JP2018069247A - Workpiece conveyance system and workpiece conveyance method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve processing efficiency of a workpiece by placing the workpiece in a positioned state on a processing pallet.SOLUTION: A system for conveying a workpiece to a laser beam machine includes a processing pallet which can move in and out of the laser beam machine with the workpiece placed thereon, a loader device which sucks and conveys the workpiece and can place the workpiece on the processing pallet, and a station device on which the workpiece before placed on the processing pallet is placed by the loader device to position the workpiece.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ワーク搬送システム及びワーク搬送方法に関する。   The present invention relates to a workpiece transfer system and a workpiece transfer method.

レーザ光により板材などのワークから製品を切り出すレーザ加工機が知られており、このレーザ加工機に対してワークを搬入または搬出するワーク搬送システムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   There is known a laser processing machine that cuts a product from a workpiece such as a plate with a laser beam, and a work transfer system that loads or unloads a work with respect to the laser processing machine has been proposed (for example, see Patent Document 1).

特許第5967216号公報Japanese Patent No. 5967216

レーザ加工機においてワークを加工する際、ワークに対してレーザ光を精度よく照射することが必要である。そのためにもワークを載置してレーザ加工機の内外を移動する加工パレット上にワークが正確に載置されることが求められる。上記した特許文献1のシステムでは、加工パレットに対してどのようにワークを位置決めするかの記載がない。   When processing a workpiece in a laser processing machine, it is necessary to irradiate the workpiece with laser light with high accuracy. For this purpose as well, it is required that the workpiece is accurately placed on a processing pallet on which the workpiece is placed and moved inside and outside the laser processing machine. In the system of Patent Document 1 described above, there is no description of how to position the workpiece with respect to the processing pallet.

以上のような事情に鑑み、本発明は、加工パレットに対してワークを位置決めした状態で載置することにより、ワークの加工効率を向上させることが可能なワーク搬送システム及びワーク搬送方法を提供することを目的とする。   In view of the circumstances as described above, the present invention provides a workpiece conveyance system and a workpiece conveyance method capable of improving the machining efficiency of a workpiece by placing the workpiece in a state where the workpiece is positioned with respect to the machining pallet. For the purpose.

本発明は、レーザ加工機に対してワークを搬送するシステムであって、ワークを載置して前記レーザ加工機の内外に移動可能な加工パレットと、ワークを吸着して搬送し、加工パレット上にワークを載置可能なローダ装置と、加工パレットに載置される前のワークがローダ装置により載置され、このワークを位置決めするステーション装置と、を備える。   The present invention is a system for transporting a workpiece to a laser beam machine, a workpiece pallet on which the workpiece can be placed and moved in and out of the laser beam machine, And a station device on which the work before being placed on the processing pallet is placed by the loader device and the workpiece is positioned.

また、ステーション装置は、レーザ加工機の外側において加工パレットの上方に配置され、加工パレットの上方から退避可能であってもよい。また、ステーション装置は、ワークの端部が当接することによりワークを位置決めする位置決め部材を備えてもよい。また、位置決め部材で位置決めされたワークの位置は、加工パレットに載置すべきワークの位置の上方であってもよい。また、ワーク搬送システムは、加工パレットの上方において加工後のワークから残材を保持して搬出するグリッパ装置を備えてもよい。   Further, the station device may be disposed above the processing pallet outside the laser processing machine and retractable from above the processing pallet. In addition, the station device may include a positioning member that positions the workpiece by abutting the end portion of the workpiece. Further, the position of the workpiece positioned by the positioning member may be above the position of the workpiece to be placed on the processing pallet. Further, the workpiece transfer system may include a gripper device that holds and unloads the remaining material from the workpiece after processing above the processing pallet.

また、本発明は、レーザ加工機に対してワークを搬送する方法であって、ローダ装置によりワークをステーション装置に載置することと、ステーション装置に載置されたワークを位置決めすることと、位置決めしたワークをローダ装置によりレーザ加工機の内外に移動可能な加工パレットに載置することと、を含む。   Further, the present invention is a method of conveying a workpiece to a laser beam machine, wherein the loader device places the workpiece on the station device, positioning the workpiece placed on the station device, positioning Placing the workpiece on a processing pallet that can be moved in and out of the laser processing machine by a loader device.

本発明のワーク搬送システム及びワーク搬送方法によれば、ワークを加工パレットに載置する前にステーション装置に載置してワークを位置決めすることにより、加工パレット上には位置決めされたワークが載置される。これにより、加工パレットがレーザ加工機内に移動した場合に、レーザ加工機内でのワークの位置ズレが抑制され、ワークの加工を効率よく行うことができる。   According to the work transfer system and the work transfer method of the present invention, the work placed on the processing pallet is placed on the work pallet by placing the work on the station device and positioning the work before placing the work on the work pallet. Is done. Thereby, when a processing pallet moves in a laser processing machine, the position shift of the workpiece | work in a laser processing machine is suppressed, and a workpiece | work can be processed efficiently.

また、ステーション装置が、レーザ加工機の外側において加工パレットの上方に配置され、加工パレットの上方から退避可能である場合、ローダ装置によりワークを搬送する距離を短縮でき、ワークの搬送効率を向上できる。また、ステーション装置が、ワークの端部が当接することによりワークを位置決めする位置決め部材を備える場合、位置決め部材によってワークの位置決めを容易かつ効率よく行うことができる。また、位置決め部材で位置決めされたワークの位置が、加工パレットに載置すべきワークの位置の上方である場合、位置決め後のワークをローダ装置で吸着し、ステーション装置の退避後にそのままローダ装置を下降させることにより、加工パレット上にワークを正確に載置できる。また、ステーション装置に設けられ、加工パレットの上方において加工後のワークから残材を保持して搬出するグリッパ装置を備える場合、グリッパ装置をステーション装置と別に配置することと比較してシステムを簡略化できる。   Further, when the station device is disposed on the outside of the laser processing machine and above the processing pallet and can be retracted from above the processing pallet, it is possible to shorten the distance for transferring the workpiece by the loader device and improve the workpiece transfer efficiency. . In addition, when the station device includes a positioning member that positions the workpiece by contacting the end portion of the workpiece, the workpiece can be easily and efficiently positioned by the positioning member. Also, when the position of the workpiece positioned by the positioning member is above the position of the workpiece to be placed on the processing pallet, the positioned workpiece is attracted by the loader device, and the loader device is lowered as it is after the station device is retracted. By doing so, the workpiece can be accurately placed on the processing pallet. Also, when equipped with a gripper device that is provided in the station device and holds the remaining material from the processed workpiece above the processing pallet, the system is simplified compared to arranging the gripper device separately from the station device. it can.

実施形態に係るレーザ加工システムを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムを示す上面図である。It is a top view which shows the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るローダ装置の吸着部を示す図である。It is a figure which shows the adsorption | suction part of the loader apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るステーション装置を示す図である。It is a figure which shows the station apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る加工パレットを示す図である。It is a figure which shows the process pallet which concerns on embodiment. 実施形態に係るリフト装置を示す図である。It is a figure which shows the lift apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るリフト装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the lift apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るシャッタ装置を示す図である。It is a figure which shows the shutter apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るシャッタ装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the shutter apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るシャッタ装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the shutter apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るシャッタ装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the shutter apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment. 実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the laser processing system which concerns on embodiment.

以下、実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の各図において、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。このXYZ座標系は、X方向およびY方向が水平方向であり、Z方向が鉛直方向である。XYZの各方向において、適宜、矢印と同じ側を+側(例、+X側)と称し、その反対側を−側(例、−X側)と称す。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. In the following drawings, directions in the drawings will be described using an XYZ coordinate system. In this XYZ coordinate system, the X direction and the Y direction are horizontal directions, and the Z direction is a vertical direction. In each of the XYZ directions, the same side as the arrow is appropriately referred to as a + side (eg, + X side), and the opposite side is referred to as a − side (eg, −X side).

図1は、実施形態に係るレーザ加工システムを示す斜視図である。図2は、実施形態に係るレーザ加工システムを示す上面図である。レーザ加工システム1は、保管装置2、ローダ装置3、ステーション装置4、加工パレット5、レーザ加工機6、パレットチェンジャ7、リフト装置8、グリッパ装置9、及び制御装置10を備える。実施形態に係るワーク搬送システムTSは、レーザ加工機6に対してワークを搬送する。ワーク搬送システムTSは、保管装置2、ローダ装置3、ステーション装置4、加工パレット5、パレットチェンジャ7、リフト装置8、グリッパ装置9、及び制御装置10により構成される。すなわち、レーザ加工システム1は、レーザ加工機6およびワーク搬送システムTSを備える。   FIG. 1 is a perspective view showing a laser processing system according to an embodiment. FIG. 2 is a top view showing the laser processing system according to the embodiment. The laser processing system 1 includes a storage device 2, a loader device 3, a station device 4, a processing pallet 5, a laser processing machine 6, a pallet changer 7, a lift device 8, a gripper device 9, and a control device 10. The workpiece conveyance system TS according to the embodiment conveys a workpiece to the laser processing machine 6. The workpiece transfer system TS includes a storage device 2, a loader device 3, a station device 4, a processing pallet 5, a pallet changer 7, a lift device 8, a gripper device 9, and a control device 10. That is, the laser processing system 1 includes a laser processing machine 6 and a workpiece transfer system TS.

