JP2002151827A - Laser-machining device - Google Patents

Laser-machining device

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JP2002151827A
JP2002151827A JP2000345760A JP2000345760A JP2002151827A JP 2002151827 A JP2002151827 A JP 2002151827A JP 2000345760 A JP2000345760 A JP 2000345760A JP 2000345760 A JP2000345760 A JP 2000345760A JP 2002151827 A JP2002151827 A JP 2002151827A
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substrate
unit
laser processing
straight line
positioning
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栄吉 林
Hiroshi Suwahara
寛 諏訪原
Ken Yazaki
建 矢崎
Homare Mori
誉 森
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an inexpensive laser-machining device, realizing space saving. SOLUTION: A substrate-carrying supply section 1, a laser processing machine 3, and a substrate-carrying recovery section 2 are aligned nearly in a straight line fixedly along the direction of an arrow Y. A positioning device 21 can be moved along the direction of an arrow X between the position of the rear (X direction (forward direction)) of the substrate-carrying supply section 1 and a position directly above a supply truck 8. Also, a setting error bucket 18 can be moved along the direction of the arrow X, between the rear (same) position of the substrate-carrying recovery section 2 and a position directly above a recovery truck 9.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、プリント基板
(以下、基板と略称する)に止まり孔などをレーザ加工
するレーザ加工装置に関し、詳細には、基板を位置決め
する基板位置決め部や、位置決め状態が不正常と判定さ
れた基板が配置される未加工基板回収部、を有するレー
ザ加工装置の改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for laser processing a blind hole or the like in a printed circuit board (hereinafter abbreviated as a substrate), and more particularly, to a substrate positioning portion for positioning a substrate and a positioning state. The present invention relates to an improvement in a laser processing apparatus having an unprocessed substrate collection unit in which a substrate determined to be abnormal is disposed.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気配線などに用いられる基板に孔明け
加工を施す場合、従来はドリルマシン等の機械加工装置
を用いていたが、近年、この基板が用いられる装置の小
型化や省電力化、処理高速化等の要請によって、配線の
高密度化が進展した結果、加工すべき孔径が、たとえば
直径0.3mm以下というように非常に微細になり、ド
リルマシン等の機械加工装置による加工は困難になりつ
つある。加えて、回路の多層化によって、高い精度が要
求される止まり穴加工(BVH:ブラインドバイアホー
ル)も増加し、ドリルマシン等に代わって、エッチング
やフォトビア等による加工方法も増加している。
2. Description of the Related Art When drilling a substrate used for electric wiring or the like, a machining device such as a drill machine has conventionally been used. In recent years, a device using this substrate has been reduced in size and power consumption has been reduced. As a result of the demand for higher processing speeds and the like, as the density of wiring progresses, the hole diameter to be processed becomes extremely fine, for example, a diameter of 0.3 mm or less. It's getting harder. In addition, due to the increase in the number of circuit layers, blind hole processing (BVH: blind via hole), which requires high precision, is increasing, and processing methods such as etching and photo via are increasing in place of drill machines.

【0003】しかし、エッチングやフォトビア等の加工
方法は、加工しようとする回路パターン等に応じたマス
クや型が必要であるため、多種少量生産には適さない。
このため、高精度の微細な加工や多種少量生産にも適性
を有するレーザ光を用いたレーザ加工装置が使用される
機会が増加している。
[0003] However, a method of processing such as etching and photo-via requires a mask or a mold corresponding to a circuit pattern or the like to be processed, and is not suitable for large-scale small-quantity production.
For this reason, the chances of using a laser processing apparatus using a laser beam which is suitable for high-precision fine processing and small-lot production of various kinds are increasing.

【0004】ここで、このレーザ加工装置の基本的な構
成について、図6および図7を用いて説明する。なお、
図6はレーザ加工装置の一例の構成を示す正面図、図7
は図6に示したレーザ加工装置の平面図である。
Here, a basic configuration of the laser processing apparatus will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. In addition,
FIG. 6 is a front view showing a configuration of an example of a laser processing apparatus.
7 is a plan view of the laser processing apparatus shown in FIG.

【0005】レーザ加工装置は、加工の対象である基板
16が積載配備される基板積載供給部1、加工後の基板
16が積載配置される基板積載回収部2、基板16をレ
ーザ加工するレーザ加工機(レーザ加工部)3、加工前
の基板16の位置決めを行う位置決めステーション(基
板位置決め部)4、位置決め状態が正常でないためにレ
ーザ加工されることなく回収された基板16が集められ
るセットミスステーション(未加工基板回収部)5、基
板16を各部に搬送する装置(搬送手段)であるローダ
6およびアンローダ7、基板積載供給部1に設けられた
供給台車8、基板積載回収部2に設けられた回収台車
9、ローダ6およびアンローダ7の走行駆動装置14を
案内する案内レール10、ローダ6およびアンローダ7
のフレーム12下部に取り付けられた、基板16を吸着
する吸着パッド11、フレーム12を上昇・下降させる
ガイド付シリンダー13、レーザ加工機3に設けられた
XYテーブル15、セットミスステーション5に設けら
れたセットミスバケット17、位置決めステーション4
の位置決め装置21に設けられた、互いに直交する2辺
XYに基板16の直交する2つの端縁がそれぞれ突き当
てられる基板ストッパ18a,18b、基板16の他の
端縁に当接する位置決めピン19a,19b、位置決め
ピン19a,19bをX方向,Y方向にそれぞれ移動さ
せるロッドレスシリンダ20a,20b、レーザ加工機
3の後方(図6において奥行き方向、図7おいてX方向
(正方向))に設置されたレーザ発振器22、レーザ発
振器22から出射されるレーザビームを伝送する光路2
3、および光路23から伝送されたレーザビームを集光
し基板16に照射する光学系を具備する加工ヘッド24
を備える。
The laser processing apparatus includes a substrate loading / supplying unit 1 on which a substrate 16 to be processed is loaded, a substrate loading / recovering unit 2 on which a processed substrate 16 is loaded, and a laser processing for laser processing the substrate 16. Machine (laser processing unit) 3, positioning station (substrate positioning unit) 4 for positioning substrate 16 before processing, set-mis station for collecting substrates 16 collected without laser processing because positioning state is not normal (Unprocessed substrate collecting unit) 5, loaders 6 and unloaders 7, which are devices (transporting means) for transferring the substrate 16 to each unit, a supply truck 8 provided in the substrate loading and supplying unit 1, and a substrate loading and collecting unit 2. Guide rail 10, which guides the traveling drive device 14 of the recovered cart 9, the loader 6 and the unloader 7, the loader 6 and the unloader 7.
, A suction cylinder 11 for sucking a substrate 16, a cylinder 13 with a guide for raising and lowering the frame 12, an XY table 15 provided in the laser beam machine 3, and a set misstation 5. Set miss bucket 17, positioning station 4
The substrate stoppers 18a and 18b provided on the positioning device 21 with the two orthogonal edges of the substrate 16 abutting on the two sides XY orthogonal to each other, the positioning pins 19a contacting the other edges of the substrate 16, 19b, rodless cylinders 20a and 20b for moving the positioning pins 19a and 19b in the X and Y directions, respectively, and installed behind the laser beam machine 3 (in the depth direction in FIG. 6, in the X direction (positive direction in FIG. 7)). Laser oscillator 22 and optical path 2 for transmitting a laser beam emitted from laser oscillator 22
3, a processing head 24 having an optical system for condensing the laser beam transmitted from the optical path 23 and irradiating the substrate 16 with the laser beam
Is provided.

【0006】なお、各図においては図示していないが、
たとえば、特開平10−328863号(「レーザ加工
装置」)に開示されているように、供給台車8に積載さ
れた多数の基板16の最上面の上下方向の位置を検出
し、常にこの最上面の上下方向の位置が一定となるよう
に、積載基板16全体を上下動させるリフター機構は、
基板積載供給部1の供給台車8に備えられている。これ
は、ガイド付シリンダー13の上下方向のストロークを
一定にして、積載されている基板16のうち最上段に積
載されている基板16の吸着を確実にするためである。
Although not shown in each figure,
For example, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 10-328863 ("laser processing apparatus"), the position of the uppermost surface of a number of substrates 16 loaded on the supply truck 8 in the vertical direction is detected, and this uppermost surface is always detected. The lifter mechanism for vertically moving the entire loading substrate 16 so that the vertical position of the
It is provided on a supply truck 8 of the substrate loading supply unit 1. This is to make the vertical stroke of the guide-cylinder 13 constant so as to ensure the suction of the substrate 16 loaded on the uppermost stage among the loaded substrates 16.

【0007】さらに、供給台車8には、基板16のサイ
ズに応じて移動可能なガイドバー等が装備されている。
これは、基板16の荷崩れを防止するために、積載基板
16を粗位置決めするものである。
Further, the supply carriage 8 is equipped with a guide bar or the like that can move according to the size of the substrate 16.
This is to roughly position the loading substrate 16 in order to prevent the load of the substrate 16 from collapsing.

【0008】つぎに、このレーザ加工装置の動作につい
て説明する。まず、ローダ6のガイド付シリンダ13が
延伸して、ガイド付シリンダ13の一端に固定されたフ
レーム12が下降する。フレーム12が所定行程だけ下
降すると、フレーム12の下部に設けられた吸着パッド
11によるサクションによって、供給台車8に積載され
た基板16のうちの最上段に配置された基板16が、吸
着パッド11に吸着される。
Next, the operation of the laser processing apparatus will be described. First, the guide cylinder 13 of the loader 6 extends, and the frame 12 fixed to one end of the guide cylinder 13 descends. When the frame 12 is lowered by a predetermined stroke, the suction pad 11 provided at the lower portion of the frame 12 causes the suction pad 11 provided at the lower part of the frame 16 to move the substrate 16 arranged on the uppermost stage among the substrates 16 loaded on the supply cart 8 to the suction pad 11. Adsorbed.

【0009】つぎに、ガイド付シリンダ13が収縮して
フレーム12が上昇し、これに伴って吸着パッド11に
吸着された最上段の基板16が、他の基板16から引き
離されて上方に引き上げられる。さらに走行駆動装置1
4がレール10に沿って図示左方向に移動することによ
り、吸着パッド11に吸着された基板16は、位置決め
ステーション4へ搬送される。位置決めステーション4
では、ガイド付シリンダ13の延伸動作によって、吸着
された基板16が位置決め装置21上に降ろされ、吸着
パッド11の吸着解放動作によって基板16は吸着パッ
ド11の拘束から解放される。
Next, the guide-equipped cylinder 13 contracts and the frame 12 rises, whereby the uppermost substrate 16 sucked by the suction pad 11 is separated from the other substrates 16 and lifted upward. . Furthermore, the traveling drive device 1
As the 4 moves along the rail 10 to the left in the figure, the substrate 16 sucked by the suction pad 11 is transported to the positioning station 4. Positioning station 4
Then, the sucked substrate 16 is lowered onto the positioning device 21 by the extension operation of the guide cylinder 13, and the substrate 16 is released from the restraint of the suction pad 11 by the suction release operation of the suction pad 11.

【0010】つぎに、ロッドレスシリンダー20aのX
方向(負方向)への移動動作およびロッドレスシリンダ
ー20bのY方向(負方向)への移動動作により、各ロ
ッドレスシリンダ20a,20bがそれぞれ、位置決め
ピン19aをX方向(負方向)に、位置決めピン19b
をY方向(負方向)に移動させる。さらに、各位置決め
ピン19a,19bは、位置決め装置21上に降ろされ
た基板16の、直交する2つの端縁をそれぞれ移動方向
に押して、この基板16を、位置決めピン19bが押圧
する端縁以外の端縁が基板ストッパ18a,18bにそ
れぞれ当接するまで移動させ、基板16の概略位置決め
を行う。なお、基板16は、厚さ0.3mm〜3.0m
m程度、縦(Y方向)300mm×横(X方向)300
mm〜縦515mm×横650mm程度の大きさが一般
的である。
Next, the X of the rodless cylinder 20a is
By the movement operation in the direction (negative direction) and the movement operation of the rodless cylinder 20b in the Y direction (negative direction), the rodless cylinders 20a and 20b respectively position the positioning pins 19a in the X direction (negative direction). Pin 19b
Is moved in the Y direction (negative direction). Further, each of the positioning pins 19a and 19b pushes two orthogonal edges of the substrate 16 dropped on the positioning device 21 in the moving direction, and pushes the substrate 16 except for the edge pressed by the positioning pins 19b. The substrate 16 is moved until the edges come into contact with the substrate stoppers 18a and 18b, respectively, and the substrate 16 is roughly positioned. The substrate 16 has a thickness of 0.3 mm to 3.0 m.
Approximately m, length (Y direction) 300 mm x width (X direction) 300
A size of about 515 mm × width 650 mm is generally used.

【0011】位置決めステーション4の位置決め装置2
1によって概略位置決めされた基板16は、供給台車8
から位置決めステーション4まで搬送されたのと同様の
作用によって、位置決めステーション4からレーザ加工
機3のXYテーブル15上に搬送される。
The positioning device 2 of the positioning station 4
The substrate 16 roughly positioned by 1
Is transferred from the positioning station 4 to the XY table 15 of the laser beam machine 3 by the same operation as that of the laser processing machine 3.

