JP2002173368A - 誘電体磁器組成物 - Google Patents

誘電体磁器組成物

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JP2002173368A
JP2002173368A JP2000331431A JP2000331431A JP2002173368A JP 2002173368 A JP2002173368 A JP 2002173368A JP 2000331431 A JP2000331431 A JP 2000331431A JP 2000331431 A JP2000331431 A JP 2000331431A JP 2002173368 A JP2002173368 A JP 2002173368A
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Junichi Ito
淳一 伊藤
Motohiko Sato
元彦 佐藤
Takashi Kasashima
崇 笠島
Atsushi Otsuka
淳 大塚
Kazue Obayashi
和重 大林
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チタン酸バリウムを主成分とし、大気雰囲気
中1150℃以下、好ましくは1050℃以下で焼成可
能で、かつ、優れた誘電特性を有する誘電体磁器組成物
を提供すること。特には、共振周波数1MHzから1G
Hzの幅広い帯域において変動の少ない優れた誘電率の
周波数特性を有する誘電体磁器組成物を提供すること。 【構成】 チタン酸バリウムに副成分として少なくとも
アルカリ金属成分を含み、好ましくは更にNb成分、Z
n成分、Bi成分、Cu成分、Zr成分、Co成分、S
i成分、B成分のうち少なくとも1種を添加して、大気
中1150℃以下で焼成する。その誘電率εが1000
以上になるように組成、焼成条件等を調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波領域における誘
電率εが高く、かつ、大気中にて1150℃以下、好ま
しくは1050℃以下で低温焼成可能な誘電体磁器組成
物に関する。大気中にて1150℃以下で焼成可能なた
め、Ag/Pd、Ag/Pt、Ag等のAg系金属を電
極材料に用いて同時焼成によりICパッケージ等の配線
基板や、コンデンサ、カプラ、ローパスフィルタ、パワ
ーアンプ基板等の積層型電子部品を形成できる。他の低
誘電率絶縁体磁器組成物と共に積層、一体化して、コン
デンサを内蔵したセラミックパッケージや電子部品を形
成するのに好適である。
【0002】
【従来の技術】チタン酸バリウム(BaTiO3)は、
優れた誘電特性を有するペロブスカイト型化合物であ
り、積層コンデンサ等の電子部品材料として用いられて
いる。BaサイトやTiサイトに第三成分をドーピング
して、誘電特性を調整することができる。
【0003】チタン酸バリウムを主成分とする誘電体材
料は、1300〜1500℃の高温下で焼成されるた
め、電極材料には融点の高いPdやPt等の高価な貴金
属が用いられてきた。そこで、製造コストを抑える目的
で、Niや銅等の比較的安価な卑金属を内部電極に用い
ることが可能な還元雰囲気焼成型の誘電体材料が検討さ
れている。しかし、大気焼成可能で安価な貴金属である
Agを主体とするAg系金属(Ag/Pd、Ag/P
t、Ag等)が使用できる温度(1150℃以下、好ま
しくは1050℃以下)で焼成可能な誘電体材料がより
好ましい。そこで、低温焼成化と高誘電率化の両立を目
標とした誘電体材料の開発が種々検討されている。
【0004】チタン酸バリウムに焼結を容易にしたり誘
電特性を改良する副成分を添加した誘電体材料が種々検
討されている。Cu系の共融混合物を添加した誘電体材
料が特開昭54−53300号公報に開示されている。
MgO、MnOを添加した誘電体材料が特開昭57−7
1866号公報に開示されている。ZnO、CdO、C
uOを添加した誘電体材料が特開昭61−251561
号公報に開示されている。ZnO、Mn23、CuOを
添加した誘電体材料が特開平1−192762号公報に
開示されている。所定のBa−B−Li−Si系ガラス
