JP2002170667A5

JP2002170667A5 -

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Publication number: JP2002170667A5
Application number: JP2000365976A
Authority: JP
Filing date: 2000-11-30
Publication date: 2004-08-26

Description

【０００７】
しかし、（１）のマスク蒸着法は生産性が劣り、コスト高になる。また、真空装置内でのマスク位置合わせが必要であり、基板の中心部と周辺部で分子の飛来角度及び距離が異なるため、均一な膜形成が困難である。さらに、真空蒸着装置内での発塵により欠陥が発生するという問題がある。

【００４６】
また、架橋のための露光量は、通常、５０〜５０００Ｊ／ｃｍ²で光架橋が可能であり、５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²とすることが望ましい。露光量が少ない場合には架橋密度が小さすぎることがあり、露光量が多いと蛍光色素の光反応などの副反応が起こる場合があるため、使用する光架橋剤、光架橋開始剤、光架橋基の種類及び濃度に応じて、適宜調整することが望ましい。

【００８９】
このホールブロック層３４を用いる構成においても、図１２に示した場合と同様、赤色発光層３１及びホールブロック層３４を、それぞれが一つの陽極２を覆うように設け、電子輸送性を有する緑色発光層３３ａを、この赤色発光層３１及びホールブロック層３４を覆うように、ホール輸送層５０上全体に成膜してもよい（図１９）。このようにすれば、図１６に示した例に比べて、緑色発光層３３をパターン化する必要がないため、工程数を削減できる。また、図２０に示すように、電子輸送性を有する赤色発光層３１ａを、緑色発光層３３及びホールブロック層３４を覆うように、ホール輸送層５０上全体に成膜してもよい。さらに、電子輸送性発光層３１ａ，３３ａと陰極４との間に電子輸送層６を設けてもよい（図２１、図２２）。

【００９６】
必要に応じて塗膜１０を乾燥させたのち、フォトマスク１１の開口部２０を介して光を照射する（図２６（ｂ））。露光した発光層材料塗膜１０では、バインダー高分子の一分子内の複数箇所で高分子鎖間の架橋が起こり、露光部は溶剤に不溶となる。露光後に溶剤で未露光部を除去することにより架橋高分子を含む第１の発光層パターン３１が形成される（図２６（ｃ））。この発光層パターン形成工程を、３回繰り返すことにより、３色の発光層３１〜３３が形成される（図２６（ｃ）〜（ｅ））。この際、すでに形成した１色目の発光層３１は架橋高分子であるため、２色目、３色目の形成プロセスで用いる溶剤類に溶解することはない。

【０１０２】
この発光層３３を形成する第１の方法は、３色目の色を発光する性質と、電子及びホールを輸送する性質とを有し、かつ光照射により架橋反応を起こす性質を有する材料を含む発光層材料用材料の溶液（感光性組成物）を塗布して発光層材料塗膜を形成し、必要に応じて塗膜を乾燥したのち、フォトマスクを介して表示エリアのみに光を照射して硬化させ、ついで溶剤で端子部等の未露光部を除去することにより架橋高分子を含む第３の発光層３３を形成する方法である。

【０１０８】
高分子材料を含む溶液を用いて塗布法で電子輸送層６を形成する場合、下地の発光層３３は、上述の第１の方法により成膜することが望ましい。この方法によれば、光照射により架橋反応を起こす性質を有する材料を用いて成膜し、露光させて形成しているため、発光層３３が架橋高分子を含み、溶剤に不要化している。したがって、この表面に電子輸送層６を形成する際に、溶剤に溶解してしまうことがない。

【０１２４】
＜実施例１＞
厚さ０．７ｍｍ、大きさ２５×２５ｍｍのガラス基板１の、表裏一方の面の全体に、厚さ２００ｎｍ、シート抵抗１５WのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜をＥＢ（Electron Beam）蒸着法により形成した。このＩＴＯ膜をエッチング加工して、図３９に示すように、幅１．０ｍｍ、長さ２５ｍｍ、間隔１．０ｍｍの９本のストライプ１９を形成した。

【０１３８】
ポリビニルカルバゾール誘導体は、陽極から注入されたホールを輸送し、オキサジアゾール誘導体は、陰極から注入された電子を輸送し、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンは、注入されたホールと電子とを再結合させ、青色発光させるためのものである。

【０１５９】
なお、感光性組成物膜を露光させる際の光源には、露光照度４５ｎＷ／ｃｍ²の高圧水銀ランプを用い、６０秒間露光させて、全露光量は２７００ｍＪとした。また、現像は、Ｎ−メチルピロリドンに１分間浸漬して非露光部の塗膜を除去した後、アセトンでリンスし、８０℃で３０分間乾燥することにより行った。