【0012】ここで、XYテーブル15上に載置された
基板16は、XYテーブル15に形成された多数の微小
サクションホール(図示せず)を通じてXYテーブル1
5下部から吸気することによって、XYテーブル15上
に吸着固定され、または、クランプ等の固着手段によっ
て、XYテーブル15上に固着される(いずれも図示せ
ず)。なお、位置決めステーション4とXYテーブル1
5とは、互いにそのXY位置関係が対応しているため、
位置決めステーション4において位置決めされた基板1
6は、基板ストッパ18a,18bに当接した端縁が、
XYテーブル15上において常に略一定位置に固定され
る。
Here, the substrate 16 placed on the XY table 15 passes through a large number of minute suction holes (not shown) formed in the XY table 15 so that the XY table 1
The air is sucked and fixed on the XY table 15 by sucking air from the lower part of the XY table 15, or is fixed on the XY table 15 by fixing means such as a clamp (both not shown). The positioning station 4 and the XY table 1
5, since their XY positional relationships correspond to each other,
Substrate 1 positioned at positioning station 4
6 has an edge contacting the substrate stoppers 18a and 18b,
It is always fixed at a substantially constant position on the XY table 15.

【0013】XYテーブル15の一定位置に固定された
基板16に対して、レーザ加工機3では、加工ヘッド2
4から出射した集光レーザビームが照射され、上述した
止まり穴加工等の所望とするレーザ加工が施される。レ
ーザ加工が正常に終了した基板16は、ローダ6と同様
の作用をなすアンローダ7により、XYテーブル15上
から基板積載回収部2の回収台車9上に搬送移動され、
この基板16は回収台車9上に積載されて、通常の搬
送、レーザ加工動作が完了する。
A laser processing machine 3 applies a processing head 2 to a substrate 16 fixed at a fixed position on an XY table 15.
The focused laser beam emitted from 4 is irradiated, and desired laser processing such as the above-described blind hole processing is performed. The substrate 16 on which the laser processing has been completed normally is conveyed from the XY table 15 onto the collection carriage 9 of the substrate loading and collecting unit 2 by the unloader 7 having the same operation as the loader 6, and
The substrate 16 is loaded on the collection trolley 9, and the normal transport and laser processing operations are completed.

【0014】ところで、レーザ加工機3では、XYテー
ブル15上に載置された基板16を加工する前に、基板
に予め印刷等によって表されているアライメントマーク
を、ビジョンセンサー等(図示せず)によって読み取
り、加工プログラムの高精度位置補正を実施した後に、
レーザ加工が実行されるが、アライメントマークの印刷
ミスや、傷・ゴミ等の付着のため、このマークを読み取
ることができない場合には、レーザ加工を実施すること
ができない。このような基板16をセットミス品と称
し、セットミス品は加工が行なわれないままレーザ加工
機3から退出されることになるが、このようなセットミ
ス品を、正常に加工されたものと同様に基板積載回収部
2に載置すると、基板積載回収部2に、正常加工品と未
加工品とが混在して積載され、後の判別や仕分けに余計
な手間がかかる。
By the way, in the laser beam machine 3, before processing the substrate 16 mounted on the XY table 15, an alignment mark previously printed on the substrate is printed by a vision sensor or the like (not shown). After reading and performing high-precision position correction of the machining program,
Laser processing is performed. However, if the mark cannot be read due to printing errors of the alignment mark or adhesion of scratches or dust, laser processing cannot be performed. Such a substrate 16 is referred to as a mis-set product, and the mis-set product is withdrawn from the laser processing machine 3 without being processed. Such a mis-set product is regarded as a normally processed product. Similarly, when placed on the substrate stacking and collecting section 2, a normally processed product and an unprocessed article are mixedly stacked on the substrate stacking and collecting section 2, and extra work is required for subsequent discrimination and sorting.

【0015】そこで、レーザ加工機3が、高精度位置決
めができずに加工されなかった基板16を判定して、こ
の判定結果に応じた指令を出力し、セットミス品につい
ては基板積載回収部2に積載せずに、セットミスステー
ション5のセットミスバケット17に載置する動作をす
るように構成されている。なお、セットミスバケット1
7は通常、引出式等で、正常に加工された基板16とは
分別して回収可能に構成されている。
Therefore, the laser processing machine 3 determines the substrate 16 that has not been processed because it cannot be positioned with high accuracy, and outputs a command corresponding to the result of the determination. It is configured to perform the operation of placing the product on the set miss bucket 17 of the set miss station 5 without loading the data on the set miss station 5. In addition, set miss bucket 1
Reference numeral 7 denotes a drawer type or the like, which is configured to be able to be separated from the normally processed substrate 16 and collected.

【0016】また、回収台車9にも、前述した供給台車
8と同様のリフター機構(図示せず)が装備されてお
り、基板16の積載枚数に拘わらず、最上段の基板上面
位置が変化しないように構成されている。
The recovery cart 9 is also provided with a lifter mechanism (not shown) similar to the above-described supply cart 8, so that the uppermost substrate upper surface position does not change regardless of the number of substrates 16 loaded. It is configured as follows.

【0017】以上の操作が連続的に実行されることによ
り、基板の自動搬送、自動加工が行われる。なお、レー
ザ加工装置において、上述した基板位置決め部(位置決
めステーション)を設ける意義について以下に説明す
る。
By continuously performing the above operations, automatic transfer and automatic processing of the substrate are performed. The significance of providing the above-described substrate positioning section (positioning station) in the laser processing apparatus will be described below.

【0018】基板積載供給部1における供給台車8上に
おいて、積載基板16が荷崩れによって、台車8に対す
る基板16の相対的な位置関係がずれる場合があり、こ
れを台車に設けられた位置決めバー等によって精度よく
防止することはできない。また、基板積載供給部1に積
載された基板16をローダ6によって引き上げる際に、
基板間の密着により、引上げ対象の基板よりも下に位置
する基板が引上げ基板とともに動いて位置ずれを起こし
たり、この密着による基板の分離を容易にするために設
けられることがあるバイブレータ等の基板分離手段によ
る振動によって落下した基板が荷崩れを起こす場合があ
る。
On the supply truck 8 in the substrate loading / supplying unit 1, the relative position of the substrate 16 with respect to the truck 8 may be deviated due to the collapse of the loaded substrate 16. This may be caused by positioning bars or the like provided on the truck. Cannot be prevented with high accuracy. When the substrate 16 loaded on the substrate loading / supplying unit 1 is pulled up by the loader 6,
A substrate, such as a vibrator, that is provided to facilitate the separation of the substrate due to the close contact between the substrates, which causes the substrate located below the substrate to be pulled to move together with the pulled substrate and cause the substrate to be separated by the close contact. The dropped substrate may be collapsed by the vibration of the separating means.

【0019】そしてこのように荷崩れした基板16をそ
のままレーザ加工機3のXYテーブル15上へ搬送する
と、XYテーブル15上における基板16の位置関係に
大きなバラツキが生じて、ビジョンセンサの撮像範囲か
ら外れるおそれがある。すなわち、ビジョンカメラの撮
像範囲は通常4〜5mm程度なので、供給台車8におい
て10〜20mm程度も位置ずれした基板16のアライ
メントマークをビジョンカメラで捉えることはできな
い。したがって、この位置ずれを0.5〜2mm程度の
範囲内に押さえるために、位置決め部を設けて位置決め
する必要がある。
When the substrate 16 collapsed in this way is transported as it is onto the XY table 15 of the laser beam machine 3, a large variation occurs in the positional relationship of the substrate 16 on the XY table 15, and the positional relationship between the substrate 16 and the vision sensor becomes large. It may come off. That is, since the imaging range of the vision camera is generally about 4 to 5 mm, the vision camera cannot catch the alignment mark of the substrate 16 that is displaced by about 10 to 20 mm in the supply carriage 8. Therefore, it is necessary to provide a positioning portion for positioning in order to suppress this positional deviation within a range of about 0.5 to 2 mm.

【0020】ただし、供給台車8や位置決め部では、基
板16の端縁を基準にして位置決めを行うため、この基
準となる端縁からアライメントマークの印された位置と
の間に誤差がある場合には、この誤差もビジョンセンサ
による位置合わせにより吸収・補正する必要がある。な
お、ビジョンセンサは、微細な配線パターン等が施され
た基板にレーザ孔明け加工を実施するために、0.01
mm程度の高精度位置補正が要求され、すでにこの精度
で実用化されている。
However, since the supply trolley 8 and the positioning section perform positioning with reference to the edge of the substrate 16, there is an error between the reference edge and the position where the alignment mark is marked. It is necessary to absorb and correct this error by the alignment by the vision sensor. Note that a vision sensor is used to perform laser drilling on a substrate on which a fine wiring pattern or the like is formed.
High-precision position correction of about mm is required, and has already been put to practical use with this accuracy.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のレー
ザ加工装置は上述したように、装置全体の幅方向の長さ
が非常に大きいため、大きな設置スペースを確保する必
要があった。特に、最近では、大量の基板を加工するた
めに、複数台のレーザ加工装置を同時に導入するケース
も増加しており、設置スペースの問題は深刻な状況とな
っている。
As described above, the conventional laser processing apparatus has a very large length in the width direction as a whole, so that a large installation space must be secured. In particular, recently, in order to process a large number of substrates, the number of cases in which a plurality of laser processing apparatuses are simultaneously introduced has been increasing, and the problem of the installation space has become a serious situation.

【0022】また、このレーザ加工装置は、スペースが
限られている高価な空調恒温室等に設置される場合が多
いため、設置台数を増やしたい場合であっても、上述し
たスペース上の問題で所望の台数を導入できない場合も
あり、この点からも、スペース効率の高いレーザ加工装
置が望まれていた。さらに設置スペースの大きな加工装
置は、それだけ多くの材料を必要とするため、高価なも
のとなる等の問題点もある。
In addition, since this laser processing apparatus is often installed in an expensive air-conditioning room with limited space, even if it is desired to increase the number of installed laser processing apparatuses, the above-described space problem causes a problem. In some cases, a desired number of laser processing apparatuses cannot be introduced, and from this point, a laser processing apparatus with high space efficiency has been desired. Further, a processing apparatus having a large installation space requires a large amount of material, and thus has a problem that it is expensive.

【0023】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、省スペースを実現して、安価なものとするレーザ
加工装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a laser processing apparatus which realizes space saving and is inexpensive.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかるレーザ加工装置は、供給される被
加工用の基板が配備される基板供給部、前記配備された
基板を位置決めする基板位置決め部、前記位置決めされ
た基板をレーザ加工するレーザ加工部、前記レーザ加工
部から退出した基板が配置される基板回収部、および前
記基板を前記各部に搬送する搬送手段を備えたレーザ加
工装置において、前記基板供給部、前記レーザ加工部お
よび前記基板回収部が配設された略一直線上から退避し
た位置と該一直線上の位置との間を移動可能に設けられ
た前記基板位置決め部を、前記退避した位置と前記一直
線上の位置との間を移動させる位置決め部移動手段を備
えたことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, a laser processing apparatus according to the present invention comprises a substrate supply section on which a supplied substrate to be processed is provided, and a substrate for positioning the provided substrate. A laser processing apparatus comprising: a positioning unit, a laser processing unit that performs laser processing on the positioned substrate, a substrate collection unit in which a substrate that has exited from the laser processing unit is disposed, and a transport unit that transports the substrate to each unit. The substrate supply unit, the laser processing unit and the substrate recovery unit, the substrate positioning unit provided so as to be movable between a position retracted from a substantially straight line and a position on the straight line, A positioning unit moving means for moving between the retracted position and the position on the straight line is provided.

【0025】この発明のレーザ加工装置によれば、基板
供給部、レーザ加工部および基板回収部は略一直線上に
配設されるが、基板位置決め部は、この基板供給部、レ
ーザ加工部および基板回収部が並ぶ一直線上から退避し
た位置、すなわちこの一直線上から外れた位置に配設さ
れており、基板の位置決めを行うのに必要の場合にの
み、位置決め部移動手段によって、この一直線上の位置
に移動されて動作することになるため、従来のように、
基板供給部、基板位置決め部、レーザ加工部および基板
回収部が常に一直線上に配置されたものではなく、一方
向にのみ長く延びた構成を回避して、装置全体としての
設置スペースをコンパクトにすることができる。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate recovery section are disposed substantially in a straight line, but the substrate positioning section includes the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate collection section. It is disposed at a position retreated from the straight line on which the collecting units are arranged, that is, at a position deviating from the straight line, and only when necessary for positioning the substrate, the position on the straight line is determined by the positioning unit moving means. Since it will be moved to work, as before,
The substrate supply unit, the substrate positioning unit, the laser processing unit, and the substrate collection unit are not always arranged in a straight line, and avoid a configuration that extends only in one direction, thereby reducing the installation space of the entire apparatus. be able to.

【0026】なお基板位置決め部が移動可能とされた
「一直線上の位置」とは、具体的には、基板供給部、レ
ーザ加工部および基板回収部が並ぶ一直線上のうち、基
板供給部から基板回収部までの範囲内の位置をいい、こ
の一直線上から退避した位置とは、具体的には、上記
「一直線上の位置」から、この一直線に直交する方向に
退避した位置をいうものである。
The "position on the straight line" at which the substrate positioning section is movable is, specifically, a straight line on which the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate collection section are arranged. The position within the range up to the collection unit is referred to, and the position retracted from this straight line specifically refers to the position retracted in the direction orthogonal to this straight line from the above-mentioned "position on the straight line". .