を添加した誘電体材料が特開平5−6710号公報、特
開平5−6711号公報に開示されている。SiO2
Li2O、B23等を添加した誘電体材料が特開平4−
218207号公報、特開平4−264305号公報、
特開平4−264306号公報に開示されている。チタ
ン酸バリウムの相対的添加量を減らして鉛(Pb)成分
や希土類元素等を添加して1000〜1050℃程度で
焼成可能な誘電体材料が特開昭57−170405号公
報、特開昭60−124306号公報、特開平2−44
609号公報、特開平5−120915号公報に開示さ
れている。
【0005】しかし、これらの焼成温度は1350℃以
下と比較的高温であるため、融点が1000℃以下の安
価な貴金属であるAgを主成分とするAg/Pd、Ag
/Pt、Ag等のAg系金属との同時焼成がしにくい問
題がある。そこで、更なる低温焼成化を目標とした誘電
体材料の開発が種々検討されている。チタン酸バリウム
にフッ化リチウムを添加して1000℃以下で焼成可能
な誘電体材料が特開昭57−160963号公報に開示
されている。しかし、ハロゲン元素を含有するため、電
極材料であるAgのイオンマイグレーションを誘発する
おそれがある。
【0006】以上のように、鉛(Pb)成分やハロゲン
元素を添加することなく、ペロブスカイト型のチタン酸
バリウムを用いて1150℃以下、好ましくは1050
℃以下で焼成可能な誘電体材料を得るのは困難である。
しかし、工業的に安定した原材料の供給を考慮すると、
できれば市販のペロブスカイト型のチタン酸バリウムを
用いて1150℃以下、好ましくは1050℃以下で焼
成可能な誘電体材料を得ることができるのが好ましい。
また、高周波用途の電子部品の絶縁体材料に適用する場
合、MHz帯の低周波域からGHz帯(1GHz=10
00MHz)の高周波帯にかけて誘電率の変動が少ない
高周波特性に優れた誘電体磁器組成物とすることが好ま
しい。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ペロブスカ
イト型のチタン酸バリウムを用いて大気中1150℃以
下、好ましくは1050℃以下で焼成可能で、かつ、優
れた誘電特性を有する誘電体磁器組成物を提供すること
を目的とする。特には、周波数1MHzから1GHz
(1000MHz)における誘電率の周波数に対する変
化率が少ない(±15%以下)高周波特性に優れた誘電
体磁器組成物に関する。本発明の誘電体磁器組成物は、
Ag/Pd、Ag/Pt、Ag等のAg系金属を電極材
料として同時焼成が可能な配線基板、電子部品等の用途
に好適なものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の誘電体磁器組成
物は、大気雰囲気中1150℃以下、好ましくは105
0℃以下で焼成してなる、鉛(Pb)成分やハロゲン元
素を実質的に含有しないチタン酸バリウム(BaTiO
3)を主成分とする誘電体磁器組成物であって、特にそ
の誘電率ε及び主成分の結晶相を規定した誘電体磁器組
成物を要旨とする。以下に、各構成要件及び発明全体が
奏する効果について説明する。
【0009】まず、大気雰囲気中1150℃以下、好ま
しくは1050℃以下で焼成可能な誘電体磁器組成物で
あることが必要である。大気雰囲気中で焼成するのは、
チタン酸バリウムの誘電特性を低下させないためであ
る。1000℃以下で焼成するのは、Au、Au/P
t、Au/Pd等のAu系金属や、Ag、Ag/Pt、
Ag/Pd等のAg系金属といった低抵抗な電極材料と
の同時焼成を可能にするためである。Agを用いる場合
は、960℃以下がよい。好ましくは950℃以下、特
には900℃以下がよい。
【0010】尚、本発明の誘電体磁器組成物に用いる電
極材料としては、1150℃以下、好ましくは1050
℃以下で低温焼成でき、かつ、電気信号の伝送損失の低
減を抑制するために、Pt添加量やPd添加量が30質
量%以下、好ましくは20質量%以下のAg/PtやA
g/Pdを用いるのがよい。1000℃以下で低温焼成
する場合には、特にはAg、Auを用いるのがよい。内
層の配線導体にはAgを用い、表層の配線導体にはAg
/Pt、Ag/Pd、Auを用いるのがよい。表層の耐
ハンダ性を確保しながら、電気信号の伝送損失の低減が
可能だからである。
