JP2002162516A - カラーフィルタ基板の搬送ローラ - Google Patents
カラーフィルタ基板の搬送ローラInfo
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- JP2002162516A JP2002162516A JP2000360826A JP2000360826A JP2002162516A JP 2002162516 A JP2002162516 A JP 2002162516A JP 2000360826 A JP2000360826 A JP 2000360826A JP 2000360826 A JP2000360826 A JP 2000360826A JP 2002162516 A JP2002162516 A JP 2002162516A
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- filter substrate
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】着色画素をガラス基板に形成する際の現像装置
の搬送ローラにおいて、着色フォトレジストの滓の塊が
基板の裏面に固着し、不要なパターンとして形成される
ことのないカラーフィルタ基板の搬送ローラを提供する
こと。 【解決手段】現像部１０と水洗部２０との間のスペース
部６０に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、搬送
ローラ４０のコロ４０ｂの下部を水洗水に浸漬するよう
に水洗水４を満たしたコロ洗浄槽３を具備すること。
の搬送ローラにおいて、着色フォトレジストの滓の塊が
基板の裏面に固着し、不要なパターンとして形成される
ことのないカラーフィルタ基板の搬送ローラを提供する
こと。 【解決手段】現像部１０と水洗部２０との間のスペース
部６０に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、搬送
ローラ４０のコロ４０ｂの下部を水洗水に浸漬するよう
に水洗水４を満たしたコロ洗浄槽３を具備すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタの
製造に関するものであり、特に、カラーフィルタ裏面に
不要なパターンが形成されることのないカラーフィルタ
基板の搬送ローラに関する。
製造に関するものであり、特に、カラーフィルタ裏面に
不要なパターンが形成されることのないカラーフィルタ
基板の搬送ローラに関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は、液晶表示装置などに用いられる
カラーフィルタの一例を示した平面図である。また、図
６は、図５に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における
断面図である。図５、及び図６に示すように、液晶表示
装置などに用いられるカラーフィルタは、ガラス基板
（５０）上にブラックマトリックス（５２）、及び着色
画素（５１）が形成されたものである。
カラーフィルタの一例を示した平面図である。また、図
６は、図５に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における
断面図である。図５、及び図６に示すように、液晶表示
装置などに用いられるカラーフィルタは、ガラス基板
（５０）上にブラックマトリックス（５２）、及び着色
画素（５１）が形成されたものである。
【０００３】ブラックマトリックス（５２）は、遮光性
を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５
１）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有
するものである。ブラックマトリックスは、カラーフィ
ルタの着色画素の位置、大きさを均一なものとし、ま
た、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽
し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラ
ストを向上させた画像にする機能を有している。
を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５
１）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有
するものである。ブラックマトリックスは、カラーフィ
ルタの着色画素の位置、大きさを均一なものとし、ま
た、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽
し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラ
ストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００４】このブラックマトリックス（５２）は、ガ
ラス基板（５０）上に、例えば、クロム（Ｃｒ）、酸化
クロム（ＣｒＯＸ ）などの金属、もしくは金属化合物
の薄膜を成膜し、成膜した薄膜上に、ポジ型のフォトレ
ジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、
次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及び
エッチングレジストパターンの剥膜を行いブラックマト
リックスとして形成されたものである。
ラス基板（５０）上に、例えば、クロム（Ｃｒ）、酸化
クロム（ＣｒＯＸ ）などの金属、もしくは金属化合物
の薄膜を成膜し、成膜した薄膜上に、ポジ型のフォトレ
ジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、
次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及び
エッチングレジストパターンの剥膜を行いブラックマト
リックスとして形成されたものである。
【０００５】また、着色画素（５１）は、ブラックマト
リックスが形成されたガラス基板上に、種々な方法によ
り形成が行われているが、フォトレジストに顔料を分散
させた着色フォトレジストを材料として用い、フォトリ
ソグラフィ法により着色画素を形成する顔料分散法が多
く採用されている。着色フォトレジストを用いた、この
フォトリソグラフィ法による着色画素の形成方法は、先
ず、ガラス基板上に着色フォトレジストの塗布膜を設
け、この塗布膜に着色画素のパターンを露光し、現像、
ベーキングを行って着色画素を形成するといった方法で
ある。
リックスが形成されたガラス基板上に、種々な方法によ
り形成が行われているが、フォトレジストに顔料を分散
させた着色フォトレジストを材料として用い、フォトリ
ソグラフィ法により着色画素を形成する顔料分散法が多
く採用されている。着色フォトレジストを用いた、この
フォトリソグラフィ法による着色画素の形成方法は、先
ず、ガラス基板上に着色フォトレジストの塗布膜を設
け、この塗布膜に着色画素のパターンを露光し、現像、
ベーキングを行って着色画素を形成するといった方法で
ある。
【０００６】図７は、このようなフォトリソグラフィ法
によって着色画素を形成する際に用いる現像装置の一例
の概念を示す断面図である。図７に示すように、この一
例の現像装置は、現像液ノズル（１１）が設けられた現
像部（１０）、スペース部（６０）、水洗水ノズル（２
１）が設けられた水洗部（２０）、水切りエアナイフ
（３１）が設けられた乾燥部（３０）の各処理部と、搬
送ローラ（４０）で構成されている。カラーフィルタ基
板（２）を搬送する搬送ローラ（４０）は、左方の前工
程から右方の後工程へと現像部（１０）とスペース部
（６０）と水洗部（２０）と乾燥部（３０）を貫いて設
けられている。
によって着色画素を形成する際に用いる現像装置の一例
の概念を示す断面図である。図７に示すように、この一
例の現像装置は、現像液ノズル（１１）が設けられた現
像部（１０）、スペース部（６０）、水洗水ノズル（２
１）が設けられた水洗部（２０）、水切りエアナイフ
（３１）が設けられた乾燥部（３０）の各処理部と、搬
送ローラ（４０）で構成されている。カラーフィルタ基
板（２）を搬送する搬送ローラ（４０）は、左方の前工
程から右方の後工程へと現像部（１０）とスペース部
（６０）と水洗部（２０）と乾燥部（３０）を貫いて設
けられている。
【０００７】カラーフィルタ基板（２）は、矢印で示す
ように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４
０）で搬送されながら現像部（１０）において現像液ノ
ズル（１１）からの現像液により現像され、スペース部
（６０）において水洗水による現像液の希釈を避け、水
洗部（２０）において水洗水ノズル（２１）からの水洗
水により水洗され、乾燥部（３０）において水切りエア
ナイフ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラ
ーフィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと
搬送されるようになっている。
ように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４
０）で搬送されながら現像部（１０）において現像液ノ
