JP2003043242A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JP2003043242A JP2003043242A JP2001232190A JP2001232190A JP2003043242A JP 2003043242 A JP2003043242 A JP 2003043242A JP 2001232190 A JP2001232190 A JP 2001232190A JP 2001232190 A JP2001232190 A JP 2001232190A JP 2003043242 A JP2003043242 A JP 2003043242A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラーフィルターの保護膜の密着性と平坦性
向上を図ることができるカラーフィルターの製造方法を
提供すること。 【構成】 透明基板１上の一部にブラックマトリックス
パターン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その上
層に保護層６を設けるカラーフィルターの製造方法にお
いて、ブラックマトリックス２及び３色配列パターン部
を遮光し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面
処理を施した後、保護層６を形成する。
向上を図ることができるカラーフィルターの製造方法を
提供すること。 【構成】 透明基板１上の一部にブラックマトリックス
パターン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その上
層に保護層６を設けるカラーフィルターの製造方法にお
いて、ブラックマトリックス２及び３色配列パターン部
を遮光し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面
処理を施した後、保護層６を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
の製造に関する。
の製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い液晶デ
ィスプレー、特にカラー液晶ディスプレーの需要が増加
する傾向にあり、更なる普及のためにはコスト比率の高
いカラーフィルターのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い液晶デ
ィスプレー、特にカラー液晶ディスプレーの需要が増加
する傾向にあり、更なる普及のためにはコスト比率の高
いカラーフィルターのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】樹脂ＢＭ形成基板で
は、ポストベークを行った後、ガラス面に対する揮発成
分の汚染があり、水に対する接触角が４０°以上とな
り、受容層又は保護層の塗布膜性能が劣化する。又、受
容層形成、カラーフィルター形成後に保護層を塗布する
場合も同様に接触角が高いため、保護層の塗布膜性能が
劣化する。
は、ポストベークを行った後、ガラス面に対する揮発成
分の汚染があり、水に対する接触角が４０°以上とな
り、受容層又は保護層の塗布膜性能が劣化する。又、受
容層形成、カラーフィルター形成後に保護層を塗布する
場合も同様に接触角が高いため、保護層の塗布膜性能が
劣化する。
【０００４】上記問題を解決するために、ＵＶ／Ｏ3 処
理を行って接触角を低下させ、濡れ性を向上する場合、
色度変化があり、製品として成り立たない。特に、染料
タイプのインクを使用する場合には影響が大きい。
理を行って接触角を低下させ、濡れ性を向上する場合、
色度変化があり、製品として成り立たない。特に、染料
タイプのインクを使用する場合には影響が大きい。
【０００５】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、カラーフィルターの保護膜の
密着性と平坦性向上を図ることができるカラーフィルタ
ーの製造方法を提供することにある。
で、その目的とする処は、カラーフィルターの保護膜の
密着性と平坦性向上を図ることができるカラーフィルタ
ーの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、透明基板上の一部にブラックマトリック
スパターン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その
上層に保護層を設けるカラーフィルターの製造方法にお
いて、ブラックマトリックス及び３色配列パターン部を
遮光し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面処
理を施した後、保護層を形成することを特徴とする。
め、本発明は、透明基板上の一部にブラックマトリック
スパターン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その
上層に保護層を設けるカラーフィルターの製造方法にお
いて、ブラックマトリックス及び３色配列パターン部を
遮光し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面処
理を施した後、保護層を形成することを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【０００８】＜実施の形態１＞図１は本発明に係るカラ
