９（ｓ、３Ｈ）、４．８５
（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．２４（ｔ、７．８Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．３４（ｔ、７．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．
４６（ｄ、７．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．４９（ｔ、８．０
Ｈｚ、１Ｈ）、７．６３（ｄ、８．０Ｈｚ、１Ｈ）、
８．０３（ｄ、８．０Ｈｚ、１Ｈ）、８．０９（ｓ、１
Ｈ）．
【００８３】［実施例５］ メタ−トリフルオロメチル
体／不斉還元 メタノール ２２ｍｌに、実施例４で製造した光学活性
イミン（３ｂ）の粗生成物 ８．２２ｇ（２５．６３ｍ
ｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ
素ナトリウム １．０７ｇ（２８．１６ｍｍｏｌ、１．
１０ｅｑ）を加え、同温度で６．７５時間撹拌した。反
応混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終了させ、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にし、トルエン
で抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃
縮、真空乾燥し、下記式
体／不斉還元 メタノール ２２ｍｌに、実施例４で製造した光学活性
イミン（３ｂ）の粗生成物 ８．２２ｇ（２５．６３ｍ
ｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ
素ナトリウム １．０７ｇ（２８．１６ｍｍｏｌ、１．
１０ｅｑ）を加え、同温度で６．７５時間撹拌した。反
応混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終了させ、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にし、トルエン
で抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃
縮、真空乾燥し、下記式
【００８４】
【化２４】
【００８５】で示される光学活性二級アミン（４ｂ）の
粗生成物を得た。粗生成物の変換率とジアステレオマー
比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ１００％、Ｓ
Ｓ：ＳＲ＝８６：１４であった。粗生成物は、カラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：６）による精製を実施し、精製品 ７．１１
ｇ（収率９５％）を得た。 ＳＳの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．２７
（ｄ、６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．２８（ｄ、６．７Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１Ｈ）、３．４３（ｑ、
６．７Ｈｚ、１Ｈ）、３．５７（ｑ、６．７Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１４−７．５６（ｍ、９Ｈ）． ＳＲの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．３５
（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．３６（ｄ、６．５Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１Ｈ）、３．７６（ｑ、
６．５Ｈｚ、１Ｈ）、３．８２（ｑ、６．５Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１４−７．５６（ｍ、９Ｈ）．
粗生成物を得た。粗生成物の変換率とジアステレオマー
比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ１００％、Ｓ
Ｓ：ＳＲ＝８６：１４であった。粗生成物は、カラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：６）による精製を実施し、精製品 ７．１１
ｇ（収率９５％）を得た。 ＳＳの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．２７
（ｄ、６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．２８（ｄ、６．７Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１Ｈ）、３．４３（ｑ、
６．７Ｈｚ、１Ｈ）、３．５７（ｑ、６．７Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１４−７．５６（ｍ、９Ｈ）． ＳＲの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．３５
（ｄ、６．５Ｈｚ、３Ｈ）、１．３６（ｄ、６．５Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５７（ｂｒ、１Ｈ）、３．７６（ｑ、
６．５Ｈｚ、１Ｈ）、３．８２（ｑ、６．５Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１４−７．５６（ｍ、９Ｈ）．
【００８６】［実施例６］ メタ−トリフルオロメチル
体／加水素分解 メタノール １．５ｍｌに、実施例５で製造した光学活
性二級アミン（４ｂ）の精製品 ４４０ｍｇ（１．５０
ｍｍｏｌ）と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含
水） ８．８ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５
ＭＰａに設定し、６０℃で１２時間撹拌した。反応終了
液をセライト濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
体／加水素分解 メタノール １．５ｍｌに、実施例５で製造した光学活
性二級アミン（４ｂ）の精製品 ４４０ｍｇ（１．５０
ｍｍｏｌ）と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含
水） ８．８ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５
ＭＰａに設定し、６０℃で１２時間撹拌した。反応終了
液をセライト濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００８７】
【化２５】
【００８８】で示される（Ｓ）−１−（メタ−トリフル
オロメチルフェニル）エチルアミン（５ｂ）の粗生成物
を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前述
のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、そ
れぞれ７６％、ａ：ｂ＝３：９７、７２％ｅｅであっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４１（ｄ、
６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．５５（ｂｒ、２Ｈ）、４．２
０（ｑ、６．７Ｈｚ、１Ｈ）、７．４０−７．５９
（ｍ、３Ｈ）、７．６１（ｓ、１Ｈ）．