レーザ加工システム1には、保管エリアAR1および搬入出エリアAR2が設けられる。保管エリアAR1は、レーザ加工機6の+X側に配置される。保管エリアAR1には、加工前のワークW(素材ワーク)が保管される。搬入出エリアAR2は、レーザ加工機6と保管エリアAR1との間に、レーザ加工機6の+X側に隣接して配置される。搬入出エリアAR2には、加工前のワークWが保管エリアAR1から搬送される。加工前のワークWは、搬入出エリアAR2からレーザ加工機6へ搬入され、レーザ加工機6によってレーザ加工が施される。   The laser processing system 1 is provided with a storage area AR1 and a carry-in / out area AR2. The storage area AR1 is disposed on the + X side of the laser processing machine 6. In the storage area AR1, the workpiece W (material workpiece) before processing is stored. The carry-in / out area AR2 is disposed adjacent to the + X side of the laser processing machine 6 between the laser processing machine 6 and the storage area AR1. The workpiece W before processing is transported from the storage area AR1 to the carry-in / out area AR2. The workpiece W before processing is carried into the laser processing machine 6 from the carry-in / out area AR <b> 2, and laser processing is performed by the laser processing machine 6.

レーザ加工後のワークWは、レーザ加工機6から搬入出エリアAR2へ搬出される。搬入出エリアAR2は、レーザ加工後のワークWのうち製品をアンロードするアンロードエリアを兼ねている。搬入出エリアAR2において、レーザ加工後のワークWは、製品と残材(スケルトン)とに分離される。製品は、保管エリアAR1へ搬出され、保管エリアAR1に集積された後、外部へ搬出される。   The workpiece W after the laser processing is carried out from the laser processing machine 6 to the carry-in / out area AR2. The carry-in / out area AR2 also serves as an unload area for unloading the product of the workpiece W after laser processing. In the carry-in / out area AR2, the workpiece W after laser processing is separated into a product and a remaining material (skeleton). The products are carried out to the storage area AR1, collected in the storage area AR1, and then carried out to the outside.

次に、レーザ加工システム1の各部について説明する。保管装置2は、保管エリアAR1に配置される。保管装置2は、複数の保管棚11、及びエレベータ12を備える。複数の保管棚11は、鉛直方向(Z方向)に配列されている。保管棚11は、複数の加工前のワークWが載置される素材パレットを保管する。エレベータ12は、素材パレットを保管棚11から取り出し、素材パレットを昇降させる。保管エリアAR1において、保管装置2に対して+Y側に隣接して仮置エリアAR3が設けられる。保管装置2は、複数の加工前のワークWが載置された素材パレット13を仮置エリアAR3に配置する。加工前のワークWは、ローダ装置3によって仮置エリアAR3から搬入出エリアAR2へ搬送される。   Next, each part of the laser processing system 1 will be described. The storage device 2 is arranged in the storage area AR1. The storage device 2 includes a plurality of storage shelves 11 and an elevator 12. The plurality of storage shelves 11 are arranged in the vertical direction (Z direction). The storage shelf 11 stores a material pallet on which a plurality of unprocessed workpieces W are placed. The elevator 12 takes out the material pallet from the storage shelf 11 and moves the material pallet up and down. In the storage area AR1, a temporary storage area AR3 is provided adjacent to the storage device 2 on the + Y side. The storage device 2 places the material pallet 13 on which a plurality of unprocessed workpieces W are placed in the temporary placement area AR3. The workpiece W before processing is transported from the temporary placement area AR3 to the loading / unloading area AR2 by the loader device 3.

また、保管棚11は、製品が集積される製品パレットを保管する。エレベータ12は、上記の製品パレットを保管棚11から取り出し、製品パレットを昇降させる。製品パレットを仮置エリアAR3に配置する。レーザ加工により製造された製品は、ローダ装置3によって搬入出エリアAR2から仮置エリアAR3へ搬送される。レーザ加工機6と、レーザ加工機6から退避した加工パレット5と、仮置エリアAR3に配置された製品パレットとが一方向(X方向)またはほぼ一方向(X方向)に並んで配置される。製品は、仮置エリアAR3に配置された製品パレット上にローダ装置3によって集積される。保管装置2は、製品が集積された製品パレットを、仮置エリアAR3から保管棚11へ移載する。   The storage shelf 11 stores a product pallet on which products are accumulated. The elevator 12 takes out the product pallet from the storage shelf 11 and moves the product pallet up and down. The product pallet is placed in the temporary placement area AR3. The product manufactured by laser processing is transported from the loading / unloading area AR2 to the temporary placement area AR3 by the loader device 3. The laser processing machine 6, the processing pallet 5 retracted from the laser processing machine 6, and the product pallet arranged in the temporary placement area AR3 are arranged side by side in one direction (X direction) or almost one direction (X direction). . The products are accumulated by the loader device 3 on the product pallet arranged in the temporary placement area AR3. The storage device 2 transfers the product pallet on which the products are collected from the temporary storage area AR3 to the storage shelf 11.

ローダ装置3は、Yレール15と、Yレール15上を走行可能な走行台車16と、走行台車16に設けられる移載装置17とを備える。Yレール15は、加工パレット5の移動方向(X方向)に対する交差方向(Y方向)に延びている。走行台車16には、X方向に延びるXレール18が設けられ、移載装置17はXレール18に取り付けられる。移載装置17は、Xレール18に沿って移動可能なX移動体19と、X移動体19に設けられたZ移動体20と、Z移動体20の下端に設けられる吸着部21とを備える。Xレール18は、仮置エリアAR3の上方と搬入出エリアAR2の上方とにわたって設けられており、X移動体19は、仮置エリアAR3と搬入出エリアAR2との間で移動可能である。Z移動体20は、吸着部21を保持しながら、Z移動体20に対して上下方向(Z方向)に移動可能である。吸着部21は、走行台車16によりY方向に移動し、X移動体19によりX方向に移動し、Z移動体20によりZ方向に移動する。   The loader device 3 includes a Y rail 15, a traveling cart 16 that can travel on the Y rail 15, and a transfer device 17 provided on the traveling cart 16. The Y rail 15 extends in the crossing direction (Y direction) with respect to the movement direction (X direction) of the processing pallet 5. The traveling carriage 16 is provided with an X rail 18 extending in the X direction, and the transfer device 17 is attached to the X rail 18. The transfer device 17 includes an X moving body 19 that can move along the X rail 18, a Z moving body 20 provided on the X moving body 19, and a suction portion 21 provided on the lower end of the Z moving body 20. . The X rail 18 is provided over the temporary placement area AR3 and the carry-in / out area AR2, and the X moving body 19 is movable between the temporary placement area AR3 and the carry-in / out area AR2. The Z moving body 20 can move in the vertical direction (Z direction) with respect to the Z moving body 20 while holding the suction portion 21. The suction unit 21 moves in the Y direction by the traveling carriage 16, moves in the X direction by the X moving body 19, and moves in the Z direction by the Z moving body 20.

図3は、実施形態に係るローダ装置の吸着部を示す図である。吸着部21は、真空あるいは減圧によって、加工前のワークWあるいは加工後の製品を吸着する。吸着部21の下面側(−Z側)には、複数の吸着パッド22が設けられる。吸着部21には、複数の吸着パッド22として、例えば、マルチパッドおよびシングルパッドが設けられるが、マルチパッドまたはシングルパッドの一方のみが設けられてもよい。また、吸着部21は、磁気などで吸着するものでもよい。   FIG. 3 is a diagram illustrating an adsorption unit of the loader device according to the embodiment. The suction unit 21 sucks the workpiece W before processing or the product after processing by vacuum or reduced pressure. A plurality of suction pads 22 are provided on the lower surface side (−Z side) of the suction portion 21. For example, a multipad and a single pad are provided in the suction portion 21 as the plurality of suction pads 22, but only one of the multipad or the single pad may be provided. Further, the attracting part 21 may be attracted by magnetism or the like.

また、吸着部21は、吸着部21の下方をクリーニングするクリーニング部23を備える。クリーニング部23は、例えば、リフト装置8の上面側に付着したスラグ、スパッタなどの異物を除去し、リフト装置8の上面側をクリーニングする。クリーニング部23は、リフト装置8以外の部材をクリーニングしてもよく、加工パレット5の上面側(例、支持プレート32の上端部)などをクリーニングしてもよい。クリーニング部23は、ロール状のブラシであり、吸着部21の下面側に複数(図中では2つ)設けられている。クリーニング部23は、Y方向に並んで配置されている。クリーニング部23は、吸着部21とリフト装置8とが位置決めされた際に、リフト装置8の上面に対向する位置に設けられる。クリーニング部23は、吸着パッド22よりも下方に突出した位置と、吸着パッド22よりも上方に退避した位置とで昇降可能である。   The suction unit 21 includes a cleaning unit 23 that cleans the lower part of the suction unit 21. For example, the cleaning unit 23 removes foreign matters such as slag and spatter attached to the upper surface side of the lift device 8 and cleans the upper surface side of the lift device 8. The cleaning unit 23 may clean members other than the lift device 8, or may clean the upper surface side of the processing pallet 5 (for example, the upper end portion of the support plate 32). The cleaning unit 23 is a roll-shaped brush, and a plurality (two in the drawing) are provided on the lower surface side of the suction unit 21. The cleaning unit 23 is arranged side by side in the Y direction. The cleaning unit 23 is provided at a position facing the upper surface of the lift device 8 when the suction unit 21 and the lift device 8 are positioned. The cleaning unit 23 can move up and down between a position protruding downward from the suction pad 22 and a position retracted above the suction pad 22.