【0011】本発明の誘電体磁器組成物は、鉛(Pb)
成分やハロゲン元素を実質的に含有しないことが重要で
ある。鉛(Pb)成分としては、PbO、Pb34ある
いはこれらを含むガラス成分等がある。近年の鉛規制に
鑑みて、鉛(Pb)成分は含有しないことが好ましい。
ハロゲン元素としては、F、Cl、Br、I等がある
が、このいずれも好ましくない。ハロゲン元素(例え
ば、F)が存在すると、湿度や印加電圧が加わった際
に、電極材料に用いたAgがイオンとしてイオンマイグ
レーション(移行)しやすくなって、絶縁信頼性を低下
させやすいからである。ここにいう「実質的に含有しな
い」とは、誘電体磁器組成物100質量%に含まれる鉛
(Pb)成分やハロゲン元素の含有量が1質量%以下で
あることをいう。好ましくは0.5質量%以下、更には
0.2質量%以下がよい。ここにいう「実質的に含有し
ない」範囲であれば、鉛(Pb)成分やハロゲン元素を
含んでいてもよい。
【0012】本発明の誘電体磁器組成物は、その主成分
がペロブスカイト型のチタン酸バリウムであることが重
要である。ここにいう「ペロブスカイト型のチタン酸バ
リウム」とは、BaとTiとOのモル比率が略1:1:
3であるものをいう。「略1:1:3」としたのは、必
ずしも化学両論組成(1:1:3)の場合ばかりとはい
えないからである。例えば、Ba/Tiのモル比が1ち
ょうどでない場合(例:0.95〜1.05)である。
また、第三成分の添加により、Baサイトの一部をM
g、Sr、Ca等で置換したり、Tiサイトの一部をN
b、Zr、Sn等で置換した場合もある。
【0013】原料として用いるペロブスカイト型のチタ
ン酸バリウムには、Nb25を2質量%以下含むものを
用いるのがよい。更にCoOやNiOを0.15質量%
以下含むものを用いるのがよい。また、ZnOを0.5
質量%以下含むものを用いるのがよい。これらの成分が
少なくとも1種含まれているペロブスカイト型のチタン
酸バリウム原料粉末を用いるとよい。誘電特性の向上を
図ることができる。
【0014】電極材料との同時焼成時に熱拡散した金属
の影響で誘電特性や同時焼結性が不安定になる問題を回
避するためにも、原料段階から主成分がペロブスカイト
型のチタン酸バリウムを用いるのがよい。Ag等の電極
材料と同時焼成しても、安定した誘電特性や同時焼結性
が得られるからである。
【0015】従来、鉛(Pb)成分やハロゲン元素を実
質的に含有しないチタン酸バリウムを80質量%以上含
む誘電体磁器組成物において、1150℃以下(特には
1050℃以下)の焼成により周波数1MHzにおいて
誘電率ε1000以上が得られる場合は知られていな
い。しかし、本発明のペロブスカイト型のチタン酸バリ
ウムを主結晶とする誘電体磁器組成物は、鉛(Pb)成
分やハロゲン元素を実質的に含有しないにもかかわら
ず、1150℃以下、好ましくは1050℃以下で焼成
した場合においても周波数1MHzにおいて1000以
上の誘電率εを得ることができるものである。本発明の
誘電体磁器組成物の周波数1MHzにおける誘電率εと
しては、好ましくは1500以上、より好ましくは20
00以上、さらに好ましくは2500以上、特には30
00以上である。
【0016】また、周波数1MHzにおける誘電率をε
(1M)、周波数1GHzにおける誘電率をε(1G)とした場
合において、以下の(式1)より得られる誘電率の周波
数に対する変化率Δεが±15%以下の誘電体磁器組成
物とするのがよい。メガヘルツ帯からギガヘルツ帯の広
い帯域において誘電率εの周波数依存性が少ない材料と
することで、種々の帯域用途に適用可能な電子部品を作
製することができる。誘電率の周波数に対する変化率Δ
εとしては、好ましくは±10%以下、より好ましくは
±8%以下、更に好ましくは±5%以下、特には±3%
以下である。
【0017】
【数1】 Δε=100×[ε(1M)−ε(1G)]/ε(1M) (式1)
【0018】本発明の誘電体磁器組成物は、特に副成分
としてアルカリ金属成分を含有する誘電体磁器組成物と
するとよい。鉛(Pb)成分やハロゲン元素を実質的に
含有しないペロブスカイト型のチタン酸バリウムを主成
分とする誘電体磁器組成物を大気雰囲気中1150℃以
下、好ましくは1050℃以下で焼成可能とし、かつ、