オロメチルフェニル）エチルアミン（５ｂ）の粗生成物
を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前述
のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、そ
れぞれ７６％、ａ：ｂ＝３：９７、７２％ｅｅであっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４１（ｄ、
６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．５５（ｂｒ、２Ｈ）、４．２
０（ｑ、６．７Ｈｚ、１Ｈ）、７．４０−７．５９
（ｍ、３Ｈ）、７．６１（ｓ、１Ｈ）．
【００８９】［実施例７］ パラ−トリフルオロメチル
体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、パラ−トリフルオロメチルフェ
ニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．６７
ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜鉛
０．１１ｇ（０．８１ｍｍｏｌ、０．０３ｅｑ）を溶解
し、１５時間加熱還流し、副生する水をディーン・スタ
ーク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水
溶液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液で３回、
水で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
体／脱水縮合 トルエン ２７ｍｌに、パラ−トリフルオロメチルフェ
ニルメチルケトン ５．０２ｇ（２６．７０ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン３．６７
ｇ（３０．３３ｍｍｏｌ、１．１４ｅｑ）と塩化亜鉛
０．１１ｇ（０．８１ｍｍｏｌ、０．０３ｅｑ）を溶解
し、１５時間加熱還流し、副生する水をディーン・スタ
ーク管で除いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水
溶液で１回、１．５Ｎ塩化アンモニウム水溶液で３回、
水で１回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００９０】
【化２６】
【００９１】で示される光学活性イミン（３ｃ）の粗生
成物 ８．２０ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、９９％であった。粗生成物は、さら
に精製を行わず不斉還元に用いた。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、２．２９（ｓ、３Ｈ）、４．８５
（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．２４（ｔ、７．６Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．３４（ｔ、７．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．
４６（ｄ、７．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．６３（ｄ、８．３
Ｈｚ、２Ｈ）、７．９４（ｄ、８．３Ｈｚ、２Ｈ）．
成物 ８．２０ｇを得た。粗生成物の変換率は、キラル
ＧＣにより決定し、９９％であった。粗生成物は、さら
に精製を行わず不斉還元に用いた。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｄ、
６．６Ｈｚ、３Ｈ）、２．２９（ｓ、３Ｈ）、４．８５
（ｑ、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、７．２４（ｔ、７．６Ｈ
ｚ、１Ｈ）、７．３４（ｔ、７．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．
４６（ｄ、７．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．６３（ｄ、８．３
Ｈｚ、２Ｈ）、７．９４（ｄ、８．３Ｈｚ、２Ｈ）．
【００９２】［実施例８］ パラ−トリフルオロメチル
体／不斉還元 メタノール ２２ｍｌに、実施例７で製造した光学活性
イミン（３ｃ）の粗生成物 ８．２０ｇ（２６．４３ｍ
ｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ
素ナトリウム １．０６ｇ（２７．８９ｍｍｏｌ、１．
０６ｅｑ）を加え、同温度で５．５時間撹拌した。反応
混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終了させ、１Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にし、トルエンで
抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃
縮、真空乾燥し、下記式
体／不斉還元 メタノール ２２ｍｌに、実施例７で製造した光学活性
イミン（３ｃ）の粗生成物 ８．２０ｇ（２６．４３ｍ
ｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、０℃に冷却後、水素化ホウ
素ナトリウム １．０６ｇ（２７．８９ｍｍｏｌ、１．
０６ｅｑ）を加え、同温度で５．５時間撹拌した。反応
混合液に１Ｎ塩酸水溶液を加えて反応を終了させ、１Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にし、トルエンで
抽出、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃
縮、真空乾燥し、下記式
【００９３】
【化２７】
【００９４】で示される光学活性二級アミン（４ｃ）の
粗生成物を得た。粗生成物の変換率とジアステレオマー
比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ１００％、Ｓ
Ｓ：ＳＲ＝８４：１６であった。粗生成物は、さらに精
製を行わず加水素分解に用いた。 ＳＳの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．２７
（ｄ、６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．２９（ｄ、６．６Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５９（ｂｒ、１Ｈ）、３．４５（ｑ、
６．６Ｈｚ、１Ｈ）、３．５７（ｑ、６．６Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１２−７．６７（ｍ、９Ｈ）． ＳＲの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．３７
（ｄ、６．８Ｈｚ、６Ｈ）、１．５９（ｂｒ、１Ｈ）、
３．７６（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、３．８４（ｑ、
６．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．１２−７．６７（ｍ、９
Ｈ）．
粗生成物を得た。粗生成物の変換率とジアステレオマー
比は、キラルＧＣにより決定し、それぞれ１００％、Ｓ
Ｓ：ＳＲ＝８４：１６であった。粗生成物は、さらに精
製を行わず加水素分解に用いた。 ＳＳの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．２７