図3(B)に示すように、吸着部21が吸着動作を行う際に、クリーニング部23は、吸着パッド22の下端よりも上方に退避した位置に配置される。また、図3(C)に示すように、吸着部21がクリーニング動作を行う際に、クリーニング部23は、吸着パッド22の下端よりも下方に突出した位置に配置される。吸着部21は、クリーニング部23が下方に突出した状態で水平方向に移動し、クリーニング部23がリフト装置8の上面側と接触して異物を除去する。なお、クリーニング部23は、リフト装置8に非接触で異物を除去してもよい。例えば、クリーニング部23は、エアーによって異物を吹き飛ばす装置でもよく、この場合、クリーニング部23が昇降しなくてもよい。   As shown in FIG. 3B, when the suction unit 21 performs a suction operation, the cleaning unit 23 is disposed at a position retracted above the lower end of the suction pad 22. As shown in FIG. 3C, when the suction unit 21 performs a cleaning operation, the cleaning unit 23 is disposed at a position protruding downward from the lower end of the suction pad 22. The suction unit 21 moves in the horizontal direction with the cleaning unit 23 protruding downward, and the cleaning unit 23 comes into contact with the upper surface side of the lift device 8 to remove foreign matter. Note that the cleaning unit 23 may remove foreign matter in a non-contact manner with the lift device 8. For example, the cleaning unit 23 may be a device that blows out foreign matter by air, and in this case, the cleaning unit 23 does not have to move up and down.

図1および図2の説明に戻り、ローダ装置3は、仮置エリアAR3において加工前のワークWを吸着部21によって吸着する。ローダ装置3は、ワークWを吸着して搬送し、加工パレット5上にワークWを載置可能である。ローダ装置3は、吸着部21が加工前のワークWを吸着した状態でX移動体19が−X側に移動し、加工前のワークWを搬入出エリアAR2に搬送する。搬入出エリアAR2には、ステーション装置4が配置されており、ローダ装置3は、搬入出エリアAR2において走行台車16がY方向に移動して、吸着部21に吸着されたワークWをステーション装置4の上方に配置する。そして、ローダ装置3は、Z移動体20が下方に移動して吸着部21に吸着されたワークWをステーション装置4上に載置する。   Returning to the description of FIGS. 1 and 2, the loader device 3 sucks the workpiece W before processing by the suction portion 21 in the temporary placement area AR3. The loader device 3 can suck and convey the workpiece W and place the workpiece W on the processing pallet 5. In the loader device 3, the X moving body 19 moves to the −X side in a state where the suction unit 21 sucks the workpiece W before processing, and transports the workpiece W before processing to the loading / unloading area AR <b> 2. The station device 4 is arranged in the carry-in / out area AR2, and the loader device 3 moves the work cart 16 adsorbed by the adsorption unit 21 as the traveling carriage 16 moves in the Y-direction in the carry-in / out area AR2. It arranges above. Then, the loader device 3 places the workpiece W adsorbed by the adsorption unit 21 on the station device 4 as the Z moving body 20 moves downward.

図4は、実施形態に係るステーション装置4を示す図である。ステーション装置4は、加工パレット5に載置される前のワークWがローダ装置3により載置され、このワークWを位置決めする。ステーション装置4は、レーザ加工機6の外側において加工パレット5の上方に配置される。また、ステーション装置4は、加工パレット5の上方から退避可能である   FIG. 4 is a diagram illustrating the station device 4 according to the embodiment. In the station device 4, the workpiece W before being placed on the processing pallet 5 is placed by the loader device 3, and the workpiece W is positioned. The station device 4 is disposed above the processing pallet 5 outside the laser processing machine 6. The station device 4 can be retracted from above the processing pallet 5.

ステーション装置4は、Yレール25と、Yレール25に沿って移動可能な本体部26と、本体部26の上面に設けられた位置決め部材27とを備える。位置決め部材27は、ワークWの端部が当接することによりワークWを位置決めする。ローダ装置3は、加工前のワークWを位置決め部材27上に載置し、位置決め部材27を用いて加工前のワークWの位置決めを行う。   The station device 4 includes a Y rail 25, a main body portion 26 that can move along the Y rail 25, and a positioning member 27 provided on the upper surface of the main body portion 26. The positioning member 27 positions the workpiece W by contacting the end portion of the workpiece W. The loader device 3 places the workpiece W before processing on the positioning member 27 and uses the positioning member 27 to position the workpiece W before processing.

位置決め部材27は、ワークWの外周の位置を定めるエンドロケータである。位置決め部材27は、ワークWのY方向の端の位置を定める位置決めピン27a、及びワークWのX方向の端の位置を定める位置決めピン27bを備える。位置決めピン27aは、Y方向の所定の位置に、X方向と平行に並んで複数設けられる。位置決めピン27bは、X方向の所定の位置に1つ設けられる。ローダ装置3は、吸着部21に保持されたワークWの端面を位置決めピン27aに当てることで、ワークWの長辺がX方向と平行になるように、ワークWを位置決めする。また、ローダ装置3は、ワークWの端面を位置決めピン27bに当てることで、ワークWを位置決めする。そして、ローダ装置3は、吸着部21によるワークWの吸着を解除し、ワークWを本体部26上に載置する。そして、ローダ装置3は、本体部26上のワークWを吸着部21によって再度吸着し、吸着されたワークWを加工パレット5に移載する。また、本体部26の上面には、固定部29が設けられている。固定部29は、位置決め部材27によって位置決めされたワークWを本体部26に対して固定する。固定部29は、グリッパなどであり、位置決めされたワークWを把持して本体部26に固定し、把持を解除することで固定を解除する。   The positioning member 27 is an end locator that determines the position of the outer periphery of the workpiece W. The positioning member 27 includes a positioning pin 27a that determines the position of the end of the workpiece W in the Y direction and a positioning pin 27b that determines the position of the end of the workpiece W in the X direction. A plurality of positioning pins 27a are provided in parallel in the X direction at predetermined positions in the Y direction. One positioning pin 27b is provided at a predetermined position in the X direction. The loader device 3 positions the workpiece W so that the long side of the workpiece W is parallel to the X direction by applying the end surface of the workpiece W held by the suction portion 21 to the positioning pin 27a. Further, the loader device 3 positions the workpiece W by applying the end surface of the workpiece W to the positioning pins 27b. Then, the loader device 3 releases the suction of the workpiece W by the suction portion 21 and places the workpiece W on the main body portion 26. Then, the loader device 3 adsorbs the workpiece W on the main body 26 again by the adsorption unit 21 and transfers the adsorbed workpiece W to the processing pallet 5. A fixing portion 29 is provided on the upper surface of the main body portion 26. The fixing portion 29 fixes the workpiece W positioned by the positioning member 27 to the main body portion 26. The fixing unit 29 is a gripper or the like, and holds the positioned workpiece W and fixes it to the main body unit 26, and releases the fixing by releasing the holding.

加工パレット5は、ワークWを載置してレーザ加工機6の内外に移動可能である。加工パレット5は、搬入出エリアAR2とレーザ加工機6との間でワークWを搬送する。加工パレット5は、レール28(図1参照)に沿って移動可能な車輪を備える。搬入出エリアAR2(図1参照)にはパレットチェンジャ7が配置され、レール28は、レーザ加工機6からパレットチェンジャ7まで延びている。パレットチェンジャ7は、レーザ加工機6(図1、図2参照)のロードポート(搬入口、搬出口)に対して+X側に隣接しており、レーザ加工機6に対して加工パレット5の受け渡しを行う。パレットチェンジャ7による加工パレット5の受渡動作については、後に図13(C)から図14(C)で説明する。   The processing pallet 5 can be moved in and out of the laser processing machine 6 with the workpiece W placed thereon. The processing pallet 5 transports the workpiece W between the carry-in / out area AR <b> 2 and the laser processing machine 6. The processing pallet 5 includes wheels that can move along the rails 28 (see FIG. 1). The pallet changer 7 is disposed in the carry-in / out area AR2 (see FIG. 1), and the rail 28 extends from the laser processing machine 6 to the pallet changer 7. The pallet changer 7 is adjacent to the + X side with respect to the load port (carry-in port, carry-out port) of the laser beam machine 6 (see FIGS. 1 and 2), and transfers the machining pallet 5 to the laser beam machine 6. I do. The delivery operation of the processing pallet 5 by the pallet changer 7 will be described later with reference to FIGS. 13C to 14C.

パレットチェンジャ7は、加工パレット5を牽引することによって、レール28に沿って加工パレット5を搬送する。例えば、加工パレット5には、ワイヤと接続されたフックが掛けられ、このワイヤが駆動部に巻き取られることで加工パレット5が牽引される。なお、加工パレット5を移動させる機構は適宜変更可能であり、例えば、加工パレット5が自走式でもよい。   The pallet changer 7 pulls the processing pallet 5 to convey the processing pallet 5 along the rail 28. For example, a hook connected to a wire is hung on the processing pallet 5, and the processing pallet 5 is pulled by winding the wire around the drive unit. The mechanism for moving the processing pallet 5 can be changed as appropriate. For example, the processing pallet 5 may be self-propelled.