ズル（１１）からの現像液により現像され、スペース部
（６０）において水洗水による現像液の希釈を避け、水
洗部（２０）において水洗水ノズル（２１）からの水洗
水により水洗され、乾燥部（３０）において水切りエア
ナイフ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラ
ーフィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと
搬送されるようになっている。
【０００８】このような現像装置によるカラーフィルタ
基板の現像処理においては、次のような現象によってカ
ラーフィルタ基板（２）の裏面に不要なパターンが形成
され不良品を発生させることがある。すなわち、現像部
（１０）で現像されるカラーフィルタ基板（２）の裏面
には、微量ではあるが現像・除去された着色フォトレジ
ストの滓が付着し、このカラーフィルタ基板（２）の裏
面に付着した微量の着色フォトレジストの滓は、カラー
フィルタ基板（２）の裏面からカラーフィルタ基板
（２）を搬送している搬送ローラ（４０）の表面に転移
されることになる。この転移はスペース部（６０）にお
いて多く転移される。
基板の現像処理においては、次のような現象によってカ
ラーフィルタ基板（２）の裏面に不要なパターンが形成
され不良品を発生させることがある。すなわち、現像部
（１０）で現像されるカラーフィルタ基板（２）の裏面
には、微量ではあるが現像・除去された着色フォトレジ
ストの滓が付着し、このカラーフィルタ基板（２）の裏
面に付着した微量の着色フォトレジストの滓は、カラー
フィルタ基板（２）の裏面からカラーフィルタ基板
（２）を搬送している搬送ローラ（４０）の表面に転移
されることになる。この転移はスペース部（６０）にお
いて多く転移される。
【０００９】この搬送ローラ（４０）の表面に転移され
た微量の着色フォトレジストの滓は、多数のカラーフィ
ルタ基板（２）を連続して現像処理していると、次第に
搬送ローラ（４０）の表面に堆積し、搬送ローラ（４
０）の表面で着色フォトレジストの滓の塊となる。この
着色フォトレジストの滓の塊は、ある時期に、搬送ロー
ラ（４０）の表面から剥がれ、後続するカラーフィルタ
基板（２）の裏面に転移・付着する。
た微量の着色フォトレジストの滓は、多数のカラーフィ
ルタ基板（２）を連続して現像処理していると、次第に
搬送ローラ（４０）の表面に堆積し、搬送ローラ（４
０）の表面で着色フォトレジストの滓の塊となる。この
着色フォトレジストの滓の塊は、ある時期に、搬送ロー
ラ（４０）の表面から剥がれ、後続するカラーフィルタ
基板（２）の裏面に転移・付着する。
【００１０】この後続するカラーフィルタ基板（２）の
裏面に転移・付着した着色フォトレジストの滓の塊は、
水洗部（２０）において、洗浄・除去されずに現像装置
から搬出されると、後工程にあるベーキング処理におい
て硬化され、カラーフィルタ基板（２）の裏面に固着し
てしまうことになる。このようにして、カラーフィルタ
基板（２）の裏面に固着した着色フォトレジストの滓
は、カラーフィルタとしては、不要なパターンが裏面に
形成されていることになり、このカラーフィルタ基板
（２）は不良品となる。
裏面に転移・付着した着色フォトレジストの滓の塊は、
水洗部（２０）において、洗浄・除去されずに現像装置
から搬出されると、後工程にあるベーキング処理におい
て硬化され、カラーフィルタ基板（２）の裏面に固着し
てしまうことになる。このようにして、カラーフィルタ
基板（２）の裏面に固着した着色フォトレジストの滓
は、カラーフィルタとしては、不要なパターンが裏面に
形成されていることになり、このカラーフィルタ基板
（２）は不良品となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題を解決するためになされたものであり、フォトリ
ソグラフィ法によって着色画素をガラス基板に形成する
際に用いる、上記のような現像装置の搬送ローラにおい
て、多数のカラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処
理を行っても、着色フォトレジストの滓が最後には着色
フォトレジストの滓の塊となってカラーフィルタ基板の
裏面に固着し、不要なパターンとして形成されることの
ないカラーフィルタ基板の搬送ローラを提供することを
課題とするものである。
な問題を解決するためになされたものであり、フォトリ
ソグラフィ法によって着色画素をガラス基板に形成する
際に用いる、上記のような現像装置の搬送ローラにおい
て、多数のカラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処
理を行っても、着色フォトレジストの滓が最後には着色
フォトレジストの滓の塊となってカラーフィルタ基板の
