JP2009047768A - 液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法 - Google Patents

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晴支 野中
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Abstract

【課題】液晶カラーフィルターの画素のピッチが短くなってくると、画素に直接着色剤を塗布するのは困難になってくる。微小な塗布を可能にするにはインクジェット方式が好適であるが、カラーフィルターの場合は顔料インクを使うため、微小で安定な液滴になるための溶剤の選択が限られていた。また画素ピッチが液滴径より小さくなった場合には着色剤を塗布することができなかった。
【解決手段】インクジェットからはマスキング用の樹脂を、着色剤を塗らない画素に塗布する。そして、着色剤を塗布する画素だけを露出させ、全面塗布する。塗布後に不要な部分をリフトオフで抜くことで、カラーフィルターに着色剤を塗布する。
【選択図】図1

Description

本発明は、露光工程が不要で、フォトマスクを使うことなく、安価で高い生産性を有する液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法に関するものである。1画素内の膜厚ばらつきが小さく、画素ピッチが狭くなっても露光工程が不要で安価にカラーフィルターを製造できるものである。
液晶表示素子用のカラーフィルターは、基板上に形成されたブラックマトリックスによって仕切られた各凹部(以下「画素」という。)に着色剤を充填して形成される。液晶の動作によってスイッチングされたバックライトの光は、このカラーフィルターの着色された画素を通過することで所望の色の光となる。
すなわち、カラーフィルターでの着色剤の塗布は、出来上がる液晶パネルの色むらに直接影響を及ぼす。
また、カラーフィルターの画素は、液晶パネルの発光の単位となる。つまり、カラーフィルターの画素は、液晶パネルの精細度を決める要因となる。従って、昨今の高画質化時代においては、カラーフィルターの画素の大きさは微小になる傾向である。しかし、この微小な画素に、隣接する画素に着色剤が混ざるという混色や、画素に着色剤が充填できないという色抜けといった不具合なく、均一に着色剤を塗布するのは容易でない。
このように困難な条件の塗布を実現するために、液晶表示素子用のカラーフィルターへの着色剤の塗布に、インクジェットを用いる技術が紹介されていた(特許文献1参照)。
近年ではさらに、それらの技術を推し進めた発明が開示されている。特許文献2では、ブラックマトリックスの画素の凸部分にインクが付着しにくく、また凹部内でインクの広がりをよくして、色抜けを生じにくくする効果を得るために、凹部に親インク性を、凸部に撥インク性を付与する発明が開示されている。
また、特許文献3には、同様に混色や色抜けを防止するために、ブラックマトリックスの画素の凹部の内壁面を開口側から見て逆テーパー形状にし、なお且つ凸部の上面に撥インク性を付与する技術が開示されている。
特開昭59−75205号公報 特開平9−203803号公報 特開2002−62422号公報
インクジェットは、微小な液滴でインクを飛ばすことができるので、微小部分の塗布に利用できそうであった。しかし、インクを小さな液滴にして飛ばすには、装置だけでなく、インクの特性も関係する。つまり、小さな液滴にしやすい特性をインク自身が有する必要がある。
しかし、カラーフィルターの着色剤は顔料分散液を用いるため、使用できる溶剤の種類が限られる。そのためインク自身に小さな液滴にしやすい特性を十分に与えられず、インクジェットのノズルが詰まってしまうといった課題があった。
また、小さな液滴にするために、着色剤を多く含むインクにすることが困難であり、インクジェットで形成した画素が厚くなり、表面平坦性が悪化する課題があった。
また、インクジェットが作る液滴はカラーフィルターの1つの画素に比べ小さくする必要があるが、液滴を小さくすると吐出方向が不安定になり、液滴が目的の位置以外に着弾する課題があった。
また、液滴を4pl(ピコリットル)と大きくすると液滴の着弾精度が上がるが、より一層画素が小さくなった場合に、液滴が着弾したときに、画素からはみ出し、混色するという課題もあった。
本発明は上記課題を解決するために想到されたもので、マスク用樹脂(アルカリ可溶性樹脂)をインクジェットで着色しない画素部分に塗布し、マスクを形成する。その後に着色剤を全面塗布し、マスク部分を除去することでリフトオフ加工を行う。
本発明ではインクジェットを用いて塗布するのは樹脂溶液であるため幅広い種類の溶剤を用いることができ、インクジェットのノズル詰まりを解消することができる。また、所望の着色剤はマスキングされたカラーフィルターに全面塗布されるため、画素の一部の箇所で色むらが発生するということがない。