ローダ装置3が位置決め部材27に対してワークWを位置決めする際に、ステーション装置4の本体部26は、パレットチェンジャ7の上方(例、直上)に配置される。位置決め部材27で位置決めされたワークWの位置は、加工パレット5に載置すべきワークWの位置の上方(例、直上)である。本体部26は、位置決めされたワークWを吸着部21が吸着した後に、Y方向に移動してパレットチェンジャ7の上方から退避する。これにより、吸着部21は、本体部26と衝突することなく、パレットチェンジャ7の直上から下降可能になる。ローダ装置3は、Z移動体20によって吸着部21を下降させ、パレットチェンジャ7に配置された加工パレット5にワークWを載置する。   When the loader device 3 positions the workpiece W with respect to the positioning member 27, the main body portion 26 of the station device 4 is disposed above (eg, immediately above) the pallet changer 7. The position of the workpiece W positioned by the positioning member 27 is above (eg, immediately above) the position of the workpiece W to be placed on the processing pallet 5. The main body 26 moves in the Y direction and retracts from above the pallet changer 7 after the suction part 21 sucks the positioned workpiece W. Thereby, the adsorption part 21 can be lowered from directly above the pallet changer 7 without colliding with the main body part 26. The loader device 3 lowers the suction portion 21 by the Z moving body 20 and places the workpiece W on the processing pallet 5 arranged in the pallet changer 7.

図5は、実施形態に係る加工パレットを示す図である。加工パレット5(ワークW)は、Z方向から見た平面形状が概ね矩形である。加工パレット5(ワークW)において、移動方向(X方向)における長さは、移動方向の直交方向(Y方向)における長さよりも長い。加工パレット5は、ベースプレート31および複数の支持プレート32を備える。複数の支持プレート32は、それぞれ板状であり、ベースプレート31の上面に対してほぼ垂直に設けられる。複数の支持プレート32は、それぞれワークWの下面と平行な所定方向(例、Y方向)に延びており、X方向に所定の間隔で並んでいる。複数の支持プレート32は、それぞれ、鋸歯状に形成された上端部を有する。複数の支持プレート32は、ワークWの下面を複数の点(鋸歯の先端)で支持する。   FIG. 5 is a diagram illustrating a processing pallet according to the embodiment. The processing pallet 5 (work W) has a generally rectangular shape when viewed from the Z direction. In the processing pallet 5 (work W), the length in the movement direction (X direction) is longer than the length in the direction orthogonal to the movement direction (Y direction). The processing pallet 5 includes a base plate 31 and a plurality of support plates 32. The plurality of support plates 32 are each plate-shaped and are provided substantially perpendicular to the upper surface of the base plate 31. The plurality of support plates 32 each extend in a predetermined direction (for example, the Y direction) parallel to the lower surface of the workpiece W, and are arranged at predetermined intervals in the X direction. Each of the plurality of support plates 32 has an upper end formed in a sawtooth shape. The plurality of support plates 32 support the lower surface of the work W at a plurality of points (sawtooth tips).

レーザ加工機6は、加工パレット5に載置された加工前のワークWに対してレーザ光を照射して、ワークWにレーザ加工(切断加工)を施す。レーザ加工機6は、レーザヘッドと、ヘッド駆動部とを備える。レーザヘッドは、光ファイバなどの光伝送体を介してレーザ光源に接続され、下方にレーザ光を射出する。レーザ光源は、例えばファイバーレーザなどの固体レーザの光源であり、炭酸ガスレーザなどに比べて熱密度の高いレーザ光が得られる。そのため、ファイバーレーザを用いたレーザ加工機6は、高速で切断加工を行うことが可能である。レーザ加工によりワークWと加工パレット5の支持プレート32とが溶着することがあるが、支持プレート32がワークWを複数の点で支持するので、支持プレート32とワークWとの溶着部を減らすことができる。   The laser processing machine 6 irradiates the workpiece W with laser light on the unprocessed workpiece W placed on the processing pallet 5 to perform laser processing (cutting processing) on the workpiece W. The laser processing machine 6 includes a laser head and a head driving unit. The laser head is connected to a laser light source via an optical transmission body such as an optical fiber, and emits laser light downward. The laser light source is, for example, a solid-state laser light source such as a fiber laser, and can obtain laser light having a higher heat density than a carbon dioxide laser or the like. Therefore, the laser beam machine 6 using a fiber laser can perform cutting at high speed. Although the workpiece W and the support plate 32 of the processing pallet 5 may be welded by laser processing, since the support plate 32 supports the workpiece W at a plurality of points, the welded portion between the support plate 32 and the workpiece W is reduced. Can do.

図5(B)に示すように、ワークWは、レーザ加工によって、複数の製品Waと残材Wb(スケルトン、製品Waの周辺部分)とに切り分けられる。加工パレット5は、レーザ加工により切り分けられた製品Waおよび残材Wbを含むワークWを保持して移動可能である。   As shown in FIG. 5B, the workpiece W is cut into a plurality of products Wa and a remaining material Wb (skeleton, peripheral portion of the product Wa) by laser processing. The processing pallet 5 is movable while holding the workpiece W including the product Wa and the remaining material Wb cut by laser processing.

搬入出エリアAR2(図1参照)には、リフト装置8が設けられる。リフト装置8は、加工パレット5に載置された加工後のワークWを加工パレット5から持ち上げる。リフト装置8は、パレットチェンジャ7に配置された加工パレット5の直下に配置される。リフト装置8は、レーザ加工機6から退避した加工パレット5の下方の位置と、加工パレット5上のワークWを持ち上げる位置との間を昇降可能である。   A lift device 8 is provided in the carry-in / out area AR2 (see FIG. 1). The lift device 8 lifts the processed workpiece W placed on the processing pallet 5 from the processing pallet 5. The lift device 8 is disposed immediately below the processing pallet 5 disposed on the pallet changer 7. The lift device 8 can move up and down between a position below the processing pallet 5 retracted from the laser processing machine 6 and a position to lift the workpiece W on the processing pallet 5.

図6は、本実施形態に係るリフト装置を示す図である。リフト装置8は、ベース35と、可動プレート36と、複数の腕部37とを備える。ベース35は、パレットチェンジャ7との相対位置が固定されており、パレットチェンジャ7に加工パレット5が配置された際に加工パレット5の直下に配置される。可動プレート36は、ベース35上に取り付けられており、ベース35を支持として鉛直方向に移動可能である。複数の腕部37は、それぞれ、可動プレート36の上面に配置されている。ここでは、複数の腕部37は、X方向とY方向とに2次元的に配列されている。   FIG. 6 is a diagram illustrating the lift device according to the present embodiment. The lift device 8 includes a base 35, a movable plate 36, and a plurality of arm portions 37. The base 35 has a fixed relative position to the pallet changer 7, and is disposed immediately below the processing pallet 5 when the processing pallet 5 is disposed on the pallet changer 7. The movable plate 36 is attached on the base 35 and is movable in the vertical direction with the base 35 as a support. The plurality of arm portions 37 are respectively disposed on the upper surface of the movable plate 36. Here, the plurality of arm portions 37 are two-dimensionally arranged in the X direction and the Y direction.

腕部37は、例えば板状であり、可動プレート36の上面から上方へ垂直に延びている。腕部37は、板状以外の形状でもよく、例えば柱状でもよい。腕部37は、加工パレット5において隣り合う2つの支持プレート32の間に挿入可能なように、寸法および配置が設定されている。腕部37の上面は、ワークWと対向可能であり、複数の腕部37で上面の位置(高さ)が揃っている。複数の腕部37の上面には、それぞれ、吸着部38が設けられる。   The arm portion 37 has, for example, a plate shape, and extends vertically upward from the upper surface of the movable plate 36. The arm portion 37 may have a shape other than a plate shape, for example, a column shape. The size and arrangement of the arm portion 37 are set so that the arm portion 37 can be inserted between two adjacent support plates 32 in the processing pallet 5. The upper surface of the arm portion 37 can be opposed to the workpiece W, and the position (height) of the upper surface is aligned with the plurality of arm portions 37. Adsorbing portions 38 are provided on the upper surfaces of the plurality of arm portions 37, respectively.

図6(B)には、吸着部38のうち1つの腕部37に設けられる部分を代表的に示した。吸着部38は、ワークWと対向する腕部37の上面37aに設けられる。吸着部38は、リフト装置8に支持されたワークWのうち少なくとも製品Waを吸着する。吸着部38は、複数の吸着パッド39を備え、複数の吸着パッド39は、腕部37の長さ方向(Y方向)に並んでいる。ここでは、複数の吸着パッド39は、所定の数の吸着パッド39ごとに一括して、腕部37に取り付けられている。腕部37の内部に気密性を有する流路40(空洞)が設けられ、吸着パッド39は、流路40を介した減圧により、ワークWを吸着する。流路40は、腕部37の長さ方向(Y方向)に延びており、減圧装置と接続される。なお、上述の吸着部38の構成は、一例であり、適宜変更することができる。   FIG. 6B representatively shows a portion provided on one arm portion 37 of the suction portion 38. The suction portion 38 is provided on the upper surface 37 a of the arm portion 37 that faces the workpiece W. The suction unit 38 sucks at least the product Wa among the workpieces W supported by the lift device 8. The suction portion 38 includes a plurality of suction pads 39, and the plurality of suction pads 39 are arranged in the length direction (Y direction) of the arm portion 37. Here, the plurality of suction pads 39 are collectively attached to the arm portion 37 for each predetermined number of suction pads 39. An airtight flow path 40 (cavity) is provided inside the arm portion 37, and the suction pad 39 sucks the workpiece W by decompression through the flow path 40. The flow path 40 extends in the length direction (Y direction) of the arm portion 37 and is connected to the decompression device. In addition, the structure of the above-mentioned adsorption | suction part 38 is an example, and can be changed suitably.