【0027】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、基板位置決め部が移動される前記一
直線上の位置は、前記基板供給部と、前記搬送手段が前
記基板供給部から前記基板を上方に引き上げた位置との
間の空間位置であり、前記位置決め部移動手段は、前記
搬送手段が前記基板供給部から前記基板を上方に引き上
げた状態である場合、前記基板位置決め部を、前記一直
線上の位置に移動させることを特徴とするものである。
[0027] In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above invention, the position on the straight line at which the substrate positioning unit is moved is determined by the substrate supply unit and the transfer unit transferring the substrate from the substrate supply unit. The positioning unit moving unit is a space position between the substrate positioning unit and the substrate positioning unit. It is characterized by being moved to a position on a line.

【0028】この発明のレーザ加工装置によれば、基板
の位置決め動作中以外は、基板位置決め部は、退避した
位置に移動されているため、装置全体としての設置スペ
ースをコンパクトにすることができ、基板の位置決め動
作前に搬送手段が基板供給部から基板を上方に引き上げ
たときに、基板位置決め部を位置決め部移動手段によっ
て、この基板を上方に引き上げた位置と基板供給部との
間の空間位置に移動させることによって、そのまま基板
を下方に降ろして、基板の位置決め動作をさせることが
でき、基板の位置決め動作を損なうことがない。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the substrate positioning section is moved to the retracted position except during the operation of positioning the substrate, so that the installation space of the entire apparatus can be made compact. When the transfer means pulls the substrate upward from the substrate supply section before the substrate positioning operation, the space between the position where the substrate is pulled up by the positioning section moving means and the substrate supply section is moved by the positioning section moving means. By moving the substrate, the substrate can be lowered as it is to perform the positioning operation of the substrate, and the positioning operation of the substrate is not spoiled.

【0029】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、レーザ加工部は、前記レーザ加工に
先立って、前記位置決めされた基板の位置決め状態の正
否を判定し、正常と判定された基板のみをレーザ加工
し、前記基板回収部は、前記レーザ加工部から退出した
基板のうちレーザ加工された基板が配置され、前記退出
した基板のうち前記位置決め状態が不正常と判定された
基板(セットミス品)が配置される、前記一直線上から
退避した位置と該一直線上の位置との間を移動可能に設
けられた未加工基板回収部(セットミスバケット)と、
前記未加工基板回収部を、前記退避した位置と前記一直
線上の位置との間を移動させる回収部移動手段とをさら
に備えたことを特徴とするものである。
In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above-mentioned invention, the laser processing section determines whether the positioning state of the positioned substrate is correct or not prior to the laser processing, and determines whether the substrate is determined to be normal. Only the laser processing is performed, and the substrate recovery unit is configured to arrange the laser-processed substrate among the substrates retreated from the laser processing unit, and to perform the substrate (setting) of the retired substrates whose positioning state is determined to be abnormal. An unprocessed substrate collection unit (set miss bucket) movably provided between a position retracted from the straight line and a position on the straight line on which the mistaken product is disposed;
The apparatus further comprises a collection unit moving unit that moves the unprocessed substrate collection unit between the retracted position and the position on the straight line.

【0030】この発明にかかるレーザ加工装置によれ
ば、基板供給部、レーザ加工部および基板回収部は略一
直線上に配設されるが、基板位置決め部と同様に、セッ
トミス品を回収するセットミスバケットについても、こ
の基板供給部、レーザ加工部および基板回収部が並ぶ一
直線上から退避した位置、すなわちこの一直線上から外
れた位置に配設されており、セットミス品を回収するの
に必要の場合にのみ、回収部移動手段によってこの一直
線上の位置に移動されて動作することになるため、従来
のように、基板供給部、基板位置決め部、レーザ加工
部、未加工基板回収部および基板回収部が常に一直線上
に配置されたものではなく、一方向にのみ長く延びた構
成を回避して、装置全体としての設置スペースをコンパ
クトにすることができる。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate recovery section are arranged substantially in a straight line. The mis-bucket is also located at a position retracted from the straight line on which the substrate supply unit, the laser processing unit, and the substrate collection unit are arranged, that is, a position deviated from the straight line, and is necessary for collecting mis-set products. Only in the case of the above, since the operation is performed by being moved to the position on this straight line by the recovery unit moving means, the substrate supply unit, the substrate positioning unit, the laser processing unit, the unprocessed substrate recovery unit, and the substrate The collecting unit is not always arranged in a straight line, but avoids a configuration that extends only in one direction, and the installation space of the entire device can be made compact. .

【0031】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間位置で
あり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正
常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出された
状態である場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上
の位置に移動させることを特徴とするものである。
In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate collecting section, The means moves the unprocessed substrate recovery unit to the position on the straight line when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is in a state of being withdrawn from the laser processing unit. is there.

【0032】この発明のレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため装置全
体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板回収部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the unprocessed substrate recovery section is moved to the retracted position as described above except during the operation of recovering a set error product, so that the installation space of the entire apparatus is reduced. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal before the collecting operation of the unprocessed substrate is in a state of being withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collecting unit is moved by the collecting unit moving means. The unprocessed substrate can be recovered by moving to the position on the straight line (the position above the substrate recovery unit),
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0033】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間位置で
あり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正
常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出された
状態である場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上
の位置に移動させることを特徴とするものである。
In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate supply section, and The means moves the unprocessed substrate recovery unit to the position on the straight line when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is in a state of being withdrawn from the laser processing unit. is there.

【0034】この発明のレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため装置全
体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板供給部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the unprocessed substrate recovery section is moved to the retracted position as described above except during the operation of recovering a set error product, so that the installation space of the entire apparatus is reduced. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal before the collecting operation of the unprocessed substrate is in a state of being withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collecting unit is moved by the collecting unit moving means. The unprocessed substrate can be recovered by moving to the position on the straight line (the position above the substrate supply unit),
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0035】また、回収された未加工基板は、基板供給
部上方に移動された未加工基板回収部に配置されるた
め、基板供給部から基板を供給するのと同様の操作によ
って、未加工基板回収部から未加工基板を再度供給する
ことができ、未加工基板をレーザ加工のために再投入す
るための、未加工基板回収部から基板供給部に未加工基
板を移す作業を省くことができるという効果をも奏す
る。
Since the recovered unprocessed substrate is placed in the unprocessed substrate recovery section moved above the substrate supply section, the unprocessed substrate is processed by the same operation as supplying the substrate from the substrate supply section. The unprocessed substrate can be supplied again from the collection unit, and the operation of transferring the unprocessed substrate from the unprocessed substrate collection unit to the substrate supply unit for re-feeding the unprocessed substrate for laser processing can be omitted. It also has the effect.

【0036】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、供
給される被加工用の基板が配置された基板供給部、供給
された基板の位置決め状態の正否を判定し、正常と判定
された基板のみをレーザ加工するレーザ加工部、前記レ
ーザ加工部から退出した基板のうちレーザ加工された基
板が配置される基板回収部、前記退出した基板のうち前
記位置決め状態が不正常と判定された基板が配置される
未加工基板回収部、および前記基板を前記各部に搬送す
る搬送手段を備えたレーザ加工装置において、前記基板
供給部、前記レーザ加工部および前記基板回収部が配設
された略一直線上から退避した位置と該一直線上の位置
との間を移動可能に設けられ前記未加工基板回収部を、
前記退避した位置と前記一直線上の位置との間を移動さ
せる回収部移動手段を備えたことを特徴とするものであ
る。
A laser processing apparatus according to the next invention is a substrate supply section on which a supplied substrate to be processed is disposed, which determines whether the supplied substrate is in a correct positioning state, and determines only the substrate determined to be normal. A laser processing unit for performing laser processing, a substrate recovery unit in which a laser-processed substrate among the substrates retreated from the laser processing unit is disposed, and a substrate in which the positioning state is determined to be abnormal among the retreated substrates is disposed. A laser processing apparatus provided with an unprocessed substrate collecting section and a transfer means for transferring the substrate to the respective sections, and retreats from a substantially straight line on which the substrate supply section, the laser processing section and the substrate collecting section are disposed. The unprocessed substrate collection unit is provided movably between the position and the position on the straight line,
A recovery unit moving means for moving between the retracted position and the position on the straight line is provided.

【0037】この発明のレーザ加工装置によれば、基板
供給部、レーザ加工部および基板回収部は略一直線上に
配設されるが、未加工基板回収部は、この基板供給部、
レーザ加工部および基板回収部が並ぶ一直線上から退避
した位置、すなわちこの一直線上から外れた位置に配設
されており、未加工基板の回収を行うのに必要の場合に
のみ、回収部移動手段によってこの一直線上の位置に移
動されて動作することになるため、従来のように、基板
供給部、レーザ加工部、未加工基板回収部および基板回
収部が常に一直線上に配置されたものではなく、一方向
にのみ長く延びた構成を回避して、装置全体としての設
置スペースをコンパクトにすることができる。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate recovery section are arranged substantially in a straight line.
The laser processing unit and the substrate recovery unit are disposed at a position retracted from the straight line, that is, a position deviated from the straight line, and only when necessary to collect the unprocessed substrate, the recovery unit moving means. Since the substrate supply unit, the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit, and the substrate collection unit are not always arranged in a straight line as in the related art, By avoiding a configuration extending only in one direction, the installation space of the entire apparatus can be made compact.

【0038】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間位置で
あり、回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位
置に移動させてなるものであることを特徴とするもので
ある。
In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above-mentioned invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate collecting section, and the collecting section moving means Is characterized in that, when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is in a state of being withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved to the position on the straight line. It is assumed that.

【0039】この発明のレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため装置全
体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板回収部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the unprocessed substrate recovery section is moved to the retracted position as described above except during the operation of recovering a set error product, so that the installation space of the entire apparatus is reduced. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal before the collecting operation of the unprocessed substrate is in a state of being withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collecting unit is moved by the collecting unit moving means. The unprocessed substrate can be recovered by moving to the position on the straight line (the position above the substrate recovery unit),
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0040】つぎの発明にかかるレーザ加工装置は、上
記の発明において、未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間位置で
あり、前記回収部移動手段は、位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位
置に移動させてなるものであることを特徴とするもので
ある。
In the laser processing apparatus according to the next invention, in the above invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate supply section, The means moves the unprocessed substrate collection unit to the position on the straight line when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is in a state of withdrawing from the laser processing unit. It is assumed that.

【0041】この発明のレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため装置全
体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
である場合、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板供給部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
According to the laser processing apparatus of the present invention, the unprocessed substrate recovery section is moved to the retracted position as described above except during the operation of recovering a set error product, so that the installation space of the entire apparatus is reduced. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal before the collecting operation of the unprocessed substrate is in a state of being withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collecting unit is moved by the collecting unit moving means. The unprocessed substrate can be recovered by moving to the position on the straight line (the position above the substrate supply unit),
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0042】また、回収された未加工基板は、基板供給
部上方に移動された未加工基板回収部に配置されるた
め、基板供給部から基板を供給するのと同様の操作によ
って、未加工基板回収部から未加工基板を再度供給する
ことができ、未加工基板をレーザ加工のために再投入す
るための、未加工基板回収部から基板供給部に未加工基
板を移す作業を省くことができる、という効果をも奏す
る。
Since the recovered unprocessed substrate is placed in the unprocessed substrate recovery section moved above the substrate supply section, the same operation as supplying the substrate from the substrate supply section is performed. The unprocessed substrate can be supplied again from the collection unit, and the operation of transferring the unprocessed substrate from the unprocessed substrate collection unit to the substrate supply unit for re-feeding the unprocessed substrate for laser processing can be omitted. , Also has the effect of.

【0043】[0043]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
レーザ加工装置の具体的な実施の形態について詳細に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of a laser processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0044】実施の形態1.図1〜3は本発明の実施の
形態1であるレーザ加工装置の概略構成を示す図であ
り、図1は正面図、図2は平面図、図3は側面図をそれ
ぞれ示す。
Embodiment 1 1 to 3 are diagrams showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a front view, FIG. 2 is a plan view, and FIG. 3 is a side view.