また、塗布しない部分にインクジェット方式の塗布でマスキングの樹脂を塗布するので、画素の方が液滴より小さくなっても、インクジェットの塗布で色むらは発生しない。全面塗布された着色樹脂は、着色予定部分以外の部分ではマスキングされた樹脂の上に塗布されリフトオフで除去される。従って、従来着色樹脂に必要とされた感光性やアルカリ可溶性といった特性が不要となる。
これは、使用できる着色樹脂や溶剤の選択幅が広がることで、カラーフィルターの透過率やコントラストの向上に寄与し、さらに従来よにも着色剤を多く含むペーストとすることが可能で、表面平坦性の良好なカラーフィルターとすることができる。また、紫外線露光工程がなく、フォトマスクも必要としないので、カラーフィルターのコストダウンになる。
本発明は、ブラックマトリックスで仕切られた画素に着色剤を塗布する際に、インクジェット方式によって、マスキングのための樹脂を塗布し、その後ブラックマトリックス全体に着色剤を全面塗布し、リフトオフによって不要な部分の着色剤を除去するカラーフィルターの製造方法である。
図1に本発明のカラーフィルターの製造方法(1)と従来方法(2)を比較した図を示す。カラーフィルターは赤、青、緑の三色を有するが、図1には1色を形成する工程を示した。つまり、カラーフィルターが完成するには図1の工程を各色分繰り返す必要がある。
従来法(2)を簡単に説明する。工程P91では、基板10にはブラックマトリックス15が形成されている。ブラックマトリックス15には孔16があり、基板10と共に凹部を形成する。この凹部が画素になる。以後画素16という。これら基板とブラックマトリックスは洗浄される。
工程P92に移って、特定の色の着色剤50を塗布する。これは例えば、赤、青、緑から選ばれた1色である。工程P92での着色剤の塗布はブラックマトリックスへの全面塗布であり、ダイ塗布法などの方法を利用できる。塗布後軽く焼成(セミキュア)する場合もある。工程P93でレジスト51を塗布する。これも全面塗布でよい。ポジレジストを塗布した後は、ポジレジストを硬化させるためにプリベークを行う。
工程P94ではマスク露光を行う。マスク露光は、ブラックマトリックス15の画素16の部分にだけ着色剤50を残すための処理である。所定の画素16が残るようにセットしたマスク55を通して、エネルギーの高い光56で露光を行う。つまりマスク55で光56がさえぎられた部分以外は光を受ける。露光された部分はアルカリ溶液に溶解するように変性する。
工程P95では、露光した状態の基板をアルカリ溶液で現像する。露光された部分がアルカリ溶液に溶解し、露光されなかった部分57が残る。この部分には着色剤の部分58とポジレジストの残部59がある。
工程P96では、ポジレジストの残部59を剥離する。これは剥離溶液などにつけて除去する。最後に工程P97で焼成(本キュア)し、1色目が完成する。これを赤、青、緑について繰り返す。
インクジェット方式でこの着色剤の塗布を行うということは、工程P91から直接工程P96を行うことである。従って間の工程P92からP95が不要になる。しかし、画素の幅60にちょうどインクを塗布しなければならないので、画素幅が小さくなると容易ではない。さらに、インクジェットで実現できる液滴より画素幅60が小さくなると、インクジェットでの塗布は不可能となる。本発明はその問題に対応している。
次に本発明の製造工程を説明する。図1(1)で、工程P1は従来例と同じようにブラックマトリックスを基板に形成したものを洗浄する。工程P2では、インクジェットを用いてマスクとなる樹脂20を、着色剤を塗布しない画素に塗布する。この樹脂20を硬化させるために、プリベークを行ってもよい。プリベークは60〜200℃で1〜60分加熱することが好ましい。
そして、工程P3で着色剤25を塗布し、着色剤を硬化させるためにプリベークを行う。プリベークは60〜200℃で1〜60分加熱することが好ましい。カラーフィルターでは、通常画素は3色が並んで配置されるので、工程P2ではマスク用樹脂を2画素分を一度に塗布すればよい。工程P3の着色剤25の塗布は、全面塗布でよい。このようにすることで、インクジェットの作る液滴より小さな画素に着色剤25を塗布することができる。
工程P4は、従来法では露光の工程である。露光工程はフォトマスクを介してエネルギーの高い光である紫外線を照射してカラーフィルターパターンを形成させる。フォトマスクは紫外線吸収の少ない石英を母材として使用されることが多く、また、カラーフィルターパターンごとに準備する必要があり、カラーフィルターコスト上昇の要因となっている。本発明の製造工程では露光する工程は不要となり、フォトマスクも不要となるので、カラーフィルターのコストダウンになる。
次に工程P5に移り、アルカリ溶剤でマスク用の樹脂20を剥離させる。樹脂20の上に塗布されていた着色剤はマスク用の樹脂と共に除去される。これがリフトオフ工法である。リフトオフをより確実に行うためにマスク用樹脂上に塗布された着色剤の部分26にレーザーで孔を開けたり、着色剤25を残しておきたい画素の境界線27をレーザーで切っておいてもよい。この工程P5を終えた時点で、着色剤25の画素16への塗布は終了する。