裏面に固着し、不要なパターンとして形成されることの
ないカラーフィルタ基板の搬送ローラを提供することを
課題とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、カラーフィル
タ基板用現像装置の現像部と水洗部との間のスペース部
に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、該搬送ロー
ラが、搬送ローラのコロの下部を水洗水に浸漬するよう
に水洗水を満たしたコロ洗浄槽を具備することを特徴と
するカラーフィルタ基板の搬送ローラである。
タ基板用現像装置の現像部と水洗部との間のスペース部
に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、該搬送ロー
ラが、搬送ローラのコロの下部を水洗水に浸漬するよう
に水洗水を満たしたコロ洗浄槽を具備することを特徴と
するカラーフィルタ基板の搬送ローラである。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。図１は、本発明によるカラーフィルタ基板
の搬送ローラを取り付けた現像装置の一例の概念を示す
断面図である。図１に示すように、この現像装置は、現
像液ノズル（１１）が設けられた現像部（１０）、本発
明による搬送ローラ（４０Ａ）が位置するスペース部
（６０）、水洗水ノズル（２１）が設けられた水洗部
（２０）、水切りエアナイフ（３１）が設けられた乾燥
部（３０）の各処理部と、搬送ローラで構成されてい
る。
に説明する。図１は、本発明によるカラーフィルタ基板
の搬送ローラを取り付けた現像装置の一例の概念を示す
断面図である。図１に示すように、この現像装置は、現
像液ノズル（１１）が設けられた現像部（１０）、本発
明による搬送ローラ（４０Ａ）が位置するスペース部
（６０）、水洗水ノズル（２１）が設けられた水洗部
（２０）、水切りエアナイフ（３１）が設けられた乾燥
部（３０）の各処理部と、搬送ローラで構成されてい
る。
【００１４】カラーフィルタ基板（２）を搬送する搬送
ローラは、左方の前工程から右方の後工程へと現像部
（１０）とスペース部（６０）と水洗部（２０）と乾燥
部（３０）を貫いて設けられているが、本発明によるカ
ラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）と従来法にお
ける搬送ローラと同様の搬送ローラ（４０）とで構成さ
れている。この本発明によるカラーフィルタ基板の搬送
ローラ（４０Ａ）は、現像部（１０）と水洗部（２０）
との間のスペース部に位置している。
ローラは、左方の前工程から右方の後工程へと現像部
（１０）とスペース部（６０）と水洗部（２０）と乾燥
部（３０）を貫いて設けられているが、本発明によるカ
ラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）と従来法にお
ける搬送ローラと同様の搬送ローラ（４０）とで構成さ
れている。この本発明によるカラーフィルタ基板の搬送
ローラ（４０Ａ）は、現像部（１０）と水洗部（２０）
との間のスペース部に位置している。
【００１５】すなわち、この現像装置における搬送ロー
ラは、現像部（１０）での搬送ローラ（４０）と、現像
部（１０）と水洗部（２０）との間の搬送ローラ（４０
Ａ）と、水洗部（２０）及び乾燥部（３０）での搬送ロ
ーラ（４０）とで構成されているものである。
ラは、現像部（１０）での搬送ローラ（４０）と、現像
部（１０）と水洗部（２０）との間の搬送ローラ（４０
Ａ）と、水洗部（２０）及び乾燥部（３０）での搬送ロ
ーラ（４０）とで構成されているものである。
【００１６】カラーフィルタ基板（２）は、矢印で示す
ように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４
０）で搬送されながら現像部（１０）において、現像液
ノズル（１１）からの現像液により現像され、スペース
部（６０）においては、本発明によるカラーフィルタ基
板の搬送ローラ（４０Ａ）により搬送され、水洗部（２
０）において、水洗水ノズル（２１）からの水洗水によ
り水洗され、乾燥部（３０）において、水切りエアナイ
フ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラーフ
ィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと搬送
されるようになっている。
ように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４
０）で搬送されながら現像部（１０）において、現像液
ノズル（１１）からの現像液により現像され、スペース