【0045】レーザ加工装置は、加工の対象である基板
16が積載配備される基板積載供給部1、加工後の基板
16が積載配置される基板積載回収部2、基板16をレ
ーザ加工するレーザ加工機(レーザ加工部)3、加工前
の基板16の位置決めを行う、移動可能とされた位置決
め装置(基板位置決め部)21、位置決め状態が正常で
ないためにレーザ加工されることなく回収された基板1
6が集められる、移動可能とされたセットミスバケット
(未加工基板回収部)17、基板16を各部に搬送する
装置(搬送手段)であるローダ6およびアンローダ7、
基板積載供給部1に設けられた供給台車8、基板積載回
収部2に設けられた回収台車9、ローダ6およびアンロ
ーダ7の走行駆動装置14を案内する案内レール10、
ローダ6およびアンローダ7のフレーム12下部に取り
付けられた、基板16を吸着する吸着パッド11、フレ
ーム12を上昇・下降させるガイド付シリンダー13、
レーザ加工機3に設けられたXYテーブル15、位置決
め装置21に設けられた、互いに直交する2辺XYに基
板16の直交する2つの端縁がそれぞれ突き当てられる
基板ストッパ18a,18b、基板16の他の端縁に当
接する位置決めピン19a,19b、位置決めピン19
a,19bをX方向,Y方向にそれぞれ移動させるロッ
ドレスシリンダ20a,20b、レーザ加工機3の後方
(図1において奥行き方向、図2においてX方向(正方
向))に設置されたレーザ発振器22、レーザ発振器2
2から出射されるレーザビームを伝送する光路23、光
路23から伝送されたレーザビームを集光し基板16に
照射する光学系を具備する加工ヘッド24、基板積載供
給部1の供給台車8後方(図1において奥行き方向、図
2おいてX方向(正方向))位置と供給台車8の直上位
置(供給台車8とローダ6との間の空間位置)との間で
位置決め装置21を移動させる位置決め装置移動手段2
5a,25b、基板積載回収部2の回収台車9後方(図
1において奥行き方向、図2においてX方向(正方
向))位置と回収台車9の直上位置(回収台車9とアン
ローダ7との間の空間位置)との間でセットミスバケッ
ト17を移動させるセットミスバケット移動手段26
a,26bを備える。
The laser processing apparatus includes a substrate loading / supplying unit 1 on which the substrate 16 to be processed is loaded, a substrate loading / recovering unit 2 on which the processed substrate 16 is loaded, and laser processing for laser processing the substrate 16. (Laser processing unit) 3, movable positioning device (substrate positioning unit) 21 for positioning substrate 16 before processing, substrate 1 recovered without laser processing because positioning state is not normal
A movable set miss bucket (unprocessed substrate collecting unit) 17 for collecting the substrate 6, a loader 6 and an unloader 7, which are devices (transporting means) for transporting the substrate 16 to each unit;
A supply trolley 8 provided in the substrate loading / supplying unit 1, a collection trolley 9 provided in the substrate loading / collecting unit 2, a guide rail 10 for guiding a traveling drive device 14 of the loader 6 and the unloader 7,
A suction pad 11 attached to the lower part of the frame 12 of the loader 6 and the unloader 7 for sucking the substrate 16; a guide cylinder 13 for raising and lowering the frame 12;
The XY table 15 provided on the laser beam machine 3, the substrate stoppers 18 a and 18 b provided on the positioning device 21, where two orthogonal edges of the substrate 16 abut against two mutually orthogonal sides XY, respectively. Positioning pins 19a, 19b, abutting against other edges, positioning pins 19
rodless cylinders 20a and 20b for moving a and 19b in the X and Y directions, respectively, and a laser oscillator 22 installed behind the laser beam machine 3 (in the depth direction in FIG. 1 and in the X direction (positive direction) in FIG. 2). , Laser oscillator 2
2, an optical path 23 for transmitting the laser beam emitted from the optical path 2, a processing head 24 having an optical system for condensing the laser beam transmitted from the optical path 23 and irradiating the substrate 16 with the optical path 23, behind the supply cart 8 of the substrate loading / supplying unit 1 ( Positioning for moving the positioning device 21 between the position in the depth direction in FIG. 1 and the position in the X direction (positive direction in FIG. 2) and the position directly above the supply truck 8 (the spatial position between the supply truck 8 and the loader 6). Device moving means 2
5a, 25b, the position behind the collection trolley 9 of the substrate loading and collecting unit 2 (in the depth direction in FIG. 1, in the X direction (positive direction) in FIG. 2) and the position directly above the collection trolley 9 (between the collection trolley 9 and the unloader 7). Set miss bucket moving means 26 for moving the set miss bucket 17 to / from the (space position)
a, 26b.

【0046】ここで、基板積載供給部1、レーザ加工機
3および基板積載回収部2は図示するように、矢印Y方
向に沿って固定的に略一直線上に並んで配設されてい
る。一方、位置決め装置21は、図2に示すように、基
板積載供給部1の後方(図1において奥行き方向、図2
においてX方向(正方向))位置と、基板積載供給部1
の供給台車8の直上位置との間を、矢印X方向に沿って
移動可能に構成され、また、セットミスバケット17
は、基板積載回収部2の後方(図1において奥行き方
向、図2おいてX方向(正方向))位置と、基板積載回
収部2の回収台車9の直上位置との間を、矢印X方向に
沿って移動可能に構成されているが、このように、位置
決め装置21およびセットミスバケット17を、動作時
以外は、基板積載供給部1、レーザ加工機3および基板
積載回収部2が並ぶ一直線上から外れた位置(退避位置
(後方位置))に配置した構成を採用していることによ
り、基板積載供給部1、基板位置決め部(基板位置決め
装置21または基板位置決めステーション)、レーザ加
工機3、未加工基板回収部(セットミスバケット17ま
たはセットミスステーション)および基板積載回収部2
が常に一直線上に並べて配置された従来のレーザ加工装
置(たとえば)図6,7参照)に比べて、一方向(矢印
Y方向に沿った方向)に長く延びた構成を回避すること
ができ、省スペース化が図られ、製造コストの低減にも
寄与する。
Here, the substrate loading / supplying section 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / recovering section 2 are fixedly arranged substantially in a straight line along the arrow Y direction as shown in the figure. On the other hand, as shown in FIG. 2, the positioning device 21 is located behind the substrate stacking / supplying unit 1 (in the depth direction in FIG.
In the X direction (positive direction)) and the substrate loading / supplying unit 1
Between the position immediately above the supply truck 8 along the direction of the arrow X.
Is an arrow X direction between a position (in the depth direction in FIG. 1, in the X direction (positive direction) in FIG. 2) of the substrate loading and collecting unit 2 and a position directly above the collection cart 9 of the substrate loading and collecting unit 2. In this manner, the positioning device 21 and the set-mistake bucket 17 can be moved in a straight line except that the substrate loading / supplying unit 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / recovering unit 2 are lined up except during operation. By adopting a configuration arranged at a position off the line (retreat position (rearward position)), the substrate loading / supplying unit 1, the substrate positioning unit (the substrate positioning device 21 or the substrate positioning station), the laser processing machine 3, Unprocessed substrate recovery unit (set miss bucket 17 or set miss station) and substrate loading recovery unit 2
Compared to a conventional laser processing apparatus (for example) shown in FIGS. 6 and 7 which is always arranged in a straight line, it is possible to avoid a configuration extending in one direction (the direction along the arrow Y direction). Space saving is achieved, which contributes to reduction of manufacturing cost.

【0047】なお、上記各図においては図示していない
が、供給台車8に積載された多数の基板16の最上面の
上下方向の位置を検出し、常にこの最上面の上下方向の
位置が一定となるように、積載基板16全体を上下動さ
せるリフター機構が、基板積載供給部1の供給台車8に
備えられている。さらに供給台車8には、基板16のサ
イズに応じて移動可能なガイドバー等が装備されてい
る。
Although not shown in each of the above drawings, the upper and lower positions of the uppermost surface of a number of substrates 16 loaded on the supply cart 8 are detected, and the upper and lower positions of the uppermost surface are always constant. A lifter mechanism for vertically moving the entire loading substrate 16 is provided on the supply truck 8 of the substrate loading / supplying unit 1. Further, the supply cart 8 is provided with a guide bar or the like that can move according to the size of the substrate 16.

【0048】つぎに本実施の形態のレーザ加工装置の動
作について説明する。まず位置決め装置21は、初期状
態においては、位置決め装置移動手段25a,25bに
よって供給台車8やローダ6の後方位置に退避してい
る。つぎに、ローダ6のガイド付シリンダ13が延伸し
て、ガイド付シリンダ13の一端に固定されたフレーム
12が下降する。フレーム12が所定行程だけ下降する
と、フレーム12の下部に設けられた吸着パッド11に
よるサクション作用により、供給台車8に積載された基
板16のうちの最上段に配置された基板16が、吸着パ
ッド11により吸着される。
Next, the operation of the laser processing apparatus according to this embodiment will be described. First, in the initial state, the positioning device 21 is retracted to a position behind the supply cart 8 and the loader 6 by the positioning device moving means 25a and 25b. Next, the guide cylinder 13 of the loader 6 extends, and the frame 12 fixed to one end of the guide cylinder 13 descends. When the frame 12 is lowered by a predetermined stroke, the suction pad 11 provided at the lower portion of the frame 12 causes the suction pad 11 provided at the lower part of the frame 12 to move the substrate 16 arranged at the uppermost stage of the substrates 16 loaded on the supply carriage 8 to the suction pad 11. Is adsorbed.

【0049】つぎに、ガイド付シリンダ13が収縮して
フレーム12が上昇し、これに伴って吸着パッド11に
吸着された最上段の基板16が、他の基板16から引き
離されて上方に引き上げられる。ここで、位置決め装置
移動手段25a,25bにより、位置決め装置21が、
供給台車8およびローダ6の後方位置から、前方(図2
においてX方向(負方向))に移動され、供給台車8と
ローダ6との間の空間位置において停止する。
Then, the guide cylinder 13 contracts and the frame 12 rises, whereby the uppermost substrate 16 sucked by the suction pad 11 is separated from the other substrates 16 and pulled upward. . Here, the positioning device 21 is moved by the positioning device moving means 25a and 25b.
From the rear position of the supply cart 8 and the loader 6, the front (see FIG.
Is moved in the X direction (negative direction), and stops at a spatial position between the supply cart 8 and the loader 6.

【0050】その後、ローダ6のガイド付シリンダー1
3は途中位置まで延伸して、吸着された基板16は下降
し、位置決め装置21の上に載置され、吸着パッド11
の吸着解放動作により基板16は吸着パッド11の拘束
から解放される。
Thereafter, the guide-equipped cylinder 1 of the loader 6
3 extends to an intermediate position, the sucked substrate 16 descends, is placed on the positioning device 21, and the suction pad 11
The substrate 16 is released from the restraint of the suction pad 11 by the suction releasing operation.

【0051】つぎに、ロッドレスシリンダー20aのX
方向(負方向)への移動およびロッドレスシリンダー2
0bのY方向(負方向)への移動によって、各ロッドレ
スシリンダ20a,20bがそれぞれ、位置決めピン1
9aをX方向(負方向)に、位置決めピン19bをY方
向(負方向)に移動させる。さらに、各位置決めピン1
9a,19bは、位置決め装置21上に降ろされた基板
16の、直交する2つの端縁をそれぞれ移動方向に押し
て、この基板16を、位置決めピン19bが押圧する端
縁以外の端縁が基板ストッパ18a,18bにそれぞれ
当接するまで移動させ、基板16の概略位置決めを行
う。なお、基板16は、厚さ0.3mm〜3.0mm程
度、縦(Y方向)300mm×横(X方向)300mm
〜縦515mm×横650mm程度の大きさが一般的で
ある。
Next, the X of the rodless cylinder 20a is
Movement in the direction (negative direction) and rodless cylinder 2
0b in the Y direction (negative direction) causes the rodless cylinders 20a and 20b to
9a is moved in the X direction (negative direction), and the positioning pin 19b is moved in the Y direction (negative direction). Furthermore, each positioning pin 1
9a and 19b respectively push two orthogonal edges of the substrate 16 dropped on the positioning device 21 in the moving direction, and push the substrate 16 to the substrate stopper except for the edge pressed by the positioning pins 19b. The substrate 16 is moved until it comes into contact with each of the substrates 18a and 18b, and the substrate 16 is roughly positioned. The substrate 16 has a thickness of about 0.3 mm to 3.0 mm and a length (Y direction) of 300 mm × width (X direction) of 300 mm.
A size of about 515 mm long × 650 mm wide is common.

【0052】位置決めステーション4の位置決め装置2
1によって、概略位置決めされた基板16は、ローダ6
による吸着および上昇によって、再度吸着されて上昇
し、レール10に案内されて、位置決めステーション4
からレーザ加工機3のXYテーブル15上に搬送され
る。
The positioning device 2 of the positioning station 4
1, the substrate 16 roughly positioned by the loader 6
Is sucked and raised again by the suction and the lift by the rail, and guided by the rail 10 to the positioning station 4.
Is transferred onto the XY table 15 of the laser beam machine 3.

【0053】なお、この搬送の間に、位置決め装置移動
手段25a,25bによって、位置決め装置21は、元
の位置、すなわち供給台車8およびローダ6の後方位置
に戻されて停止する。
During the transportation, the positioning device 21 is returned to the original position, that is, the position behind the supply cart 8 and the loader 6 by the positioning device moving means 25a and 25b, and stopped.

【0054】XYテーブル15上に載置された基板16
は、XYテーブル15に形成された多数の微小サクショ
ンホール(図示せず)を通じてXYテーブル15下部か
ら吸気することによて、XYテーブル15上に吸着固定
され、または、クランプ等の固着手段によって、XYテ
ーブル15上に固着される(いずれも図示せず)。な
お、位置決め装置21とXYテーブル15とは、互いに
そのXY位置関係が対応しているため、位置決め装置2
1において位置決めされた基板16は、基板ストッパ1
8a,18bに当接した端縁が、XYテーブル15上に
おいて常に略一定位置に固定される。
The substrate 16 placed on the XY table 15
Is sucked and fixed on the XY table 15 by sucking air from the lower part of the XY table 15 through a number of minute suction holes (not shown) formed in the XY table 15, or by a fixing means such as a clamp. It is fixed on the XY table 15 (neither is shown). Since the positioning device 21 and the XY table 15 correspond to each other in the XY positional relationship, the positioning device 2 and the XY table 15 correspond to each other.
The substrate 16 positioned at 1 is the substrate stopper 1
The edges abutting on 8a and 18b are always fixed at a substantially constant position on the XY table 15.