また、この工程からわかるように本発明の製造方法では、着色剤25はアルカリ溶液に溶ける必要はない。
工程P6は、従来法では、レジスト剥離の工程であるが、本発明の方法では、この工程は不要となる。
最後に工程P7で、着色剤25を本キュアする。なお、本製造方法では、従来法と比較して塗膜を溶解する薬品に暴露する機会が少ない。従って、着色剤25の組成によっては、1色毎の工程で本キュアをする必要はなく、3色の塗布が終了してから本キュアを行っても構わない。以上のように本発明の製造方法では、従来法と比較して工程が2つ省略できる。
次に工程P2乃至工程P5をさらに詳細に説明する。図2は1色目の塗布の様子を示す図である。図2(a1)カラーフィルターの隣り合う3色の画素16乃至18を示す。ここでは画素は3色を示したが、この画素の左右には同じ3色の並びが続いている。図2(a2)は、図2(a1)の断面を示す。カラーフィルターは基板10の上にブラックマトリックス15が形成された構成である。ここで、画素の幅14はインクジェットの液滴より小さくても画素形成が可能である。画素幅が50μmの場合は、インクジェットによるマスク用樹脂20は約100μm幅に塗布すればよい。
本発明では着色画素幅の約2倍の幅でマスク用樹脂を塗布するので、30μm以上の画素幅に適応することが可能である。従来法のインクジェット方式では、50μm以下の画素に直接均一に着色剤を塗布できない。隣接する画素にも着色剤が入ったり、画素内で着色剤膜厚が不均一になる課題があるからである。
インクジェットによるマスク用樹脂20は、液滴として画素17および18に塗布される。ノズルから発射された液滴は、画素17と18の間に着弾し、一定の広がりをもって塗布される。
マスク用樹脂は剥離され、カラーフィルターの着色には寄与しないので、画素17と画素18に形成されたマスク用樹脂の膜厚が不均一な部分があったとしても、画素16に形成される着色画素には影響しない。
図2(b1)はマスク用樹脂20がある程度硬化したのち、着色剤25を塗布した状態を示す。この着色剤25の塗布は、塗布したくない部分をマスキングしてあるので、カラーフィルター全面に一斉に塗布してよい。全面塗布の利点は、カラーフィルターの全面に渡って均一に着色剤を塗れるという点にある。
図2(b2)は図2(b1)の断面図を示す。マスク用樹脂20は着色剤25を硬化させた後、除去される。除去はアルカリ溶剤などによって行う。そのためアルカリ溶剤がマスク用樹脂20に浸透する必要がある。そこで、着色剤25の表面に孔26を形成しておくのがよい。孔26の形成方法は特に限定されるものではないが、着色剤25が硬化した後にレーザー加工などで、着色剤25に貫通孔26を形成するといった方法が利用できる。
また、ブラックマトリックス15の凸部27にある着色剤をレーザーなどで切断しておいてもよい。マスク用樹脂20とその上の着色剤が除去される際、着色剤を塗布した画素の着色剤まで一緒に剥がれてしまうのを回避するためである。これはいわゆる色抜けとなる。
なお、ブラックマトリックスの凸部に残る着色剤は、カラーフィルターの表面粗さを低下する原因となる。しかし、液晶パネルに組み立てる際に、カラーフィルターに施される平滑層がこの表面粗さの低下を吸収してくれる。従って、ブラックマトリックスの凸部に残る着色剤は完全に除去できなくてもよい。
図2(c1)はマスク用樹脂20を除去した後の画素の状態を示す。画素17、18上の着色剤はリフトオフされ除去されている。この結果、インクジェット方式で作れるインクの液滴よりも小さい画素をインクジェット方式の塗布方法を用いて、着色することができる。画素は全面塗布によって着色剤を形成しているので、インクジェット法式を用いても画素内は均一とすることができる。
図3(a)は、次の着色剤を塗布する場合を示している。今度は画素16と17にマスク用樹脂20をインクジェットで塗布する。図2と同じように2色目の着色剤35を全面塗布する(図3(b))。マスク樹脂を塗布した部分をリフトオフで抜くと、図3(c)のようになる。これをキュアすることで、図3(d)のように2画素分の着色剤の塗布が完成する。画素16を塗布する場合は画素16と画素18にマスク用樹脂を塗布するのであるが、画素16の左には画素18と同じものがあり、やはりマスク用樹脂は2画素分の幅で塗布すればよい。
図4に本発明のカラーフィルターの製造方法に用いるインクジェット塗布装置を例示する。インクジェット塗布装置は、図1の工程P2で用いる。また、ヘッド部分にインクジェット装置と共に孔を空けるためのレーザーを設けた場合は、図1の工程P3でも利用できる。インクジェット塗布装置100は、インクジェット装置120、ステージ130、ステージを駆動するステップモータ138、139で構成される。
ステージ130にはカラーフィルター9が保持される。カラーフィルターは基板10とブラックマトリックス15で構成されているのはすでに説明した通りである。インクジェット装置120からはマスク用の樹脂20が、カラーフィルター9に発射される。