ーフィルターの製造方法の一例を示す工程図であり、図
１（ａ）、１は透明基板であり、その上面にはブラック
マトリクス２が形成されている。このブラックマトリク
ス２には開口部２ａが多数配列して形成され、これによ
り透明基板１に光透過部７が設けられている。
ーフィルターの製造方法の一例を示す工程図であり、図
１（ａ）、１は透明基板であり、その上面にはブラック
マトリクス２が形成されている。このブラックマトリク
ス２には開口部２ａが多数配列して形成され、これによ
り透明基板１に光透過部７が設けられている。
【０００９】ここで、透明基板２としては一般にガラス
が用いられるが、液晶用カラーフィルターとしての透明
性、強度等の必要特性を有するものであればプラスチッ
ク等でも良く、ガラス基板に限定されるものではない。
が用いられるが、液晶用カラーフィルターとしての透明
性、強度等の必要特性を有するものであればプラスチッ
ク等でも良く、ガラス基板に限定されるものではない。
【００１０】先ず、図１（ｂ）に示すように、ブラック
マトリックス２が形成された基板１上に、光照射又は光
照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下す
る樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行っ
て樹脂層３を形成する。尚、本実施の形態においては、
光照射によって樹脂組成物を硬化させる場合を示すが、
樹脂組成物として光照射と熱処理とによって硬化するも
のを用いても良い。
マトリックス２が形成された基板１上に、光照射又は光
照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下す
る樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行っ
て樹脂層３を形成する。尚、本実施の形態においては、
光照射によって樹脂組成物を硬化させる場合を示すが、
樹脂組成物として光照射と熱処理とによって硬化するも
のを用いても良い。
【００１１】上記樹脂層３を構成する材料としては、Ｎ
−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアク
リルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
イソプロポキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロール
メタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−エトキシメチルメタクリルアミド等の単量体を
含むアクリル系重合体と、ジフェニルヨードニウム塩、
トリフェニルスルフォニウム塩等のオニウム塩や、ハロ
ゲン化トリアジン化合物等の光開始剤との組み合わせが
特に好ましい。又、ポリビニルアルコール、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の水酸基を有する化合物にメチロ
ール化メラミン、メチロール化プロピレンン尿素等の架
橋剤と前記光開始剤を混合させた系であっても良い。
又、組成物中には、増感剤としてペリレン、アントラセ
ン等の化合物を加えても良い。
−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアク
リルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
イソプロポキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロール
メタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−エトキシメチルメタクリルアミド等の単量体を
含むアクリル系重合体と、ジフェニルヨードニウム塩、
トリフェニルスルフォニウム塩等のオニウム塩や、ハロ
ゲン化トリアジン化合物等の光開始剤との組み合わせが
特に好ましい。又、ポリビニルアルコール、ヒドロキシ
プロピルセルロース等の水酸基を有する化合物にメチロ
ール化メラミン、メチロール化プロピレンン尿素等の架
橋剤と前記光開始剤を混合させた系であっても良い。
又、組成物中には、増感剤としてペリレン、アントラセ
ン等の化合物を加えても良い。
【００１２】樹脂層３の塗布は、スピンコート、ロール
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコート
等の方法を用いることができるが、これらに限られるも
のではない。
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコート
等の方法を用いることができるが、これらに限られるも
のではない。
【００１３】次いで、図１（ｃ１）に示すように、ブラ
ックマトリックス２により遮光される樹脂層３の部分を
第１マスク４１を用いてパターン露光し、樹脂層３の露
光部分を硬化させることにより、インク吸収性を低下さ
せた第１露光部８１を形成し、この第１露光部８１によ
り区分された画素形成部２０を形成する。
ックマトリックス２により遮光される樹脂層３の部分を
第１マスク４１を用いてパターン露光し、樹脂層３の露
