JP2001230188A - 現像方法 - Google Patents
現像方法Info
- Publication number
- JP2001230188A JP2001230188A JP2000041016A JP2000041016A JP2001230188A JP 2001230188 A JP2001230188 A JP 2001230188A JP 2000041016 A JP2000041016 A JP 2000041016A JP 2000041016 A JP2000041016 A JP 2000041016A JP 2001230188 A JP2001230188 A JP 2001230188A
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- JP
- Japan
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- developing
- substrate
- shower
- development
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】支持体上に感光性樹脂を塗布した後パターン露
光を施した被現像基板を、搬送しながらシャワー状に噴
霧した現像液を吹きつけたのち洗浄する現像方法であっ
て、大型基板においてもシャワー現像により形成パター
ンの均一性の優れたものを作製できる現像方法を提供す
る。 【解決手段】被現像基板をシャワー噴霧口に搬送後、揺
動しながら現像液を吹き付けることを特徴とする。
光を施した被現像基板を、搬送しながらシャワー状に噴
霧した現像液を吹きつけたのち洗浄する現像方法であっ
て、大型基板においてもシャワー現像により形成パター
ンの均一性の優れたものを作製できる現像方法を提供す
る。 【解決手段】被現像基板をシャワー噴霧口に搬送後、揺
動しながら現像液を吹き付けることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用カ
ラーフィルタ基板の着色樹脂層のパターニング等に用い
ることのできる現像方法に関する。
ラーフィルタ基板の着色樹脂層のパターニング等に用い
ることのできる現像方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶カラー表示パネル用カラーフィルタ
は、ガラス基板等の透明支持体上に色相の異なる着色パ
ターンを順次繰り返して形成して製造する。かかるカラ
ーフィルタの製造方法の一つにホトリソグラフィー法が
ある。該方法では、従来、感光性着色組成物を均一に塗
布した後、露光工程にて所定のパターンが形成されたフ
ォトマスクを介して露光し、現像工程において未露光部
分を現像液（アルカリ系希釈液）にて現像エッチング
し、所定のパターンを形成させる。
は、ガラス基板等の透明支持体上に色相の異なる着色パ
ターンを順次繰り返して形成して製造する。かかるカラ
ーフィルタの製造方法の一つにホトリソグラフィー法が
ある。該方法では、従来、感光性着色組成物を均一に塗
布した後、露光工程にて所定のパターンが形成されたフ
ォトマスクを介して露光し、現像工程において未露光部
分を現像液（アルカリ系希釈液）にて現像エッチング
し、所定のパターンを形成させる。
【０００３】感光性着色組成物を塗布した後、フォトマ
スクパターンの露光を施し終えた基板を現像する方法と
して、自動化された流れ作業で行うのが一般的である。
このときエッチング加工工程をもつ装置では、シャワー
現像でエッチング現像を行うのが最も一般的である。図
３はこのシャワー現像で現像する装置を模式的に示した
側面図である。図で、ローラー等を用いたコンベア搬送
によりパスライン８上に被現像基板２を搬送しつつ、シ
ャワー現像槽１内で、被現像基板２の上方に多数設けた
現像液の噴出口１０から被現像基板２表面に現像液を吹
き付けることにより現像を行うものであり、現像速度に
関しては現状で最も速い方法である点で有利である。し
かしながら、基板搬送速度の影響や水洗槽からの水の入
り込みによる現像液濃度の変動等によりパターン形成時
の基板面内均一性、基板間均一性に大きなズレが発生す
る場合が多く、また、現像液の持ち出し量が多い等の問
題点がある。
スクパターンの露光を施し終えた基板を現像する方法と
して、自動化された流れ作業で行うのが一般的である。
このときエッチング加工工程をもつ装置では、シャワー
現像でエッチング現像を行うのが最も一般的である。図
３はこのシャワー現像で現像する装置を模式的に示した
側面図である。図で、ローラー等を用いたコンベア搬送
によりパスライン８上に被現像基板２を搬送しつつ、シ
ャワー現像槽１内で、被現像基板２の上方に多数設けた
現像液の噴出口１０から被現像基板２表面に現像液を吹