図4では、インクジェット装置120とステージ130を相対的に移動させてカラーフィルター9にマスク用樹脂を塗布するが、相対的な移動がx方向136とy方向137の両方を移動するステップアンドリピート方式と、移動がx方向136またはy方向137のどちらか一方であり、連続的に塗布する1次元スキャン方式があり、どちらも好ましく用いることができる。
図4はステップアンドリピート方式の構成図である。x方向136への移動はステップモータ138によって行い、y方向137への移動はステップモータ139によって行なう。
ステップアンドリピート方式は、x方向136とy方向137のどちら方向にもインクジェット塗布することができ、複雑なパターンや曲線形状の露光も可能である。特に液晶パネルの縦方向で画素の位置をずらせながら配置している場合はステップアンドリピート方式を用いるのが好適である。
一方、1次元スキャン方式では、カラーフィルター9x方向136若しくはy方向137のいずれか一方の方向だけに移動させる。そのためカラーフィルター9の移動速度を速くすることができる。
なお、インクジェット装置143は、複数設けてもよい。また、インクジェット装置はダイノズルとしてマスク用塗布をダイ工法で塗布してもよい。また、インクジェット装置には、図2で示した貫通孔26を空けるためのレーザーを搭載していてもよい。本発明に使用されるレーザー光源(12や14)は、GaNなどの半導体レーザー、Nd:YAGなどの固体レーザー、He−NeやArイオンなどのガスレーザー、ArFやXeFなどエキシマレーザー、色素レーザーなどの公知のレーザーを使用することができる。
本発明で用いることのできるマスク用樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂を利用することができるが、これに限定されるものではない。具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の材料が好ましく用いられる。
マスク用の樹脂の例として、アクリル系樹脂について述べる。使用できるアクリル系ポリマーとしては、特に限定はないが、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物の共重合体を好ましく用いることができる。不飽和カルボン酸の例としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、あるいは酸無水物などがあげられる。
これらは単独で用いても良いが、他の共重合可能なエチレン性不飽和化合物と組み合わせて用いても良い。共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、具体的には、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、メタクリル酸nープロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸イソ−ブチル、メタクリル酸イソ−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸n−ペンチル、メタクリル酸n−ペンチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル、スチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物、アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、1,3−ブタジエン、イソプレンなどの脂肪族共役ジエン、それぞれ末端にアクリロイル基、あるいはメタクリロイル基を有するポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリシリコーンなどのマクロモノマーなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。
本発明に用いるマスク用樹脂の溶媒としては、有機溶剤系のほか、水系溶媒も用いることができる。例えばN―メチル―2―ピロリドン、N,N―ジメチルアセトアミド、N,N―ジメチルホルムアミドなどのアミド系極性溶媒、β―プロピオラクトン、γ―ブチロラクトン、γ―バレロラクトン、δ―バレロラクトン、γ―カプロラクトン、ε―カプロラクトンなどのラクトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールあるいはプロピレングリコール誘導体、あるいは、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸エチル、メチル―3―メトキシプロピオネート、3―メチル―3―メトキシブチルアセテートなどの脂肪族エステル類、あるいは、エタノール、3―メチル―3―メトキシブタノールなどの脂肪族アルコール類、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類を用いることも可能である。また、2種類以上の溶媒の混合溶媒を、適宜組み合わせて使用することもできる。