光部分を硬化させることにより、インク吸収性を低下さ
せた第１露光部８１を形成し、この第１露光部８１によ
り区分された画素形成部２０を形成する。
【００１４】次いで、図１（ｄ）に示すように、上記の
ようにして製造したカラーフィルター用基板１００にイ
ンクジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色インク
を付与し、画素形成部２０の着色を行い、必要に応じて
インクの乾燥を行う。第１露光部８１は混色防止壁とし
て作用し、非着色部を形成する。又、未露光部及び第
２，３露光部８２，８３は着色部を形成する。
ようにして製造したカラーフィルター用基板１００にイ
ンクジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色インク
を付与し、画素形成部２０の着色を行い、必要に応じて
インクの乾燥を行う。第１露光部８１は混色防止壁とし
て作用し、非着色部を形成する。又、未露光部及び第
２，３露光部８２，８３は着色部を形成する。
【００１５】ここで、前記のように第２，３露光部８
２，８３は画素形成部２０に付与されたインクを画素形
成部２０の中心部から画素形成部２０の周縁部側（混色
防止壁側）に向かって押し出し、着色されて形成される
画素内の白抜けを防止し、画素の色濃度を均一にする機
能を発揮する。樹脂層の露光部は、樹脂層のインク吸収
性が低下しているため、未露光部に比べて露光量に応じ
た撥インク性を示し、露光部に付着したインク滴は、よ
り高いインク吸収性を保持している露光部又は未露光部
に引き寄せられる。その結果、画素形成部２０以外の部
分に付着したインクは画素内に引き寄せられ、画像形成
部２０内に付着したインクは画像形成部２０の境界部に
インクが付与されなくても画素形成部２０内でインクを
画像形成部２０の中心部から画素形成部２０の境界部に
向かって押し広げることにより図２（ａ）、（ｂ）にそ
れぞれ示すように、インク付与量が必要最小限に近い場
合、及びインク付与位置が画素形成部中央部から許容量
以上はずれている場合においても、インクは画素形成部
２０中央部から画素形成部２０の周縁部に向かって自然
に引き寄せられ、結果として画素形成部２０の境界部ま
でインクが広がり、画素形成部２０内の白抜けを確実に
防ぐ。
２，８３は画素形成部２０に付与されたインクを画素形
成部２０の中心部から画素形成部２０の周縁部側（混色
防止壁側）に向かって押し出し、着色されて形成される
画素内の白抜けを防止し、画素の色濃度を均一にする機
能を発揮する。樹脂層の露光部は、樹脂層のインク吸収
性が低下しているため、未露光部に比べて露光量に応じ
た撥インク性を示し、露光部に付着したインク滴は、よ
り高いインク吸収性を保持している露光部又は未露光部
に引き寄せられる。その結果、画素形成部２０以外の部
分に付着したインクは画素内に引き寄せられ、画像形成
部２０内に付着したインクは画像形成部２０の境界部に
インクが付与されなくても画素形成部２０内でインクを
画像形成部２０の中心部から画素形成部２０の境界部に
向かって押し広げることにより図２（ａ）、（ｂ）にそ
れぞれ示すように、インク付与量が必要最小限に近い場
合、及びインク付与位置が画素形成部中央部から許容量
以上はずれている場合においても、インクは画素形成部
２０中央部から画素形成部２０の周縁部に向かって自然
に引き寄せられ、結果として画素形成部２０の境界部ま
でインクが広がり、画素形成部２０内の白抜けを確実に
防ぐ。
【００１６】次いで、図１（ｅ）に示すように着色した
基板に光照射又は光照射と熱処理を施し、更に必要によ
り図１（ｆ）に示すように保護層６を形成し、カラーフ
ィルター用基板を完成する。
基板に光照射又は光照射と熱処理を施し、更に必要によ
り図１（ｆ）に示すように保護層６を形成し、カラーフ
ィルター用基板を完成する。
【００１７】その後、保護層形成前のＵＶ／Ｏ3 処理を
行う。本処理において、着色済みの基板の着色エリアと
ＵＶ光源の間に遮光のために厚さ０．５ｍｍのＳＵＳ３
０３製平板を設け、着色部にＵＶ光が照射されないよう
にした。又、ＵＶ光源としてウシオ電機株式会社製ＵＥ
Ｒ４６５３０８−１７２エキシマ光源を用いた。基板を
光源下部に設置し、突き上げピンにより基板を光源窓に
１．５ｍｍまで近づける。そして、１５ｓｅｃ．点灯後
消灯し、カラーフィルター周辺部の表面改質を行った。
このようにして得られた基板は、周辺部の水に対する接
触角が３９°（未照射部６９°）であった。
行う。本処理において、着色済みの基板の着色エリアと
ＵＶ光源の間に遮光のために厚さ０．５ｍｍのＳＵＳ３
０３製平板を設け、着色部にＵＶ光が照射されないよう
にした。又、ＵＶ光源としてウシオ電機株式会社製ＵＥ
Ｒ４６５３０８−１７２エキシマ光源を用いた。基板を
光源下部に設置し、突き上げピンにより基板を光源窓に
１．５ｍｍまで近づける。そして、１５ｓｅｃ．点灯後
消灯し、カラーフィルター周辺部の表面改質を行った。
このようにして得られた基板は、周辺部の水に対する接
触角が３９°（未照射部６９°）であった。
【００１８】ここで、ＵＶ光源はエキシマに限定される
ものではなく、従来から使用されている低圧水源燈であ
っても良い。又、生産方式もインライン方式に限るもの
ではなく、枚葉処理可能なコーターバス方式でも良い。
ものではなく、従来から使用されている低圧水源燈であ
っても良い。又、生産方式もインライン方式に限るもの
ではなく、枚葉処理可能なコーターバス方式でも良い。