部（６０）においては、本発明によるカラーフィルタ基
板の搬送ローラ（４０Ａ）により搬送され、水洗部（２
０）において、水洗水ノズル（２１）からの水洗水によ
り水洗され、乾燥部（３０）において、水切りエアナイ
フ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラーフ
ィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと搬送
されるようになっている。
【００１７】図２は、本発明によるカラーフィルタ基板
の搬送ローラの一実施例を示す平面図である。また、図
３は、図２に示す一実施例のＡ−Ａ’線における断面
図、図４は、図２に示す一実施例のＢ−Ｂ’線における
断面図である。図２、図３、及び図４に示すように、本
発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）
は、軸（４０ａ）とコロ（４０ｂ）からなる搬送ローラ
（４０）と、水洗水（４）を満たしたコロ洗浄槽（３）
とで構成されている。搬送ローラ（４０）は、従来法に
おける搬送ローラと同様の搬送ローラである。
の搬送ローラの一実施例を示す平面図である。また、図
３は、図２に示す一実施例のＡ−Ａ’線における断面
図、図４は、図２に示す一実施例のＢ−Ｂ’線における
断面図である。図２、図３、及び図４に示すように、本
発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）
は、軸（４０ａ）とコロ（４０ｂ）からなる搬送ローラ
（４０）と、水洗水（４）を満たしたコロ洗浄槽（３）
とで構成されている。搬送ローラ（４０）は、従来法に
おける搬送ローラと同様の搬送ローラである。
【００１８】搬送ローラ（４０）のコロ（４０ｂ）は、
カラーフィルタ基板（２）の幅方向の両端部の近辺を支
えるように設けられており、駆動装置（図示せず）によ
り搬送ローラ（４０）が回転されて、矢印で示すよう
に、カラーフィルタ基板（２）を現像部（１０）からス
ペース部（６０）、水洗部（２０）へと搬送するように
なっている。搬送ローラ（４０）のコロ（４０ｂ）の下
部は、コロ洗浄槽（３）に満たされた水洗水（４）に常
に浸漬した状態にある。
カラーフィルタ基板（２）の幅方向の両端部の近辺を支
えるように設けられており、駆動装置（図示せず）によ
り搬送ローラ（４０）が回転されて、矢印で示すよう
に、カラーフィルタ基板（２）を現像部（１０）からス
ペース部（６０）、水洗部（２０）へと搬送するように
なっている。搬送ローラ（４０）のコロ（４０ｂ）の下
部は、コロ洗浄槽（３）に満たされた水洗水（４）に常
に浸漬した状態にある。
【００１９】また、コロ洗浄槽（３）に満たされた水洗
水（４）は、点線矢印で示すように、給水口（６）から
供給され、コロ洗浄槽（３）を満たし、コロ洗浄槽
（３）の側壁上端からオーバーフローし、外槽（５）へ
落下し、排水口（７）から外部へ流出するようになって
いる。すなわち、コロ洗浄槽（３）には、常に清浄な水
洗水（４）が満たされた状態にある。
水（４）は、点線矢印で示すように、給水口（６）から
供給され、コロ洗浄槽（３）を満たし、コロ洗浄槽
（３）の側壁上端からオーバーフローし、外槽（５）へ
落下し、排水口（７）から外部へ流出するようになって
いる。すなわち、コロ洗浄槽（３）には、常に清浄な水
洗水（４）が満たされた状態にある。
【００２０】従って、現像部（１０）において、多数の
カラーフィルタ基板を連続して現像処理をしていること
によって、現像部（１０）にある搬送ローラ（４０）の
表面に堆積した着色フォトレジストの滓の塊が、ある時
期に、搬送ローラ（４０）の表面から剥がれ、後続する
カラーフィルタ基板の裏面に転移・付着しても、そのカ
ラーフィルタ基板が本発明によるカラーフィルタ基板の
搬送ローラ（４０Ａ）に到ると、清浄な水洗水（４）が
コロ（４０ｂ）を経てカラーフィルタ基板（２）の裏面
に供給されるので、その着色フォトレジストの滓の塊
は、カラーフィルタ基板（２）の裏面から取り除かれ
る。
カラーフィルタ基板を連続して現像処理をしていること
によって、現像部（１０）にある搬送ローラ（４０）の
表面に堆積した着色フォトレジストの滓の塊が、ある時
期に、搬送ローラ（４０）の表面から剥がれ、後続する
カラーフィルタ基板の裏面に転移・付着しても、そのカ
ラーフィルタ基板が本発明によるカラーフィルタ基板の
搬送ローラ（４０Ａ）に到ると、清浄な水洗水（４）が
コロ（４０ｂ）を経てカラーフィルタ基板（２）の裏面
に供給されるので、その着色フォトレジストの滓の塊
は、カラーフィルタ基板（２）の裏面から取り除かれ
る。
【００２１】
【発明の効果】本発明は、カラーフィルタ基板用現像装
置の現像部と水洗部との間のスペース部に位置する現像