図7は、実施形態に係るリフト装置の動作を示す図である。図7(A)において、加工後のワークWを保持した加工パレット5は、リフト装置8の上方に配置されている。この状態において、可動プレート36がベース35を支持として上方へ移動する。図7(B)に示すように、可動プレート36は、腕部37の上端が支持プレート32の上端よりも上方となるまで移動し、ワークWが加工パレット5から複数の腕部37に受け渡される。   FIG. 7 is a diagram illustrating an operation of the lift device according to the embodiment. In FIG. 7A, the processing pallet 5 holding the processed workpiece W is disposed above the lift device 8. In this state, the movable plate 36 moves upward with the base 35 as a support. As shown in FIG. 7B, the movable plate 36 moves until the upper end of the arm portion 37 is above the upper end of the support plate 32, and the workpiece W is transferred from the processing pallet 5 to the plurality of arm portions 37. It is.

ステーション装置4は、加工パレット5の上方において加工後のワークWから残材Wbを保持して搬出するグリッパ装置9(残材搬出装置)を備える。グリッパ装置9(図4参照)は、図5(B)に示した製品Waおよび残材Wbを含むワークWから残材Wbを除去する。グリッパ装置9は、リフト装置8に持ち上げられた加工後のワークWから残材Wbを保持して搬出する。グリッパ装置9は、ローダ装置3と別に設けられ、ローダ装置3によって製品Waがピックアップされるよりも前に、残材Wbを除去する。   The station device 4 includes a gripper device 9 (remaining material unloading device) that holds and unloads the remaining material Wb from the workpiece W after processing above the processing pallet 5. The gripper device 9 (see FIG. 4) removes the remaining material Wb from the workpiece W including the product Wa and the remaining material Wb shown in FIG. The gripper device 9 holds and leaves the remaining material Wb from the processed workpiece W lifted by the lift device 8. The gripper device 9 is provided separately from the loader device 3 and removes the remaining material Wb before the product Wa is picked up by the loader device 3.

グリッパ装置9は、レーザ加工機6と、レーザ加工機6から退避した加工パレット5と、仮置エリアAR3とが並ぶ方向(X方向)と直交する方向(Y方向)に移動可能である。この場合、システムレイアウトがX方向に長くなることを避けることができ、例えば、長尺の長方形よりも正方形に近いレイアウト内にシステムを収めることができる。グリッパ装置9は、ステーション装置4の本体部26に支持され、本体部26と一体的にY方向に移動する。グリッパ装置9は、複数の把持部41を備える。複数の把持部41は、本体部26に対して−Y側に配置され、X方向に並んでいる。なお、複数の把持部41は、本体部26に対して+Y側にも同様に配置される。複数の把持部41は昇降可能に設けられる。   The gripper device 9 is movable in a direction (Y direction) orthogonal to a direction (X direction) in which the laser processing machine 6, the processing pallet 5 retracted from the laser processing machine 6, and the temporary placement area AR3 are arranged. In this case, it is possible to avoid the system layout from becoming long in the X direction. For example, the system can be accommodated in a layout closer to a square than a long rectangle. The gripper device 9 is supported by the main body portion 26 of the station device 4 and moves in the Y direction integrally with the main body portion 26. The gripper device 9 includes a plurality of grip portions 41. The plurality of gripping portions 41 are arranged on the −Y side with respect to the main body portion 26 and are arranged in the X direction. The plurality of grip portions 41 are similarly arranged on the + Y side with respect to the main body portion 26. The plurality of gripping portions 41 are provided so as to be movable up and down.

グリッパ装置9が残材Wbの除去動作を行う際に、ステーション装置4の本体部26は、複数の把持部41がワークWの外周近傍の上方へ配置されるように、ワークWに対して位置決めされる。また、リフト装置8の吸着部38(図7(B)参照)は、ワークWのうち製品Waを吸着する。この状態で、複数の把持部41は、下降してワークWの残材Wbを把持した後、上昇してワークWから残材Wbを除去する(持ち上げる)。吸着部38が製品Waを吸着しているので、製品Waが残材Wbに引っかかって持ち上がること等が抑制される。   When the gripper device 9 performs the removal operation of the remaining material Wb, the main body portion 26 of the station device 4 is positioned with respect to the workpiece W so that the plurality of gripping portions 41 are arranged above the vicinity of the outer periphery of the workpiece W. Is done. Further, the suction unit 38 (see FIG. 7B) of the lift device 8 sucks the product Wa out of the workpiece W. In this state, the plurality of gripping portions 41 descend and grip the remaining material Wb of the workpiece W, and then ascend and remove (lift) the remaining material Wb from the workpiece W. Since the adsorption part 38 is adsorbing the product Wa, the product Wa is prevented from being caught by the remaining material Wb and being lifted.

そして、ステーション装置4は、分離された残材Wbが複数の把持部41に把持された状態で、残材回収部42(図1参照)の上方まで−Y側に移動する。そして、複数の把持部41が残材Wbの把持を解除し、残材Wbが落下して残材回収部42に収容(載置)される。すなわち、残材回収部42は、グリッパ装置9が移動可能な範囲の下方に配置され、グリッパ装置9が搬出する残材を載置する。残材回収部42は、レーザ加工機6から退避した加工パレット5に対して、加工パレット5の移動方向(X方向)と直交する方向(Y方向)に並んで配置される。   Then, the station apparatus 4 moves to the −Y side up to above the remaining material recovery unit 42 (see FIG. 1) in a state where the separated remaining material Wb is held by the plurality of holding units 41. Then, the plurality of gripping portions 41 release the gripping of the remaining material Wb, and the remaining material Wb falls and is accommodated (placed) in the remaining material collecting portion 42. That is, the remaining material collection unit 42 is disposed below the range in which the gripper device 9 is movable, and places the remaining material carried out by the gripper device 9. The remaining material collection unit 42 is arranged side by side in a direction (Y direction) perpendicular to the moving direction (X direction) of the processing pallet 5 with respect to the processing pallet 5 retracted from the laser processing machine 6.

上述のように残材Wbが除去された後、リフト装置8の腕部37上には製品Waが残っている。図1に示したローダ装置3は、製品Waを吸着部21によって吸着(ピックアップ)し、保管エリアAR1の仮置エリアAR3へ搬送する。仮置エリアAR3には保管装置2によって製品パレットが配置されており、ローダ装置3は、1回または2回以上の移載処理によって、1枚のワークWに形成された製品Waを全て製品パレット上へ移載する。   After the remaining material Wb is removed as described above, the product Wa remains on the arm portion 37 of the lift device 8. The loader device 3 shown in FIG. 1 sucks (picks up) the product Wa by the suction portion 21 and transports it to the temporary placement area AR3 of the storage area AR1. A product pallet is arranged in the temporary storage area AR3 by the storage device 2, and the loader device 3 uses the product pallet for all the products Wa formed on one workpiece W by one or more transfer processes. Transfer to the top.

ローダ装置3は、例えば、複数の製品Waを一括してピックアップする。ローダ装置3は、1枚のワークWに形成された複数の製品Waを仕分けしてピックアップしてもよい。ローダ装置3は、一部の製品Waをピックアップした後、リフト装置8に対して相対移動して他の製品Waをピックアップしてもよい。ローダ装置3は、例えば、ピックアップを行うごとに製品Waを製品パレット上へ移載する。ローダ装置3は、複数回のピックアップを行った後に製品Waを製品パレット上へ移載してもよい。ローダ装置3は、例えば、ピックアップした複数の製品Waを一括して製品パレット上へ移載する。ローダ装置3は、ピックアップした複数の製品Waを複数回に分けて移載してもよい。例えば、ローダ装置3は、一部の製品Waを移載した後、製品パレットに対して相対移動して他の製品Waを移載してもよい。1枚のワークWに2種類以上の製品が形成される場合、ローダ装置3は、製品を種類ごとに仕分けし、製品の種類ごとに製品パレットへ移載してもよい。   For example, the loader device 3 picks up a plurality of products Wa at a time. The loader device 3 may sort and pick up a plurality of products Wa formed on one workpiece W. The loader device 3 may pick up some products Wa and then move relative to the lift device 8 to pick up other products Wa. For example, the loader device 3 transfers the product Wa onto the product pallet each time pickup is performed. The loader device 3 may transfer the product Wa onto the product pallet after picking up a plurality of times. For example, the loader device 3 collectively transfers a plurality of picked up products Wa onto a product pallet. The loader device 3 may transfer a plurality of picked up products Wa in a plurality of times. For example, after transferring some products Wa, the loader device 3 may move relative to the product pallet to transfer other products Wa. When two or more types of products are formed on one workpiece W, the loader device 3 may sort the products by type and transfer them to the product pallet for each type of product.

本実施形態において、搬入出エリアAR2にはシャッタ装置が設けられる。図8は、実施形態に係るシャッタ装置を示す図である。シャッタ装置45は、加工パレット5と、加工パレット5の下方に位置するリフト装置8との間を開閉可能である。シャッタ装置45は、スラグあるいはスパッタなどの異物がリフト装置8の上面側に付着することを抑制する。シャッタ装置45は、加工パレット5上の加工後のワークWの下方に配置されたリフト装置8の上方を覆うように閉じた状態となる。シャッタ装置45は、ロールとして巻かれるシート状のシャッタ部材46と、シャッタ部材46の開閉部47と、異物分離部48とを備える。シャッタ部材46は、布などの変形自在なシート状(帯状)の部材にリブを取り付けた構造である。リブは、例えばアルミニウム製の棒状の部材である、リブは、Y方向に延びており、X方向に周期的に設けられる。   In the present embodiment, a shutter device is provided in the carry-in / out area AR2. FIG. 8 is a diagram illustrating the shutter device according to the embodiment. The shutter device 45 can open and close between the processing pallet 5 and the lift device 8 positioned below the processing pallet 5. The shutter device 45 suppresses foreign matter such as slag or spatter from adhering to the upper surface side of the lift device 8. The shutter device 45 is in a closed state so as to cover the upper portion of the lift device 8 disposed below the workpiece W after processing on the processing pallet 5. The shutter device 45 includes a sheet-like shutter member 46 wound as a roll, an opening / closing part 47 of the shutter member 46, and a foreign matter separating part 48. The shutter member 46 has a structure in which a rib is attached to a deformable sheet-like (band-like) member such as cloth. The rib is, for example, a rod-shaped member made of aluminum. The rib extends in the Y direction and is periodically provided in the X direction.