【0055】このように、XYテーブル15の一定位置
に固定された基板16に対して、レーザ加工機3では、
加工ヘッド24から出射した集光レーザビームが照射さ
れ、上述した止まり穴加工等の所望とするレーザ加工が
施される。このとき、セットミスバケット17はセット
ミスバケット移動手段26a,26bにより、回収台車
9とアンローダ7の後方(図1において奥行き方向、図
2において矢印X方向(正方向))位置に退避した状態
となっている。
As described above, with respect to the substrate 16 fixed at a fixed position on the XY table 15, the laser processing machine 3
The condensed laser beam emitted from the processing head 24 is irradiated, and desired laser processing such as the above-described blind hole processing is performed. At this time, the set miss bucket 17 is retracted by the set miss bucket moving means 26a, 26b to a position behind the collection cart 9 and the unloader 7 (in the depth direction in FIG. 1, in the direction of the arrow X in FIG. 2 (forward direction)). Has become.

【0056】レーザ加工が正常に終了した基板16は、
ローダ6と同様のアンローダ7によって、XYテーブル
15上から基板積載回収部2の回収台車9上に搬送移動
され、この基板16は回収台車9上に積載されて、通常
の搬送、レーザ加工動作が完了する。
The substrate 16 on which the laser processing has been completed normally
The unloader 7 similar to the loader 6 conveys and moves from the XY table 15 onto the collection trolley 9 of the substrate stacking / collection unit 2, and the substrate 16 is loaded on the collection trolley 9, and normal conveyance and laser processing operations are performed. Complete.

【0057】レーザ加工機3でセットミスが発生した場
合には、レーザ加工機3は、基板16に対する加工を行
わずにセットミス品の発生を、セットミスバケット移動
手段26a,26bおよびアンローダ7に指令する。こ
れによって、アンローダ7はレーザ加工機3へ未加工基
板16を吸着しに行くとともに、セットミスバケット移
動手段26a,26bが、セットミスバケット17を退
避している後方位置から前方に移動し、回収台車9とア
ンローダ7との間の位置まで前進させて停止させる。
When a setting error occurs in the laser processing machine 3, the laser processing machine 3 informs the set error bucket moving means 26a, 26b and the unloader 7 of the occurrence of the setting error without processing the substrate 16. Command. As a result, the unloader 7 goes to attract the unprocessed substrate 16 to the laser processing machine 3, and the set-mis bucket moving means 26a, 26b moves forward from the rear position where the set-mis bucket 17 is retracted, and is collected. It is advanced to a position between the carriage 9 and the unloader 7 and stopped.

【0058】一方、アンローダ7はレーザ加工機3にお
ける未加工基板(セットミス品)16を吸着・搬送し
て、この搬送してきた未加工基板16を、回収台車9に
載置させるのに代えて、回収台車9の上方で停止してい
るセットミスバケット17に投入する。そして、未加工
基板16が載置されたセットミスバケット17は、セッ
トミスバケット移動手段26a,26bによって、元の
退避位置まで戻される。
On the other hand, the unloader 7 sucks and transports the unprocessed substrate (set error product) 16 in the laser processing machine 3, and replaces the transported unprocessed substrate 16 on the collection carriage 9. Is thrown into the set miss bucket 17 stopped above the collection cart 9. The set miss bucket 17 on which the unprocessed substrate 16 is placed is returned to the original retracted position by the set miss bucket moving means 26a, 26b.

【0059】このように、実施の形態1であるレーザ加
工装置は、位置決め装置21は、各基板16の加工前に
毎回位置決めを実施する都度、後方位置から基板積載供
給部1の供給台車8の上にシャトル状に出入りし、セッ
トミスバケット17は、セットミス品発生の場合にの
み、レーザ加工機3からの指令によって、後方位置から
回収台車9の上にシャトル状に出入りして、一連の搬
送、位置決め、加工、回収の動作が連続して実施され、
基板の自動加工および搬送が実行される。
As described above, in the laser processing apparatus according to the first embodiment, the positioning device 21 controls the supply carriage 8 of the substrate stacking supply unit 1 from the rear position every time positioning is performed before processing each substrate 16. Only when an incorrectly set product occurs, the set-mistake bucket 17 moves in and out of the collection cart 9 from the rear position in a shuttle-like manner in accordance with a command from the laser processing machine 3, and a series of The operations of transport, positioning, processing and collection are performed continuously,
Automatic processing and transport of the substrate are performed.

【0060】そして、基板積載供給部1、レーザ加工機
3および基板積載回収部2は図示するように、矢印Y方
向に沿って固定的に略一直線上に並んで配設されている
一方、位置決め装置21は、図2に示すように、基板積
載供給部1の後方(図1において奥行き方向、図2にお
いてX方向(正方向))位置と、基板積載供給部1の供
給台車8の直上位置との間を、矢印X方向に沿って移動
可能に構成され、また、セットミスバケット17は、基
板積載回収部2の後方(図1において奥行き方向、図2
おいてX方向(正方向))位置と、基板積載回収部2の
回収台車9の直上位置との間を、矢印X方向に沿って移
動可能に構成されているが、このように、位置決め装置
21およびセットミスバケット17を、動作時以外は、
基板積載供給部1、レーザ加工機3および基板積載回収
部2が並ぶ一直線上から外れた位置(退避位置(後方位
置))に配置しているため、基板積載供給部1、基板位
置決め部(基板位置決め装置21または基板位置決めス
テーション)、レーザ加工機3、未加工基板回収部(セ
ットミスバケット17またはセットミスステーション)
および基板積載回収部2が常に一直線上に並べて配置さ
れた従来のレーザ加工装置(たとえば)図6,7参照)
に比べて、一方向(矢印Y方向に沿った方向)に長く延
びた構成を回避することができ、省スペース化が図ら
れ、製造コストの低減にも寄与する。
As shown, the substrate loading / supplying unit 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / recovering unit 2 are fixedly arranged substantially in a straight line along the arrow Y direction, while being positioned. As shown in FIG. 2, the apparatus 21 is located at a position rearward (in the depth direction in FIG. 1, in the X direction (positive direction) in FIG. 1) of the substrate stacking supply unit 1 and at a position directly above the supply cart 8 of the substrate stacking supply unit 1. And the set-mistake bucket 17 is located rearward of the substrate stacking and collecting unit 2 (in the depth direction in FIG.
Between the position in the X direction (positive direction) and the position immediately above the collection trolley 9 of the substrate stacking and collecting section 2 along the arrow X direction. 21 and the set miss bucket 17, except during operation,
Since the substrate loading / supplying unit 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / unloading unit 2 are arranged at positions off the straight line (retreat position (rearward position)), the substrate loading / supplying unit 1, the substrate positioning unit (substrate) Positioning device 21 or substrate positioning station), laser processing machine 3, unprocessed substrate collection unit (set miss bucket 17 or set miss station)
And a conventional laser processing apparatus in which the substrate loading and collecting unit 2 is always arranged in a straight line (for example, see FIGS. 6 and 7).
As compared with the configuration described above, it is possible to avoid a configuration that extends in one direction (the direction along the arrow Y direction), thereby saving space and contributing to a reduction in manufacturing cost.

【0061】なお、アンローダ7のガイド付シリンダー
13のストロークはローダ6の場合の様に2段階的なも
のである必要はなく、上端および下端という2つの位置
でのみ停止するものであればよく、セットミスバケット
17に未加工基板16を載置する際は、上端位置で吸着
を解除して基板16をセットミスバケット17内に落下
させるものとしてもよい。また、セットミス品の回収
は、回収台車9の上にセットミスバケット17が移動し
た状態で実施されることはいうまでもない。
The stroke of the guide cylinder 13 of the unloader 7 does not need to be two-stage as in the case of the loader 6, but may be any as long as it stops only at two positions, the upper end and the lower end. When placing the unprocessed substrate 16 on the set miss bucket 17, the suction may be released at the upper end position and the substrate 16 may be dropped into the set miss bucket 17. Needless to say, the collection of the mis-set product is performed in a state where the mis-set bucket 17 is moved on the collection cart 9.

【0062】また、このレーザ加工装置は、基板積載供
給部1に供給台車8を、基板積載回収部2に回収台車9
を、それぞれ有する形式のものであるが、これらの台車
に代えて、カセットやトレイ等直置式の受け容器を適用
することもできる。
In this laser processing apparatus, the supply truck 8 is provided in the substrate loading / supplying section 1 and the collection carriage 9 is provided in the substrate loading / recovering section 2.
However, in place of these carts, a direct-type receiving container such as a cassette or a tray may be used.

【0063】さらに、位置決め装置21は基板ストッパ
ー18a,18bと位置決めピン19a,19bとの間
に基板16を挟んで位置決めする態様の構成を示した
が、この構成に限定されるものではなく、他の位置決め
方法による位置決め手段を適用するものであってもよ
く、またレーザ加工機3は、基板保持と移動のためXY
テーブル15を有する構成であるが、この構成に代え
て、固定テーブルを適用するとともに、加工ヘッド24
を移動させる構成を適用してもよく、いずれの構成を適
用したものであっても、本発明にかかるレーザ加工装置
と同じ効果を奏することができる。
Further, although the positioning device 21 has been described as having a configuration in which the substrate 16 is positioned between the substrate stoppers 18a and 18b and the positioning pins 19a and 19b, the positioning device 21 is not limited to this configuration. The laser processing machine 3 may use XY for holding and moving the substrate.
The configuration has a table 15, but instead of this configuration, a fixed table is applied, and
May be applied, and the same effects as those of the laser processing apparatus according to the present invention can be obtained regardless of which configuration is applied.

【0064】実施の形態2.図4,5は、本発明の実施
の形態2であるレーザ加工装置の概略構成を示す図であ
り、図4は平面図、図5は側面図を示す。図示のレーザ
加工装置は、図1〜3に示した実施の形態1のレーザ加
工装置において、セットミスバケット17を、回収台車
9の奥に配置するのに代えて、位置決め装置21ととも
に、供給台車8の奥に配置した構成のレーザ加工装置で
ある。なお、図中、図1〜3に示した実施の形態1のレ
ーザ加工装置における構成と同一部分または相当部分に
ついては、同一符号で示し、説明を省略する。
Embodiment 2 4 and 5 are diagrams showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to a second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view, and FIG. 5 is a side view. The illustrated laser processing apparatus is the same as the laser processing apparatus according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, except that the set miss bucket 17 is arranged behind the collection cart 9, and the supply cart together with the positioning device 21. 8 is a laser processing apparatus having a configuration disposed at the back of the apparatus. In the drawings, the same or corresponding portions as those in the configuration of the laser processing apparatus of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0065】上述したように、この実施の形態2のレー
ザ加工装置は、セットミスバケット17が、位置決め装
置21と同様に、基板積載供給部1の後方(図4におい
てX方向(正方向))位置と、基板積載供給部1の供給
台車8の直上位置との間を、矢印X方向に沿って移動可
能に構成されるとともに、供給台車8の奥に配置された
位置決め装置21とセットミスバケット17とを上下に
移動させて、これらを各別に、前方の供給台車8上に移
動可能とする位置決め装置及びセットミスバケット上下
入換手段27をさらに備える。
As described above, in the laser processing apparatus according to the second embodiment, the set miss bucket 17 is located behind the substrate stacking / supplying unit 1 (in the X direction (positive direction in FIG. 4)) as in the positioning apparatus 21. Between the position and the position immediately above the supply cart 8 of the substrate stacking supply unit 1, the positioning device 21 and the set miss bucket arranged at the back of the supply cart 8 so as to be movable along the arrow X direction. 17 is further provided with a positioning device and a set miss bucket up / down switching means 27 for vertically moving them and separately moving them on the supply truck 8 ahead.

【0066】つぎに本実施の形態のレーザ加工装置の作
用について説明する。基板積載供給部1の供給台車8
は、従来装置と同様に、常に最上段の基板16の積載位
置が変化しないように積載基板16を上下動作させるリ
フター機構を備えている。位置決め装置21およびセッ
トミスバケット17はそれぞれ、初期的に位置決め装置
移動手段25a,25b、セットミスバケット移動手段
26a,26bにより、供給台車8とローダ6の後方位
置に退避した状態となっている。
Next, the operation of the laser processing apparatus according to this embodiment will be described. Supply cart 8 of substrate loading supply unit 1
Has a lifter mechanism for vertically moving the loaded substrate 16 so that the loaded position of the uppermost substrate 16 does not always change, as in the conventional apparatus. The positioning device 21 and the set miss bucket 17 are initially retracted to positions behind the supply cart 8 and the loader 6 by the positioning device moving means 25a, 25b and the set miss bucket moving means 26a, 26b, respectively.

【0067】ローダ6のガイド付シリンダー13は2段
階の伸長ストロークを有しており、ローダ6のガイド付
シリンダー13の延伸動作によって、シリンダー13は
ストローク下端位置まで伸び、シリンダー13の下端に
固着されたフレーム12および吸着パッド11が下降し
て、供給台車8の最上段の基板16を吸着し、つぎにガ
イド付シリンダー13の短縮動作によって、吸着パッド
11に吸着された基板16は、シリンダー13のストロ
ーク上端位置まで上昇する。
The guide cylinder 13 of the loader 6 has a two-stage extension stroke. The extension operation of the guide cylinder 13 of the loader 6 causes the cylinder 13 to extend to the stroke lower end position and to be fixed to the lower end of the cylinder 13. The frame 12 and the suction pad 11 descend to suck the uppermost substrate 16 of the supply cart 8, and then the substrate 16 sucked by the suction pad 11 is moved by the shortening operation of the guide cylinder 13. It rises to the stroke upper end position.