直後の搬送ローラにおいて、該搬送ローラが、搬送ロー
ラのコロの下部を水洗水に浸漬するように水洗水を満た
したコロ洗浄槽を具備するので、フォトリソグラフィ法
によって着色画素をガラス基板に形成する際に、多数の
カラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処理を行って
も、着色フォトレジストの滓の塊がカラーフィルタ基板
の裏面に固着し、不要なパターンとして形成されること
のないカラーフィルタ基板の搬送ローラとなる。
置の現像部と水洗部との間のスペース部に位置する現像
直後の搬送ローラにおいて、該搬送ローラが、搬送ロー
ラのコロの下部を水洗水に浸漬するように水洗水を満た
したコロ洗浄槽を具備するので、フォトリソグラフィ法
によって着色画素をガラス基板に形成する際に、多数の
カラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処理を行って
も、着色フォトレジストの滓の塊がカラーフィルタ基板
の裏面に固着し、不要なパターンとして形成されること
のないカラーフィルタ基板の搬送ローラとなる。
【図１】本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ
を取り付けた現像装置の一例の概念を示す断面図であ
る。
を取り付けた現像装置の一例の概念を示す断面図であ
る。
【図２】本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ
の一実施例を示す平面図である。
の一実施例を示す平面図である。
【図３】図２に示す一実施例のＡ−Ａ’線における断面
図である。
図である。
【図４】図２に示す一実施例のＢ−Ｂ’線における断面
図である。
図である。
【図５】液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタ
の一例を示した平面図である。
の一例を示した平面図である。
【図６】図５に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線におけ
る断面図である。
る断面図である。
【図７】フォトリソグラフィ法によって着色画素を形成
する際に用いる現像装置の一例の概念を示す断面図であ
る。
する際に用いる現像装置の一例の概念を示す断面図であ
る。
【符号の説明】 ２…カラーフィルタ基板 ３…コロ洗浄槽 ４…水洗水 ５…外槽 ６…給水口 ７…排水口 １０…現像部 １１…現像液ノズル ２０…水洗部 ２１…水洗水ノズル ３０…乾燥部 ３１…水切りエアナイフ ４０…搬送ローラ ４０Ａ…本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ ４０ａ…搬送ローラの軸 ４０ｂ…搬送ローラのコロ ５０…ガラス基板 ５１…着色画素 ５２…ブラックマトリックス ６０…スペース部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三井田 淳 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 佐竹 順 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA11 BA43 BA45 BA60 BB42 2H096 AA27 GA22 GA24
Claims (1)
- 【請求項１】カラーフィルタ基板用現像装置の現像部と
水洗部との間のスペース部に位置する現像直後の搬送ロ
ーラにおいて、該搬送ローラが、搬送ローラのコロの下
部を水洗水に浸漬するように水洗水を満たしたコロ洗浄
槽を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板の搬
送ローラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000360826A JP4910232B2 (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | カラーフィルタ基板の搬送機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000360826A JP4910232B2 (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | カラーフィルタ基板の搬送機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002162516A true JP2002162516A (ja) | 2002-06-07 |
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