その誘電率εを1000以上にするのには、アルカリ金
属成分の副成分の添加が効果的である。誘電体の誘電特
性を調整する目的で、更にアルカリ金属成分以外の副成
分を含んでもよい。
【0019】副成分の添加形態としては、酸化物、炭酸
塩、有機金属、有機酸塩等の形態で添加する。酸化物、
炭酸塩、有機酸塩での添加が好ましい。特には、酸化
物、炭酸塩である。基本的には、大気雰囲気中の焼成に
より、酸化物になる形態で添加すればよい。ただし、焼
結助剤としての効果が得られれば、必ずしも酸化物であ
る必要はない。また、あらかじめB成分やSi成分と共
にガラス化して、ガラス成分の一部として添加するのも
よい。また、副成分をゾルゲル法によりチタン酸バリウ
ム表面にコーティングしてもよい。
【0020】副成分の好ましい組合わせとしては、アル
カリ金属成分を含有する組成系がよい。具体的には、ア
ルカリ金属成分系、Li成分を必須とするアルカリ金属
成分系、アルカリ金属成分+Nb成分系、アルカリ金属
成分+Zn成分系、アルカリ金属成分+Nb成分+Zn
成分系である。アルカリ金属成分は、Li、K、Naが
よい。特にはLiである。Li成分を主体としてK、N
aを複合添加するのもよい。
【0021】副成分について最も好ましくは、アルカリ
金属成分を必須するとともに、更にNb成分及びZn成
分のうち少なくとも1種を含有するのがよい。特にはア
ルカリ金属成分がLiであるのがよい。低温下での焼成
が可能となるのみならず、優れた誘電率εの周波数特性
と低いtanδを有する誘電体磁器組成物が得られる。
【0022】本発明の誘電体磁器組成物は、副成分とし
て少なくともアルカリ金属を含み、更にNb成分、アル
カリ土類金属成分、Bi成分、Zn成分、Cu成分、Z
r成分、Si成分、B成分及びCo成分のうち少なくと
も1種を含有する誘電体磁器組成物とするとよい。更に
Ni成分、Mn成分等の遷移金属成分を含んでいるとよ
い。
【0023】これらの副成分を含有させることにより、
誘電体磁器組成物の低温焼成化及び誘電特性の更なる向
上を図ることができる。アルカリ土類金属成分として
は、Mg成分、Ca成分、Sr成分がよい。これらの成
分がチタン酸バリウムのBaサイトの一部を置換するこ
とにより、誘電体磁器組成物の特性向上を促進するもの
と推察される。Bi成分、Zn成分、Cu成分、Zr成
分、Co成分の添加によっても、誘電特性の向上を図る
ことができる。また、Si成分、B成分の添加によって
更なる低温焼成化が可能になる。
【0024】これらの副成分は、各成分を酸化物、炭酸
塩、有機金属、有機酸塩、ホウ化物、ケイ化物等の形態
で添加する。酸化物、炭酸塩、有機酸塩での添加が好ま
しい。特には、酸化物、炭酸塩である。基本的には、大
気雰囲気中の焼成により、酸化物になる形態で添加すれ
ばよい。ただし、焼結助剤としての効果が得られれば、
必ずしも酸化物である必要はない。また、あらかじめこ
れらの副成分をアルカリ金属成分と共にガラス化して、
ガラス成分の一部として添加するのもよい。また、副成
分をゾルゲル法によりチタン酸バリウム表面にコーティ
ングしてもよい。
【0025】本発明の誘電体磁器組成物は、誘電体磁器
組成物に含まれる上記副成分の含有量を以下の所定範囲
に規定するとよい。誘電体磁器組成物に含まれるチタン
酸バリウムの含有量を100質量%に対して、副成分を
酸化物換算にて10質量%以下含有するとよい。酸化物
換算であるから、Si成分はSiO2、B成分はB
2 3、アルカリ金属成分はM2O(但し、Mはアルカリ
金属元素)、アルカリ土類金属成分はRO(但し、Rは
アルカリ土類金属元素)、Nb成分はNb25、Bi成
分はBi23、Zn成分はZnO、Cu成分はCuO、
Zr成分はZrO2、Co成分はCoOとして換算す
る。
【0026】上記副成分の酸化物換算における含有量
は、含まれる各成分の合計量を示す。副成分の酸化物換
算における含有量の上限値を10質量%以下に規定した
理由は、副成分の含有量が10質量%を越えると、ta
nδが増大するため好ましくないからである。この含有
量はより少ない方が、tanδの増大を最小限に抑える
ことができる。副成分の好ましい含有量としては、5質
量%以下、より好ましくは4質量%以下、更には3質量
%以下である。
【0027】1MHz帯から1GHz(1000MH