【００１９】＜実施の形態２＞次に、本発明の実施の形
態２について説明する。
態２について説明する。
【００２０】本実施の形態では、ガラス基板を２％水酸
化ナトリウム水溶液を用いてアルカリ超音波洗浄し、次
いでＵＶオゾン処理した後、ガラス基板上に、カーボン
ブラックを含有したレジスト材（新日鉄化学社製ブラッ
クマトリックス用ネガ型レジストインキＶ−２５９ Ｂ
Ｋ７３９Ｐ）を、スピンコーターで膜厚１μｍになるよ
う塗布した。この基板をホットプレートで８０℃で１８
０秒加熱し、レジストを仮硬化させた。
化ナトリウム水溶液を用いてアルカリ超音波洗浄し、次
いでＵＶオゾン処理した後、ガラス基板上に、カーボン
ブラックを含有したレジスト材（新日鉄化学社製ブラッ
クマトリックス用ネガ型レジストインキＶ−２５９ Ｂ
Ｋ７３９Ｐ）を、スピンコーターで膜厚１μｍになるよ
う塗布した。この基板をホットプレートで８０℃で１８
０秒加熱し、レジストを仮硬化させた。
【００２１】ＤＥＥＰ−ＵＶ露光装置を使用し、所定の
パターンマスクを用いてプロキミティ露光し、続いて無
機アルカリ水溶液の現像液でスピン現像器を用いて現像
し、更に純水でリンス処理し、現像液を完全に除去し、
クリーンオーブン中で２００℃で３０分間加熱し、本硬
化処理を行って所定パターン形状のブラックマトリック
スを得た。
パターンマスクを用いてプロキミティ露光し、続いて無
機アルカリ水溶液の現像液でスピン現像器を用いて現像
し、更に純水でリンス処理し、現像液を完全に除去し、
クリーンオーブン中で２００℃で３０分間加熱し、本硬
化処理を行って所定パターン形状のブラックマトリック
スを得た。
【００２２】この状態で、ブラックマトリックス表面の
水に対する接触角を測定したところ、７５°と濡れにく
い状態となっていた。又、ブラックマトリックスの間隙
のガラス表面の水に対する接触角は６８°であり、撥水
性が大きく、ブラックマトリックス表面との撥水性の差
も小さかった。
水に対する接触角を測定したところ、７５°と濡れにく
い状態となっていた。又、ブラックマトリックスの間隙
のガラス表面の水に対する接触角は６８°であり、撥水
性が大きく、ブラックマトリックス表面との撥水性の差
も小さかった。
【００２３】この基板をアルカリ系界面活性剤（ヘンケ
ル白水社製 精密ガラス・レンズ洗浄用超音波併用型洗
浄剤 Ｓｉｌｉｒｏｎ ＨＳ）３％の洗浄液で超音波洗
浄機を用いて１０分間洗浄処理した。この状態で、ブラ
ックマトリックス表面の水対する接触角を測定したと
ころ、７０°と余り変化がなく、濡れにくい状態であっ
たが、一方、ガラス表面の水に対する接触角は３０°で
あり、撥水性が著しく減少し、ブラックマトリックス表
面との表面エネルギーの差が大きくなっていた。
ル白水社製 精密ガラス・レンズ洗浄用超音波併用型洗
浄剤 Ｓｉｌｉｒｏｎ ＨＳ）３％の洗浄液で超音波洗
浄機を用いて１０分間洗浄処理した。この状態で、ブラ
ックマトリックス表面の水対する接触角を測定したと
ころ、７０°と余り変化がなく、濡れにくい状態であっ
たが、一方、ガラス表面の水に対する接触角は３０°で
あり、撥水性が著しく減少し、ブラックマトリックス表
面との表面エネルギーの差が大きくなっていた。
【００２４】次に、インクジェット装置を用い、赤、
緑、青それぞれの染料系インクをブラックマトリックス
パターンの間隙に付与して着色した。このインクは、染
料（例えば、アントラキノン染料、アゾ染料、トリフェ
ニルメタン染料、ポリメチル染料等から適宜選ばれる）
を樹脂（アクリル−シリコーングラフトポリマーを主成
分とする自己架橋熱硬化性樹脂）に分散させ、溶剤（例
えば、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン等）で溶かしたものに表面
張力調整剤（アセチレノールＥＨ；商品名、川崎ファイ
ンケミカル）を添加したものであり、表面エネルギーは
３２ｄｙｎｅ／ｃｍである。
緑、青それぞれの染料系インクをブラックマトリックス
パターンの間隙に付与して着色した。このインクは、染
料（例えば、アントラキノン染料、アゾ染料、トリフェ
ニルメタン染料、ポリメチル染料等から適宜選ばれる）
を樹脂（アクリル−シリコーングラフトポリマーを主成
分とする自己架橋熱硬化性樹脂）に分散させ、溶剤（例
えば、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン等）で溶かしたものに表面
張力調整剤（アセチレノールＥＨ；商品名、川崎ファイ
ンケミカル）を添加したものであり、表面エネルギーは
３２ｄｙｎｅ／ｃｍである。
【００２５】インクは、ブラックマトリックスの間隙の
表面を均一に覆い、又、にじみ、はみ出し、隣接画素と
の混色及び白抜け等の欠陥となる不良は見つからなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、イン
ク描画、カラーフィルター形成部を遮光し、その周辺部
（ガラス面）のみをＵＶ光照射する。尚、ＵＶ光源がエ
キシマ光の場合、方法は実施の形態１と同じである。但
し、照射後の周辺部の水に対する接触角は５°、未照射
部６９°であった。
表面を均一に覆い、又、にじみ、はみ出し、隣接画素と
の混色及び白抜け等の欠陥となる不良は見つからなかっ
た。その後、加熱処理してインクを硬化させた後、イン
ク描画、カラーフィルター形成部を遮光し、その周辺部
（ガラス面）のみをＵＶ光照射する。尚、ＵＶ光源がエ