【0068】この間に、位置決め装置およびセットミス
バケット上下入換手段27によって、位置決め装置21
が所定の高さにセットされ、このセット後に、位置決め
装置移動手段25a,25bにより、位置決め装置21
が前進移動されて供給台車8とローダ6との間で停止す
る。その後、ローダ6のガイド付シリンダー13はスト
ローク中途位置まで下降して、基板16を位置決め装置
21上に一旦載置し、上端位置まで上昇して待機する。
During this time, the positioning device 21 is set by the positioning device and the set mis-bucket up / down switching means 27.
Is set at a predetermined height, and after this setting, the positioning device 21 is moved by the positioning device moving means 25a and 25b.
Is moved forward and stopped between the supply cart 8 and the loader 6. Thereafter, the guided cylinder 13 of the loader 6 descends to the middle position of the stroke, temporarily places the substrate 16 on the positioning device 21, rises to the upper end position, and stands by.

【0069】位置決め装置21は、従来装置と同様、ロ
ッドレスシリンダー20a,20bの動作によって、基
板16の両端縁を位置決めピン19a,19bによりX
Y方向に押圧することによって、基板ストッパー18
a,18bに基板16を押し当てて位置決めする。位置
決めされた基板16は、ローダ6のガイド付シリンダー
13の中途位置までの下降動作により、再度吸着保持さ
れ、上端位置まで上昇した後に、従来装置と同様の搬送
作用により、レーザ加工機3のXYテーブル15上に搬
送される。
Similar to the conventional device, the positioning device 21 operates the rodless cylinders 20a and 20b to move both ends of the substrate 16 by the positioning pins 19a and 19b.
By pressing in the Y direction, the substrate stopper 18
The substrate 16 is pressed against a and 18b for positioning. The positioned substrate 16 is sucked and held again by the lowering operation of the loader 6 to the middle position of the guide cylinder 13, and after being raised to the upper end position, the XY of the laser processing machine 3 is carried out by the same transporting action as the conventional device. It is transported on the table 15.

【0070】レーザ加工機3によるレーザ加工が正常に
実施された場合は、基板16はアンローダ7によって、
従来装置と同様な作用により、基板積載回収部2の回収
台車9上に載置回収される。このとき、通常はセットミ
スバケット17はセットミスバケット移動手段26a,
26bによって、供給台車8およびローダ6の後方に退
避した状態で、基板積載供給部1の後方に位置してい
る。
When the laser processing by the laser processing machine 3 is normally performed, the substrate 16 is unloaded by the unloader 7.
By the same operation as the conventional device, the substrate is loaded and collected on the collection trolley 9 of the substrate loading and collecting section 2. At this time, the set miss bucket 17 is normally set mis-bucket moving means 26a,
26b, it is located behind the substrate stacking supply unit 1 in a state of being retracted behind the supply cart 8 and the loader 6.

【0071】一方、レーザ加工機3でセットミスが発生
した場合は、ローダ6がレーザ加工機3へ未加工基板1
6を取りに行くときに、レーザ加工機3側からの指令を
受けて、位置決め装置及びセットミスバケット上下入換
手段27が、位置決め装置21とセットミスバケット1
7との位置を入れ替えて、セットミスバケット17を所
定の位置にセットする。さらに、セットミスバケット移
動手段26a,26bが、セットミスバケット17を、
退避位置である後方位置から前進移動させて、供給台車
8とローダ6との間で停止させる。ローダ6は、レーザ
加工機3から未加工基板16を吸着して、基板積載供給
部1に戻り、この未加工基板16をセットミスバケット
17に載置する。そして、セットミスバケット17に回
収された未加工基板16については、そのまま格納して
基板16単体の検査等再調整してもよいし、基板16単
体に問題がなければ、ローダ6によって再度レーザ加工
機3に供給してもよい。
On the other hand, if a setting error occurs in the laser processing machine 3, the loader 6 sends the unprocessed substrate 1 to the laser processing machine 3.
In order to retrieve 6, the positioning device and the set-mis-bucket up / down switching means 27 receive the command from the laser processing machine 3 side, and the positioning device 21 and the set-mis-bucket 1
7, the set miss bucket 17 is set at a predetermined position. Further, the set miss bucket moving means 26a, 26b
It is moved forward from the rear position, which is the evacuation position, and stopped between the supply cart 8 and the loader 6. The loader 6 sucks the unprocessed substrate 16 from the laser processing machine 3, returns to the substrate loading / supplying unit 1, and places the unprocessed substrate 16 on the set mistake bucket 17. Then, the unprocessed substrate 16 collected in the set miss bucket 17 may be stored as it is and readjusted, such as inspection of the substrate 16 alone. It may be supplied to the machine 3.

【0072】このように、実施の形態2であるレーザ加
工装置は、位置決め装置21は、各基板16の加工前に
毎回位置決めを実施する都度、後方位置から基板積載供
給部1の供給台車8の上にシャトル状に出入りし、セッ
トミスバケット17は、セットミス品発生の場合にの
み、レーザ加工機3からの指令によって位置決め装置2
1と入れ替わりで後方位置から供給台車8の上にシャト
ル状に出入りするよう動作することによって、一連の搬
送、位置決め、加工、回収の動作が連続して実施され、
基板の自動加工および搬送が実行される。
As described above, in the laser processing apparatus according to the second embodiment, the positioning device 21 controls the supply carriage 8 of the substrate stacking supply unit 1 from the rear position every time positioning is performed before each substrate 16 is processed. The set-up bucket 17 moves in and out of the shuttle, and the set-up bucket 17 is moved by the command from the laser processing machine 3 only when a set-up error occurs.
By operating in such a way as to enter and exit the supply trolley 8 in a shuttle manner from the rear position in place of 1, a series of operations of transport, positioning, processing, and collection are continuously performed,
Automatic processing and transport of the substrate are performed.

【0073】そして、基板積載供給部1、レーザ加工機
3および基板積載回収部2は図示するように、矢印Y方
向に沿って固定的に略一直線上に並んで配設されている
一方、位置決め装置21およびセットミスバケット17
は、図4,5に示すように、基板積載供給部1の後方
(図4においてX方向(正方向))位置と、基板積載供
給部1の供給台車8の直上位置との間を、矢印X方向に
沿って移動可能に構成されているが、このように、位置
決め装置21およびセットミスバケット17を、動作時
以外は、基板積載供給部1、レーザ加工機3および基板
積載回収部2が並ぶ一直線上から外れた位置(退避位置
(後方位置))に配置した構成を採用していることによ
り、基板積載供給部1、基板位置決め部(基板位置決め
装置21または基板位置決めステーション)、レーザ加
工機3、未加工基板回収部(セットミスバケット17ま
たはセットミスステーション)および基板積載回収部2
が常に一直線上に並べて配置された従来のレーザ加工装
置(たとえば)図6,7参照)に比べて、一方向(矢印
Y方向に沿った方向)に長く延びた構成を回避すること
ができ、省スペース化が図られ、製造コストの低減にも
寄与する。
As shown in the figure, the substrate loading / supplying unit 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / recovering unit 2 are fixedly arranged substantially in a straight line along the arrow Y direction. Device 21 and set miss bucket 17
As shown in FIGS. 4 and 5, an arrow is provided between a position behind the substrate stacking and supplying unit 1 (in the X direction (positive direction in FIG. 4)) and a position immediately above the supply cart 8 of the substrate stacking and supplying unit 1. Although it is configured to be movable along the X direction, the positioning device 21 and the set-mistake bucket 17 can be moved by the substrate loading / supplying unit 1, the laser processing machine 3, and the substrate loading / recovering unit 2 except during operation. By adopting a configuration that is arranged at a position (retreat position (rear position)) deviating from a line in a line, the substrate loading / supplying unit 1, substrate positioning unit (substrate positioning device 21 or substrate positioning station), laser processing machine 3. Unprocessed substrate recovery unit (set miss bucket 17 or set miss station) and substrate loading recovery unit 2
Compared to a conventional laser processing apparatus (for example) shown in FIGS. 6 and 7 which is always arranged in a straight line, it is possible to avoid a configuration extending in one direction (the direction along the arrow Y direction). Space saving is achieved, which contributes to reduction of manufacturing cost.

【0074】なお、アンローダ7のガイド付シリンダー
13のストロークはローダ6の場合の様に2段階的なも
のである必要はなく、上端および下端という2つの位置
でのみ停止するものであればよく、セットミスバケット
17に未加工基板16を載置する際は、上端位置で吸着
を解除して基板16をセットミスバケット17内に落下
させるものとしてもよい。また、セットミス品の回収
は、回収台車9の上にセットミスバケット17が移動し
た状態で実施されることはいうまでもない。
The stroke of the guide-equipped cylinder 13 of the unloader 7 does not need to be two-step as in the case of the loader 6, but may be any as long as it stops only at two positions, the upper end and the lower end. When placing the unprocessed substrate 16 on the set miss bucket 17, the suction may be released at the upper end position and the substrate 16 may be dropped into the set miss bucket 17. Needless to say, the collection of the mis-set product is performed in a state where the mis-set bucket 17 is moved on the collection cart 9.

【0075】また、実施の形態2であるレーザ加工装置
は、基板積載供給部1に供給台車8を、基板積載回収部
2に回収台車9を、それぞれ有する形式のものである
が、これらの台車に代えて、カセットやトレイ等直置式
の受け容器を適用することもできる。
The laser processing apparatus according to the second embodiment has a type in which a supply truck 8 is provided in the substrate loading / supplying unit 1 and a collection truck 9 is provided in the substrate loading / collecting unit 2. Instead, a direct-type receiving container such as a cassette or a tray can be applied.

【0076】さらに、位置決め装置21は基板ストッパ
ー18a,18bと位置決めピン19a,19bとの間
に基板16を挟んで位置決めする態様の構成を示した
が、この構成に限定されるものではなく、他の位置決め
方法による位置決め手段を適用するものであってもよ
く、またレーザ加工機3は、基板保持と移動のためXY
テーブル15を有する構成であるが、この構成に代え
て、固定テーブルを適用するとともに、加工ヘッド24
を移動させる構成を適用してもよく、いずれの構成を適
用したものであっても、本発明にかかるレーザ加工装置
と同じ効果を奏することができる。
Further, although the positioning device 21 has been described as having a configuration in which the substrate 16 is positioned between the substrate stoppers 18a and 18b and the positioning pins 19a and 19b, the positioning device 21 is not limited to this configuration. The laser processing machine 3 may use XY for holding and moving the substrate.
The configuration has a table 15, but instead of this configuration, a fixed table is applied, and
May be applied, and the same effects as those of the laser processing apparatus according to the present invention can be obtained regardless of which configuration is applied.

【0077】なお、各実施の形態のレーザ加工装置は、
レーザ加工機に基板を投入する以前に、概略位置決めを
行うための位置決め装置を備えた構成であるが、レーザ
加工機への投入前に、このような概略位置合わせが不要
のレーザ加工機を備えたもの、たとえば、大きなセット
位置ずれであっても吸収、補正することができるレーザ
加工機を備えたものや、基板供給部や基板の搬送手段
が、レーザ加工機に投入する基板の位置ずれを殆ど発生
させないようなものであるレーザ加工装置においては、
上述した各実施の形態のレーザ加工装置における位置決
め装置を備える必要はなく、上述した各実施の形態のレ
ーザ加工装置から、位置決め装置を除外した構成の実施
の形態を適用することもできる。
Note that the laser processing apparatus of each embodiment
Before loading the substrate into the laser processing machine, it is a configuration equipped with a positioning device for performing rough positioning, but before loading into the laser processing machine, it is equipped with a laser processing machine that does not require such rough alignment. For example, a laser processing machine equipped with a laser processing machine that can absorb and correct even a large set positional deviation, or a substrate supply unit or a substrate transfer unit that detects a positional deviation of a substrate to be put into the laser processing machine. In a laser processing device that is hardly generated,
It is not necessary to provide a positioning device in the laser processing device of each of the above-described embodiments, and an embodiment having a configuration excluding the positioning device from the laser processing device of each of the above-described embodiments can be applied.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように、この発明にかかる
レーザ加工装置、すなわち供給される被加工用の基板が
配備される基板供給部、前記配備された基板を位置決め
する基板位置決め部、前記位置決めされた基板をレーザ
加工するレーザ加工部、前記レーザ加工部から退出した
基板が配置される基板回収部、および前記基板を前記各
部に搬送する搬送手段とを備えたレーザ加工装置におい
て、前記基板供給部、前記レーザ加工部および前記基板
回収部が配設された略一直線上から退避した位置と、該
一直線上の位置との間を移動可能に設けられた前記基板
位置決め部を、前記退避した位置と前記一直線上の位置
との間を移動させる位置決め部移動手段を備えたレーザ
加工装置によれば、基板供給部、レーザ加工部および基
板回収部は略一直線上に配設されるが、基板位置決め部
は、この基板供給部、レーザ加工部および基板回収部が
並ぶ一直線上から退避した位置、すなわちこの一直線上
から外れた位置に配設されており、基板の位置決めを行
うのに必要の場合にのみ、位置決め部移動手段によって
この一直線上の位置に移動されて動作することになるた
め、従来のように、基板供給部、基板位置決め部、レー
ザ加工部および基板回収部が常に一直線上に配置された
ものではなく、一方向にのみ長く延びた構成を回避し
て、装置全体としての設置スペースをコンパクトにする
ことができ、さらに装置のコンパクト化により製造コス
トが低減し、低価格化を実現することができる。
As described above, the laser processing apparatus according to the present invention, that is, the substrate supply unit on which the supplied substrate to be processed is provided, the substrate positioning unit for positioning the mounted substrate, and the positioning unit A laser processing unit that performs laser processing on the substrate that has been processed, a substrate recovery unit that places a substrate that has exited from the laser processing unit, and a transport unit that transports the substrate to each unit. Part, a position retracted from a substantially straight line on which the laser processing part and the substrate collecting part are disposed, and the substrate positioning part movably provided between a position on the straight line and the retracted position. According to the laser processing apparatus provided with the positioning unit moving means for moving between the position and the position on the straight line, the substrate supply unit, the laser processing unit, and the substrate collection unit are substantially straightforward. The substrate positioning unit is disposed at a position retracted from a straight line on which the substrate supply unit, the laser processing unit, and the substrate collecting unit are arranged, that is, a position off the straight line. Only when it is necessary to perform the positioning, the positioning unit moving means is operated by being moved to this linear position, so that the substrate supply unit, the substrate positioning unit, the laser processing unit and The substrate collection unit is not always arranged in a straight line, but avoids a configuration that extends in only one direction. This makes it possible to reduce the installation space of the entire apparatus, and further reduces the manufacturing cost by making the apparatus more compact. And the cost can be reduced.