z)帯にかけての誘電率の低下を効果的に防止するに
は、副成分の含有量の合計量を4質量%以下に抑えるの
がよい。好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質
量%以下、特には1.5質量%以下である。前述した
(式1)より得られる誘電率の周波数に対する変化率Δ
εが±15%以下の誘電体が容易に得られる。
【0028】以下に各副成分の好ましい含有量について
説明するが、最終的には、副成分の合計量が上記の好ま
しい範囲になるように、各成分の好ましい含有量の比率
を決定する。尚、請求項4の構成成分(d)〜(g)に
示す上限値を単純に合計すると25質量%となるが、実
際の組み合わせとしては、構成成分(d)〜(g)の酸
化物換算における含有量の合計量が10質量%以下(但
し、アルカリ金属成分は必須の構成成分であるため、0
質量%は除く。)になる範囲で組成を決定する。
【0029】Si成分を必須にする副成分については、
Si成分の含有量の好ましい範囲は、5質量%以下であ
る。より好ましくは3質量%以下、更に好ましくは1質
量%以下である。Si成分の含有量が5質量%を越える
と、所望する特性の一つであるtanδが劣化するので
好ましくない。また、1MHz帯から1GHz帯にかけ
ての誘電率の低下を効果的に防止するには、Si成分の
含有量を0.5質量%以下に抑えるのがよい。好ましく
は0.3質量%以下、より好ましくは0.2質量%以
下、特には0.1質量%以下である。
【0030】B成分を必須にする副成分については、B
成分の含有量の好ましい範囲としては、7質量%以下が
よい。より好ましくは3質量%以下、更に好ましくは1
質量%以下である。B成分の含有量が7質量%を越える
と、焼結助剤成分が発泡を起こす等、焼結が不安定にな
るので好ましくない。1MHz帯から1GHz帯にかけ
ての誘電率の低下を効果的に防止するには、B成分の含
有量を0.15質量%以下に抑えるのがよい。好ましく
は0.1質量%以下である。
【0031】アルカリ金属成分を必須にする副成分につ
いては、アルカリ金属成分の好ましい含有量の範囲とし
ては、10質量%以下(但し、0質量%は除く。)がよ
い。好ましくは0.1〜5質量%、より好ましくは0.
2〜3質量%、更に好ましくは0.5〜2質量%がよ
い。アルカリ金属成分の含有量が10質量%を越える
と、絶縁抵抗が低くなるとともに、tanδが劣化する
ので好ましくない。1MHz帯から1GHz帯にかけて
の誘電率の低下を効果的に防止するには、アルカリ金属
成分の含有量を0.5〜1質量%、好ましくは0.5〜
1質量%にするとよい。アルカリ金属成分としては、L
i成分を必須成分にして更にK成分やNa成分との混合
系にするか、Li成分のみの系を用いるのがよい。誘電
特性の低下を効果的に防止できる。
【0032】他のNb成分、アルカリ土類金属成分、B
i成分、Zn成分、Cu成分、Zr成分及びCo成分か
ら選ばれる少なくとも1種の含有量については、5質量
%以下がよい。好ましくは3質量%以下である。1MH
z帯から1GHz帯にかけての誘電率の低下を効果的に
防止するには、2.5質量%以下がよい。
【0033】副成分の添加形態については、既に説明し
た内容と同様のため、ここでは省略する。
【0034】本発明の誘電体磁器組成物は、アルカリ金
属成分を必須成分として、更に他のNb成分、Si成
分、B成分、アルカリ土類金属成分、Bi成分、Zn成
分、Cu成分、Zr成分及びCo成分から選ばれる少な
くとも1種を特定量含有する誘電体磁器組成物とすると
よい。1150℃以下、好ましくは1050℃以下での
低温焼結性及び誘電特性をバランスよく両立することが
できる。
【0035】各必須成分の酸化物換算における含有量
は、原則としては前述した範囲でよいが、最終的には、
各成分の合計量が前述した好ましい範囲内に収まるよう
に各成分の比率を調整すればよい。1MHz帯から1G
Hz帯にかけての誘電率の低下を効果的に防止するに
は、各副成分の含有量を抑えた組成がよい。周波数1M
Hzにおける誘電率をε(1M)、周波数1GHzにおける
誘電率をε(1G)とした場合において、前述の(式1)よ
り得られる誘電率の周波数に対する変化率Δεが±15
%以下の誘電体磁器組成物を得るには、Si成分を0.