き付けることにより現像を行うものであり、現像速度に
関しては現状で最も速い方法である点で有利である。し
かしながら、基板搬送速度の影響や水洗槽からの水の入
り込みによる現像液濃度の変動等によりパターン形成時
の基板面内均一性、基板間均一性に大きなズレが発生す
る場合が多く、また、現像液の持ち出し量が多い等の問
題点がある。
【０００４】均一性を確保する為に、パドル現像方法を
組み合わせる方法が行われている。即ち、シャワー現像
実施前に、パドル現像槽６内で、被現像基板２表面に現
像液をスリット状の開口部９から垂らすことにより、ま
たは霧状に吹き付けることにより、被現像基板２全体に
薄い現像液の膜が均一に張った状態にして現像するパド
ル現像３を行っている。またシャワー現像槽１への基板
の搬入速度（Ａ）を１０ｍ／ｍｉｎ以上の速い速度にて
行い、シャワー現像速度（Ｂ）を低速（１．０ｍ／ｍｉ
ｎ〜５．０ｍ／ｍｉｎ）で行い、基板の搬出速度（Ｃ）
を１０ｍ／ｍｉｎ以上の速い速度にて搬出する。また現
像液濃度の変動を抑える為に、現像槽と水洗槽との間に
バッファ５を設けており、なお且つ現像液持ち出し量を
抑える為に液切りローラー７等を設けている。
組み合わせる方法が行われている。即ち、シャワー現像
実施前に、パドル現像槽６内で、被現像基板２表面に現
像液をスリット状の開口部９から垂らすことにより、ま
たは霧状に吹き付けることにより、被現像基板２全体に
薄い現像液の膜が均一に張った状態にして現像するパド
ル現像３を行っている。またシャワー現像槽１への基板
の搬入速度（Ａ）を１０ｍ／ｍｉｎ以上の速い速度にて
行い、シャワー現像速度（Ｂ）を低速（１．０ｍ／ｍｉ
ｎ〜５．０ｍ／ｍｉｎ）で行い、基板の搬出速度（Ｃ）
を１０ｍ／ｍｉｎ以上の速い速度にて搬出する。また現
像液濃度の変動を抑える為に、現像槽と水洗槽との間に
バッファ５を設けており、なお且つ現像液持ち出し量を
抑える為に液切りローラー７等を設けている。
【０００５】しかしながら、シャワー現像後に液切りロ
ーラー７等により持ち出しを制御する機構があることに
より同一基板内にてシャワー現像前には現像液が絶えず
入れ替わるが（図４）、シャワー現像後にては液切りロ
ーラー７後は現像液が入れ替わらなくなる（図５）。被
現像基板が大型化されるとその時間差が大きくなり、基
板前後においてパターン後の均一性に大きなバラツキが
発生する。
ーラー７等により持ち出しを制御する機構があることに
より同一基板内にてシャワー現像前には現像液が絶えず
入れ替わるが（図４）、シャワー現像後にては液切りロ
ーラー７後は現像液が入れ替わらなくなる（図５）。被
現像基板が大型化されるとその時間差が大きくなり、基
板前後においてパターン後の均一性に大きなバラツキが
発生する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点に鑑みなされたものであって、大型基板においてもシ
ャワー現像により形成パターンの均一性の優れたものを
作製できる現像方法を提供する事を課題とする。
点に鑑みなされたものであって、大型基板においてもシ
ャワー現像により形成パターンの均一性の優れたものを
作製できる現像方法を提供する事を課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するものであり、請求項１の発明は、支持体上に感光
性樹脂を塗布した後パターン露光を施した被現像基板
を、搬送しながらシャワー状に噴霧した現像液を吹きつ
けたのち洗浄する現像方法であって、被現像基板をシャ
ワー噴霧口に搬送後、揺動しながら現像液を吹き付ける
ことを特徴とする現像方法としたものである。
決するものであり、請求項１の発明は、支持体上に感光
性樹脂を塗布した後パターン露光を施した被現像基板
を、搬送しながらシャワー状に噴霧した現像液を吹きつ
けたのち洗浄する現像方法であって、被現像基板をシャ
ワー噴霧口に搬送後、揺動しながら現像液を吹き付ける
ことを特徴とする現像方法としたものである。
【０００８】本発明の請求項２の発明は、請求項１に記
載の現像方法であって、洗浄する時の搬送速度がその前
の搬送速度よりも高速にしたことを特徴とする現像方法
としたものである。
載の現像方法であって、洗浄する時の搬送速度がその前
の搬送速度よりも高速にしたことを特徴とする現像方法
としたものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明は、支持体上に感光性着色
樹脂を塗布した後パターン露光を施した被現像基板を、
シャワー現像槽内で噴霧口に移動して揺動させ現像液を
吹き付け現像するので、基板面を同時に現像でき、基板
面内パターンの均一性を向上させる。さらに本発明は、
洗浄時の搬送速度をあげているので、基板面をほとんど
同時に洗浄でき、より基板面内パターンの均一性を向上
させる。また、パドル現像後被現像基板を噴霧口に移動