【0079】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、基板位置決め部が移動される
前記一直線上の位置は、前記基板供給部と、前記搬送手
段が前記基板供給部から前記基板を上方に引き上げた位
置との間の空間位置であり、前記位置決め部移動手段
は、前記搬送手段が前記基板供給部から前記基板を上方
に引き上げた状態において、前記基板位置決め部を、前
記一直線上の位置に移動させるレーザ加工装置によれ
ば、基板の位置決め動作中以外は、基板位置決め部は、
上述したように退避した位置に移動されているため、装
置全体としての設置スペースをコンパクトにすることが
でき、基板の位置決め動作前に搬送手段が、基板供給部
から基板を上方に引き上げたときに、基板位置決め部を
位置決め部移動手段によって、この基板を上方に引き上
げた位置と基板供給部との間の空間位置に移動させるこ
とにより、そのまま基板を下方に降ろして、基板の位置
決め動作をさせることができ、基板の位置決め動作を損
なうことがない。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above-mentioned invention, the position on the straight line where the substrate positioning portion is moved is determined by the substrate supply portion and the transfer means for transferring the substrate from the substrate supply portion to the substrate supply portion. The positioning unit moving means is a space position between the position of the substrate being pulled up, and the substrate positioning unit moving the substrate positioning unit on the straight line in a state where the transporting unit pulls up the substrate from the substrate supply unit. According to the laser processing device for moving to the position, except during the positioning operation of the substrate, the substrate positioning portion is:
Since the apparatus is moved to the retracted position as described above, the installation space of the entire apparatus can be made compact, and when the transport unit pulls the substrate upward from the substrate supply unit before the substrate positioning operation, By moving the substrate positioning part to a space position between the position where the substrate is pulled up and the substrate supply part by the positioning part moving means, the substrate is directly lowered and the substrate positioning operation is performed. And the positioning operation of the substrate is not impaired.

【0080】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、レーザ加工部は、前記レーザ
加工に先立って、前記位置決めされた基板の位置決め状
態の正否を判定し、正常と判定された基板のみをレーザ
加工し、前記基板回収部は、前記レーザ加工部から退出
した基板のうちレーザ加工された基板が配置され、前記
退出した基板のうち前記位置決め状態が不正常と判定さ
れた基板(セットミス品)が配置される、前記一直線上
から退避した位置と該一直線上の位置との間を移動可能
に設けられた未加工基板回収部(セットミスバケット)
と、前記未加工基板回収部を、前記退避した位置と前記
一直線上の位置との間を移動させる回収部移動手段と、
をさらに備えたレーザ加工装置によれば、基板供給部、
レーザ加工部および基板回収部は略一直線上に配設され
るが、基板位置決め部と同様に、セットミス品を回収す
るセットミスバケットについても、この基板供給部、レ
ーザ加工部および基板回収部が並ぶ一直線上から退避し
た位置、すなわちこの一直線上から外れた位置に配設さ
れており、セットミス品を回収するのに必要の場合にの
み、回収部移動手段によってこの一直線上の位置に移動
されて動作することになるため、従来のように、基板供
給部、基板位置決め部、レーザ加工部、未加工基板回収
部および基板回収部が常に一直線上に配置されたもので
はなく、一方向にのみ長く延びた構成を回避して、装置
全体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、さらに装置のコンパクト化により製造コストが低減
し、低価格化を実現することができる。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above-described invention, the laser processing section determines whether the positioning state of the positioned substrate is correct or not prior to the laser processing, and determines whether the substrate is determined to be normal. Only the laser processing is performed, and the substrate recovery unit is configured to arrange the laser-processed substrate among the substrates retreated from the laser processing unit, and to perform the substrate (setting) of the retired substrates whose positioning state is determined to be abnormal. Unprocessed substrate collection unit (set miss bucket) movably provided between a position retreated from the straight line and a position on the straight line on which the mistake product is disposed.
And a collection unit moving means for moving the unprocessed substrate collection unit between the retracted position and the position on the straight line,
According to the laser processing apparatus further provided with, a substrate supply unit,
Although the laser processing section and the substrate recovery section are arranged substantially on a straight line, the board supply section, the laser processing section, and the substrate recovery section also have the same setting mistake bucket that collects a set error product as the substrate positioning section. It is disposed at a position retracted from the aligned straight line, that is, at a position deviated from this straight line, and is moved to this linear position by the collecting unit moving means only when it is necessary to collect the mis-set product. The substrate supply unit, the substrate positioning unit, the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit and the substrate collection unit are not always arranged in a straight line as in the past, but only in one direction. By avoiding the elongated structure, the installation space of the entire device can be reduced, and the downsizing of the device reduces the manufacturing cost and lowers the price. It can be.

【0081】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、未加工基板回収部が移動され
る前記一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間
位置であり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態
が不正常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出
された状態において、前記未加工基板回収部を前記一直
線上の位置に移動させるレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため、装置
全体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が、前記レーザ加工部から退出された状
態において、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板回収部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above-mentioned invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate collecting section, and According to the laser processing apparatus, when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the laser processing apparatus moves the unprocessed substrate collection unit to the position on the straight line. Since the unprocessed substrate collecting section is moved to the retracted position as described above except during the product collecting operation, the installation space of the entire apparatus can be reduced, and the unprocessed substrate collecting operation can be performed before the unprocessed substrate collecting operation. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is retracted from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved along the straight line by the collection unit moving means. Position is moved to (a position above the substrate collecting part) can be a recovery operation of the raw substrate,
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0082】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、未加工基板回収部が移動され
る前記一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間
位置であり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態
が不正常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出
された状態において、前記未加工基板回収部を前記一直
線上の位置に移動させるレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため、装置
全体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が、前記レーザ加工部から退出された状
態において、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板供給部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate supply section, and According to the laser processing apparatus, when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the laser processing apparatus moves the unprocessed substrate collection unit to the position on the straight line. Since the unprocessed substrate collecting section is moved to the retracted position as described above except during the product collecting operation, the installation space of the entire apparatus can be reduced, and the unprocessed substrate collecting operation can be performed before the unprocessed substrate collecting operation. When the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is retracted from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved along the straight line by the collection unit moving means. Position is moved to (a position above the substrate supply unit) can be a recovery operation of the raw substrate,
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0083】また、回収された未加工基板は、基板供給
部上方に移動された未加工基板回収部に配置されるた
め、基板供給部から基板を供給するのと同様の操作によ
って、未加工基板回収部から未加工基板を再度供給する
ことができ、未加工基板をレーザ加工のために再投入す
るための、未加工基板回収部から基板供給部に未加工基
板を移す作業を省くことができるという効果をも奏す
る。
Since the recovered unprocessed substrate is placed in the unprocessed substrate recovery section moved above the substrate supply section, the unprocessed substrate is operated by the same operation as supplying the substrate from the substrate supply section. The unprocessed substrate can be supplied again from the collection unit, and the operation of transferring the unprocessed substrate from the unprocessed substrate collection unit to the substrate supply unit for re-feeding the unprocessed substrate for laser processing can be omitted. It also has the effect.

【0084】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち供給される被加工用の基板が配置された基板供給
部、供給された基板の位置決め状態の正否を判定し、正
常と判定された基板のみをレーザ加工するレーザ加工
部、前記レーザ加工部から退出した基板のうちレーザ加
工された基板が配置される基板回収部、前記退出した基
板のうち前記位置決め状態が不正常と判定された基板が
配置される未加工基板回収部、および前記基板を前記各
部に搬送する搬送手段を備えたレーザ加工装置におい
て、前記基板供給部、前記レーザ加工部および前記基板
回収部が配設された略一直線上から退避した位置と、該
一直線上の位置との間を移動可能に設けられた前記未加
工基板回収部を、前記退避した位置と前記一直線上の位
置との間を移動させる回収部移動手段を備えたレーザ加
工装置によれば、基板供給部、レーザ加工部および基板
回収部は略一直線上に配設されるが、未加工基板回収部
は、この基板供給部、レーザ加工部および基板回収部が
並ぶ一直線上から退避した位置すなわちこの一直線上か
ら外れた位置に配設されており、未加工基板の回収を行
うのに必要の場合にのみ、回収部移動手段によってこの
一直線上の位置に移動されて動作することになるため、
従来のように、基板供給部、レーザ加工部、未加工基板
回収部および基板回収部が常に一直線上に配置されたも
のではなく、一方向にのみ長く延びた構成を回避して、
装置全体としての設置スペースをコンパクトにすること
ができる。
A laser processing apparatus according to the next invention, that is, a substrate supply unit on which a supplied substrate to be processed is disposed, and whether the supplied substrate is positioned correctly or not, and only the substrate determined to be normal is determined. A laser processing unit for performing laser processing, a substrate recovery unit in which a laser-processed substrate among the substrates retreated from the laser processing unit is disposed, and a substrate in which the positioning state is determined to be abnormal among the retreated substrates is disposed. A laser processing apparatus provided with an unprocessed substrate collecting section and a transfer means for transferring the substrate to the respective sections, and retreats from a substantially straight line on which the substrate supply section, the laser processing section and the substrate collecting section are disposed. And moving the unprocessed substrate collecting portion movably provided between the retracted position and the linear position between the retracted position and the linear position. According to the laser processing apparatus provided with the section moving means, the substrate supply section, the laser processing section, and the substrate recovery section are disposed substantially in a straight line, but the unprocessed substrate recovery section is provided by the substrate supply section, the laser processing section. And at a position retreated from the straight line on which the substrate collection unit is arranged, that is, at a position deviating from the straight line, and only when necessary to collect the unprocessed substrate, the collection unit moving means moves the substrate on this straight line. Will be moved to the position of
As before, the substrate supply unit, the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit and the substrate collection unit are not always arranged on a straight line, avoiding a configuration that extends only in one direction,
The installation space as the whole apparatus can be made compact.

【0085】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、未加工基板回収部が移動され
る前記一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間
位置であり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態
が不正常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出
された状態において、前記未加工基板回収部を前記一直
線上の位置に移動させるレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため、装置
全体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
において、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板回収部の上方の位置)に
移動させて、未加工基板の回収動作をさせることがで
き、未加工基板の回収動作を損なうことがない。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above-described invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate collecting section, and According to the laser processing apparatus, when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the laser processing apparatus moves the unprocessed substrate collection unit to the position on the straight line. Since the unprocessed substrate collecting section is moved to the retracted position as described above except during the product collecting operation, the installation space of the entire apparatus can be reduced, and the unprocessed substrate collecting operation can be performed before the unprocessed substrate collecting operation. In a state where the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate recovery unit moves the unprocessed substrate recovery unit on the straight line by the recovery unit moving means. Is moved to the location (a position above the substrate recovery unit), it is possible to cause the operation of recovering raw substrate, without impairment of recovery operation of the raw substrate.

【0086】つぎの発明にかかるレーザ加工装置、すな
わち上記の発明において、未加工基板回収部が移動され
る前記一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間
位置であり、前記回収部移動手段は、前記位置決め状態
が不正常と判定された基板が前記レーザ加工部から退出
された状態において、前記未加工基板回収部を前記一直
線上の位置に移動させるレーザ加工装置によれば、セッ
トミス品の回収動作中以外は、未加工基板回収部は、上
述したように退避した位置に移動されているため、装置
全体としての設置スペースをコンパクトにすることがで
き、未加工基板の回収動作前に位置決め状態が不正常と
判定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態
において、未加工基板回収部を回収部移動手段によっ
て、上記一直線上の位置(基板供給部の上方の位置)に
移動させて未加工基板の回収動作をさせることができ、
未加工基板の回収動作を損なうことがない。
In the laser processing apparatus according to the next invention, that is, in the above invention, the position on the straight line where the unprocessed substrate collecting section is moved is a spatial position above the substrate supply section, According to the laser processing apparatus, when the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the laser processing apparatus moves the unprocessed substrate collection unit to the position on the straight line. Since the unprocessed substrate collecting section is moved to the retracted position as described above except during the product collecting operation, the installation space of the entire apparatus can be reduced, and the unprocessed substrate collecting operation can be performed before the unprocessed substrate collecting operation. In a state where the substrate whose positioning state is determined to be abnormal is withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate recovery unit moves the unprocessed substrate recovery unit on the straight line by the recovery unit moving means. Move the location (a position above the substrate supply unit) can be a recovery operation of the raw substrate,
The operation of collecting the unprocessed substrate is not impaired.