5質量%以下、B成分を0.15質量%以下、Li成分
を3質量%以下(好ましくは0.2〜3質量%、より好
ましくは0.5〜2質量%、更に好ましくは0.5〜
1.5質量%、特には0.5〜1質量%。)、Zn成分
を0.5質量%以下、Zr成分を0.05質量%以下、
Nb成分を1.5質量%以下、Co成分を0.3質量%
以下(副成分の合計量は4質量%以下)となる誘電体磁
器組成物とするのがよい。例えば、以下の〜を例示
することができる。:Si成分を0.1質量%、アル
カリ金属(Li)成分を0.8質量%、Zn成分を0.
3質量%、Zr成分を0.03質量%、Nb成分を1.
4質量%、Co成分を0.1質量%(副成分の合計量は
2.73質量%)。:Si成分を0.1質量%、アル
カリ金属(Li)成分を0.6質量%、Zn成分を0.
3質量%、Zr成分を0.03質量%、Nb成分を1.
4質量%、Co成分を0.1質量%(副成分の合計量は
2.53質量%)。:Si成分を0.1質量%、アル
カリ金属(Li)成分を0.6質量%、Zn成分を0.
3質量%、Zr成分を0.03質量%、Nb成分を1.
4質量%、Co成分を0.1質量%、B成分を0.1質
量%(副成分の合計量は2.63質量%)。
【0036】副成分の添加形態については、既に説明し
た内容と同様のため、ここでは省略する。
【0037】
【実施例】本発明の誘電体磁器組成物を実施例を用いて
説明する。実施例1は、組成を振って誘電特性(1MH
z、25℃における誘電率εr及びtanδ)を検討し
た実施例である。実施例2は、誘電率εの周波数特性
(1M〜1GHZ、25℃における誘電率εの変動)を
検討した実施例である。
【0038】(実施例1) ・誘電体の作製及び評価 市販のBaTiO3粉末と副成分である各種添加物の粉
末とを表1に示す組成になるように混合する。この混合
粉末に樹脂バインダーとMEK(メチルエチルケトン)
とトルエンを加えて、ポットミルを用いて混合してスラ
リを得る。得られたスラリからドクターブレード法にて
厚さ0.3mmのシートを作製する。得られたシートを
積層し、□10mmとなるように切断した後、表2に示
す条件で焼成する。焼成後の積層体の寸法は、□8〜
8.5mm×厚み0.5〜2mmである。この積層体の
両面に銀(Ag)からなる導電ペーストを印刷、塗布し
て焼き付けて電極を形成したものを評価用サンプルとす
る。
【0039】インピーダンスアナライザー(ヒューレッ
トパッカード社製 HP4194A)を用いて、周波数
1MHz、基準温度25℃にて静電容量を測定する。得
られた静電容量及び試料寸法から誘電率εを算出する。
結果を表2に示す。
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】いずれの試料も、誘電率εが1000以上
と良好な結果である。1150℃以下の低温焼成化が可
能であることがわかる。1000℃以下の低温焼成条件
下においても、おおよそ1000〜3500程度の誘電
率が得られていることがわかる。試料番号28を見る
と、Li成分の酸化物換算の添加量が5質量%になって
もtanδは0.015以下であることがわかる。Li
成分はtanδの低下を抑制しつつ、1000℃以下の
低温焼成化を促進することがわかる。一方、試料番号6
及び試料番号15を比較すると、副成分の含有量の合計
が10質量%を超えると(試料番号6は12.43質量
%、試料番号15は9.03質量%)、誘電率εは上昇
するものの、逆にtanδは0.05を超えてしまうこ
とがわかる。
【0043】(実施例2) ・誘電体の誘電率の周波数特性の評価 市販のBaTiO3粉末および各種副成分の原料粉末
(但し秤量は酸化物換算)を表3に示す組成になるよう
に混合する。この混合粉末と樹脂バインダと溶媒(メチ
ルエチルケトン及びトルエン)をポットミルに投入して
混合して、スラリを得る。このスラリからドクターブレ
ード法により厚み0.3mmのシートを作製する。焼成
後の厚みが1mmになるようにシートを積層し、表4に
示す条件にて焼成する。焼成した積層体の菱面に電極と
なる導電ペーストを塗布して焼き付けた後、電極面積が
□0.3mmになるように試料を切り出し、評価用サン
プルとする。ここで、評価用サンプルの電極間隔は1m
mである。静電容量の測定には、アジレント・テクノロ
ジー社製4287Aを用いる。
【0044】1MHz及び1GHz(1000MHz)
において得られた各静電容量及び試料寸法から、以下の
(式2)を用いて誘電率ε(1M)及びε(1G)を算出す
る。尚、(式2)中、εrは求めるべき誘電率ε(1M)
はε(1G)、ε0は真空の誘電率(8.854×10−12F/m)、
dは評価試料の厚み(電極間隔)、Cは静電容量の測定
値である。また、式1を用いて誘電率の周波数に対する
変化率Δεを算出する。周波数1MHzにおける誘電率
を1として規格化した場合の誘電率εrのプロットを図
1に示す。尚、図1中の「εr(Norm.)」は上記の「規格
化された誘電率」を示す。結果を表4に示す。
【0045】
【数2】 εr=[(d×C)/(ε0×S)] (式2)
【0046】
【表3】
【0047】
【表4】
【0048】結果より、試料番号42〜試料番号44で
は、1000〜1030℃で1時間という低温かつ短時
間の焼成条件でありながら、良好な誘電特性を示すこと
がわかる。周波数が1MHzから1GHz(1000M
Hz)に至っても、誘電率の変化率Δが10%未満と良
好で、高周波用途に適した誘電体磁器組成物が得られる
ことがわかる。また、B成分の酸化物換算における含有
量が0.15質量%を超える試料番号45及び試料番号
46では、1030℃×1時間の焼成条件で低温焼成で
きる利点がある。しかし、誘電率の変化率Δが20〜2
5%と高めであるため、高周波用途には最適とはいえな