本発明の着色剤を含むカラーペースト用において、樹脂材料としては、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の材料が好ましく用いられる。ここで、ポリイミド系樹脂としては、特に限定されるものではないが、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸を、加熱又は適当な触媒によってイミド化したものが好適に用いられる。ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させることにより得ることができる。
また、アクリル系樹脂としては、本キュア工程で熱硬化をさせるために、アクリル系ポリマーにアクリル系多官能モノマーあるいはオリゴマーなどを添加してもよい。
着色剤を含むペーストは、樹脂成分と、少なくとも顔料を含む着色剤とは、通常、重量比で1:9〜100:1、好ましくは2:8〜50:1の範囲で混合して用いられる。樹脂成分の量が少なすぎると、着色被膜の基板との接着性が不良となり、逆に顔料の量が少なすぎると着色度が問題となる。また、該ペーストにおいては、塗工性、乾燥性などの観点から、樹脂成分と顔料をあわせた固形分濃度は、2〜30%、好ましくは3〜25%、さらに好ましくは4〜20%の範囲で使用する。
本発明のカラーフィルター基板は、少なくとも赤、緑、青の3色の色画素から構成され、使用される着色材料は、有機顔料、無機顔料、染料問わず着色剤全般を使用することができる。代表的な顔料の例として、ピグメントレッド(PR−)、2、3、22、38、149,166、168、177,206、207、209、224、242,254、ピグメントオレンジ(PO−)5、13、17、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、ピグメントイエロー(PY−)12、13、14、17、20、24、83、86、93、94、109、110、117、125、137、138、139、147、148、150,153、154、166、173、185、ピグメントブルー(PB−)15(15:1、15:2、15:3、15:4、15:6)、21、22、60、64、ピグメントバイオレット(PV−)19、23、29、32、33、36、37、38、40、50、ピグメントグリーン(PG−)7、36、などが挙げられる。本発明ではこれらに限定されずに種々の顔料を使用することができる。
マスク用樹脂を形成した後に画素を形成するための着色剤塗布方法としては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤバーコーティング法などが好適に用いられる。塗布後、オーブンやホットプレートを用いてプリベークを行う。プリベーク条件は、使用する樹脂、溶媒、樹脂塗布量により異なるが、通常60〜200℃で1〜60分加熱することが好ましい。
マスク用樹脂をリフトオフするためのアルカリ現像液は、有機アルカリ現像液と無機アルカリ現像液のどちらも用いることができる。無機アルカリ現像液では炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの水溶液などが好適に用いられる。有機アルカリ現像液ではテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、メタノールアミンなどのアミン系水溶液が好適に用いられる。現像液には現像の均一性を上げるために界面活性剤を添加することが好ましい。アルカリ現像液濃度は0.01〜10%の範囲が好ましい。
アルカリ現像はディップ現像、シャワー現像、パドル現像などの方法が可能である。現像液濃度、温度、流量、現像液シャワー噴射圧力、現像後の水洗温度、流量および水洗水シャワー噴射圧力条件を適宜選択することで、マスク用樹脂を溶解させて、基板上に着色剤画素のパターン加工することが可能である。基板上のマスク用樹脂層残渣を除去するために、現像液または水洗水を高圧で噴射することも好ましく、噴出圧力は0.01MPa〜20MPaが好ましい。
現像後に加熱乾燥(本キュア)する。本キュア条件は、樹脂の種類や塗布量により若干異なるが、通常150〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的である。
本発明のカラーフィルター基板は、液晶表示装置の駆動方法、表示方式にも限定されず、アクティブマトリクス方式、パッシブマトリクス方式、TNモード、VAモード、STNモード、ECBモード、OCBモードなど種々の液晶表示装置に適用される。また、液晶表示装置の構成、例えば偏光板の数、散乱体の位置等にも限定されずに使用することができる。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
(実施例1)
A.アルカリ可溶性樹脂の作製