【0087】また、回収された未加工基板は、基板供給
部上方に移動された未加工基板回収部に配置されるた
め、基板供給部から基板を供給するのと同様の操作によ
って、未加工基板回収部から未加工基板を再度供給する
ことができ、未加工基板をレーザ加工のために再投入す
るための、未加工基板回収部から基板供給部に未加工基
板を移す作業を省くことができるという効果をも奏す
る。
Since the recovered unprocessed substrate is placed in the unprocessed substrate recovery unit moved above the substrate supply unit, the unprocessed substrate is processed by the same operation as supplying the substrate from the substrate supply unit. The unprocessed substrate can be supplied again from the collection unit, and the operation of transferring the unprocessed substrate from the unprocessed substrate collection unit to the substrate supply unit for re-feeding the unprocessed substrate for laser processing can be omitted. It also has the effect.

【0088】なお、上述した各発明のレーザ加工装置で
は、基板位置決め部や未加工基板回収部を、基板供給
部、レーザ加工部および基板回収部が直列に並んだ一直
線上の位置から退避させているため、この直線の延びる
方向に関する幅(長さ)は、従来の装置に比べて短くな
り省スペース化することができるが、基板位置決め部や
未加工基板回収部が配置される方向(上記一直線の延び
る方向に直交する方向)についての奥行き長さは従来よ
りも長くなることも懸念されるが、実用上のレーザ加工
機においては、レーザ加工部(特にXYテーブルの動作
範囲、レーザ発振器のスペース、図示されてない補機と
しての冷却装置や集塵装置等)が他の構成部分(基板供
給部や基板回収部等)に比べて奥行き長さも非常に大き
いため、従来のレーザ加工装置おいても、基板供給部お
よび基板回収部の奥行き部分はデッドスペース(図7に
おいて符号Aで示す領域)として、装置の設置スペース
を構成しており、本発明のレーザ加工装置では、従来の
レーザ加工装置の設置スペースにおけるこのデッドスペ
ースを有効に活用したものとなり、奥行き長さが大きく
増長するものではなく、本願発明者らによる研究によれ
ば、従来装置に比べて幅方向(基板供給部、レーザ加工
部および基板回収部が並ぶ方向)について30%以上の
省スペース化を図ることができ、同一設置面積の部屋に
おける装置の設置台数を、従来装置に比べて約1.5倍
に高めることができた。
In the laser processing apparatus of each of the above-mentioned inventions, the substrate positioning section and the unprocessed substrate recovery section are retracted from a position on a straight line where the substrate supply section, the laser processing section and the substrate recovery section are arranged in series. Therefore, the width (length) in the direction in which the straight line extends is shorter than that of the conventional device, so that space can be saved. There is a concern that the depth in the direction perpendicular to the direction in which the laser beam extends will be longer than before, but in a practical laser processing machine, the laser processing unit (particularly the operating range of the XY table, the space of the laser oscillator, , A cooling device or a dust collecting device as an auxiliary device (not shown) has a very large depth compared to other components (a substrate supply portion, a substrate collection portion, and the like). Also in the processing apparatus, the depth of the substrate supply section and the substrate recovery section constitutes an installation space of the apparatus as a dead space (the area indicated by the symbol A in FIG. 7). This dead space in the installation space of the laser processing device is effectively used, and the depth length is not greatly increased. According to the research by the present inventors, the width direction (substrate supply Section, laser processing section, and substrate collection section) can save 30% or more of space, and the number of devices installed in a room with the same installation area is about 1.5 times that of the conventional device. Could be enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明にかかる実施の形態1であるレーザ加
工装置の構成を示す正面図である。
FIG. 1 is a front view illustrating a configuration of a laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 本発明にかかる実施の形態1であるレーザ加
工装置の構成を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of the laser processing apparatus according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 本発明にかかる実施の形態1であるレーザ加
工装置の構成を示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing a configuration of the laser processing apparatus according to the first embodiment of the present invention;

【図4】 本発明にかかる実施の形態2であるレーザ加
工装置の構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view illustrating a configuration of a laser processing apparatus according to a second embodiment of the present invention;

【図5】 本発明にかかる実施の形態2であるレーザ加
工装置の構成を示す側面図である。
FIG. 5 is a side view showing a configuration of a laser processing apparatus according to a second embodiment of the present invention;

【図6】 従来におけるレーザ加工装置の一例を示す正
面図である。
FIG. 6 is a front view showing an example of a conventional laser processing apparatus.

【図7】 従来におけるレーザ加工装置の一例を示す平
面図である。
FIG. 7 is a plan view showing an example of a conventional laser processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板積載供給部,2 基板積載回収部,3 レーザ
加工機,4 位置決めテーション,5 セットミスステ
ーション,6 ローダ,7 アンローダ,8供給台車,
9 回収台車,10 レール,11 吸着パッド,12
フレーム,13 ガイド付シリンダー,14 走行駆
動装置,15 XYテーブル,16基板,17 セット
ミスバケット,18a 基板ストッパー,18b 基板
ストッパー,19a 位置決めピン,19b 位置決め
ピン,20a ロッドレスシリンダー,20b ロッド
レスシリンダー,21 位置決め装置,22 レーザ発
振器,23 光路,24 加工ヘッド,25a 位置決
め装置移動手段,25b 位置決め装置移動手段,26
a セットミスバケット移動手段,26b セットミス
バケット移動手段,27 位置決め装置移動手段及びセ
ットミスバケット移動手段上下昇降手段。
1 substrate loading / supplying section, 2 substrate loading / recovering section, 3 laser processing machine, 4 positioning station, 5 set miss station, 6 loader, 7 unloader, 8 supply trolley,
9 Collection trolley, 10 rail, 11 suction pad, 12
Frame, 13 Guided Cylinder, 14 Traveling Drive, 15 XY Table, 16 Substrates, 17 Misset Bucket, 18a Substrate Stopper, 18b Substrate Stopper, 19a Positioning Pin, 19b Positioning Pin, 20a Rodless Cylinder, 20b Rodless Cylinder, Reference Signs List 21 positioning device, 22 laser oscillator, 23 optical path, 24 processing head, 25a positioning device moving means, 25b positioning device moving means, 26
a mis-set bucket moving means, 26b mis-set bucket moving means, 27 positioning device moving means and mis-set bucket moving means up / down moving means.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢崎 建 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 森 誉 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 4E068 CA14 CA18 CE11 DA11  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor: Takeshi Yazaki 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Mori 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Rishi Electric Co., Ltd. F term (reference) 4E068 CA14 CA18 CE11 DA11

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 供給される被加工用の基板が配備される
基板供給部、前記配備された基板を位置決めする基板位
置決め部、前記位置決めされた基板をレーザ加工するレ
ーザ加工部、前記レーザ加工部から退出した基板が配置
される基板回収部、および前記基板を前記各部に搬送す
る搬送手段を備えたレーザ加工装置において、 前記基板供給部、前記レーザ加工部および前記基板回収
部が配設された略一直線上から退避した位置と該一直線
上の位置との間を移動可能に設けられた前記基板位置決
め部を、前記退避した位置と前記一直線上の位置との間
を移動させる位置決め部移動手段を備えたことを特徴と
するレーザ加工装置。
1. A substrate supply unit on which a substrate to be supplied is provided, a substrate positioning unit for positioning the provided substrate, a laser processing unit for performing laser processing on the positioned substrate, and the laser processing unit. A substrate collection unit in which a substrate exiting from the substrate is disposed, and a laser processing apparatus including a transport unit configured to transport the substrate to the respective units, wherein the substrate supply unit, the laser processing unit, and the substrate collection unit are disposed. A positioning unit moving unit that moves the substrate positioning unit movably provided between a position retracted from a substantially straight line and a position on the straight line, and the position between the retracted position and the position on the straight line; A laser processing apparatus comprising:
【請求項2】 前記基板位置決め部が移動される前記一
直線上の位置が、前記基板供給部と、前記搬送手段が前
記基板供給部から前記基板を上方に引き上げた位置との
間の空間位置であり、 前記位置決め部移動手段は、前記搬送手段が前記基板供
給部から前記基板を上方に引き上げた状態である場合、
前記基板位置決め部を、前記一直線上の位置に移動させ
ることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
2. The position on the straight line where the substrate positioning unit is moved is a spatial position between the substrate supply unit and a position where the transfer unit pulls the substrate upward from the substrate supply unit. And wherein the positioning unit moving means is in a state where the transport means has pulled the substrate upward from the substrate supply unit,
The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate positioning unit is moved to the position on the straight line.
【請求項3】 前記レーザ加工部は、前記レーザ加工に
先立って、前記位置決めされた基板の位置決め状態の正
否を判定し、正常と判定された基板のみをレーザ加工
し、 前記基板回収部は、前記レーザ加工部から退出した基板
のうちレーザ加工された基板が配置され、 前記退出した基板のうち前記位置決め状態が不正常と判
定された基板が配置される、前記一直線上から退避した
位置と該一直線上の位置との間を移動可能に設けられた
未加工基板回収部と、 前記未加工基板回収部を、前記退避した位置と前記一直
線上の位置との間を移動させる回収部移動手段と、をさ
らに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の
レーザ加工装置。
3. The laser processing unit, prior to the laser processing, determines whether the positioning state of the positioned substrate is correct or not, and laser-processes only the substrate determined to be normal. A substrate that has been laser-processed among the substrates that have exited from the laser processing unit is disposed, and a substrate whose positioning state has been determined to be abnormal among the substrates that have exited is disposed. An unprocessed substrate collection unit movably provided between a position on the straight line, and a collection unit moving unit for moving the unprocessed substrate collection unit between the retracted position and the position on the straight line; The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項4】 前記未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間位置で
あり、 前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正常と判
定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態で
ある場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位置
に移動させることを特徴とする請求項3に記載のレーザ
加工装置。
4. The position on the straight line where the unprocessed substrate recovery unit is moved is a spatial position above the substrate recovery unit, and the recovery unit moving means determines that the positioning state is abnormal. 4. The laser processing apparatus according to claim 3, wherein the unprocessed substrate collection unit is moved to the position on the straight line when the substrate that has been moved out of the laser processing unit. 5.
【請求項5】 前記未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間位置で
あり、 前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正常と判
定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態で
ある場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位置
に移動させることを特徴とする請求項3に記載のレーザ
加工装置。
5. The straight line position where the unprocessed substrate collecting unit is moved is a spatial position above the substrate supply unit, and the collecting unit moving unit determines that the positioning state is abnormal. 4. The laser processing apparatus according to claim 3, wherein when the substrate has been withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved to the position on the straight line. 5.
【請求項6】 供給される被加工用の基板が配置された
基板供給部、供給された基板の位置決め状態の正否を判
定し、正常と判定された基板のみをレーザ加工するレー
ザ加工部、前記レーザ加工部から退出した基板のうちレ
ーザ加工された基板が配置される基板回収部、前記退出
した基板のうち前記位置決め状態が不正常と判定された
基板が配置される未加工基板回収部、および前記基板を
前記各部に搬送する搬送手段を備えたレーザ加工装置に
おいて、 前記基板供給部、前記レーザ加工部および前記基板回収
部が配設された略一直線上から退避した位置と該一直線
上の位置との間を移動可能に設けられた前記未加工基板
回収部を、前記退避した位置と前記一直線上の位置との
間を移動させる回収部移動手段を備えたことを特徴とす
るレーザ加工装置。
6. A substrate supply unit on which a supplied substrate to be processed is disposed, a laser processing unit that determines whether the supplied substrate is positioned correctly or not, and laser-processes only the substrate determined to be normal. A substrate collection unit in which a laser-processed substrate is arranged among the substrates withdrawn from the laser processing unit, an unprocessed substrate collection unit in which the substrate whose positioning state is determined to be abnormal among the withdrawn substrates is arranged, and In a laser processing apparatus provided with a transport unit that transports the substrate to each of the units, a position retracted from a substantially straight line on which the substrate supply unit, the laser processing unit, and the substrate collection unit are disposed, and a position on the straight line A collecting unit moving means for moving the unprocessed substrate collecting unit movably provided between the retracted position and the linear position. Engineering equipment.
【請求項7】 前記未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板回収部の上方の空間位置で
あり、 前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正常と判
定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態で
ある場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位置
に移動させることを特徴とする請求項6に記載のレーザ
加工装置。
7. The position on the straight line where the unprocessed substrate collecting unit is moved is a spatial position above the substrate collecting unit, and the collecting unit moving means determines that the positioning state is abnormal. 7. The laser processing apparatus according to claim 6, wherein when the substrate has been withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved to the position on the straight line. 8.
【請求項8】 前記未加工基板回収部が移動される前記
一直線上の位置は、前記基板供給部の上方の空間位置で
あり、 前記回収部移動手段は、前記位置決め状態が不正常と判
定された基板が前記レーザ加工部から退出された状態で
ある場合、前記未加工基板回収部を前記一直線上の位置
に移動させることを特徴とする請求項6に記載のレーザ
加工装置。
8. The position on the straight line where the unprocessed substrate collection unit is moved is a spatial position above the substrate supply unit, and the collection unit moving unit determines that the positioning state is abnormal. 7. The laser processing apparatus according to claim 6, wherein when the substrate has been withdrawn from the laser processing unit, the unprocessed substrate collection unit is moved to the position on the straight line. 8.
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