シャッタ部材46は、パレットチェンジャ7に配置された加工パレット5と、リフト装置8との間の空間SPに対して挿入および退避が可能である。図8(A)において、シャッタ部材46は、空間SPに挿入されており、リフト装置8を覆うように配置されている。開閉部47は、図8(B)に示すようにシャッタ部材46を巻き取ることによって、シャッタ部材46を空間SPから退避させる。また、開閉部47は、シャッタ部材46を繰り出すことによって、シャッタ部材46を空間SPに挿入する。シャッタ部材46が空間SPに挿入した状態において、シャッタ部材46の上方から落下した異物はシャッタ部材46に付着する。異物分離部48は、リフト装置8から側方に離れて配置され、シャッタ部材46に付着した異物の分離を促進する。異物分離部48は、シャッタ部材48に接触し、空間SPに挿脱される際のシャッタ部材48と相対移動して、シャッタ部材48の表面から異物を掻きとる。   The shutter member 46 can be inserted into and retracted from the space SP between the processing pallet 5 arranged in the pallet changer 7 and the lift device 8. In FIG. 8A, the shutter member 46 is inserted into the space SP and is disposed so as to cover the lift device 8. The opening / closing part 47 retracts the shutter member 46 from the space SP by winding the shutter member 46 as shown in FIG. Moreover, the opening / closing part 47 inserts the shutter member 46 into the space SP by extending the shutter member 46. In a state where the shutter member 46 is inserted into the space SP, the foreign matter dropped from above the shutter member 46 adheres to the shutter member 46. The foreign matter separation unit 48 is disposed laterally away from the lift device 8 and promotes the separation of foreign matter attached to the shutter member 46. The foreign matter separating unit 48 contacts the shutter member 48 and moves relative to the shutter member 48 when being inserted into and removed from the space SP to scrape foreign matter from the surface of the shutter member 48.

開閉部47は、チェーン51、スプロケット52、及びロール53を備える。スプロケット52は、パレットチェンジャ7の+X側の端部と、−X側の端部とに設けられており、チェーン51は、これらスプロケット52に掛け渡されている。チェーン51は、スプロケット52が回転することによってトラック状の軌道を周回する。シャッタ部材46は、−X側の端部がチェーン51と固定されており、チェーン51の周回によってX方向に移動する。シャッタ部材46による開閉方向(X方向)は、加工パレット5の移動方向と同一またはほぼ同一である。   The opening / closing part 47 includes a chain 51, a sprocket 52, and a roll 53. The sprocket 52 is provided at the + X side end and the −X side end of the pallet changer 7, and the chain 51 is stretched over the sprocket 52. The chain 51 circulates on a track-like track as the sprocket 52 rotates. The end of the shutter member 46 on the −X side is fixed to the chain 51, and moves in the X direction by the rotation of the chain 51. The opening / closing direction (X direction) by the shutter member 46 is the same as or substantially the same as the moving direction of the processing pallet 5.

ロール53は、シャッタ部材46を空間SPから退避する際に、シャッタ部材46を巻き取る。また、シャッタ装置45は、シャッタ部材46がロール53として巻き取られることにより、加工パレット5とリフト装置8との間を開く。また、ロール53は、シャッタ部材46を空間SPに挿入する際に、シャッタ部材46を繰り出す。シャッタ装置45は、シャッタ部材46がロール53から引き出されることにより、加工パレット5とリフト装置8との間に配置されて両者間を閉じる。なお、シャッタ装置45は、図8の構成に限定されず、適宜変更可能である。   The roll 53 winds up the shutter member 46 when the shutter member 46 is retracted from the space SP. The shutter device 45 opens the space between the processing pallet 5 and the lift device 8 when the shutter member 46 is wound as a roll 53. Further, the roll 53 extends the shutter member 46 when the shutter member 46 is inserted into the space SP. The shutter device 45 is disposed between the processing pallet 5 and the lift device 8 when the shutter member 46 is pulled out from the roll 53, and closes between the two. The shutter device 45 is not limited to the configuration shown in FIG.

図9から図11は、実施形態に係るシャッタ装置の動作を示す図である。図9(A)において、パレットチェンジャ7には、加工前のワークW1を保持した加工パレット5Aが配置されており、加工後のワークW2を保持した加工パレット5Bがレーザ加工機6から搬入される。加工パレット5Bがパレットチェンジャ7に搬入される際に、シャッタ部材46は、リフト装置8を覆うように配置されている。加工後のワークW2にはスラグあるいはスパッタなどの異物Qが付着している場合があり、この異物QはワークW2から落下する。図9(B)に示すように、異物Qは、シャッタ部材46の上面に付着することで、シャッタ部材46の下方に落下することが抑制される。したがって、リフト装置8に異物Qが付着することが抑制される。加工パレット5Bがパレットチェンジャ7に搬入された後、加工前のワークW1を保持した加工パレット5Aは、レーザ加工機6に搬入される。   9 to 11 are diagrams illustrating the operation of the shutter device according to the embodiment. In FIG. 9A, a pallet changer 7 is provided with a processing pallet 5A that holds a workpiece W1 before processing, and a processing pallet 5B that holds a workpiece W2 after processing is carried in from a laser processing machine 6. . When the processing pallet 5 </ b> B is carried into the pallet changer 7, the shutter member 46 is disposed so as to cover the lift device 8. In some cases, foreign matter Q such as slag or spatter adheres to the workpiece W2 after processing, and the foreign matter Q falls from the workpiece W2. As shown in FIG. 9B, the foreign matter Q adheres to the upper surface of the shutter member 46, and is thereby prevented from falling below the shutter member 46. Therefore, the foreign material Q is suppressed from adhering to the lift device 8. After the processing pallet 5B is loaded into the pallet changer 7, the processing pallet 5A holding the unprocessed workpiece W1 is loaded into the laser beam machine 6.

加工パレット5Aがレーザ加工機6に搬入された後、図10(A)に示すように、シャッタ装置45の開閉部47は、シャッタ部材46を加工パレット5Bとリフト装置8との間の空間SPから退避させる。シャッタ装置45は、シャッタ部材46上の異物Qを回収する異物回収部54を備える。異物回収部54は、異物分離部48の下方に配置される。ロール53がシャッタ部材46を巻き取る際に、異物Qは、シャッタ部材46から脱離して異物回収部54に収容される。図10(B)に示すように、シャッタ部材46が空間SPから退避すると、リフト装置8の上方が開放され、リフト装置8は、腕部37を上昇させることが可能になる。図11(A)に示すように、リフト装置8は、シャッタ部材46が空間SPから退避した状態において、腕部37を上昇させて加工後のワークW2を加工パレット5Bから持ち上げる。   After the processing pallet 5A is carried into the laser processing machine 6, as shown in FIG. 10A, the opening / closing part 47 of the shutter device 45 places the shutter member 46 in the space SP between the processing pallet 5B and the lift device 8. Evacuate from. The shutter device 45 includes a foreign material collection unit 54 that collects the foreign material Q on the shutter member 46. The foreign matter collection unit 54 is disposed below the foreign matter separation unit 48. When the roll 53 winds up the shutter member 46, the foreign matter Q is detached from the shutter member 46 and accommodated in the foreign matter collection unit 54. As shown in FIG. 10B, when the shutter member 46 is retracted from the space SP, the upper portion of the lift device 8 is opened, and the lift device 8 can raise the arm portion 37. As shown in FIG. 11A, the lift device 8 raises the arm portion 37 to lift the processed workpiece W2 from the processing pallet 5B in a state where the shutter member 46 is retracted from the space SP.

ところで、シャッタ部材46が空間SPから退避した状態において、例えば加工パレット5BあるいはワークW2に残留した異物がリフト装置8に落下する可能性がある。そこで、図11(B)に示すように、ローダ装置3は、リフト装置8の上面側の吸着部38などをクリーニングする。ローダ装置3は、加工パレット5BからワークW2(残材Wbおよび製品Wa)がアンロードされた状態において、クリーニング部23を下方に突出させ、X方向に移動する。これにより、リフト装置8の上面側の吸着部38等がクリーニング部23によってクリーニングされる。   By the way, in a state where the shutter member 46 is retracted from the space SP, for example, foreign matter remaining on the processing pallet 5B or the workpiece W2 may fall onto the lift device 8. Therefore, as illustrated in FIG. 11B, the loader device 3 cleans the suction portion 38 and the like on the upper surface side of the lift device 8. The loader device 3 projects the cleaning unit 23 downward and moves in the X direction in a state where the workpiece W2 (remaining material Wb and product Wa) is unloaded from the processing pallet 5B. As a result, the suction unit 38 and the like on the upper surface side of the lift device 8 are cleaned by the cleaning unit 23.