い。一方、アルカリ金属成分をまったく含まない比較例
である試料番号39〜試料番号41では、焼成温度が1
310℃と高く、低温焼成できない。また、誘電率の変
化率Δも29%を超えている。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば、ペロブスカイト型のチ
タン酸バリウムを用いて大気中1150℃以下で焼成可
能で、かつ、誘電率の周波数特性に優れた誘電体磁器組
成物を提供することができる。特には、副成分の含有量
を所定の範囲に規定することで、周波数1MHzにおけ
る誘電率をε(1M)、周波数1GHzにおける誘電率をε
(1G)とした場合において、前述の(式1)より得られる
誘電率の周波数に対する変化率Δεが±15%以下の高
周波用途に適した誘電体磁器組成物を得ることができ
る。1150℃以下、特には1050℃以下で焼成可能
なため、Ag/Pd、Ag/Pt、Ag等のAg系金属
を電極材料に用いて同時焼成が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例2における誘電体の規格化された誘電率
εr(Norm.)の周波数特性の変化を示す説明図。
【符号の説明】
1 実施例2における試料番号42の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 2 実施例2における試料番号43の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 3 実施例2における試料番号44の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 4 実施例2における試料番号45の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 5 実施例2における試料番号46の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 6 実施例2における試料番号39の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 7 実施例2における試料番号41の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。 8 実施例2における試料番号40の規格化された
誘電率ε(Norm.)の周波数特性の変化のプロット。
フロントページの続き (72)発明者 大塚 淳 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (72)発明者 大林 和重 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 Fターム(参考) 4G031 AA01 AA02 AA06 AA11 AA12 AA14 AA22 AA25 AA26 AA28 AA30 AA35 BA09 CA01 5E001 AB03 AE02 AE03 AE04 AH09 AJ02 5G303 AA01 AA05 AB06 AB15 BA12 CA01 CB02 CB03 CB05 CB09 CB11 CB21 CB30 CB35 CB38 CB39 DA05 5J006 HC07

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン酸バリウム(BaTiO3)を主
    成分とし、大気雰囲気中1150℃以下で焼成してなる
    誘電体磁器組成物であって、以下の(a)乃至(c)の
    要件を具備することを特徴とする誘電体磁器組成物。 (a)該誘電体磁器組成物の主結晶がペロブスカイト型
    である。 (b)周波数1MHzにおける誘電率εが1000以上
    である。 (c)副成分として少なくともアルカリ金属成分を含有
    する。
  2. 【請求項2】 上記要件(c)が以下のようであること
    を特徴とする請求項1に記載の誘電体磁器組成物。 (c)副成分として少なくともアルカリ金属成分と、N
    b成分、アルカリ土類金属成分、Bi成分、Zn成分、
    Cu成分、Zr成分、Si成分、B成分及びCo成分の
    うち少なくとも1種を含有する。
  3. 【請求項3】 上記チタン酸バリウム100質量%に対
    して、上記副成分を酸化物換算にて10質量%以下(但
    し、0質量%は除く。)含有することを特徴とする請求
    項1又は請求項2に記載の誘電体磁器組成物。
  4. 【請求項4】 上記副成分の酸化物換算における含有量
    が、以下の(d)乃至(g)の要件を具備することを特
    徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の誘電
    体磁器組成物。但し、副成分の酸化物換算における合計
    量は10質量%以下であり、且つ0質量%になる場合は
    除く。 (d)上記Si成分の含有量がSiO2換算にて5質量
    %以下。 (e)上記B成分の含有量がB23換算にて7質量%以
    下。 (f)上記アルカリ金属成分の含有量がM2O換算にて
    10質量%以下(但し、0質量%は除く。)。ただし、
    Mはアルカリ金属元素を示す。 (g)上記Nb成分、アルカリ土類金属成分、Bi成
    分、Zn成分、Cu成分、Zr成分及びCo成分のうち
    少なくとも1種の含有量が酸化物換算にて5質量%以
    下。
  5. 【請求項5】 周波数1MHzにおける誘電率を
    ε(1M)、周波数1GHz(1000MHz)における誘
    電率をε(1G)とした場合において、以下の(式1)より
    得られる誘電率の周波数に対する変化率Δεが±15%