してから吹き付けるので、シャワー現像前のパドル現像
ユニットを省略でき省スペース化を行うことが可能であ
る。
樹脂を塗布した後パターン露光を施した被現像基板を、
シャワー現像槽内で噴霧口に移動して揺動させ現像液を
吹き付け現像するので、基板面を同時に現像でき、基板
面内パターンの均一性を向上させる。さらに本発明は、
洗浄時の搬送速度をあげているので、基板面をほとんど
同時に洗浄でき、より基板面内パターンの均一性を向上
させる。また、パドル現像後被現像基板を噴霧口に移動
してから吹き付けるので、シャワー現像前のパドル現像
ユニットを省略でき省スペース化を行うことが可能であ
る。
【００１０】以下本発明の実態の形態を詳細に説明す
る。図１は、本発明に係るシャワー現像による現像装置
の一実施例の概要を示す側面図である。図１に示すよう
に、被現像基板２は、シャワー現像槽１に高速（１０ｍ
ｍ／ｍｉｎ以上）（Ａ‘）にて搬入され、パドル現像の
スリット開口部９により被現像基板表面全体を現像液の
膜が均一に張られる。
る。図１は、本発明に係るシャワー現像による現像装置
の一実施例の概要を示す側面図である。図１に示すよう
に、被現像基板２は、シャワー現像槽１に高速（１０ｍ
ｍ／ｍｉｎ以上）（Ａ‘）にて搬入され、パドル現像の
スリット開口部９により被現像基板表面全体を現像液の
膜が均一に張られる。
【００１１】シャワー現像槽１内に搬入された被現像基
板２は図２に示す様に現像液噴出口１０の下にて停止
し、その後一定の速度にて揺動を開始すると同時に、現
像液噴出口１０より現像液が噴出され現像が開始され
る。
板２は図２に示す様に現像液噴出口１０の下にて停止
し、その後一定の速度にて揺動を開始すると同時に、現
像液噴出口１０より現像液が噴出され現像が開始され
る。
【００１２】前記シャワー現像槽１は独立稼動の駆動源
（サーボモータ、またはパルスモーター、またはスパイ
ラルギア）と、駆動伝達部（ギア、スプロケット、チェ
ーン）等を備える。また現像液の噴出の開始、停止はエ
アーオペレートバルブ等により液の滴下等を抑える構造
となっている。
（サーボモータ、またはパルスモーター、またはスパイ
ラルギア）と、駆動伝達部（ギア、スプロケット、チェ
ーン）等を備える。また現像液の噴出の開始、停止はエ
アーオペレートバルブ等により液の滴下等を抑える構造
となっている。
【００１３】設定された所定の現像時間揺動にて現像を
行う。終了後高速（Ｃ‘）で搬出し、液切りローラー７
にて液切りを行い、水洗槽４に搬出される。水洗槽４に
て搬送しながら洗浄液噴出口１１下で水洗後（高速搬送
後）、現像を終了する。
行う。終了後高速（Ｃ‘）で搬出し、液切りローラー７
にて液切りを行い、水洗槽４に搬出される。水洗槽４に
て搬送しながら洗浄液噴出口１１下で水洗後（高速搬送
後）、現像を終了する。
【００１４】上記現像処理の時間設定等は、制御部によ
って制御され、該制御部は入力部と中央処理制御部（Ｃ
ＰＵ回路；マイクロプロセッサー、シーケンサなど）
と、演算部と記録部、出力部を備えている。
って制御され、該制御部は入力部と中央処理制御部（Ｃ
ＰＵ回路；マイクロプロセッサー、シーケンサなど）
と、演算部と記録部、出力部を備えている。
【００１５】
【実施例】次に、本発明の具体的実施例を以下に詳細に
説明する。 〈実施例１〉支持体としてガラス基板（サイズ：７１０
×１０７０ｍｍ、厚み：１．１ｔｍｍ）を使用し、ガラ
ス基板上にアクリル系樹脂、顔料、光重合性モノマー、
光重合開始剤及び溶剤からなるカラーフィルタ用の感光
性着色組成物を均一に塗膜形成し、フォトマスクを介し
てパターン露光を行い、被現像基板を用意した。図１に
示す本発明による現像方式にて現像テストを行った。こ
のとき、シャワー現像槽への搬送速度を１０ｍ／ｍｉ
ｎ、洗浄時の搬送速度を２０ｍ／ｍｉｎとした。サンプ
ル数は５とした。その結果、現像後のパターン幅を測定
したところ、バラツキ（３σ）：０．７１μmと、均一
なパターンを形成することが出来た。
説明する。 〈実施例１〉支持体としてガラス基板（サイズ：７１０
×１０７０ｍｍ、厚み：１．１ｔｍｍ）を使用し、ガラ
ス基板上にアクリル系樹脂、顔料、光重合性モノマー、
光重合開始剤及び溶剤からなるカラーフィルタ用の感光
性着色組成物を均一に塗膜形成し、フォトマスクを介し
てパターン露光を行い、被現像基板を用意した。図１に
示す本発明による現像方式にて現像テストを行った。こ
のとき、シャワー現像槽への搬送速度を１０ｍ／ｍｉ
ｎ、洗浄時の搬送速度を２０ｍ／ｍｉｎとした。サンプ
ル数は５とした。その結果、現像後のパターン幅を測定
したところ、バラツキ（３σ）：０．７１μmと、均一
なパターンを形成することが出来た。
【００１６】なお同様にして被現像基板を用意し、図３
に示したような従来の現像方法で現像して被現像基板を
用意した。このとき、パドル現像槽への搬送速度を１０