図1に示した制御装置10は、ワーク搬送システムTSを包括的に制御する。制御装置10は、ステーション装置4を制御し、搬入出エリアAR2における加工パレット5上にステーション装置4を配置させる。制御装置10は、ローダ装置3を制御し、加工パレット5上に配置されたステーション装置4上でワークWを位置決めさせる。制御装置10は、ステーション装置4を制御し、ステーション装置4上でワークWが位置決めされた後に、加工パレット5上からステーション装置4を退避させる。   The control device 10 shown in FIG. 1 comprehensively controls the workpiece transfer system TS. The control device 10 controls the station device 4 to place the station device 4 on the processing pallet 5 in the carry-in / out area AR2. The control device 10 controls the loader device 3 to position the workpiece W on the station device 4 arranged on the processing pallet 5. The control device 10 controls the station device 4 and retracts the station device 4 from the processing pallet 5 after the workpiece W is positioned on the station device 4.

ここで、加工パレット5にワークWが載置される位置(パレットチェンジャ7の位置)をワークロード位置と称する。また、ワークロード位置に配置された加工パレット5の上方をローダ装置3の吸着部21が下降可能なようにステーション装置4が退避した位置を退避位置と称する。制御装置10は、ステーション装置4を制御し、ステーション装置4上でワークWが位置決めされた後に、ステーション装置4を加工パレット5上から上記の退避位置へ移動させる。   Here, the position where the workpiece W is placed on the processing pallet 5 (the position of the pallet changer 7) is referred to as a work load position. Further, a position where the station device 4 is retracted so that the suction portion 21 of the loader device 3 can descend above the processing pallet 5 arranged at the workload position is referred to as a retracted position. The control device 10 controls the station device 4, and after the work W is positioned on the station device 4, the control device 10 moves the station device 4 from the processing pallet 5 to the retreat position.

制御装置10は、位置決めされたワークWを吸着したローダ装置3を制御し、加工パレット5上からステーション装置4が退避した後に、ローダ装置3によってワークWを加工パレット5に載置させる。制御装置10は、ステーション装置4を制御し、位置決めされたワークWが載置された加工パレット5がレーザ加工機6に搬入された後に、ステーション装置4を上記のワークロード位置の上方へ移動させる。すなわち、制御装置10は、加工パレット5がレーザ加工機6に搬入された後に、ステーション装置4を、ワークWを位置決めする位置へ移動させる。制御装置10は、ローダ装置3を制御し、ワークWがレーザ加工機6へ搬入されてからレーザ加工機6から搬出されるまでの間に、次の加工対象のワークWの位置決めをステーション装置4上で実行させる。   The control device 10 controls the loader device 3 that has attracted the positioned workpiece W, and after the station device 4 is retracted from the processing pallet 5, the loader device 3 places the workpiece W on the processing pallet 5. The control device 10 controls the station device 4, and after the processing pallet 5 on which the positioned workpiece W is placed is loaded into the laser processing machine 6, the station device 4 is moved to above the work load position. . In other words, the control device 10 moves the station device 4 to a position where the workpiece W is positioned after the processing pallet 5 is carried into the laser processing machine 6. The control device 10 controls the loader device 3, and positions the workpiece W to be processed next from the time when the workpiece W is carried into the laser processing machine 6 until it is carried out from the laser processing machine 6. Run on.

次に、上述のレーザ加工システム1の動作に基づき、実施形態に係るレーザ加工方法について説明する。図12から図20は、実施形態に係るレーザ加工システムの動作を示す図である。レーザ加工システム1の各部については、適宜、図1から図11を参照する。   Next, the laser processing method according to the embodiment will be described based on the operation of the laser processing system 1 described above. 12 to 20 are diagrams illustrating the operation of the laser processing system according to the embodiment. As for each part of the laser processing system 1, FIGS. 1 to 11 will be referred to as appropriate.

図12(A)において、レーザ加工機6には、加工パレット5Aが配置されている。また、保管エリアAR1のパレットチェンジャ7には加工パレット5Bが配置されている。保管装置2(図1参照)は、加工前のワークWが載置された素材パレット13を仮置エリアAR3に配置する。図12(B)において、ローダ装置3は、吸着部21を下降させ、仮置エリアAR3のワークWを吸着する。図12(C)において、ローダ装置3は、吸着部21を搬入出エリアAR2に移動させ、ワークWをステーション装置4の本体部26上に配置する。ローダ装置3は、ワークWの端面(外周)が位置決め部材27(エンドロケータ)の所定の位置と接触するように吸着部21を水平方向に移動させ、ワークWを位置決めする。   In FIG. 12A, a laser processing machine 6 is provided with a processing pallet 5A. A processing pallet 5B is arranged in the pallet changer 7 in the storage area AR1. The storage device 2 (see FIG. 1) places the material pallet 13 on which the workpiece W before processing is placed in the temporary placement area AR3. In FIG. 12B, the loader device 3 lowers the suction portion 21 and sucks the work W in the temporary placement area AR3. In FIG. 12C, the loader device 3 moves the suction unit 21 to the carry-in / out area AR <b> 2 and places the workpiece W on the main body 26 of the station device 4. The loader device 3 moves the suction portion 21 in the horizontal direction so that the end surface (outer periphery) of the workpiece W comes into contact with a predetermined position of the positioning member 27 (end locator), thereby positioning the workpiece W.

図13(A)において、ローダ装置3は、位置決めされたワークWに対する吸着部21の吸着を解除し、ワークWを本体部26上に載置する。ワークWが回転した姿勢で吸着部21に吸着されていた場合、ワークWが位置決めされることで吸着部21の吸着パッド22(図3参照)が変形するが、吸着が解除された際にこの変形が解消される。図13(B)において、ローダ装置3は、位置決めされたワークWを吸着部21によって再度吸着する。図13(B)において、レーザ加工機6内の加工パレット5Bは、搬入出エリアAR2の加工パレット5Aの下方に搬出される。また、ローダ装置3は、加工パレット5Aの直上にワークWを保持しており、ステーション装置4は、加工パレット5Bの上方からY方向(図4参照)に退避する。これにより、ローダ装置3の吸着部21は、加工パレット5Bの直上から下降することが可能になる。   In FIG. 13A, the loader device 3 releases the suction of the suction part 21 to the positioned work W and places the work W on the main body part 26. When the workpiece W is attracted to the suction portion 21 in a rotated posture, the suction pad 22 (see FIG. 3) of the suction portion 21 is deformed by positioning the workpiece W, but when the suction is released, Deformation is eliminated. In FIG. 13B, the loader device 3 sucks the positioned workpiece W again by the suction unit 21. In FIG. 13B, the processing pallet 5B in the laser beam machine 6 is carried out below the processing pallet 5A in the carry-in / out area AR2. The loader device 3 holds the workpiece W directly above the processing pallet 5A, and the station device 4 retreats from above the processing pallet 5B in the Y direction (see FIG. 4). Thereby, the adsorption | suction part 21 of the loader apparatus 3 can fall from right above the process pallet 5B.

図14(A)において、ローダ装置3の吸着部21は、下降して加工パレット5B上にワークWを配置し、吸着を解除する。これにより、ワークWは、加工パレット5Bに対してワークWが位置決めされて、加工パレット5Bに載置される。ローダ装置3の吸着部21は、図14(B)において上昇し、図14(C)において保管エリアAR1に配置されている次のワークWを吸着する。また、加工前のワークWを保持した加工パレット5Bは、レーザ加工機6に搬入される。   In FIG. 14A, the suction unit 21 of the loader device 3 descends to place the workpiece W on the processing pallet 5B and release the suction. Thereby, the workpiece | work W is positioned with respect to the process pallet 5B, and is mounted in the process pallet 5B. The suction part 21 of the loader device 3 rises in FIG. 14B and sucks the next workpiece W arranged in the storage area AR1 in FIG. 14C. Further, the processing pallet 5 </ b> B holding the workpiece W before processing is carried into the laser processing machine 6.

図15(A)において、レーザ加工機6は、加工パレット5B上のワークWに対してレーザ加工を施す。これにより、ワークWは、製品Waと残材Wbとに切り分けられる。また、パレットチェンジャ7は、加工パレット5Aを上昇させる。また、ローダ装置3は、次のワークWを位置決めし、ステーション装置4の本体部26上に移載する。ローダ装置3による位置決め処理は、図12(C)から図13(B)と同様である。図15(B)において、ステーション装置4は、加工パレット5Aの直上から退避する。また、加工後のワークWを保持した加工パレット5Bは、レーザ加工機6から搬入出エリアAR2のパレットチェンジャ7へ搬出され、加工パレット5Aの下方に配置される。図15(C)において、ローダ装置3の吸着部21は、加工前のワークWを加工パレット5A上に載置する。   In FIG. 15A, the laser processing machine 6 performs laser processing on the workpiece W on the processing pallet 5B. Thereby, the workpiece | work W is cut into the product Wa and the remaining material Wb. The pallet changer 7 raises the processing pallet 5A. The loader device 3 positions the next workpiece W and transfers it onto the main body 26 of the station device 4. The positioning process by the loader device 3 is the same as that shown in FIGS. 12C to 13B. In FIG. 15B, the station device 4 is retreated from directly above the processing pallet 5A. Further, the processing pallet 5B holding the processed workpiece W is unloaded from the laser processing machine 6 to the pallet changer 7 in the loading / unloading area AR2, and is arranged below the processing pallet 5A. In FIG. 15C, the suction unit 21 of the loader device 3 places the workpiece W before processing on the processing pallet 5A.