アクリル共重合体溶液(ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーP、ACA−250)をシクロペンタノンで希釈して、15wt%溶液のアルカリ可溶性樹脂(A−1)を得た。
B.カラーペーストの作製
ピグメントグリーンPG36、7.75gとピグメントイエローPY138、2.25gを3−メチル−3−メトキシブタノール50gとともに仕込み、ホモジナイザーを用い、7000rpmで5時間分散後、ガラスビーズを濾過し、除去した。ポリメタクリル酸の共重合体溶液(ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーP、ACA−230AA、分子量16,000、酸化35)93.0g、シクロペンタノン107gを加えた樹脂溶液(固形分濃度20重量%)75.0gを加え、緑ペースト(G−1)を得た。同様にして、表1に示す顔料割合で赤ペースト(R−1)、青ペースト(B−1)を得た。
Figure 2009047768
C.カラーフィルターの作成
1色の画素ピッチが48μmのブラックマトリクスがパターン加工されたガラス基板上に、青画素、緑画素が形成される連続した2画素分の96μm幅にアルカリ可溶性樹脂(A−1)をインクジェット塗布により塗布し、90℃のオーブンで10分間乾燥した(工程P2)。
赤ペースト(R−1)をスピンナーで1.5μmになるように塗布し90℃のオーブンで10分乾燥した(工程P3)。テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.2%の水溶液からなる25℃の現像液に浸漬し、アルカリ可溶性樹脂(A−1)のエッチングを行い、リフトオフにより赤画素形成部以外の着色膜を除去した(工程P5)。さらに着色塗膜を240℃のオーブンで30分熱処理し、赤着色層を形成した(工程P7)。
次に赤画素、緑画素が形成される連続した2画素分の96μm幅にアルカリ可溶性樹脂(A−1)をインクジェット塗布により塗布し、90℃のオーブンで10分間乾燥した。
感光性樹脂を含む青ペースト(B−1)をスピンナーで1.5μmになるように塗布し90℃のオーブンで10分乾燥した。テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.2%の水溶液からなる25℃の現像液に浸漬し、アルカリ可溶性樹脂(A−1)のエッチングを行い、リフトオフにより青画素形成部以外の着色膜を除去した。さらに着色塗膜を240℃のオーブンで30分熱処理し、青着色層を形成した。
次に赤画素、青画素が形成された連続した2画素分の96μm幅にアルカリ可溶性樹脂(A−1)をインクジェット塗布により塗布し、90℃のオーブンで10分間乾燥した。
感光性樹脂を含む緑ペースト(G−1)をスピンナーで1.5μmになるように塗布し90℃のオーブンで10分乾燥した。テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.2%の水溶液からなる25℃の現像液に浸漬し、アルカリ可溶性樹脂(A−1)のエッチングを行い、リフトオフにより緑画素形成部以外の着色膜を除去した。さらに着色塗膜を240℃のオーブンで30分熱処理し、緑着色層を形成した。
得られたカラーフィルターは1画素内部での膜厚ムラが±10%以下であり、1画素内の均一性に優れるものであった。
本発明のカラーフィルターの製造方法の工程を示す図である。 本発明のカラーフィルターの製造工程を詳細に説明する図である。 本発明のカラーフィルターの製造工程を詳細に説明する図である。 インクジェット方式によるマスク用樹脂を塗布する装置を示す図である。
符号の説明
9 カラーフィルター
10 基板
15 ブラックマトリックス
16 ダイクロイックミラー
120 インクジェット装置
130 ステージ
138 ステッピングモータ
139 ステッピングモータ

Claims (5)

  1. 基板上に形成されたブラックマトリックスによって仕切られた画素形成領域にマスク用樹脂を塗布するマスク形成工程と、
    前記マスク用樹脂を塗布した面に着色剤を塗布する塗布工程と、
    前記マスク用樹脂を除去するリフトオフ工程を有する液晶表示用カラーフィルターの製造方法。
  2. 前記マスク形成工程は、前記ブラックマトリックスによって仕切られた複数画素に渡って前記マスク用樹脂を塗布する請求項1記載の液晶表示用カラーフィルターの製造方法。
  3. 前記マスク形成工程は、前記マスク用樹脂を、インクジェット方式で塗布する請求項1に記載の液晶表示用カラーフィルターの製造方法。
  4. 前記マスク形成工程は、前記マスク用樹脂を、スリット状のノズルから連続的に塗布する請求項1に記載の液晶表示用カラーフィルターの製造方法。
  5. 前記塗布工程で塗布した前記着色剤に孔を形成する工程をさらに有する請求項1記載の液晶表示用カラーフィルターの製造方法。


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