    以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のい
    ずれかに記載の誘電体磁器組成物。 Δε=100×[ε(1M)−ε(1G)]/ε(1M) (式1)
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007001824A (ja) * 2005-06-24 2007-01-11 Tdk Corp 焼結助剤、誘電体磁器組成物の製造方法及び電子部品の製造方法
WO2007122948A1 (ja) * 2006-03-30 2007-11-01 Ngk Insulators, Ltd. 誘電体磁器組成物および電子部品
KR101129141B1 (ko) * 2009-09-24 2012-03-23 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 적층 세라믹 전자부품
CN102656127A (zh) * 2009-10-16 2012-09-05 日本化学工业株式会社 电介质陶瓷形成用组合物以及电介质陶瓷材料
WO2012128175A1 (ja) * 2011-03-18 2012-09-27 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ、誘電体セラミック、積層セラミック電子部品および積層セラミックコンデンサの製造方法
US8390985B2 (en) 2009-08-12 2013-03-05 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dielectric ceramic and method for producing dielectric ceramic and laminated ceramic capacitor
CN104347920A (zh) * 2013-08-02 2015-02-11 Tdk株式会社 电介质线路以及电子部件
JP2015156713A (ja) * 2015-04-24 2015-08-27 Tdk株式会社 電子部品

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007001824A (ja) * 2005-06-24 2007-01-11 Tdk Corp 焼結助剤、誘電体磁器組成物の製造方法及び電子部品の製造方法
WO2007122948A1 (ja) * 2006-03-30 2007-11-01 Ngk Insulators, Ltd. 誘電体磁器組成物および電子部品
US7781360B2 (en) 2006-03-30 2010-08-24 Ngk Insulators, Ltd. Dielectric porcelain composition and electronic component
KR101009596B1 (ko) * 2006-03-30 2011-01-20 소신 덴키 가부시키가이샤 유전체 자기 조성물 및 전자부품
US8390985B2 (en) 2009-08-12 2013-03-05 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dielectric ceramic and method for producing dielectric ceramic and laminated ceramic capacitor
KR101129141B1 (ko) * 2009-09-24 2012-03-23 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 적층 세라믹 전자부품
US8358495B2 (en) 2009-09-24 2013-01-22 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated ceramic electronic component
CN102656127A (zh) * 2009-10-16 2012-09-05 日本化学工业株式会社 电介质陶瓷形成用组合物以及电介质陶瓷材料
WO2012128175A1 (ja) * 2011-03-18 2012-09-27 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ、誘電体セラミック、積層セラミック電子部品および積層セラミックコンデンサの製造方法
US9275797B2 (en) 2011-03-18 2016-03-01 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer ceramic capacitor, dielectric ceramic, multilayer ceramic electronic component, and method for manufacturing multilayer ceramic capacitor
CN104347920A (zh) * 2013-08-02 2015-02-11 Tdk株式会社 电介质线路以及电子部件
JP2015032969A (ja) * 2013-08-02 2015-02-16 Tdk株式会社 誘電体線路および電子部品
US9601816B2 (en) 2013-08-02 2017-03-21 Tdk Corporation Dielectric line and electronic component
JP2015156713A (ja) * 2015-04-24 2015-08-27 Tdk株式会社 電子部品

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