（ｄ、６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．２９（ｄ、６．６Ｈ
ｚ、３Ｈ）、１．５９（ｂｒ、１Ｈ）、３．４５（ｑ、
６．６Ｈｚ、１Ｈ）、３．５７（ｑ、６．６Ｈｚ、１
Ｈ）、７．１２−７．６７（ｍ、９Ｈ）． ＳＲの1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．３７
（ｄ、６．８Ｈｚ、６Ｈ）、１．５９（ｂｒ、１Ｈ）、
３．７６（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、３．８４（ｑ、
６．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．１２−７．６７（ｍ、９
Ｈ）．
【００９５】［実施例９］ パラ−トリフルオロメチル
体／加水素分解 メタノール １．５ｍｌに、実施例８で製造した光学活
性二級アミン（４ｃ）の粗生成物 ４４０ｍｇ（１．５
０ｍｍｏｌ）と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含
水） ８．８ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５
ＭＰａに設定し、６０℃で１２．７時間撹拌した。反応
終了液をセライト濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
体／加水素分解 メタノール １．５ｍｌに、実施例８で製造した光学活
性二級アミン（４ｃ）の粗生成物 ４４０ｍｇ（１．５
０ｍｍｏｌ）と５％パラジウム／活性炭（５０重量％含
水） ８．８ｍｇ（２重量％）を加え、水素圧を０．５
ＭＰａに設定し、６０℃で１２．７時間撹拌した。反応
終了液をセライト濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式
【００９６】
【化２８】
【００９７】で示される（Ｓ）−１−（パラ−トリフル
オロメチルフェニル）エチルアミン（５ｃ）の粗生成物
を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前述
のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、そ
れぞれ５８％、ａ：ｂ＝３：９７、６８％ｅｅであっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４０（ｄ、
６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．６０（ｂｒ、２Ｈ）、４．１
９（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．４６（ｄ、８．２Ｈ
ｚ、２Ｈ）、７．５９（ｄ、８．２Ｈｚ、２Ｈ）．
オロメチルフェニル）エチルアミン（５ｃ）の粗生成物
を得た。粗生成物の変換率、切断位置での選択性（前述
のａ：ｂ）と光学純度は、キラルＧＣにより決定し、そ
れぞれ５８％、ａ：ｂ＝３：９７、６８％ｅｅであっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ＣＤＣｌ3）：１．４０（ｄ、
６．８Ｈｚ、３Ｈ）、１．６０（ｂｒ、２Ｈ）、４．１
９（ｑ、６．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．４６（ｄ、８．２Ｈ
ｚ、２Ｈ）、７．５９（ｄ、８．２Ｈｚ、２Ｈ）．
【００９８】
【発明の効果】医薬および農薬の重要中間体である光学
活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチ
ルアミンを工業的に簡便で且つ効率良く製造できる。
活性１−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチ
ルアミンを工業的に簡便で且つ効率良く製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗山 克安本 学 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子株式会社化学研究所内 (72)発明者 金井 正富 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子株式会社化学研究所内 (72)発明者 速水 崇 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子株式会社化学研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC52 AC59 AC81 BD70 BE20
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式［３］ 【化１】 ［式中、Ａｒは、フェニル基、または１もしくは２−ナ
フチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］で示される光
学活性イミンを不斉還元することにより、一般式［４］ 【化２】 ［式中、Ａｒは、フェニル基、または１もしくは２−ナ
フチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］で示される光
学活性二級アミンに変換し、該二級アミンを加水素分解
することにより、式［５］ 【化３】 ［式中、＊は、不斉炭素を表す］で示される光学活性１
−（トリフルオロメチルモノ置換フェニル）エチルアミ
ンを製造する方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載した一般式［３］で示さ
れる光学活性イミンが、式［１］ 【化４】 で示されるトリフルオロメチルモノ置換フェニルメチル
ケトンと、一般式［２］ 【化５】 ［式中、Ａｒは、フェニル基、または１もしくは２−ナ
フチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］で示される光
学活性一級アミンを酸性条件下、脱水縮合することによ
って得られる光学活性イミンである請求項１に記載した
製造方法。 - 【請求項３】一般式［３］、［４］、［２］、または
［５］で示される化合物の立体化学が、Ｒ体（またはＳ
体）である請求項１または２に記載した製造方法。 - 【請求項４】 一般式［３］ 【化６】 ［式中、Ａｒは、フェニル基、または１もしくは２−ナ
フチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］で示される光
学活性イミン。 - 【請求項５】 一般式［４］ 【化７】 ［式中、Ａｒは、フェニル基、または１もしくは２−ナ
フチル基を表し、＊は、不斉炭素を表す］で示される光
学活性二級アミン。 - 【請求項６】一般式［３］または［４］で示される化合
物の立体化学が、Ｒ体（またはＳ体）である請求項４ま
たは５に記載した化合物。
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| JP2011506531A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-03 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 一段階還元的アミノ化 |
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-
2000
- 2000-12-04 JP JP2000369007A patent/JP3982991B2/ja not_active Expired - Fee Related
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