ローダ装置3の吸着部21は、図16(A)において上昇し、図16(B)において保管エリアAR1に配置されている次のワークWを吸着する。また、加工前のワークWを保持した加工パレット5Aは、レーザ加工機6に搬入される。図16(C)において、レーザ加工機6は、加工パレット5A上のワークWに対してレーザ加工を施す。また、パレットチェンジャ7は、加工後のワークWを保持した加工パレット5Bを上昇させる。また、ローダ装置3は、次のワークWを位置決めし、ステーション装置4の本体部26上に移載する。   The suction part 21 of the loader device 3 ascends in FIG. 16 (A) and sucks the next work W arranged in the storage area AR1 in FIG. 16 (B). Further, the processing pallet 5 </ b> A holding the workpiece W before processing is carried into the laser processing machine 6. In FIG. 16C, the laser processing machine 6 performs laser processing on the workpiece W on the processing pallet 5A. Further, the pallet changer 7 raises the processing pallet 5B holding the processed workpiece W. The loader device 3 positions the next workpiece W and transfers it onto the main body 26 of the station device 4.

図17(A)において、シャッタ装置45は、シャッタ部材46をリフト装置8と加工パレット5Bとの間の空間SPから退避させる。図17(B)において、リフト装置8は、腕部37を上昇させ、加工パレット5Bから加工後のワークWを持ち上げる。図17(C)において、グリッパ装置9の把持部41は、下降して加工後のワークWにおける残材Wbを把持する。   In FIG. 17A, the shutter device 45 retracts the shutter member 46 from the space SP between the lift device 8 and the processing pallet 5B. In FIG. 17B, the lift device 8 raises the arm portion 37 and lifts the processed workpiece W from the processing pallet 5B. In FIG. 17C, the gripper 41 of the gripper device 9 descends and grips the remaining material Wb in the workpiece W after processing.

図18(A)において、リフト装置8の吸着部38(図7(B)参照)は、ワークWのうち製品Waを吸着しており、この状態で、グリッパ装置9の把持部41は、上昇して残材Wbを製品Waから分離する。把持部41が残材Wbを持ち上げた際に、ワークW上をレーザスキャンすることで、製品Waと残材Wbとの分離が確認される。加工パレット5B上には、加工後のワークWのうち製品Waが選択的に残る。図18(B)において、グリッパ装置9は、ステーション装置4と一体的に−Y側に移動して、残材回収部42(図1参照)の上方に配置される。また、グリッパ装置9は、残材Wbの把持を解除し、残材Wbが残材回収部42に収容される。また、保管エリアAR1において、保管装置2(図1参照)は、仮置エリアAR3に製品パレット55を配置する。図18(C)において、ローダ装置3の吸着部21は、下降して製品Waを吸着する。   In FIG. 18 (A), the suction part 38 (see FIG. 7 (B)) of the lift device 8 sucks the product Wa out of the workpiece W, and in this state, the grip part 41 of the gripper device 9 rises. Thus, the remaining material Wb is separated from the product Wa. When the gripping part 41 lifts the remaining material Wb, the workpiece W is separated from the remaining material Wb by performing laser scanning on the workpiece W. On the processing pallet 5B, the product Wa is selectively left among the workpieces W after processing. In FIG. 18B, the gripper device 9 moves to the −Y side integrally with the station device 4 and is disposed above the remaining material recovery unit 42 (see FIG. 1). Further, the gripper device 9 releases the gripping of the remaining material Wb, and the remaining material Wb is accommodated in the remaining material recovery unit 42. In the storage area AR1, the storage device 2 (see FIG. 1) places the product pallet 55 in the temporary placement area AR3. In FIG. 18C, the suction portion 21 of the loader device 3 descends and sucks the product Wa.

図19(A)において、ローダ装置3は、吸着部21によって吸着した製品Waを、保管エリアAR1における製品パレット55上に搬送(移載)する。ローダ装置3は、リフト装置8上の製品をすべて移載した後、図19(B)において、クリーニング部23を下方に突出させた状態で吸着部21をリフト装置8上に移動させる。図19(C)において、ローダ装置3は、吸着部21を水平方向に移動させ、クリーニング部23によってリフト装置8上をクリーニングする。   In FIG. 19A, the loader device 3 conveys (transfers) the product Wa adsorbed by the adsorbing unit 21 onto the product pallet 55 in the storage area AR1. After all the products on the lift device 8 are transferred, the loader device 3 moves the suction unit 21 onto the lift device 8 with the cleaning unit 23 protruding downward in FIG. 19B. In FIG. 19C, the loader device 3 moves the suction unit 21 in the horizontal direction and cleans the lift device 8 by the cleaning unit 23.

ローダ装置3は、クリーニング部23によるクリーニング処理が終了した後、図20(A)に示すように、吸着部21を上方に退避させる。また、リフト装置8は、腕部37を下降させ、腕部37を加工パレット5Aから退避させる。図20(B)において、パレットチェンジャ7は、加工パレット5Aを上昇させる。また、シャッタ装置45は、加工パレット5Aとリフト装置8との間の空間SPにシャッタ部材46を挿入する。これにより、レーザ加工システム1は、図15(A)と同等の状態になり、図15(A)以降の処理を繰り返し行う。   After the cleaning process by the cleaning unit 23 is completed, the loader device 3 retracts the suction unit 21 upward as shown in FIG. Further, the lift device 8 lowers the arm portion 37 and retracts the arm portion 37 from the processing pallet 5A. In FIG. 20B, the pallet changer 7 raises the processing pallet 5A. Further, the shutter device 45 inserts the shutter member 46 into the space SP between the processing pallet 5 </ b> A and the lift device 8. As a result, the laser processing system 1 is in a state equivalent to that shown in FIG. 15A, and the processes after FIG.

なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の1つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。   The technical scope of the present invention is not limited to the aspects described in the above-described embodiments. One or more of the requirements described in the above embodiments and the like may be omitted. In addition, the requirements described in the above-described embodiments and the like can be combined as appropriate. In addition, as long as it is permitted by law, the disclosure of all documents cited in the above-described embodiments and the like is incorporated as a part of the description of the text.

1・・・レーザ加工システム
2・・・保管装置
3・・・ローダ装置
4・・・ステーション装置
5、5A、5B・・・加工パレット
6・・・レーザ加工機
7・・・パレットチェンジャ
8・・・リフト装置
9・・・グリッパ装置
45・・・シャッタ装置
46・・・シャッタ部材
W・・・ワーク
Wa・・・製品
Wb・・・残材
AR1・・・保管エリア
AR2・・・搬入出エリア
AR3・・・仮置エリア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser processing system 2 ... Storage apparatus 3 ... Loader apparatus 4 ... Station apparatus 5, 5A, 5B ... Processing pallet 6 ... Laser processing machine 7 ... Pallet changer 8 .. Lift device 9 ... Gripper device 45 ... Shutter device 46 ... Shutter member W ... Work Wa ... Product Wb ... Remaining material AR1 ... Storage area AR2 ... Loading / unloading Area AR3 ... Temporary storage area

Claims (6)

レーザ加工機に対してワークを搬送するシステムであって、
ワークを載置して前記レーザ加工機の内外に移動可能な加工パレットと、
ワークを吸着して搬送し、前記加工パレット上にワークを載置可能なローダ装置と、
前記加工パレットに載置される前のワークが前記ローダ装置により載置され、このワークを位置決めするステーション装置と、を備える、ワーク搬送システム。
A system for transferring a workpiece to a laser processing machine,
A processing pallet on which a workpiece can be placed and moved into and out of the laser processing machine;
A loader device capable of adsorbing and transporting a workpiece and placing the workpiece on the processing pallet;
A work transfer system, comprising: a station device on which a work before being placed on the processing pallet is placed by the loader device and positions the work.
前記ステーション装置は、前記レーザ加工機の外側において前記加工パレットの上方に配置され、前記加工パレットの上方から退避可能である、請求項1に記載のワーク搬送システム。   The workpiece transfer system according to claim 1, wherein the station device is disposed above the processing pallet outside the laser processing machine and can be retracted from above the processing pallet. 前記ステーション装置は、ワークの端部が当接することによりワークを位置決めする位置決め部材を備える、請求項1または請求項2に記載のワーク搬送システム。   The workpiece transfer system according to claim 1, wherein the station device includes a positioning member that positions the workpiece by contacting an end portion of the workpiece. 前記位置決め部材で位置決めされたワークの位置は、前記加工パレットに載置すべきワークの位置の上方である、請求項3に記載のワーク搬送システム。   The workpiece transfer system according to claim 3, wherein the position of the workpiece positioned by the positioning member is above the position of the workpiece to be placed on the processing pallet. 前記ステーション装置に設けられ、前記加工パレットの上方において加工後のワークから残材を保持して搬出するグリッパ装置を備える、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のワーク搬送システム。   5. The workpiece transfer system according to claim 1, further comprising a gripper device that is provided in the station device and holds and unloads the remaining material from the workpiece after processing above the processing pallet. レーザ加工機に対してワークを搬送する方法であって、
ローダ装置によりワークをステーション装置に載置することと、
前記ステーション装置に載置されたワークを位置決めすることと、
位置決めしたワークをローダ装置により前記レーザ加工機の内外に移動可能な加工パレットに載置することと、を含む、ワーク搬送方法。
A method of conveying a workpiece to a laser processing machine,
Placing the workpiece on the station device by the loader device;
Positioning a workpiece placed on the station device;
Placing the positioned work on a processing pallet movable inside and outside of the laser processing machine by a loader device.
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