JP2010250157A - スリットコータ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布ヘッドの内部へ供給された塗布液を基板に塗布するスリットコータであって、塗布ヘッドの内部へ洗浄液を供給し排出して塗布ヘッドの内部を洗浄し、洗浄した後に塗布ヘッドの内部へクリーンドライエアを供給し排出して塗布ヘッドの内部を乾燥することを特徴とする塗布ヘッドを備えたスリットコータ。
【選択図】図8
Description
基板に塗布されるフォトレジスト液はごくわずかで、95%以上のフォトレジスト液が無駄に浪費されるといった問題があった。
ッド50のノズル先端部52の洗浄する動作の一例を説明する側面図である。
間は、設定可能であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のスリットコータである
面には、洗浄液とクリーンドライエアーを供給及び排出を可能とする孔67aと孔67bを有している。孔67aと孔67bは、塗布ヘッドの内部へ洗浄液を供給する洗浄液供給孔と、洗浄液を排出する洗浄液排出孔と、洗浄液を排出した後、塗布ヘッドの内部へクリーンドライエアを供給して塗布ヘッドの内部を乾燥するクリーンドライエア供給孔と、クリーンドライエアを排出するクリーンドライエア排出孔として使われる。
7aと孔67bからクリーンドライエアの供給とフォトレジストの排出を行うことによって、塗布ヘッド60の内部に残っていたフォトレジストが、効率よく外部に排出される。
び排出時間を予め複数の条件を設定する理由は、フォトレジストの種類が変わったり、ガラス基板のサイズが変わった場合に、例えば、手順1、手順2、手順5、手順6のクリーンドライエアの供給及び排出時間を変えたり、手順3、手順4の洗浄液の量を変えて効率よく塗布ヘッド60の内部を洗浄することを可能とするためである。
2・・・ガラス基板
3・・・ブラックマトリックス(BM)
4a・・・レッドRの着色画素(R画素)
4b・・・グリーンGの着色画素(G画素)
4c・・・ブルーBの着色画素(B画素)
5・・・透明電極
6・・・フォトスペーサー(PS)
7・・・バーテイカルアライメント(VA)
10・・・塗布ヘッド
11・・・ガラス基板
12・・・スリット状ノズル
13a・・・上流側リップ
13b・・・下流側リップ
14・・・マニホールド
15・・・ガラス基板の走行方向を示す矢印
16・・・塗布ヘッドの走行方向を示す矢印
20・・・スリットコータ
21・・・ステージ
22・・・基板
23・・・塗布ヘッド
24・・・フレーム
25・・・吸引バキューム付き定盤
26・・・基板の搬送方向を示す矢印
27・・・基板の搬送方向を示す矢印
28・・・塗布ヘッドの移動方向を示す矢印
30・・・洗浄ユニット
32・・・スリット状ノズル
33a、33b・・・ノズル先端部の外側
34・・・マニホールド
40・・・プレ塗布ユニット
A・・・第一待機位置
D・・・第二待機位置
41・・・噴出ヘッド
41a、41b・・・噴出ノズル口
50・・・塗布ノズル
51a・・・第一洗浄ユニット
51b・・・第二洗浄ユニット
52・・・ノズル先端部
53・・・第一洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
54・・・第二洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
55・・・第一洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
56・・・第二洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
60・・・塗布ヘッド
61・・・フォトレジスト液供給孔
62・・・マニフォールド
63・・・スリット状ノズル
64・・・ノズルの開口部
64a、64b・・・ノズル先端部の外側
65・・・基板の移動方向を示す矢印
66・・・塗布ヘッドの移動方向を示す矢印
67a、67b・・・洗浄液とクリーンドライエアとを供給排出可能な孔
68・・・エア抜き孔
69・・・エア抜き孔
71・・・フォトレジスト液供給バルブ(V7)
72a・・・洗浄液供給バルブ(V1)
72b・・・洗浄液供給バルブ(V2)
73a・・・クリーンドライエア供給バルブ(V3)
73b・・・クリーンドライエア供給バルブ(V4)
74a・・・廃液排出バルブ(V5)
74b・・・廃液排出バルブ(V6)
75・・・エア抜きバルブ(V8)
76・・・エア抜きバルブ(V9)
Claims (6)
- 塗布ヘッドの内部へ供給された塗布液を基板に塗布するスリットコータであって、塗布ヘッドの内部へ洗浄液を供給し排出して塗布ヘッドの内部を洗浄し、洗浄した後に塗布ヘッドの内部へクリーンドライエアを供給し排出して塗布ヘッドの内部を乾燥することを特徴とする塗布ヘッドを備えたスリットコータ。
- 塗布ヘッドの内部へ供給された塗布液を基板に塗布するスリットコータであって、塗布ヘッドの内部へ洗浄液とクリーンドライエアを混合した混合液を供給し、排出して塗布ヘッドの内部を洗浄し、洗浄した後に塗布ヘッドの内部へクリーンドライエアを供給し排出して塗布ヘッドの内部を乾燥することを特徴とする塗布ヘッドを備えたスリットコータ。
- 洗浄液を温調する温調機構を設けたことを特徴とする請求項1または2記載のスリットコータ。
- 塗布ヘッドの長手方向の両端に洗浄液とクリーンドライエアとを供給排出可能な孔を設けたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のスリットコータ。
- 塗布ヘッドの内部を洗浄、乾燥を行うインターバル時間は、設定可能であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のスリットコータ。
- 塗布ヘッドの内部を洗浄、乾燥を行うための洗浄液の量とクリーンドライエアの供給及び排出時間は、予め複数の条件が設定され、複数の条件から選択された条件によって洗浄、乾燥を行うことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のスリットコータ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102641798A (zh) * | 2011-02-21 | 2012-08-22 | 三星Sdi株式会社 | 缝式喷嘴系统 |
JP2013243283A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Sokudo Co Ltd | 現像処理装置 |
US9927760B2 (en) | 2012-05-22 | 2018-03-27 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07132267A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | スリットノズルを持つ塗布ヘッドの洗浄方法 |
JP2003112094A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法および塗布装置 |
JP2004344696A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布ノズルの洗浄装置 |
JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
JP2008110310A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置及びダイヘッド洗浄方法 |
-
2009
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07132267A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | スリットノズルを持つ塗布ヘッドの洗浄方法 |
JP2003112094A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法および塗布装置 |
JP2004344696A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布ノズルの洗浄装置 |
JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
JP2008110310A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置及びダイヘッド洗浄方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102641798A (zh) * | 2011-02-21 | 2012-08-22 | 三星Sdi株式会社 | 缝式喷嘴系统 |
KR101264507B1 (ko) | 2011-02-21 | 2013-05-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 슬롯 노즐 시스템 |
CN102641798B (zh) * | 2011-02-21 | 2016-05-11 | 三星Sdi株式会社 | 缝式喷嘴系统 |
JP2013243283A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Sokudo Co Ltd | 現像処理装置 |
US9927760B2 (en) | 2012-05-22 | 2018-03-27 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
US10960426B2 (en) | 2012-05-22 | 2021-03-30 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
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