キシマ光の場合、方法は実施の形態１と同じである。但
し、照射後の周辺部の水に対する接触角は５°、未照射
部６９°であった。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、透明基板上の一部にブラックマトリックスパタ
ーン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その上層に
保護層を設けるカラーフィルターの製造方法において、
ブラックマトリックス及び３色配列パターン部を遮光
し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面処理を
施した後、保護層を形成するようにしたため、カラーフ
ィルターの保護膜の密着性と平坦性向上を図ることがで
きるという効果が得られる。
よれば、透明基板上の一部にブラックマトリックスパタ
ーン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その上層に
保護層を設けるカラーフィルターの製造方法において、
ブラックマトリックス及び３色配列パターン部を遮光
し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面処理を
施した後、保護層を形成するようにしたため、カラーフ
ィルターの保護膜の密着性と平坦性向上を図ることがで
きるという効果が得られる。
【図１】カラーフィルターの製造工程の一例を示す模式
的断面図である。
的断面図である。
【図２】画素形成部の作用を説明する模式図である。
１ 透明基板
２ ブラックマトリックス
３ 樹脂層
５ インクジェットヘッド
６ 保護層
２０ 画素形成部
８１ 第１露光部
８２ 第２露光部
８３ 第３露光部
１００ カラーフィルター用基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 岩田 研逸
東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ
ン株式会社内
(72)発明者 小佐野 永人
東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ
ン株式会社内
Ｆターム(参考） 2H025 AB13 AC01 AD01 DA01 EA01
FA39
2H048 BA02 BA11 BA45 BA64 BB01
BB02 BB14 BB15 BB22 BB37
BB44
2H097 CA17 LA17
Claims (3)
- 【請求項１】 透明基板上の一部にブラックマトリック
スパターン及びＲＧＢ又はＣＭＹの３色を配列し、その
上層に保護層を設けるカラーフィルターの製造方法にお
いて、 ブラックマトリックス及び３色配列パターン部を遮光
し、非カラーフィルター形成部のみに紫外線表面処理を
施した後、保護層を形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。 - 【請求項２】 紫外線表面処理に用いる光源がエキシマ
ランプであることを特徴とする請求項１記載のカラーフ
ィルターの製造方法。 - 【請求項３】 保護層形成方法としてスリットを用いる
ことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルターの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001232190A JP2003043242A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001232190A JP2003043242A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043242A true JP2003043242A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19064146
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001232190A Withdrawn JP2003043242A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003043242A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006084911A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
| CN100405163C (zh) * | 2005-04-15 | 2008-07-23 | 比亚迪股份有限公司 | 一种外置式彩色滤光片的液晶显示器面板结构 |
| US10873475B2 (en) | 2012-06-11 | 2020-12-22 | Apple Inc. | Location-based device automation |
-
2001
- 2001-07-31 JP JP2001232190A patent/JP2003043242A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
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