ｍ／ｍｉｎ、シャワー現像槽への搬送速度を１．５ｍ／
ｍｉｎ、洗浄時の搬送速度を１０ｍ／ｍｉｎとした。サ
ンプル数は５とした。その結果、現像後のパターン幅を
測定したところ、バラツキ（３σ）：１．７１μmとな
った。以上の結果を表１に示す。
に示したような従来の現像方法で現像して被現像基板を
用意した。このとき、パドル現像槽への搬送速度を１０
ｍ／ｍｉｎ、シャワー現像槽への搬送速度を１．５ｍ／
ｍｉｎ、洗浄時の搬送速度を１０ｍ／ｍｉｎとした。サ
ンプル数は５とした。その結果、現像後のパターン幅を
測定したところ、バラツキ（３σ）：１．７１μmとな
った。以上の結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】〈実施例２〉本発明による現像方式にて、
被現像基板としてガラス基板（サイズ：７１０×１０７
０ｍｍ、厚み：１．１ｔｍｍ）を使用し現像テストを行
ったところ、現像液の使用量は従来方式と同様に約１．
５リットル／シートであった。
被現像基板としてガラス基板（サイズ：７１０×１０７
０ｍｍ、厚み：１．１ｔｍｍ）を使用し現像テストを行
ったところ、現像液の使用量は従来方式と同様に約１．
５リットル／シートであった。
【００１９】
【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち本発明の現像方法は、大型基
板でも均一なパターン形成が可能な現像方法とすること
ができる。また現像液使用量も現行同等に最小限に抑え
る事が可能となり結果として生産性の高い経済的なカラ
ーフィルタを製造する現像方法とすることができる。ま
た、装置構成も従来よりも１ユニット少なく出来る事に
より省スペース化が可能な現像方法である。
示す如き効果がある。即ち本発明の現像方法は、大型基
板でも均一なパターン形成が可能な現像方法とすること
ができる。また現像液使用量も現行同等に最小限に抑え
る事が可能となり結果として生産性の高い経済的なカラ
ーフィルタを製造する現像方法とすることができる。ま
た、装置構成も従来よりも１ユニット少なく出来る事に
より省スペース化が可能な現像方法である。
【図１】本発明の現像方法の一実施例を示す側面図であ
る。
る。
【図２】本発明の一実施例のシャワー現像槽を示す側面
図である。
図である。
【図３】従来シャワー現像装置を示す側面図である。
【図４】従来シャワー現像装置のシャワー現像の状態を
示す側面図である。
示す側面図である。
【図５】従来シャワー現像装置のシャワー現像の他の状
態を示す側面図である。
態を示す側面図である。
１・・・・シャワー現像槽 ２・・・・被現像基板 ３・・・・パドル現像 ４・・・・水洗槽 ５・・・・バッファ ６・・・・パドル現像槽 ７・・・・液切りローラー ８・・・・パスライン ９・・・・パドル現像開口部 １０・・・・現像液噴出口 １１・・・・洗浄水噴出口 Ａ・・・・高速搬送 Ｂ・・・・低速搬送 Ｃ・・・・高速搬送 Ａ‘・・・高速搬送 Ｂ‘・・・揺動搬送 Ｃ‘・・・高速搬送
Claims (2)
- 【請求項１】支持体上に感光性樹脂を塗布した後パター
ン露光を施した被現像基板を、搬送しながらシャワー状
に噴霧した現像液を吹きつけたのち洗浄する現像方法で
あって、被現像基板をシャワー噴霧口に搬送後、揺動し
ながら現像液を吹き付けることを特徴とする現像方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の現像方法であって、洗浄
する時の搬送速度がその前の搬送速度よりも高速にした
ことを特徴とする現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000041016A JP2001230188A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000041016A JP2001230188A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001230188A true JP2001230188A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18564306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000041016A Pending JP2001230188A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001230188A (ja) |
-
2000
- 2000-02-18 JP JP2000041016A patent/JP2001230188A/ja active Pending
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